CN108417612A - 一种显示装置及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例提供一种显示装置及其制备方法，涉及显示技术领域，可在降低外界环境光反射的基础上，减小显示装置的厚度。一种显示装置，包括衬底和设置在所述衬底上的发光层，所述发光层包括多个子像素，还包括设置于所述发光层靠近显示面一侧的彩色滤光层，所述彩色滤光层包括多个色阻单元，所述多个色阻单元中的每个在所述发光层上的正投影覆盖所述多个子像素中的一个；其中，所述多个色阻单元中的每个色阻单元从其边缘到中心，沿垂直于所述衬底所在面的方向，厚度逐渐增大。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示装置及其制备方法。
背景技术
有机电致发光(Organic Light-Emitting Device，简称OLED)显示器相对于液晶显示装置具有自发光、反应快、亮度高、对比度高、轻薄等诸多优点，已逐渐蚕食液晶显示装置的市场，有其是其可弯曲、可挠曲的特点，已成为柔性显示装置的首选。
然而，由于OLED显示器中包含的大量金属层对外界环境光的反射率较高，反射光线会对OLED显示器件的显示效果造成影响。
现有技术采用在OLED显示器的出光面一侧设置圆偏光片的方式降低反射的自然光，但圆偏光片的厚度较大，一般为100μm左右，不利于OLED显示器的薄型化设计。
发明内容
本发明的实施例提供一种显示装置及其制备方法，可在降低外界环境光反射的基础上，减小显示装置的厚度。
为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：
一方面，提供一种显示装置，包括衬底和设置在所述衬底上的发光层，所述发光层包括多个子像素，还包括设置于所述发光层靠近显示面一侧的彩色滤光层，所述彩色滤光层包括多个色阻单元，所述多个色阻单元中的每个色阻单元在所述发光层上的正投影覆盖所述多个子像素中的一个；其中，所述多个色阻单元中的每个色阻单元从其边缘到中心，沿垂直于所述衬底所在面的方向，厚度逐渐增大。
优选的，多个色阻单元中的每一个在所述发光层上的正投影的边缘，超出该色阻单元在所述发光层上的正投影覆盖的子像素的边缘。
优选的，所述显示装置还包括第一绝缘层，所述第一绝缘层靠近所述彩色滤光层的一侧包括多个第一凹槽，所述多个第一凹槽中的每个从其边缘到中心，沿垂直于所述衬底所在面的方向，深度逐渐增大；
其中，所述多个第一凹槽和所述多个色阻单元一一对应，且所述多个色阻单元中的每个在所述发光层上的正投影，位于与其对应的所述第一凹槽在所述发光层上的正投影内，所述第一凹槽靠近所述彩色滤光层一侧的表面，和与其对应的色阻单元靠近所述第一绝缘层一侧的表面相接触。
进一步优选的，所述显示装置还包括设置于所述第一绝缘层远离所述彩色滤光层一侧的触控结构层。
进一步优选的，所述显示装置还包括设置于相邻色阻单元之间的黑矩阵；其中，所述触控结构层在所述发光层上的正投影，位于所述黑矩阵在所述发光层上的正投影范围内。
进一步优选的，所述触控结构层包括相互绝缘且交叉设置的多个第一触控电极和多个第二触控电极；所述多个第一触控电极在与所述多个第二触控电极交叉的区域通过搭桥电连接；所述搭桥与所述多个第二触控电极通过第二绝缘层隔离；所述第二绝缘层靠近所述第一绝缘层的一侧包括多个第二凹槽；其中，所述多个第二凹槽和所述多个第一凹槽一一对应，且所述多个第一凹槽中的每个所述第一凹槽在所述发光层上的正投影，位于与其对应的所述第二凹槽在所述发光层上的正投影内，所述第二凹槽靠近所述第一绝缘层一侧的表面，与所述第一绝缘层靠近所述第二绝缘层一侧的表面相接触。
进一步优选的，所述多个第一触控电极和所述多个第二触控电极设置于所述搭桥靠近所述第一绝缘层的一侧；所述第二绝缘层靠近所述第一绝缘层的一侧还包括第三凹槽，所述第三凹槽在所述发光层上的正投影，位于所述相邻的第一触控电极和第二触控电极在所述发光层上的正投影之间。
优选的，所述触控所述第一绝缘层和所述第二绝缘层包括有机材料。
另一方面，提供一种显示装置的制备方法，在衬底上形成发光层，在所述发光层靠近显示面的一侧形成彩色滤光层；所述发光层包括多个子像素，所述彩色滤光层包括多个色阻单元，所述多个色阻单元中的每个色阻单元在所述发光层上的正投影覆盖所述多个子像素中的一个；其中，所述多个色阻单元中的每个色阻单元从其边缘到中心，沿垂直于所述衬底所在面的方向，厚度逐渐增大。
优选的，在形成所述彩色滤光层之前，所述方法还包括：形成第一绝缘层，所述第一绝缘层靠近所述彩色滤光层的一侧包括多个第一凹槽，所述多个第一凹槽中的每个从其边缘到中心，沿垂直于所述衬底所在面的方向，深度逐渐增大；其中，所述多个第一凹槽和所述多个色阻单元一一对应，且所述多个色阻单元中的每个在所述发光层上的正投影，位于与其对应的所述第一凹槽在所述发光层上的正投影内，所述第一凹槽靠近所述彩色滤光层一侧的表面，和与其对应的色阻单元靠近所述第一绝缘层一侧的表面相接触。
进一步优选的，形成第一绝缘层，包括：形成感光薄膜；采用灰阶掩模法，对所述感光薄膜各个部分进行不同能量的曝光，并显影形成所述第一绝缘层。
优选的，所述方法还包括：在相邻色阻单元之间形成黑矩阵，在形成所述第一绝缘层之前，形成位于所述第一绝缘层远离所述彩色滤光层一侧的触控结构层，所述触控结构层在所述发光层上的正投影，位于所述黑矩阵在所述发光层上的正投影范围内。
其中，形成所述触控结构层，包括：形成第二绝缘层、搭桥、以及相互绝缘且交叉设置的多个第一触控电极和多个第二触控电极；所述多个第一触控电极在与所述多个第二触控电极交叉的区域通过搭桥电连接；所述搭桥与所述多个第二触控电极通过第二绝缘层隔离；所述第二绝缘层靠近第一绝缘层的一侧包括多个第二凹槽，；所述多个第二凹槽和所述多个第一凹槽一一对应，且所述多个第一凹槽中的每个所述第一凹槽在所述发光层上的正投影，位于与其对应的所述第二凹槽在所述发光层上的正投影内，所述第二凹槽靠近所述第一绝缘层一侧的表面，与所述第一绝缘层靠近所述第二绝缘层一侧的表面相接触。
