CN109231837A - 一种陶瓷砖的表面施釉方法及其制备的陶瓷砖 - Google Patents

一种陶瓷砖的表面施釉方法及其制备的陶瓷砖 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种陶瓷砖的表面施釉方法及其制备的陶瓷砖，所述方法包括如下步骤：(1)分别配制面釉与光泽梯度渐变釉；(2)根据预定的陶瓷砖表面光泽度，在瓷砖坯体表面进行所述面釉的施釉，得到具有面釉层的瓷砖；(3)根据预定的陶瓷砖表面光泽度，进行所述光泽梯度渐变釉的施釉，得到表面依次具有面釉层和光泽梯度渐变釉层的陶瓷砖。本发明分别制备了固定配方的面釉和光泽梯度渐变釉，针对不同的光泽度要求，不更换釉料和工艺过程，只需调整面釉和光泽梯度渐变釉的施釉量，即可在同一个生产平台上，完成所需的各种不同光泽梯度的陶瓷砖产品的生产。

Description

一种陶瓷砖的表面施釉方法及其制备的陶瓷砖
技术领域
本发明属于陶瓷装饰材料技术领域，具体涉及一种陶瓷砖的表面施釉方法及其制备的陶瓷砖
背景技术
随着科学技术的飞速发展，人们的生活日新月异，同时铸就了一个追求时尚，彰显个性的时代，建筑装饰材料领域也不例外。陶瓷砖以其优越的性能和装饰效果，受到越来越多的消费者的青睐，并在人们的日常生活中得到广泛的应用。目前市场中主流产品是高光泽的仿大理石类瓷砖，但随着消费主体和消费市场环境的不断变化，消费者对陶瓷砖釉面效果及产品的花色纹理喜好也在发生着变化。
仿古砖以其丰富的花色、先进的工艺，一直以来都非常灵活和个性，赢得了各类消费者的青睐。在以往的实际操作过程中，大理石纹、花岗石纹、皮纹、布纹、木纹等肌理的产品，因实际物体材质的表面质感都有区别，如不同的木种和加工工艺不同，产品表面光泽和装饰美感有很大的区别。故在生产时，不同光泽度的产品都需要有对应的配方体系和工艺来适合产品的性能。但不同配方意味着不同的工艺控制要求，这使得产品制作过程变得较为复杂，工艺方法难以统一，工艺控制难度较大，产品质量和效果波动大，不够稳定。
CN104261879A公开了一种用于日用陶瓷的高光泽度透明釉料配方及制备、使用方法，所述日用陶瓷以长石粉、双飞粉、石灰石、滑石、白云石、高岭土、氧化硅、氧化锌、碳酸钡、水作为原料，经合理配方、控制恰当的生产工艺制成。所述日用陶瓷具有外形美观及健康环保等优点，但其制备过程复杂，工艺控制难度较大。
CN103787646B公开了一种高光泽度含金红石的日用陶瓷制品，所述陶瓷制品由以下重量份的原料制成：高岭土44～46、三氧化二铝12～15、氧化锆4～6、金红石10～12、天青石5～7、铝镁尖晶石4～6、凹凸棒土10～15、纳米二氧化钛1～2、助剂5～6；所述陶瓷制品在传统陶瓷原料的基础上添加了金红石、氧化锆、纳米二氧化钛等原料，改善了胚体的力学性能，其强度和耐磨性能得到改善，还具有优秀的光泽度和白度，但其制备过程复杂，制备成本较高。
CN105906376B公开了一种果绿釉陶瓷工艺品的制备方法，包括如下步骤：按比例称取重铬酸钾、含硅聚碳酸酯树脂、氧化钙、纳米硼化硅、硼化钙、碳酸钙、含氟类添加剂、AS树脂，混合均匀后磨细，再加入聚丙烯纤维混合均匀，入窑炉煅烧，烧后粉碎，漂洗至无黄色水，再加工研细，置于双螺杆挤出机挤出造粒，完成造粒后粉碎，加工研细，得色剂；按质量分数称取所得色剂和石灰釉，将色剂调稀后过250目筛，石灰釉过200～250目筛，按配比混合均匀，得到釉料；在素烧好的陶瓷工艺品上上釉，入窑炉煅烧，得到果绿釉陶瓷工艺品。所述方法制备得到的陶瓷工艺品釉层清澈透明、色泽均匀、稳定性和耐磨性好，但所述方法工艺复杂，工艺控制难度较大。
因此，本领域需要开发一种新的陶瓷生产方法，以简化生产步骤，降低生产成本。
发明内容
