CN109327974A - 超低铜牙铜箔提升剥离强度层压制作方法 - Google Patents

超低铜牙铜箔提升剥离强度层压制作方法 Download PDF

Info

Publication number
CN109327974A
CN109327974A CN201811311579.8A CN201811311579A CN109327974A CN 109327974 A CN109327974 A CN 109327974A CN 201811311579 A CN201811311579 A CN 201811311579A CN 109327974 A CN109327974 A CN 109327974A
Authority
CN
China
Prior art keywords
copper
laminate
peel strength
ultralow
baking
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201811311579.8A
Other languages
English (en)
Inventor
刘万杰
覃新
杨建利
刘东虎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JIANGSU BOMIN ELECTRONICS Co Ltd
Original Assignee
JIANGSU BOMIN ELECTRONICS Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JIANGSU BOMIN ELECTRONICS Co Ltd filed Critical JIANGSU BOMIN ELECTRONICS Co Ltd
Priority to CN201811311579.8A priority Critical patent/CN109327974A/zh
Publication of CN109327974A publication Critical patent/CN109327974A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/38Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
    • H05K3/381Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the substrate
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/06Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

本发明的目的是提供一种超低铜牙铜箔提升剥离强度层压制作方法,包括:进料;前处理:对电子布进行表面清洁和表面处理;升温:对电子布以2.0‑2.5℃/min的速度进行升温;层压:通过采用平面固体表面对液态表面的垂直作用力,使其胶量流动时的厚度均匀且区域胶量均匀,制得层压板;解体:将层压板的板面静置2h以上以自然冷却;材料聚合:将静置冷却好的层压板进行高温烘烤,烘烤温度为玻璃化温度+20℃,烘烤时间为120‑180min,烘烤后自然冷却;表面铜增厚:在层压板的表面增加35um厚的铜形成铜面;图形曝光。本发明通过工艺参数的改良使得半固化片(prepreg)的分子聚合更加紧密,避免因半固化片(prepreg)的分子聚合不佳导致剥离强度的不足。