进一步优选的，形成第二绝缘层、搭桥、以及相互绝缘且交叉设置的多个第一触控电极和多个第二触控电极，包括：依次形成所述搭桥、绝缘薄膜、以及所述多个第一触控电极和所述多个第二触控电极，所述多个第一触控电极在与所述多个第二触控电极交叉的区域通过搭桥电连接；以所述多个第一触控电极和所述多个第二触控电极为掩模板，对所述绝缘薄膜进行刻蚀，形成所述第二绝缘层，所述第二绝缘层靠近第一绝缘层的一侧还包括第三凹槽，所述第三凹槽在所述发光层上的正投影，位于相邻的所述第一触控电极和所述第二触控电极在所述发光层上的正投影之间。
本发明实施例提供一种显示装置及其制备方法，由于彩色滤光层的厚度比圆偏光片的厚度小得多，因此，通过在发光层靠近显示面的一侧设置彩色滤光层，不但可以降低外界环境光的反射，还可以减小显示装置的厚度，有利于显示装置的薄型化设计；在此基础上，由于从任一子像素发出的大角度光线，总是朝向与该子像素相邻的子像素偏转，因此，使色阻单元中越靠近边缘部分的厚度越小，可以减小从子像素发出的大角度光在色阻单元内实际经过的距离，进一步的，从子像素发出的各个角度的光在色阻单元内实际经过的距离之差减小，从色阻单元出射的各个角度的光的色纯度差异也随之减小，从而可改善相关技术中不同视角的画面色纯度具有差异的问题。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为相关技术提供的一种显示装置的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图一；
图3为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图二；
图4a为本发明实施例提供的一种色阻单元的剖视示意图一；
图4b为本发明实施例提供的一种色阻单元的剖视示意图二；
图5为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图三；
图6为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图四；
图7为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图五；
图8为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图六；
图9为本发明实施例提供的一种制备第一绝缘层的流程示意图；
图10a为本发明实施例提供的一种制备第一绝缘层的过程示意图一；
图10b为本发明实施例提供的一种制备第一绝缘层的过程示意图二；
图11为本发明实施例提供的一种制备触控结构层的流程示意图一；
图12a为本发明实施例提供的一种制备触控结构层的过程示意图一；
图12b为本发明实施例提供的一种制备触控结构层的过程示意图二；
图13为本发明实施例提供的一种制备触控结构层的流程示意图二；
图14为本发明实施例提供的一种制备触控结构层的流程示意图三；
图15为本发明实施例提供的一种制备触控结构层的过程示意图。
附图标记：
11-发光层；12-彩色滤光层；20-衬底；21-发光层；211-子像素；22-第一绝缘层；221-感光薄膜；23-彩色滤光层；231-色阻单元；24-触控结构层；241-搭桥；242-第一触控电极；243-第二触控电极；244-第二绝缘层；2441-绝缘薄膜；25-黑矩阵。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
如图1所示，通过在发光层11靠近显示面的一侧设置彩色滤光层12，来降低外界环境光的反射，且彩色滤光层12还可以通过其滤光作用提高从发光层11发出的光线的色纯度，但由于从发光层11发出的光线的出射角度不同，不同出射角度的光线在彩色滤光层12中实际经过的距离也不相同，光线在彩色滤光层12中实际经过的距离越长，其色纯度越高，因此，在显示时，导致不同视角的画面的色纯度具有差异。
本发明实施例提供一种显示装置，如图2和图3所示，包括衬底20和设置在衬底20上的发光层21，发光层21包括多个子像素211，还包括设置于发光层21靠近显示面一侧的彩色滤光层23，彩色滤光层23包括多个色阻单元231，多个色阻单元231中的每个色阻单元231在发光层21上的正投影覆盖多个子像素211中的一个子像素211；其中，每个色阻单元231从其边缘到中心，沿垂直于衬底20所在面的方向，厚度逐渐增大。
此处，衬底20可以是刚性衬底，刚性衬底的材料可以是玻璃，硅，衬底20也可以是柔性衬底，柔性衬底的材料可以是有机材料。当所述显示装置用作柔性显示装置时，优选柔性衬底作为所述显示装置的衬底20，所述显示装置的衬底20还可以包括设置于柔性衬底远离发光层21一侧的无机膜层，无机膜层可以对柔性衬底起固定作用。
需要说明的是，第一，所述显示装置可以是显示面板，也可以是包括显示面板的显示器，其中，显示面板可以是OLED显示面板，也可以是液晶显示面板(Liquid CrystalDisplay，简称LCD)，对此不进行限定，只要所述显示装置可以用于显示即可。
当所述显示面板为OLED显示面板时，“发光层21包括多个子像素211”中各个“子像素211”由像素界定层界定；当所述显示面板为LCD显示面板时，“发光层21包括多个子像素211”中的“子像素211”由栅线和数据线界定。
第二，彩色滤光层23可以设置在显示面板内，也可以设置在显示面板外，只要彩色滤光层23位于发光层21靠近显示面的一侧即可。
其中，当彩色滤光层23设置在显示面板内时，彩色滤光层23可以设置在显示面板的阵列基板上，也可以设置在显示面板的对盒基板上；当彩色滤光层23设置在显示面板的阵列基板上时，根据显示面板显示面的不同(即发光层21出光方向的不同)，彩色滤光层23可以设置在发光层21靠近或远离衬底20的一侧。当彩色滤光层23设置在显示面板外时，根据发光层21出光方向的不同，彩色滤光层23可以设置在对盒基板远离阵列基板一侧，也可以设置在阵列基板远离对盒基板一侧，并用盖板覆盖彩色滤光层23，以对彩色滤光层23起到保护作用。
在此基础上，当彩色滤光层23设置在阵列基板上、或设置在阵列基板远离对盒基板一侧时，用于设置彩色滤光层23的衬底，可以与发光层21共用给一个衬底20。
第三，彩色滤光层23中用于对一个子像素211发出的光进行滤光的部分称为一个色阻单元231。