针对现有技术的不足，本发明的目的之一在于提供一种陶瓷砖的表面施釉方法，所述方法包括如下步骤：
(1)分别配制面釉与光泽梯度渐变釉；
所述面釉的组成按质量百分数计，包括以下组分：
所述面釉各组分的质量百分数之和为100％；
所述光泽梯度渐变釉的组成按质量百分数计，包括以下组分：
熔块B 85wt％～95wt％
水洗高岭土 5wt％～15wt％；
所述光泽梯度渐变釉各组分的质量百分数之和为100％；
(2)根据预定的陶瓷砖表面光泽度，在瓷砖坯体表面进行所述面釉的施釉，得到具有面釉层的瓷砖；
(3)根据预定的陶瓷砖表面光泽度，进行所述光泽梯度渐变釉的施釉，得到表面依次具有面釉层和光泽梯度渐变釉层的陶瓷砖。
本发明突破现有技术中通过调整釉料配方的方式来控制釉面的光泽度，对于不同的光泽度要求，要通过重新配料、磨釉、施釉才能够实现，工作量大、损耗大。本发明分别制备了固定配方的面釉和光泽梯度渐变釉，针对不同的光泽度要求，不更换釉料和工艺过程，在确定面釉光泽度的情况下，只需调整光泽梯度渐变釉的施釉量，即可在同一个生产平台上，完成所需的各种不同光泽梯度的陶瓷砖产品的生产。
本发明统一了釉料配方与工艺方法，简化了生产工艺，降低了生产成本，提升了工作效率和产品质量。
本发明制备的光泽梯度渐变釉可控性高、性能稳定、并且易于操作，可针对仿古砖不同的表面效果要求，选择不同的施釉方式及施釉量，进而产生不同的光泽效果，提高产品的装饰性能。
优选地，本发明所述面釉中氧化锌的质量百分数为2wt％～5wt％，例如3wt％、3.5wt％、4wt％、4.5wt％等。
优选地，本发明所述面釉中碳酸钡的质量百分数为5wt％～8wt％，例如6wt％、6.5wt％、7wt％、7.5wt％等。
优选地，本发明所述面釉中硅酸锆的质量百分数为15wt％～20wt％，例如16wt％、17wt％、18wt％、19wt％等。
优选地，本发明所述面釉中钾长石的质量百分数为25wt％～32wt％，例如26wt％、27wt％、28wt％、29wt％等。
优选地，本发明所述面釉中烧滑石的质量百分数为10wt％～15wt％，例如11wt％、12wt％、13wt％、14wt％等。
优选地，本发明所述面釉中碳酸钙的质量百分数为8wt％～12wt％，例如9wt％、10wt％、11wt％等。
优选地，本发明所述面釉中高岭土的质量百分数为8wt％～13wt％，例如9wt％、10wt％、11wt％、12wt％等。
优选地，本发明所述熔块A的质量百分数为7wt％～12wt％，例如8wt％、9wt％、10wt％、11wt％等。
优选地，本发明所述熔块B的质量百分数为85wt％～95wt％，例如86wt％、88wt％、90wt％、92wt％、94wt％等。
优选地，本发明所述水洗高岭土的质量百分数为5wt％～15wt％，例如6wt％、8wt％、10wt％、12wt％、14wt％等。
优选地，本发明步骤(2)所述预定陶瓷砖表面光泽度与所述面釉和所述光泽梯度渐变釉之间的关系可以表示为：
陶瓷表面光泽度＝面釉光泽度+(光泽梯度渐变釉的施釉量/常数3～5)×1.12。
本发明在确定面釉光泽度的情况下，只需调整光泽梯度渐变釉的施釉量，即可在同一个生产平台上，完成所需的各种不同光泽梯度的陶瓷砖产品的生产。
优选地，本发明步骤(2)所述面釉层的光泽度为1°～10°，例如2°、3°、4°、5°、6°、7°、8°、9°等。
陶瓷砖产品的光泽度要求为1°～10°度时，表面光泽梯度渐变釉可以省去。
优选地，本发明步骤(2)所述面釉的施釉方式包括钟罩淋釉或喷釉。
优选地，所述面釉的细度控制在标准筛325目，筛余为0.4～0.6，例如0.4、0.5、0.6等。
优选地，所述面釉的施釉方式为钟罩淋釉，所述钟罩淋釉的釉浆粘度为26～35s，施釉比重为1.70～1.85，施釉量为480～550g/m2。
