CN109362190A - 一种无孔对位镭射机双面加工工艺 - Google Patents

一种无孔对位镭射机双面加工工艺 Download PDF

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张义坤
彭亮
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Abstract

本发明公开了一种无孔对位镭射机双面加工工艺,包括如下步骤:准备增层材料和PCB板的内层芯板,并将其摆放在加工平台上,内层芯板采用一种或多种材质共同组装拼接而成,将增层材料与PCB板的内层芯板进行压合处理,在内芯层板上形成增层导电层。本发明通过将X‑Ray读靶工作原理与微盲孔镭射加工机相结合,取消传统设备需对通孔抓取孔缘对位作业,减少工艺流程及提升产品对准度,通过增设检验处理,可以对盲孔的直径和深度进行有效检测,避免了盲孔大小与实际要求不符导致PCB板加工质量不佳的问题,提高了产品的质量,通过增设喷涂处理,可以对盲孔的周围进行喷漆,防止盲孔周围出现氧化及锈蚀现象,提高了产品的使用寿命。

Description

一种无孔对位镭射机双面加工工艺
技术领域
本发明涉及PCB加工技术领域,具体是一种无孔对位镭射机双面加工工艺。
背景技术
PCB中文名称为印制电路板,又称印刷线路板,是重要的电子部件,是电子元器件的支撑体,是电子元器件电气连接的载体,由于它是采用电子印刷术制作的,故被称为印刷电路板,20世纪初至20世纪40年代末,是PCB基板材料业发展的萌芽阶段,它的发展特点主要表现在:此时期基板材料用的树脂、增强材料以及绝缘基板大量涌现,技术上得到初步的探索,这些都为印制电路板用最典型的基板材料——覆铜板的问世与发展,创造了必要的条件,另一方面,以金属箔蚀刻法(减成法)制造电路为主流的PCB制造技术,得到了最初的确立和发展,它为覆铜板在结构组成、特性条件的确定上,起到了决定性的作用,在电子产品趋于多功能复杂化的前提下,积体电路元件的接点距离随之缩小,信号传送速度相对提高,随之而来的是接线数量提高,点间配线长度局部性缩短,这些就需要应用高密度线路配置及微盲孔技术来达成目标(HDI PCB),因此电路板会向多层和微盲孔设计发展,故微盲孔加工过程就变的至关重要。
现有微盲孔制作采用激光单面对位(对钻靶通孔)烧蚀完成,这样工艺流程,微盲孔镭射钻孔前需经X-Ray钻靶机或钻孔机钻对位靶,给微盲孔加工对位用,当对位靶孔品质不良(毛刺破损等),影响微盲孔对底垫Pad对准度偏移及正反两面对准度差异等品质问题,现有微盲孔制作采用激光单面对位(对钻靶通孔)烧蚀完成,这样工艺流程,微盲孔镭射钻孔前需经X-Ray钻靶机或钻孔机钻对位靶,给微盲孔加工对位用,当对位靶孔品质不良(毛刺破损等),影响微盲孔对底垫Pad对准度偏移及正反两面对准度差异等品质问题,同时当盲孔的实际大小与加工要求不符时,容易出现误差现象,从而影响PCB板的正常加工,并且盲孔的周围容易出现氧化与锈蚀现象,从而影响产品的正常使用。因此,本领域技术人员提供了一种无孔对位镭射机双面加工工艺,以解决上述背景技术中提出的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种无孔对位镭射机双面加工工艺,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
一种无孔对位镭射机双面加工工艺,包括如下步骤:
1)、发料:准备增层材料和PCB板的内层芯板,并将其摆放在加工平台上;
2)、内层:内层芯板采用一种或多种材质共同组装拼接而成;
3)、压合:将增层材料与PCB板的内层芯板进行压合处理,在内芯层板上形成增层导电层;
4)、盲孔镭射:a、利用X射线测定两个或两个以上的基准靶标的坐标位置,通过特定的Camera读取靶标的坐标计算实际板涨缩;b、读取完涨缩与盲孔镭射程式进行重心重合比对,进行涨缩补偿镭射加工作业;c、通过直接读靶对位,可避免因钻孔品质不良造成的涨缩对准度问题及品质风险;d、正反面加工模式同上步骤a、b;
5)、钻孔:采用钻孔机对镭射位置进行钻孔处理,其中钻孔机的额定功率为850W,额定转速为0-2500r/min,钻孔机的额定电压为220V,且钻孔机的尺寸为23×17cm;
6)、检验处理:使用游标卡尺对钻孔直径、深度进行有效检测,并将检测结果与要求数据进行比对和验证,其中游标卡尺的量程为200mm,且游标卡尺采用不锈钢材质制成,游标卡尺的分辨率为0.02mm/0.01mm;
7)、PTH:将金属管穿过PCB板孔洞的表面,连接双面板上的两面电路;