此处，为了使从子像素211发出的光充分利用作显示，每个色阻单元231在发光层21上的正投影通常完全覆盖一个子像素211，即使一个色阻单元231在发光层21上的正投影未完全覆盖一个子像素211，但由于像素界定层以及信号走线的存在，不会出现漏光的问题，因此，未覆盖的部分的面积相对于覆盖的部分的面积也可忽略不计。
其中，如图6所示，由于相邻色阻单元231之间还设置有黑矩阵25，从子像素211发出的光不能透过黑矩阵25照到彩色滤光层23上，因此，彩色滤光层23在发光层21上的投影，与黑矩阵25在发光层21上的投影重叠的部分，不能作为色阻单元231的一部分。
第四，每个色阻单元231从其边缘到中心，沿垂直于衬底20所在面的方向，厚度逐渐增大，是指：一个色阻单元231中各个部分的厚度不尽相同，且对于色阻单元231中，任意两个到色阻单元231的中心距离不等的部分，更靠近色阻单元231中心的部分的厚度，总是不小于更靠近色阻单元231边缘的部分的厚度。
其中，衬底20所在面为衬底20中用于设置发光层21的表面。
示例的，如图4a所示，对于色阻单元231中，任意两个到色阻单元231的中心距离不等的部分，更靠近色阻单元231中心的部分的厚度，总是大于更靠近色阻单元231边缘的部分的厚度。
或者，如图4b所示，对于色阻单元231中，任意两个到色阻单元231的中心距离不等的部分，更靠近色阻单元231中心的部分的厚度，可以大于更靠近色阻单元231边缘的部分的厚度，也可以等于更靠近色阻单元231边缘的部分的厚度，只要一个色阻单元231从边缘到中心的整体厚度趋势仅包括变厚即可。
此处，图4a和图4b为一个色阻单元231的剖视图，仅画出了色阻单元231中相对的两个边缘到中心的厚度变化，但本领域的技术人员应该知道，色阻单元231的边缘应不限于相对的两个，例如还可以是邻接的两个边缘。
第五，不对色阻单元231中各个部分的厚度进行限定，一个色阻单元231各个部分的厚度，与一个子像素211发出的各个角度的光在该色阻单元231内实际经过的距离有关，本发明实施例优选色阻单元231各个部分的厚度为：从一个子像素211发出的所有角度相同或不同的光，在一个色阻单元231内实际经过的距离均相等时，对应的色阻单元231各个部分的厚度。
第六，在实现滤光的基础上，彩色滤光层23的厚度应尽可能薄，例如可以是2-10μm。
本发明实施例提供一种显示装置，由于彩色滤光层23的厚度比圆偏光片的厚度小得多，因此，通过在发光层21靠近显示面的一侧设置彩色滤光层23，不但可以降低外界环境光的反射，还可以减小显示装置的厚度，有利于显示装置的薄型化设计；在此基础上，由于从任一子像素211发出的大角度光线，总是朝向与该子像素211相邻的子像素211偏转，因此，使色阻单元231中越靠近边缘部分的厚度越小，可以减小从子像素211发出的大角度光在色阻单元231内实际经过的距离，进一步的，从子像素211发出的各个角度的光在色阻单元231内实际经过的距离之差减小，从色阻单元231出射的各个角度的光的色纯度差异也随之减小，从而可改善相关技术中不同视角的画面色纯度具有差异的问题。
优选的，如图3所示，色阻单元231在发光层21上的正投影的边缘，超出该色阻单元231在发光层21上的正投影覆盖的子像素211的边缘。
此处，色阻单元231在发光层21上的正投影的边缘，超出被该色阻单元231的正投影覆盖的子像素211的边缘部分的尺寸，与具体的工艺及所述显示装置的具体结构有关，在此不进行限定，例如色阻单元231的正投影的边缘，超出被该色阻单元231的正投影覆盖的子像素211的边缘部分的尺寸为2-10μm。
本发明实施例中，由于从子像素211发出的大角度光的出射角度比较大，当一个色阻单元231在发光层21上的正投影恰好与一个子像素211重叠时，从该子像素211射出的部分大角度光不能从该色阻单元231射出用于显示，因此，本发明实施例通过使色阻单元231在发光层21上的正投影的边缘超出被其覆盖的子像素211的边缘，可以充分利用从子像素211发出的大角度光，从而在相同功耗下提高所述显示装置的亮度。
优选的，如图2和图3所示，所述显示装置还包括第一绝缘层22，第一绝缘层22靠近彩色滤光层23的一侧包括多个第一凹槽，多个第一凹槽中的每个从其边缘到中心，沿垂直于衬底10所在面的方向，深度逐渐增大；其中，多个第一凹槽和多个色阻单元231一一对应，且多个色阻单元231中的每个色阻单元231在发光层21上的正投影，位于与其对应的第一凹槽在发光层21上的正投影内，第一凹槽靠近彩色滤光层23一侧的表面，和与其对应的色阻单元231靠近第一绝缘层22一侧的表面相接触。
需要说明的是，多个第一凹槽和多个色阻单元231一一对应，且多个色阻单元231中的每个色阻单元231在发光层21上的正投影，位于与其对应的第一凹槽在发光层21上的正投影内，第一凹槽靠近彩色滤光层23一侧的表面，和与其对应的色阻单元2312靠近第一绝缘层22一侧的表面相接触，是指：色阻单元231靠近第一绝缘层22一侧填充在第一凹槽中，且对于一一对应的第一凹槽和色阻单元231，第一凹槽靠近色阻单元231的一侧的表面，与色阻单元231靠近第一凹槽一侧的表面直接接触，这样一来，色阻单元231中各个部分的厚度，与第一凹槽中各个部分的深度对应，以使得多个色阻单元231中的每个色阻单元231从其边缘到中心，沿垂直于衬底20所在面的方向，厚度逐渐增大。
此处，由于材料以及形成工艺的原因，使得彩色滤光层23中远离第一绝缘层22一侧的表面，相较于靠近第一绝缘层22一侧的表面更接近平坦，即色阻单元231靠近第一绝缘层22一侧表面的弯曲程度，大于色阻单元231远离第一绝缘层22一侧表面的弯曲程度，也即，色阻单元231靠近第一绝缘层22一侧的表面中边缘位置与中心位置的高度差，大于色阻单元231远离第一绝缘层22一侧的表面中边缘位置与中心位置的高度差，因此，填充在第一凹槽中的色阻单元231各个部分的厚度不同。
本发明实施例中，可根据第一绝缘层22中第一凹槽的图案，形成色阻单元231靠近第一绝缘层22一侧的表面的图案，从而使得每个色阻单元231从其边缘到中心，沿垂直于衬底20所在面的方向，厚度逐渐增大，制备方法简单，且若发光层21与第一绝缘层22直接接触，第一绝缘层22还可对发光层21起到保护作用。
进一步优选的，如图5所示，所述显示装置还包括设置于第一绝缘层22远离彩色滤光层23一侧的触控结构层24。