Description

超低铜牙铜箔提升剥离强度层压制作方法
技术领域
本发明属于制作方法领域,更具体涉及一种超低铜牙铜箔提升剥离强度层压制作方法。
背景技术
使用铜牙粗度较大的铜箔生产,这种铜箔接合力较好,但对精细、间距较小的线路生产有影响,易造成蚀刻不尽,铜牙残留导致线路阻值偏差。
发明内容
本发明的目的是提供一种使半固化片的分子聚合更加紧密的超低铜牙铜箔提升剥离强度层压制作方法。
根据本发明的一个方面,提供了一种超低铜牙铜箔提升剥离强度层压制作方法,包括:
进料:层压材料采用电子布;
前处理:对所述电子布进行表面清洁和表面处理;
升温:对所述电子布以2.0-2.5℃/min的速度进行升温,使其胶量流动趋势匀速且均匀以形成液态表面;
层压:通过采用平面固体表面对所述液态表面的垂直作用力,使其胶量流动时的厚度均匀且区域胶量均匀,制得层压板;
解体:将所述层压板的板面静置2h以上以自然冷却;
材料聚合:将静置冷却好的所述层压板进行高温烘烤,烘烤温度为玻璃化温度+20℃,烘烤时间为120-180min,使半固化片中的分子再次聚合,烘烤后自然冷却;
表面铜增厚:在所述层压板的表面增加35um厚的铜形成铜面;
图形曝光。
在一些实施方式中,所述图形曝光包括:
前处理:将所述层压板的铜面进行表面化学和物理形态处理;
压膜:在前处理好的所述层压板的表面覆盖一层感光膜;
曝光:通过光学成像转移的方法将图形转移到感光膜上;
蚀刻:将曝光后的所述层压板进行影像显现后将图形区域的表面铜保留,其余位置表面铜通过化学方式去除。
在一些实施方式中,所述化学形态处理包括药水微蚀,所述物理形态处理包括磨刷。
在一些实施方式中,还包括剥离强度确认步骤,所述剥离强度确认步骤包括:
将蚀刻后的3.1mm宽度的铜条剥离所述层压板的板面约13mm长度;
将剥离位置的所述铜条用夹具固定;
使铜条以2.0±0.1inch/min的速度向上牵引,记录其时间数值,数值越大,强度越大。
在一些实施方式中,电子布的型号为1080。
其有益效果为:本发明通过工艺参数的改良使得半固化片(prepreg)的分子聚合更加紧密,避免因半固化片(prepreg)的分子聚合不佳导致剥离强度的不足。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明作进一步的描述。
一种超低铜牙铜箔提升剥离强度层压制作方法,包括进料、前处理、升温、层压、解体、材料聚合、表面铜增厚、图形曝光和玻璃强度确认。
进料:层压材料采用电子布。电子布的型号为1080。
前处理:对所述电子布进行表面清洁和表面处理。
升温:对所述电子布以2.0-2.5℃/min的速度进行升温,使其胶量流动趋势匀速且均匀以形成液态表面。
层压:通过采用平面固体表面对所述液态表面的垂直作用力,使其胶量流动时的厚度均匀且区域胶量均匀,制得层压板。
解体:将所述层压板的板面静置2h以上以自然冷却。
材料聚合:将静置冷却好的所述层压板进行高温烘烤,烘烤温度为玻璃化温度+20℃,烘烤时间为120-180min,使半固化片中的分子再次聚合,烘烤后自然冷却。
表面铜增厚:在所述层压板的表面增加35um厚的铜形成铜面。
图形曝光。具体地,所述图形曝光包括前处理、压膜、曝光和蚀刻。前处理为将所述层压板的铜面进行表面化学和物理形态处理。具体地,所述化学形态处理包括药水微蚀,所述物理形态处理包括磨刷。两种处理方式均为表面处理方式,可提升感光膜的附着性,避免蚀刻药水攻击铜面造成玻璃强度降低。压膜为在前处理好的所述层压板的表面覆盖一层感光膜。曝光为通过光学成像转移的方法将图形转移到感光膜上。蚀刻为将曝光后的所述层压板进行影像显现后将图形区域的表面铜保留,其余位置表面铜通过化学方式去除。
所述剥离强度确认步骤包括:将蚀刻后的3.1mm宽度的铜条剥离所述层压板的板面约13mm长度;将剥离位置的所述铜条用夹具固定;使铜条以2.0±0.1inch/min的速度向上牵引,记录其时间数值,数值越大,强度越大。
本发明通过工艺参数的改良使得半固化片(prepreg)的分子聚合更加紧密,避免因半固化片(prepreg)的分子聚合不佳导致剥离强度的不足。
以上的仅是本发明的一些实施方式。对于本领域普通技术人员来讲,在不脱离本发明的创造构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。

Claims (5)

1.超低铜牙铜箔提升剥离强度层压制作方法,其特征在于,包括:
进料:层压材料采用电子布;
前处理:对所述电子布进行表面清洁和表面处理;
升温:对所述电子布以2.0-2.5℃/min的速度进行升温,使其胶量流动趋势匀速且均匀以形成液态表面;
层压:通过采用平面固体表面对所述液态表面的垂直作用力,使其胶量流动时的厚度均匀且区域胶量均匀,制得层压板;
解体:将所述层压板的板面静置2h以上以自然冷却;
材料聚合:将静置冷却好的所述层压板进行高温烘烤,烘烤温度为玻璃化温度+20℃,烘烤时间为120-180min,使半固化片中的分子再次聚合,烘烤后自然冷却;
表面铜增厚:在所述层压板的表面增加35um厚的铜形成铜面;
图形曝光。
2.根据权利要求1所述的超低铜牙铜箔提升剥离强度层压制作方法,其特征在于,所述图形曝光包括:
前处理:将所述层压板的铜面进行表面化学和物理形态处理;
压膜:在前处理好的所述层压板的表面覆盖一层感光膜;
曝光:通过光学成像转移的方法将图形转移到感光膜上;
蚀刻:将曝光后的所述层压板进行影像显现后将图形区域的表面铜保留,其余位置表面铜通过化学方式去除。
3.根据权利要求2所述的超低铜牙铜箔提升剥离强度层压制作方法,其特征在于,所述化学形态处理包括药水微蚀,所述物理形态处理包括磨刷。
4.根据权利要求2所述超低铜牙铜箔提升剥离强度层压制作方法,其特征在于,还包括剥离强度确认步骤,所述剥离强度确认步骤包括:
将蚀刻后的3.1mm宽度的铜条剥离所述层压板的板面约13mm长度;
将剥离位置的所述铜条用夹具固定;
使铜条以2.0±0.1inch/min的速度向上牵引,记录其时间数值,数值越大,强度越大。
5.根据权利要求1所述的超低铜牙铜箔提升剥离强度层压制作方法,其特征在于,电子布的型号为1080。
CN201811311579.8A 2018-11-06 2018-11-06 超低铜牙铜箔提升剥离强度层压制作方法 Pending CN109327974A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811311579.8A CN109327974A (zh) 2018-11-06 2018-11-06 超低铜牙铜箔提升剥离强度层压制作方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811311579.8A CN109327974A (zh) 2018-11-06 2018-11-06 超低铜牙铜箔提升剥离强度层压制作方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN109327974A true CN109327974A (zh) 2019-02-12