8)、整修处理:通过打磨机将形成的盲孔进行打磨处理,并通过风机将打磨中产生的碎屑进行吹风处理;
9)、电镀:对打磨抛光后的盲孔进行检验,当盲孔的内壁无毛刺或碎屑时,即可对盲孔进行电镀处理,当盲孔的内壁存在毛刺或者碎屑时,此时再通过打磨机对盲孔进行打磨和抛光即可,然后进行电镀;
10)、喷涂:通过喷枪对盲孔周围进行喷涂处理,其中喷枪的口径为2mm,且喷枪的工作压力为3-7Bar,喷枪的容量为1000CC,且喷枪的喷幅为180-280mm,其中盲孔的喷涂厚度为0.5-1mm之间;
11)、外层:通过烘干机对电镀后的盲孔进行快速烘干,其中烘干机的烘干时间为0.5min,烘干温度为50-70℃,烘干机采用手持式设计。
作为本发明进一步的方案:所述步骤3)压合采用热压机将材料进行压合处理,所述热压机的功率为0.3KW,且热压机的热压时间为10min,所述热压机的热压温度为150℃。
作为本发明再进一步的方案:所述步骤9)电镀包括以下步骤:预镀铜、在盲孔表面进行预镀;酸性光亮镀铜、在预镀铜后的基材表面进行酸性光亮镀铜。
作为本发明再进一步的方案:所述步骤8)整修处理采用打磨机进行打磨处理,其中打磨机的转速为11000r/min,且打磨机的打磨时间为1min,打磨片直径为100mm,额定功率为1100W。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:本发明通过将X-Ray读靶工作原理与微盲孔镭射加工机相结合,取消传统设备需对通孔抓取孔缘对位作业,减少工艺流程及提升产品对准度,通过增设检验处理,可以对盲孔的直径和深度进行有效检测,避免了盲孔大小与实际要求不符导致PCB板加工质量不佳的问题,提高了产品的质量,通过增设喷涂处理,可以对盲孔的周围进行喷漆,防止盲孔周围出现氧化及锈蚀现象,提高了产品的使用寿命。
附图说明
图1为一种无孔对位镭射机双面加工工艺的框架图。
具体实施方式
请参阅图1,本发明实施例中,一种无孔对位镭射机双面加工工艺,包括如下步骤:
1)、发料:准备增层材料和PCB板的内层芯板,并将其摆放在加工平台上;
2)、内层:内层芯板采用一种或多种材质共同组装拼接而成;
3)、压合:将增层材料与PCB板的内层芯板进行压合处理,在内芯层板上形成增层导电层;
4)、盲孔镭射:a、利用X射线测定两个或两个以上的基准靶标的坐标位置,通过特定的Camera读取靶标的坐标计算实际板涨缩;b、读取完涨缩与盲孔镭射程式进行重心重合比对,进行涨缩补偿镭射加工作业;c、通过直接读靶对位,可避免因钻孔品质不良造成的涨缩对准度问题及品质风险;d、正反面加工模式同上步骤a、b;
5)、钻孔:采用钻孔机对镭射位置进行钻孔处理,其中钻孔机的额定功率为850W,额定转速为0-2500r/min,钻孔机的额定电压为220V,且钻孔机的尺寸为23×17cm;
6)、检验处理:使用游标卡尺对钻孔直径、深度进行有效检测,并将检测结果与要求数据进行比对和验证,其中游标卡尺的量程为200mm,且游标卡尺采用不锈钢材质制成,游标卡尺的分辨率为0.02mm/0.01mm;
7)、PTH:将金属管穿过PCB板孔洞的表面,连接双面板上的两面电路;
8)、整修处理:通过打磨机将形成的盲孔进行打磨处理,并通过风机将打磨中产生的碎屑进行吹风处理;
9)、电镀:对打磨抛光后的盲孔进行检验,当盲孔的内壁无毛刺或碎屑时,即可对盲孔进行电镀处理,当盲孔的内壁存在毛刺或者碎屑时,此时再通过打磨机对盲孔进行打磨和抛光即可,然后进行电镀;
10)、喷涂:通过喷枪对盲孔周围进行喷涂处理,其中喷枪的口径为2mm,且喷枪的工作压力为3-7Bar,喷枪的容量为1000CC,且喷枪的喷幅为180-280mm,其中盲孔的喷涂厚度为0.5-1mm之间;
11)、外层:通过烘干机对电镀后的盲孔进行快速烘干,其中烘干机的烘干时间为0.5min,烘干温度为50-70℃,烘干机采用手持式设计。
优选的:所述步骤3)压合采用热压机将材料进行压合处理,所述热压机的功率为0.3KW,且热压机的热压时间为10min,所述热压机的热压温度为150℃。
优选的:所述步骤9)电镀包括以下步骤:预镀铜、在盲孔表面进行预镀;酸性光亮镀铜、在预镀铜后的基材表面进行酸性光亮镀铜。
优选的:所述步骤8)整修处理采用打磨机进行打磨处理,其中打磨机的转速为11000r/min,且打磨机的打磨时间为1min,打磨片直径为100mm,额定功率为1100W。
以上所述的,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims (4)