需要说明的是，第一，触控结构层24包括多个触控电极，不对触控结构层24的材料进行限定，例如，触控结构层24的材料可以是金属，或者氧化铟锡(Indium tin oxide，简称ITO)等透明导电材料。
此处，考虑到金属材料的韧性大于氧化物导电材料的韧性，因此，当所述显示装置用作柔性显示装置时，通常采用金属材料作为柔性显示装置中触控结构层24的材料，可避免触控结构层24在柔性显示装置形变时断裂。
然而，由于金属的不透光性，为了不影响所述显示装置的开口率，如图6所示，所述显示装置还包括设置于相邻色阻单元231之间的黑矩阵25；触控结构层24在发光层21上的正投影，位于黑矩阵25在发光层21上的正投影范围内。
第二，不对触控结构层24的位置进行限定，结构层24在发光层21上的正投影可以和子像素211重叠，也可以在相邻子像素211之间。
其中，触控结构层24在发光层21上的正投影与子像素211重叠时，触控结构层24的材料为ITO等透明导电材料。
进一步的，由于透明导电材料也具有一定透过率，因此，即使以透明导电材料作为触控结构层24的材料，还是会遮挡部分光，所以，当触控结构层24的材料为ITO等透明导电材料时，触控结构层24在在发光层21上的正投影，也可以位于黑矩阵25在发光层21上的正投影范围内。
第三，不对触控结构层24中多个触控电极的具体结构进行限定，多个触控电极可以同层设置，也可以异层设置。
本发明实施例中，由于触控结构层24包括导电材料，因此，常在触控结构层24上设置一层绝缘层，本发明实施例利用设置在触控结构层24上的绝缘层作为第一绝缘层22，一方面，可以对触控结构层24起到保护作用，并防止触控结构层24与其他层的导电结构导通；另一方面，还可进一步减小所述显示装置的厚度。
进一步优选的，如图7所示，触控结构层24包括相互绝缘且交叉设置的多个第一触控电极242和多个第二触控电极243；多个第一触控电极242在与多个第二触控电极243交叉的区域通过搭桥241电连接；搭桥241与多个第二触控电极243通过第二绝缘层244隔离；第二绝缘层244靠近第一绝缘层22的一侧包括多个第二凹槽；其中，多个第二凹槽和多个第一凹槽一一对应，且多个第一凹槽中的每个第一凹槽在发光层21上的正投影，位于与其对应的第二凹槽在发光层21上的正投影内，第二凹槽靠近第一绝缘层一侧的表面，与第一绝缘层22靠近第二绝缘层244一侧的表面相接触。
搭桥241、第一触控电极242和第二触控电极243的厚度通常为0.2-0.5μm，第二绝缘层244的厚度通常为1.5-3.5μm，因此，由搭桥241、或第一触控电极242和第二触控电极243与第二绝缘层244形成的高度差可忽略不计。
需要说明的是，第一，搭桥241可以为如图7所示的下搭桥，还可以采用上搭桥的方式，本发明实施例中对此不做具体限定，本领域技术人员可以根据实际需要进行具体设置。
第二，多个第二凹槽和多个第一凹槽一一对应，且多个第一凹槽中的每个第一凹槽在发光层21上的正投影，位于与其对应的第二凹槽在发光层21上的正投影内，第二凹槽靠近第一绝缘层一侧的表面，与第一绝缘层22靠近第二绝缘层244一侧的表面相接触，是指：第一绝缘层22靠近第二绝缘层244一侧填充在第二凹槽中，且对于一一对应的第一凹槽和第二凹槽，第二凹槽靠近与第一凹槽一侧的表面，与该第二凹槽靠近第一凹槽一侧的表面直接接触，这样一来，第二凹槽各个部分的深度，与第一凹槽中各个部分的深度对应，以使得多个第一凹槽中的每个第一凹槽从其边缘到中心，沿垂直于衬底20所在面的方向，深度逐渐增大。
此处，由于材料以及形成工艺的原因，使得第一绝缘层22中远离第二绝缘层244一侧的表面，相较于靠近第二绝缘层244一侧的表面更接近平坦，即第一凹槽靠近第二绝缘层244一侧表面的弯曲程度，大于第一凹槽远离第二绝缘层244一侧表面的弯曲程度，也即，第一凹槽靠近第二绝缘层244一侧的表面中边缘位置与中心位置的高度差，大于第一凹槽远离第二绝缘层244一侧的表面中边缘位置与中心位置的高度差，进一步的，彩色滤光层23在形成过程中也具有一定平坦作用，色阻单元231靠近第一绝缘层22一侧表面的弯曲程度，大于色阻单元231远离第一绝缘层22一侧表面的弯曲程度，因此，填充在第一凹槽中的色阻单元231各个部分的厚度不同。
第三，不对第二凹槽的具体形状进行限定，只要设置在第二绝缘层244上的第一绝缘层22中的每个第一凹槽，可以从其边缘到中心，沿垂直于衬底20所在面的方向，深度逐渐增大即可。
例如，如图7所示，每个第二凹槽从其边缘到中心，沿垂直于衬底20所在面的方向，深度逐渐增大；或者，如图8所示，每个第二凹槽从其边缘到中心，沿垂直于衬底20所在面的方向，深度基本相等。
本发明实施例通过利用触控结构层24的第二绝缘层244中第二凹槽的图案形成第一凹槽，从而使得第一凹槽从其边缘到中心，沿垂直于衬底20所在面的方向，深度逐渐增大，制备方法简单，且有利于减小所述显示装置的厚度。
进一步优选的，如图8所示，多个第一触控电极242和多个第二触控电极243设置于搭桥241靠近第一绝缘层22的一侧；第二绝缘层244靠近第一绝缘层22的一侧还包括第三凹槽，第三凹槽在发光层21上的正投影，位于相邻的第一触控电极242和第二触控电极243在发光层21上的正投影之间。
即，本发明实施例中的触控结构层24为下搭桥结构，在制备下搭桥结构的过程中，先形成搭桥241，之后再在搭桥241上形成绝缘层，最后，在绝缘层上形成多个第一触控电极242和多个第二触控电极243。
本发明实施例中，由于第一触控电极242、第二触控电极243与第二绝缘层244的刻蚀材料不相同，因此，在制备第二绝缘层244时，可以利用第一触控电极242和第二触控电极243作为掩模板，通过刻蚀形成具有第二凹槽和第三凹槽的第二绝缘层244，这样一来，可以省去一层掩模板，可节省制备成本。