优选地，所述面釉中钟罩淋釉的釉浆粘度为26～35s，例如27s、28s、29s、30s、31s、32s、33s、34s等。
优选地，所述面釉中钟罩淋釉的施釉比重为1.70～1.85，例如1.75、1.78、1.80、1.82、1.84等。
优选地，所述面釉中钟罩淋釉的施釉量为480～550g/m2，例如490g/m2、500g/m2、510g/m2、520g/m2、530g/m2等。
优选地，所述面釉的施釉方式为喷釉，所述喷釉的釉浆粘度为14～18s，施釉比重为1.30～1.45，施釉量为650～700g/m2。
优选地，所述面釉中喷釉的釉浆粘度为14～18s，例如15s、16s、17s等。
优选地，所述面釉中喷釉的施釉比重为1.30～1.45，例如1.30、1.35、1.4等。
优选地，所述面釉中喷釉的施釉量为650～700g/m2，例如660g/m2、670g/m2、680g/m2、690g/m2等。
优选地，本发明步骤(3)所述光泽梯度渐变釉的施釉方式包括喷釉、钟罩淋釉、平板丝网印刷和胶辊印刷中的任意一种或至少两种的组合，例如喷釉、钟罩淋釉、平板丝网印刷等。
优选地，所述光泽梯度渐变釉的细度控制在标准筛325目，筛余为0～0.6，例如0.1、0.2、0.3、0.4、0.5等。
优选地，所述光泽梯度渐变釉的施釉量为0～320g/m2，例如40g/m2、80g/m2、120g/m2、170g/m2、220g/m2、280g/m2等。
本发明光泽梯度渐变釉的施釉量大于320g/m2时，陶瓷砖的光泽度可达到100°以上，考虑到实际应用效果，本发明将光泽梯度渐变釉的施釉量优选为0～320g/m2。
优选地，所述光泽梯度渐变釉的施釉方式为喷釉，所述喷釉的釉浆粘度为14～18s，施釉比重为1.30～1.45。
优选地，所述光泽梯度渐变釉中，喷釉的釉浆粘度为14～18s，例如15s、16s、17s等。
优选地，所述光泽梯度渐变釉中，喷釉的施釉比重为1.30～1.45，例如1.30、1.35、1.40、1.45等。
优选地，所述光泽梯度渐变釉的施釉方式为钟罩淋釉，所述钟罩淋釉的釉浆粘度为26～35s，施釉比重为1.70～1.85。
优选地，所述光泽梯度渐变釉中，钟罩淋釉的釉浆粘度为26～35s，例如27s、28s、29s、30s、31s、32s、33s、34s等。
优选地，所述光泽梯度渐变釉中，钟罩淋釉的施釉比重为1.70～1.85，例如1.72、1.75、1.78、1.80、1.82等。
优选地，所述光泽梯度渐变釉的施釉方式为平板印刷，所述平板印刷的施釉比重为1.20～1.35，花网目数为80～200目。
优选地，所述平板印刷的施釉比重为1.20～1.35，例如1.25、1.30、1.35等。
优选地，所述平板印刷的花网目数为80～200目，例如100目、120目、150目、200目等。
优选地，所述光泽梯度渐变釉的施釉方式为胶辊印刷，所述胶辊印刷的釉浆粘度为16～24s，施釉比重为1.30～1.55。
优选地，所述胶辊印刷的釉浆粘度为16～24s，例如17s、18s、19s、20s、21s、22s、23s等。
优选地，所述胶辊印刷的施釉比重为1.30～1.55，例如1.35、1.40、1.45等。
优选地，所述钾长石的组成按质量百分数计，包括以下组分：
所述钾长石各组分的质量百分数之和为100％。
优选地，所述钾长石中SiO2的质量百分数为60wt％～75wt％，例如62.45wt％、64.26wt％、65.12wt％、67.15wt％、69.65wt％、73.25wt％等。
优选地，所述钾长石中Al2O3的质量百分数为10wt％～18wt％，例如10.98wt％、12.56wt％、15.99wt％、17.59wt％等。