1.一种无孔对位镭射机双面加工工艺,其特征在于,包括如下步骤:
1)、发料:准备增层材料和PCB板的内层芯板,并将其摆放在加工平台上;
2)、内层:内层芯板采用一种或多种材质共同组装拼接而成;
3)、压合:将增层材料与PCB板的内层芯板进行压合处理,在内芯层板上形成增层导电层;
4)、盲孔镭射:a、利用X射线测定两个或两个以上的基准靶标的坐标位置,通过特定的Camera读取靶标的坐标计算实际板涨缩;b、读取完涨缩与盲孔镭射程式进行重心重合比对,进行涨缩补偿镭射加工作业;c、通过直接读靶对位,可避免因钻孔品质不良造成的涨缩对准度问题及品质风险;d、正反面加工模式同上步骤a、b;
5)、钻孔:采用钻孔机对镭射位置进行钻孔处理,其中钻孔机的额定功率为850W,额定转速为0-2500r/min,钻孔机的额定电压为220V,且钻孔机的尺寸为23×17cm;
6)、检验处理:使用游标卡尺对盲孔直径、深度进行有效检测,并将检测结果与要求数据进行比对和验证,其中游标卡尺的量程为200mm,且游标卡尺采用不锈钢材质制成,游标卡尺的分辨率为0.02mm/0.01mm;
7)、PTH:将金属管穿过PCB板孔洞的表面,连接双面板上的两面电路;
8)、整修处理:通过打磨机将形成的盲孔进行打磨处理,并通过风机将打磨中产生的碎屑进行吹风处理;
9)、电镀:对打磨抛光后的盲孔进行检验,当盲孔的内壁无毛刺或碎屑时,即可对盲孔进行电镀处理,当盲孔的内壁存在毛刺或者碎屑时,此时再通过打磨机对盲孔进行打磨和抛光即可,然后进行电镀;
10)、喷涂:通过喷枪对盲孔周围进行喷涂处理,其中喷枪的口径为2mm,且喷枪的工作压力为3-7Bar,喷枪的容量为1000CC,且喷枪的喷幅为180-280mm,其中盲孔的喷涂厚度为0.5-1mm之间;
11)、外层:通过烘干机对电镀后的盲孔进行快速烘干,其中烘干机的烘干时间为0.5min,烘干温度为50-70℃,烘干机采用手持式设计。
2.根据权利要求1所述的一种无孔对位镭射机双面加工工艺,其特征在于,所述步骤3)压合采用热压机将材料进行压合处理,所述热压机的功率为0.3KW,且热压机的热压时间为10min,所述热压机的热压温度为150℃。
3.根据权利要求1所述的一种无孔对位镭射机双面加工工艺,其特征在于,所述步骤9)电镀包括以下步骤:预镀铜、在盲孔表面进行预镀;酸性光亮镀铜、在预镀铜后的基材表面进行酸性光亮镀铜。
4.根据权利要求1所述的一种无孔对位镭射机双面加工工艺,其特征在于,所述步骤8)整修处理采用打磨机进行打磨处理,其中打磨机的转速为11000r/min,且打磨机的打磨时间为1min,打磨片直径为100mm,额定功率为1100W。
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