在此基础上，对于上述任一实施例，可以使第一触控电极242和第二触控电极243的厚度为T1，第一凹槽的最大深度为T2，这样一来，触控结构层24在发光层21上的正投影位于子像素211之间的部分的厚度，与触控结构层24在发光层21上的正投影与子像素211重叠的部分的厚度差ΔH1＝T1+T2；在触控结构层24靠近彩色滤光层23一侧设置第一绝缘层22，由于材料以及形成工艺的原因，使得第一绝缘层22中远离第二绝缘层244一侧的表面，相较于靠近第二绝缘层244一侧的表面更接近平坦，，触控结构层24和第一绝缘层22在发光层21上的正投影位于子像素211之间的部分的厚度，与触控结构层24和第一绝缘层22在发光层21上的正投影与子像素211重叠的部分的厚度差ΔH2＜ΔH1；最后，在第一绝缘层22远离第二绝缘层244一侧设置彩色滤光层23，由于材料以及形成工艺的原因，使得彩色滤光层23中远离第一绝缘层22一侧的表面，相较于靠近第一绝缘层22一侧的表面更接近平坦，因此，触控结构层24、第一绝缘层22和彩色滤光层23在发光层21上的正投影位于子像素211之间的部分的厚度，与触控结构层24、第一绝缘层22和彩色滤光层23在发光层21上的正投影与子像素211重叠的部分的厚度差ΔH3＜ΔH2＜ΔH1，这样一来，彩色滤光层23远离第一绝缘层22一侧的表面趋于平坦。进一步的，为了使彩色滤光层23远离第一绝缘层22一侧的表面更加平坦，可以适当增加彩色滤光层23的厚度，以提高彩色滤光层23的平坦能力，使ΔH3达到忽略不计的程度。
当然，也可以在彩色滤光层23远离第一绝缘层22一侧设置平坦层。
优选的，第一绝缘层22和所述第二绝缘层244包括有机材料。
本发明实施例中，相较于无机材料，有机材料的韧性更大，因此，当所述显示装置用作柔性显示装置时，采用有机材料作为第一绝缘层22和第二绝缘层244的材料，可避免第一绝缘层22和第二绝缘层244在柔性显示装置形变时断裂。
本发明实施例提供一种显示装置的制备方法，如图2和图3所示，在衬底20上形成发光层21，在发光层21靠近显示面的一侧形成彩色滤光层23；发光层21包括多个子像素211，彩色滤光层23包括多个色阻单元231，多个色阻单元231中的每个色阻单元231在发光层21上的正投影覆盖多个子像素211中的一个子像素211；其中，多个色阻单元231中的每个色阻单元231从其边缘到中心，沿垂直于衬底20所在面的方向，厚度逐渐增大。
需要说明的是，第一，所述显示装置可以是显示面板，也可以是包括显示面板的显示器，其中，显示面板可以是OLED显示面板，也可以是LCD显示面板，对此不进行限定，只要所述显示装置可以用于显示即可。
当所述显示面板为OLED显示面板时，“发光层21包括多个子像素211”中各个“子像素211”由像素界定层界定；当所述显示面板为LCD显示面板时，“发光层21包括多个子像素211”中的各个“子像素211”由栅线和数据线界定。
第二，彩色滤光层23可以位于显示面板内，也可以位于显示面板外，只要彩色滤光层23位于发光层21靠近显示面的一侧即可。
其中，当彩色滤光层23位于显示面板内时，彩色滤光层23可以位于显示面板的阵列基板上，也可以位于显示面板的对盒基板上；当彩色滤光层23位于显示面板的阵列基板上时，根据发光层21出光方向的不同，彩色滤光层23可以位于发光层21靠近或远离衬底20的一侧。当彩色滤光层23设置在显示面板外时，根据发光层21出光方向的不同，彩色滤光层23可以位于对盒基板远离阵列基板一侧，也可以位于阵列基板远离对盒基板一侧，并用盖板覆盖彩色滤光层23，以对彩色滤光层23起到保护作用。
在此基础上，当彩色滤光层23位于阵列基板上、或位于阵列基板远离对盒基板一侧时，用于设置彩色滤光层23的衬底，可以与设置发光层21的衬底20共用。
第三，在衬底20上形成发光层21，在发光层21靠近显示面的一侧形成彩色滤光层23，其中，形成发光层21和彩色滤光层23的先后顺序与发光层21的出光方向、及彩色滤光层23的位置有关，具体的，可以分为以下几种情况：
第一种情况：假设从发光层21发出的光沿阵列基板指向对盒基板的方向出射，且彩色滤光层23位于阵列基板上，则先在衬底20上形成发光层21，之后再在发光层21远离衬底20一侧形成彩色滤光层23。
第二种情况：假设从发光层21发出的光沿阵列基板指向对盒基板的方向出射，且彩色滤光层23位于对盒基板上，则发光层21和彩色滤光层23未设置在同一个基板上，因此，不对形成发光层21和彩色滤光层23的先后顺序进行限定。
第三种情况，假设从发光层21发出的光沿阵列基板指向对盒基板的方向出射，且彩色滤光层23位于显示面板以外(对盒基板远离阵列基板一侧)，则发光层21和彩色滤光层23未设置在同一个基板上，因此，不对形成发光层21和彩色滤光层23的先后顺序进行限定。
第四种情况：假设从发光层21发出的光沿对盒基板指向阵列基板的方向出射，且彩色滤光层23位于阵列基板上，则先在衬底20上形成彩色滤光层23，之后再在彩色滤光层23远离衬底20一侧形成发光层21。
第五种情况：假设从发光层21发出的光沿对盒基板指向阵列基板的方向出射，且彩色滤光层23位于显示面板以外(阵列基板远离对盒基板一侧)，则发光层21和彩色滤光层23未设置在一个衬底20的同一侧，或者，发光层21和彩色滤光层23未设置在同一个基板上，因此，不对形成发光层21和彩色滤光层23的先后顺序进行限定。
第四，彩色滤光层23中用于对一个子像素211发出的光进行滤光的部分称为一个色阻单元231。
此处，为了使从子像素211发出的光充分利用作显示，每个色阻单元231在发光层21上的正投影通常完全覆盖一个子像素211，即使一个色阻单元231在发光层21上的正投影未完全覆盖一个子像素211，未覆盖的部分的面积相对于覆盖的部分的面积也可忽略不计。
其中，如图6所示，由于相邻色阻单元231之间还设有黑矩阵25，从子像素211发出的光不能透过黑矩阵25照到彩色滤光层23上，因此，彩色滤光层23在发光层21上的正投影，与黑矩阵25在发光层21上的投影重叠的部分，不能作为色阻单元231的一部分。
第五，每个色阻单元231从其边缘到中心，沿垂直于衬底20所在面的方向，厚度逐渐增大，是指：一个色阻单元231中各个部分的厚度不尽相同，且对于色阻单元231中，任意两个到色阻单元231的中心距离不等的部分，相比之下更靠近色阻单元231中心的部分的厚度，总是不小于更靠近色阻单元231边缘的部分的厚度。
其中，衬底20所在面为衬底20中用于设置发光层21的表面。
示例的，如图4a所示，对于色阻单元231中，任意两个到色阻单元231的中心距离不等的部分，相比之下更靠近色阻单元231中心的部分的厚度，总是大于更靠近色阻单元231边缘的部分的厚度。