Family

ID=65259585

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201811311579.8A Pending CN109327974A (zh) 2018-11-06 2018-11-06 超低铜牙铜箔提升剥离强度层压制作方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN109327974A (zh)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2251983A1 (zh) * 1973-11-15 1975-06-13 Orion Radio
CN102056425A (zh) * 2010-12-23 2011-05-11 北大方正集团有限公司 多层印制线路板制作方法
CN105235318A (zh) * 2015-09-22 2016-01-13 金安国纪科技(珠海)有限公司 一种大介电常数覆铜板的制备方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2251983A1 (zh) * 1973-11-15 1975-06-13 Orion Radio
CN102056425A (zh) * 2010-12-23 2011-05-11 北大方正集团有限公司 多层印制线路板制作方法
CN105235318A (zh) * 2015-09-22 2016-01-13 金安国纪科技(珠海)有限公司 一种大介电常数覆铜板的制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105430939A (zh) 一种印制电路板埋孔树脂塞孔方法
TWI433613B (zh) An attached carrier metal foil, and a method of manufacturing the laminated substrate using the metal foil
JP5320502B2 (ja) キャリア付き金属箔
CN107846791A (zh) 一种软硬结合板前开盖保护软板的生产方法
TWI268209B (en) Apparatus and method for manufacturing copper clad laminate with improved peel strength
TW200847865A (en) Process for preparing printed circuit board and printed circuit board having potting dam prepared by the process
CN109327974A (zh) 超低铜牙铜箔提升剥离强度层压制作方法
CN103636296B (zh) 轧制铜箔及其制造方法、以及层叠板
JP2017034216A5 (zh)
CN106604557A (zh) 一种底部有图形的盲槽制作方法
TWI413467B (zh) 軟硬板的製作方法
JP2004358677A (ja) 積層体の製造方法
CN105562315A (zh) 覆铜板用离型钢板的制作方法
JP2004273531A (ja) プリント配線板用銅箔複合板およびその銅箔複合板を使用したプリント配線板の製造方法
KR20180020439A (ko) 임프린팅 공정을 이용한 연성동박적층필름의 마이크로 패턴 제작 방법
JP4768008B2 (ja) 銅箔積層体及びその製造方法並びにビルドアップ基板の製造方法
JP3208034U (ja) レジスト層の薄膜化装置
US6652697B2 (en) Method for manufacturing a copper-clad laminate
JP2006272744A (ja) 積層体の製造方法
CN107263218A (zh) 一种amoled玻璃基板的薄化方法
CN107801325A (zh) 覆树脂铜箔的制作方法和压合具有大空旷区芯板的方法
JPH01241893A (ja) 金属ベース積層板の製造方法
CN114149184B (zh) 大片玻璃及大片玻璃镀膜的制造方法、液晶产品
TW201727395A (zh) 阻擋層的薄膜化裝置
JP2009176853A (ja) 電磁波シールド用積層体及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20190212