优选地，所述钾长石中Fe2O3的质量百分数为0.1wt％～0.3wt％，例如0.12wt％、0.15wt％、0.19wt％、0.25wt％等。
优选地，所述钾长石中CaO的质量百分数为0.5wt％～0.9wt％，例如0.57wt％、0.65wt％、0.76wt％、0.81wt％、0.89wt％等。
优选地，所述钾长石中MgO的质量百分数为0.1wt％～0.3wt％，例如0.11wt％、0.15wt％、0.2wt％、0.25wt％、0.29wt％等。
优选地，所述钾长石中K2O的质量百分数为7wt％～10wt％，例如7.8wt％、8.1wt％、8.8wt％、9.1wt％、9.8wt％等。
优选地，所述钾长石中Na2O的质量百分数为2wt％～4wt％，例如2.2wt％、2.5wt％、2.9wt％、3.2wt％、3.8wt％等。
优选地，所述烧滑石的组成按质量百分数计，包括以下组分：
所述烧滑石各组分的质量百分数之和为100％。
优选地，所述烧滑石中SiO2的质量百分数为60wt％～70wt％，例如61.25wt％、62.91wt％、65.64wt％、67.23wt％、69.25wt％等。
优选地，所述烧滑石中Fe2O3的质量百分数为0.04wt％～0.1wt％，例如0.05wt％、0.06wt％、0.07wt％、0.08wt％、0.09wt％等。
优选地，所述烧滑石中CaO的质量百分数为3wt％～5wt％，例如3.56wt％、3.98wt％、4.12wt％、4.37wt％、4.49wt％、4.98wt％等。
优选地，所述烧滑石中MgO的质量百分数为28wt％～35wt％，例如28.58wt％、29.12wt％、30.25wt％、31.51wt％、33.25wt％等。
优选地，所述高岭土的组成按质量百分数计，包括以下组分：
所述高岭土各组分的质量百分数之和为100％。
优选地，所述高岭土中SiO2的质量百分数为45wt％～50wt％，例如45.25wt％、46.59wt％、47.89wt％、48.23wt％、49.25wt％等。
优选地，所述高岭土中Al2O3的质量百分数为32wt％～40wt％，例如32.59wt％、35.78wt％、37.25wt％、39.56wt％等。
优选地，所述高岭土中Fe2O3的质量百分数为1.1wt％～3.5wt％，例如1.3wt％、1.9wt％、2.5wt％、3.2wt％等。
优选地，所述高岭土中CaO的质量百分数为0.1wt％～1.4wt％，例如0.17wt％、0.21wt％、0.76wt％、1.25wt％、1.36wt％等。
优选地，所述高岭土中MgO的质量百分数为0.2wt％～1.8wt％，例如0.31wt％、0.44wt％、0.89wt％、1.25wt％、1.59wt％等。
优选地，所述高岭土中K2O的质量百分数为1.5wt％～4.9wt％，例如1.59wt％、1.69wt％、2.59wt％、3.58wt％、4.58wt％等。
优选地，所述高岭土中Na2O的质量百分数为0.2wt％～0.9wt％，例如0.25wt％、0.38wt％、0.48wt％、0.59wt％、0.89wt％等。
优选地，所述熔块A的组成按质量百分数计，包括以下组分：
所述熔块A各组分的质量百分数之和为100％。
优选地，所述熔块A中SiO2的质量百分数为40wt％～48wt％，例如44.70wt％、44.90wt％、45.25wt％、46.59wt％、47.89wt％等。
优选地，所述熔块A中Al2O3的质量百分数为15wt％～20wt％，例如15.59wt％、18.60wt％、18.80wt％、19.12wt％、19.56wt％等。
优选地，所述熔块A中Fe2O3的质量百分数为0.1wt％～0.2wt％，例如0.13wt％、0.15wt％、0.18wt％、0.19wt％等。