或者，如图4b所示，对于色阻单元231中，任意两个到色阻单元231的中心距离不等的部分，相比之下更靠近色阻单元231中心的部分的厚度，可以大于更靠近色阻单元231边缘的部分的厚度，也可以等于更靠近色阻单元231边缘的部分的厚度，只要一个色阻单元231从边缘到中心的整体厚度趋势仅包括变厚即可。
此处，图4a和图4b为一个色阻单元231的剖视图，仅画出了色阻单元231中相对的两个边缘到中心的厚度变化，但本领域的技术人员应该知道，色阻单元231的边缘应不限于相对的两个，例如还可以是邻接的两个边缘。
第六，不对色阻单元231中各个部分的厚度进行限定，一个色阻单元231各个部分的厚度，与一个子像素211发出的各个角度的光在该色阻单元231内实际经过的距离有关，本发明实施例优选色阻单元231各个部分的厚度为：从一个子像素211发出的所有角度相同或不同的光，在一个色阻单元231内实际经过的距离均相等时，对应的色阻单元231各个部分的厚度。
第七，在实现滤光的基础上，彩色滤光层23的厚度应尽可能薄，例如可以是2-10μm。
本发明实施例提供一种显示装置的制备方法，由于彩色滤光层23的厚度比圆偏光片的厚度小得多，因此，通过在发光层21靠近显示面的一侧形成彩色滤光层23，不但可以降低外界环境光的反射，还可以减小显示装置的厚度，有利于显示装置的薄型化设计；在此基础上，由于从任一子像素211发出的大角度光线，总是朝向与该子像素211相邻的子像素211偏转，因此，使色阻单元231中越靠近边缘部分的厚度越小，可以减小从子像素211发出的大角度光在色阻单元231内实际经过的距离，进一步的，从子像素211发出的各个角度的光在色阻单元231内实际经过的距离之差减小，从色阻单元231出射的各个角度的光的色纯度差异也随之减小，从而可改善相关技术中不同视角的画面色纯度具有差异的问题。
优选的，如图3所示，色阻单元231在发光层21上的正投影的边缘，超出该色阻单元231在发光层21上的正投影覆盖的子像素211的边缘。
此处，色阻单元231在发光层21上的正投影的边缘，超出被该色阻单元231的正投影覆盖的子像素211的边缘部分的尺寸，与具体的工艺及所述显示装置的具体结构有关，在此不进行限定，例如色阻单元231的正投影的边缘，超出被该色阻单元231的正投影覆盖的子像素211的边缘部分的尺寸为2-10μm。
本发明实施例中，由于从子像素211发出的大角度光的出射角度比较大，当一个色阻单元231在发光层21上的正投影恰好与一个子像素211重叠时，从该子像素211发出的部分大角度光不能从该色阻单元231射出用于显示，因此，本发明实施例通过使色阻单元231在发光层21上的正投影的边缘超出被其覆盖的子像素211的边缘，可以充分利用从子像素211发出的大角度光，从而在相同功耗下提高所述显示装置的亮度。
优选的，如图2和图3所示，在形成彩色滤光层23之前，所述方法还包括：
形成第一绝缘层22，第一绝缘层22靠近彩色滤光层23的一侧包括多个第一凹槽，多个第一凹槽中的每个第一凹槽从其边缘到中心，沿垂直于衬底20所在面的方向，深度逐渐增大；其中，多个第一凹槽和多个色阻单元231一一对应，且多个色阻单元231中的每个色阻单元231在发光层21上的正投影，位于与其对应的第一凹槽在发光层21上的正投影内，第一凹槽靠近彩色滤光层23一侧的表面，和与其对应的色阻单元231靠近第一绝缘层22一侧的表面相接触。
需要说明的是，多个第一凹槽和多个色阻单元231一一对应，且多个色阻单元231中的每个色阻单元231在发光层21上的正投影，位于与其对应的第一凹槽在发光层21上的正投影内，第一凹槽靠近彩色滤光层23一侧的表面，和与其对应的色阻单元2312靠近第一绝缘层22一侧的表面相接触，是指：色阻单元231靠近第一绝缘层22一侧填充在第一凹槽中，且对于一一对应的第一凹槽和色阻单元231，第一凹槽靠近色阻单元231的一侧的表面，与色阻单元231靠近第一凹槽一侧的表面直接接触，这样一来，色阻单元231中各个部分的厚度，与第一凹槽中各个部分的深度对应，以使得多个色阻单元231中的每个色阻单元231从其边缘到中心，沿垂直于衬底20所在面的方向，厚度逐渐增大。
此处，由于材料以及形成工艺的原因，使得彩色滤光层23中远离第一绝缘层22一侧的表面，相较于靠近第一绝缘层22一侧的表面更接近平坦，即色阻单元231靠近第一绝缘层22一侧表面的弯曲程度，大于色阻单元231远离第一绝缘层22一侧表面的弯曲程度，也即，色阻单元231靠近第一绝缘层22一侧的表面中边缘位置与中心位置的高度差，大于色阻单元231远离第一绝缘层22一侧的表面中边缘位置与中心位置的高度差，因此，填充在第一凹槽中的色阻单元231各个部分的厚度不同。
本发明实施例中，可根据第一绝缘层22中第一凹槽的图案，形成色阻单元231靠近第一绝缘层22一侧的表面的图案，从而使得每个色阻单元231从其边缘到中心，沿垂直于衬底20所在面的方向，厚度逐渐增大，制备方法简单，且若发光层21与第一绝缘层22直接接触，第一绝缘层22还可对发光层21起到保护作用。
进一步优选的，形成第一绝缘层22，如图9所示，具体可通过如下步骤实现：
S10、如图10a所示，形成感光薄膜221。
S20、如图10b所示，采用灰阶掩模法，对感光薄膜221各个部分进行不同能量的曝光，并显影形成第一绝缘层22。
此处，感光薄膜221各个部分受到的曝光能量不同，其显影后，各个部分保留的厚度也不相同。
本发明实施例中，由于感光材料也是绝缘材料，因此，采用感光材料制备第一绝缘层22，可节省刻蚀工艺，从而简化制备工艺，节省制备成本。
优选的，如图7所示，所述方法还包括：在相邻色阻单元231之间形成黑矩阵25，在形成第一绝缘层22之前，形成位于第一绝缘层22远离彩色滤光层23一侧的触控结构层24，触控结构层24在发光层21上的正投影，位于黑矩阵25在发光层21上的正投影范围内。
其中，形成触控结构层24，包括：形成第二绝缘层244、搭桥241、以及相互绝缘且交叉设置的多个第一触控电极242和多个第二触控电极243；多个第一触控电极242在与多个第二触控电极243交叉的区域通过搭桥241电连接；搭桥241与多个第二触控电极243通过第二绝缘层244隔离；第二绝缘层244靠近第一绝缘层22的一侧包括多个第二凹槽；多个第二凹槽和多个第一凹槽一一对应，且多个第一凹槽中的每个第一凹槽在发光层21上的正投影，位于与其对应的第二凹槽在发光层21上的正投影内，第二凹槽靠近第一绝缘层22一侧的表面，与第一绝缘层22靠近所述第二绝缘层244一侧的表面相接触。
此处，由于搭桥241、第一触控电极242和第二触控电极243的厚度通常为0.2-0.5μm，第二绝缘层244的厚度通常为1.5-3.5μm，因此，由搭桥241、或第一触控电极242和第二触控电极243与第二绝缘层244形成的高度差可忽略不计。
需要说明的是，第一，触控结构层24包括多个触控电极，不对触控结构层24的材料进行限定，例如，触控结构层24的材料可以是金属，或者ITO等透明导电材料。
此处，考虑到金属材料的韧性大于氧化物导电材料的韧性，因此，当所述显示装置用作柔性显示装置时，通常采用金属材料作为柔性显示装置中触控结构层24的材料，可避免触控结构层24在柔性显示装置形变时断裂。
第二，搭桥241可以为如图7所示的下搭桥，还可以采用上搭桥的方式，本发明实施例中对此不做具体限定，本领域技术人员可以根据实际需要进行具体设置。
第三，可以采用构图工艺形成第二绝缘层244、搭桥241、以及相互绝缘且交叉设置的多个第一触控电极242和多个第二触控电极243，具体的，根据搭桥241与多个第一触控电极242和多个第二触控电极243相对位置决定，具体包括以下两种情况：
第一种情况，如图11所示，具体可通过如下步骤实现：
S111、如图12a所示，依次形成搭桥241、绝缘薄膜2441、以及多个第一触控电极242和多个第二触控电极243，多个第一触控电极242在与多个第二触控电极243交叉的区域通过搭桥241电连接。其中，多个第一触控电极242通过绝缘薄膜2441上的过孔，在与多个第二触控电极243交叉的区域通过搭桥241电连接。
此处，多个第一触控电极242和多个第二触控电极243同时形成。
S112、如图12b所示，通过曝光、显影、刻蚀工艺，对绝缘薄膜2441进行刻蚀，以形成所述第二绝缘层244。
第二种情况，如图13所示，具体可通过如下步骤实现：
S121、依次形成多个第一触控电极242和多个第二触控电极243、绝缘薄膜2441、搭桥241，多个第一触控电极242在与多个第二触控电极243交叉的区域通过搭桥241电连接。其中，多个第一触控电极242通过绝缘薄膜2441上的过孔，在与多个第二触控电极243交叉的区域通过搭桥241电连接。
此处，多个第一触控电极242和多个第二触控电极243同时形成。
S122、通过曝光、显影、刻蚀工艺，对绝缘薄膜2441进行刻蚀，以形成所述第二绝缘层244。
第四，多个第二凹槽和多个第一凹槽一一对应，且多个第一凹槽中的每个第一凹槽在发光层21上的正投影，位于与其对应的第二凹槽在发光层21上的正投影内，第二凹槽靠近第一绝缘层一侧的表面，与第一绝缘层22靠近第二绝缘层244一侧的表面相接触，是指：第一绝缘层22靠近第二绝缘层244一侧填充在第二凹槽中，且对于一一对应的第一凹槽和第二凹槽，第二凹槽靠近与第一凹槽一侧的表面，与该第二凹槽靠近第一凹槽一侧的表面直接接触，这样一来，第二凹槽各个部分的深度，与第一凹槽中各个部分的深度对应，以使得多个第一凹槽中的每个第一凹槽从其边缘到中心，沿垂直于衬底20所在面的方向，深度逐渐增大。
此处，由于材料以及形成工艺的原因使得第一绝缘层22中远离第二绝缘层244一侧的表面，相较于靠近第二绝缘层244一侧的表面更接近平坦，即第一凹槽靠近第二绝缘层244一侧表面的弯曲程度，大于第一凹槽远离第二绝缘层244一侧表面的弯曲程度，也即，第一凹槽靠近第二绝缘层244一侧的表面中边缘位置与中心位置的高度差，大于第一凹槽远离第二绝缘层244一侧的表面中边缘位置与中心位置的高度差，进一步的，彩色滤光层23在形成过程中也具有一定平坦作用，色阻单元231靠近第一绝缘层22一侧表面的弯曲程度，大于色阻单元231远离第一绝缘层22一侧表面的弯曲程度，因此，填充在第一凹槽中的色阻单元231各个部分的厚度不同。
第五，不对第二凹槽的具体形状进行限定，只要设置在第二绝缘层244上的第一绝缘层22中的每个第一凹槽，可以从其边缘到中心，沿垂直于衬底20所在面的方向，深度逐渐增大即可。
例如，如图7所示，每个第二凹槽从其边缘到中心，沿垂直于衬底20所在面的方向，深度逐渐增大；或者，如图8所示，每个第二凹槽从其边缘到中心，沿垂直于衬底20所在面的方向，深度均相等。
本发明实施例中，由于触控结构层24包括导电材料，因此，常在触控结构层24上设置一层绝缘层，本发明实施例利用设置在触控结构层24上的绝缘层作为第一绝缘层22，一方面，可以对触控结构层24起到保护作用，并防止触控结构层24与其他层的导电结构导通；另一方面，还可进一步减小所述显示装置的厚度；在此基础上，利用触控结构层24的第二绝缘层244中第二凹槽的图案形成第一凹槽，从而使得第一凹槽从其边缘到中心，沿垂直于衬底20所在面的方向，深度逐渐增大，制备方法简单，且有利于减小所述显示装置的厚度。
进一步优选的，形成第二绝缘层244、搭桥241、以及相互绝缘且交叉设置的多个第一触控电极242和多个第二触控电极243，如图14所示，具体可通过如下步骤实现：
S211、如图12a所示，依次形成搭桥241、绝缘薄膜2441、以及多个第一触控电极242和多个第二触控电极243，多个第一触控电极242在与多个第二触控电极243交叉的区域通过搭桥241电连接。其中，多个第一触控电极242通过绝缘薄膜2441上的过孔，在与多个第二触控电极243交叉的区域通过搭桥241电连接。
此处，多个第一触控电极242和多个第二触控电极243同时形成。
S212、如图15所示，以多个第一触控电极242和多个第二触控电极243为掩模板，对绝缘薄膜2441进行刻蚀，形成第二绝缘层244，第二绝缘层244靠近第一绝缘层22的一侧还包括第三凹槽，第三凹槽在发光层21上的正投影，位于相邻的第一触控电极242和第二触控电极244在发光层21上的正投影之间。
本发明实施例中，由于第一触控电极242、第二触控电极243与第二绝缘层244的刻蚀材料不相同，因此，在制备第二绝缘层244时，可以利用第一触控电极242和第二触控电极243作为掩模板，通过刻蚀形成具有第二凹槽和第三凹槽的第二绝缘层244，这样一来，可以省去一层掩模板，可节省制备成本。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
Claims (13)
1.一种显示装置，包括衬底和设置在所述衬底上的发光层，所述发光层包括多个子像素，其特征在于，还包括设置于所述发光层靠近显示面一侧的彩色滤光层，所述彩色滤光层包括多个色阻单元，所述多个色阻单元中的每个色阻单元在所述发光层上的正投影覆盖所述多个子像素中的一个；
其中，所述多个色阻单元中的每个色阻单元从其边缘到中心，沿垂直于所述衬底所在面的方向，厚度逐渐增大。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述多个色阻单元中的每个在所述发光层上的正投影的边缘，超出该色阻单元在所述发光层上的正投影覆盖的子像素的边缘。
3.根据权利要求1或2所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置还包括第一绝缘层，所述第一绝缘层靠近所述彩色滤光层的一侧包括多个第一凹槽，所述多个第一凹槽中的每个从其边缘到中心，沿垂直于所述衬底所在面的方向，深度逐渐增大；
其中，所述多个第一凹槽和所述多个色阻单元一一对应，且所述多个色阻单元中的每个在所述发光层上的正投影，位于与其对应的所述第一凹槽在所述发光层上的正投影内，所述第一凹槽靠近所述彩色滤光层一侧的表面，和与其对应的色阻单元靠近所述第一绝缘层一侧的表面相接触。
4.根据权利要求3所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置还包括设置于所述第一绝缘层远离所述彩色滤光层一侧的触控结构层。
5.根据权利要求4所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置还包括设置于所述多个色阻单元中相邻两个之间的黑矩阵；
其中，所述触控结构层在所述发光层上的正投影，位于所述黑矩阵在所述发光层上的正投影范围内。
6.根据权利要求5所述的显示装置，其特征在于，所述触控结构层包括相互绝缘且交叉设置的多个第一触控电极和多个第二触控电极；所述多个第一触控电极在与所述多个第二触控电极交叉的区域通过搭桥电连接；所述搭桥与所述多个第二触控电极通过第二绝缘层隔离；
所述第二绝缘层靠近所述第一绝缘层的一侧包括多个第二凹槽；其中，所述多个第二凹槽和所述多个第一凹槽一一对应，且所述多个第一凹槽中的每个所述第一凹槽在所述发光层上的正投影，位于与其对应的第二凹槽在所述发光层上的正投影内，所述第二凹槽靠近所述第一绝缘层一侧的表面，与所述第一绝缘层靠近所述第二绝缘层一侧的表面相接触。
7.根据权利要求6所述的显示装置，其特征在于，所述多个第一触控电极和所述多个第二触控电极设置于所述搭桥靠近所述第一绝缘层的一侧；
所述第二绝缘层靠近所述第一绝缘层的一侧还包括第三凹槽，所述第三凹槽在所述发光层上的正投影，位于所述相邻的第一触控电极和第二触控电极在所述发光层上的正投影之间。
8.根据权利要求5-7任一项所述的显示装置，其特征在于，所述触控所述第一绝缘层和所述第二绝缘层包括有机材料。
9.一种显示装置的制备方法，其特征在于，在衬底上形成发光层，在所述发光层靠近显示面的一侧形成彩色滤光层；
所述发光层包括多个子像素，所述彩色滤光层包括多个色阻单元，所述多个色阻单元中的每个在所述发光层上的正投影覆盖所述多个子像素中的一个；
其中，所述多个色阻单元中的每个色阻单元从其边缘到中心，沿垂直于所述衬底所在面的方向，厚度逐渐增大。
10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，在形成所述彩色滤光层之前，所述方法还包括：
形成第一绝缘层，所述第一绝缘层靠近所述彩色滤光层的一侧包括多个第一凹槽，所述多个第一凹槽中的每个从其边缘到中心，沿垂直于所述衬底所在面的方向，深度逐渐增大；
其中，所述多个第一凹槽和所述多个色阻单元一一对应，且所述多个色阻单元中的每个在所述发光层上的正投影，位于与其对应的所述第一凹槽在所述发光层上的正投影内，所述第一凹槽靠近所述彩色滤光层一侧的表面，和与其对应的色阻单元靠近所述第一绝缘层一侧的表面相接触。
11.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于，形成第一绝缘层，包括：
形成感光薄膜；
采用灰阶掩模法，对所述感光薄膜各个部分进行不同能量的曝光，并显影形成所述第一绝缘层。
12.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于，所述方法还包括：
所述多个色阻单元中的相邻两个之间形成黑矩阵，在形成所述第一绝缘层之前，形成位于所述第一绝缘层远离所述彩色滤光层一侧的触控结构层，所述触控结构层在所述发光层上的正投影，位于所述黑矩阵在所述发光层上的正投影范围内；
其中，形成所述触控结构层，包括：
形成第二绝缘层、搭桥、以及相互绝缘且交叉设置的多个第一触控电极和多个第二触控电极；所述多个第一触控电极在与所述多个第二触控电极交叉的区域通过搭桥电连接；所述搭桥与所述多个第二触控电极通过第二绝缘层隔离；
所述第二绝缘层靠近第一绝缘层的一侧包括多个第二凹槽，；所述多个第二凹槽和所述多个第一凹槽一一对应，且所述多个第一凹槽中的每个所述第一凹槽在所述发光层上的正投影，位于与其对应的所述第二凹槽在所述发光层上的正投影内，所述第二凹槽靠近所述第一绝缘层一侧的表面，与所述第一绝缘层靠近所述第二绝缘层一侧的表面相接触。
13.根据权利要求12所述的制备方法，其特征在于，形成第二绝缘层、搭桥、以及相互绝缘且交叉设置的多个第一触控电极和多个第二触控电极，包括：
依次形成所述搭桥、绝缘薄膜、以及所述多个第一触控电极和所述多个第二触控电极，所述多个第一触控电极在与所述多个第二触控电极交叉的区域通过搭桥电连接；
以所述多个第一触控电极和所述多个第二触控电极为掩模板，对所述绝缘薄膜进行刻蚀，形成所述第二绝缘层，所述第二绝缘层靠近第一绝缘层的一侧还包括第三凹槽，所述第三凹槽在所述发光层上的正投影，位于相邻的所述第一触控电极和所述第二触控电极在所述发光层上的正投影之间。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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