优选地，所述熔块A中CaO的质量百分数为5wt％～10wt％，例如5.26wt％、6.52wt％、7.64wt％、7.67wt％、8.59wt％、9.56wt％等。
优选地，所述熔块A中MgO的质量百分数为0.5wt％～0.8wt％，例如0.51wt％、0.63wt％、0.69wt％、0.71wt％、0.79wt％等。
优选地，所述熔块A中K2O的质量百分数为1.5wt％～2wt％，例如1.59wt％、1.67wt％、1.69wt％、1.7wt％、1.75wt％、1.89wt％、1.98wt％等。
优选地，所述熔块A中Na2O的质量百分数为3wt％～5wt％，例如3.25wt％、3.98wt％、4.58wt％、4.78wt％、4.76wt％、4.8wt％、4.89wt％等。
优选地，所述熔块A中ZnO的质量百分数为3wt％～6wt％，例如3.5wt％、4.0wt％、4.6wt％、5.0wt％、5.7wt％等。
优选地，所述熔块A中TiO2的质量百分数为0.1wt％～0.3wt％，例如0.12wt％、0.14wt％、0.16wt％、0.25wt％、0.29wt％等。
优选地，所述熔块A中B2O3的质量百分数为0.2wt％～0.4wt％，例如0.23wt％、0.29wt％、0.32wt％、0.34wt％、0.38wt％等。
优选地，所述熔块A中BaO的质量百分数为15wt％～18wt％，例如15.42wt％、15.6wt％、16.3wt％、16.5wt％、16.7wt％、17.2wt％、17.8wt％等。
优选地，所述熔块B的组成按质量百分数计，包括以下组分：
所述熔块B各组分的质量百分数之和为100％。
优选地，所述熔块B中SiO2的质量百分数为48wt％～55wt％，例如48.70wt％、49.25wt％、51.71wt％、51.73wt％、54.89wt％等。
优选地，所述熔块B中Al2O3的质量百分数为10wt％～15wt％，例如10.59wt％、12.7wt％、12.80wt％、14.06wt％、14.08wt％、14.56wt％等。
优选地，所述熔块B中Fe2O3的质量百分数为0.1wt％～0.2wt％，例如0.13wt％、0.15wt％、0.18wt％、0.19wt％等。
优选地，所述熔块B中CaO的质量百分数为10wt％～14wt％，例如10.26wt％、11.52wt％、13.60wt％、13.63wt％、13.59wt％等。
优选地，所述熔块B中MgO的质量百分数为2wt％～4wt％，例如2.51wt％、2.63wt％、2.95wt％、3.1wt％、3.79wt％等。
优选地，所述熔块B中K2O的质量百分数为4wt％～7wt％，例如4.59wt％、4.95wt％、5.27wt％、5.89wt％、6.98wt％等。
优选地，所述熔块B中Na2O的质量百分数为0.5wt％～1.2wt％，例如0.6wt％、0.7wt％、0.8wt％、1.0wt％、1.1wt％等。
优选地，所述熔块B中ZnO的质量百分数为3wt％～6wt％，例如3.5wt％、4.0wt％、4.59wt％、5.0wt％、5.7wt％等。
优选地，所述熔块B中B2O3的质量百分数为0.3wt％～0.6wt％，例如0.35wt％、0.41wt％、0.43wt％、0.45wt％、0.58wt％等。
优选地，所述熔块B中BaO的质量百分数为5wt％～8wt％，例如5.06wt％、5.65wt％、5.97wt％、6.22wt％、6.23wt％、6.24wt％、6.72wt％、7.85wt％等。
优选地，所述水洗高岭土的组成按质量百分数计，包括以下组分：
所述水洗高岭土各组分的质量百分数之和为100％。
优选地，所述水洗高岭土中SiO2的质量百分数为45wt％～55wt％，例如45.70wt％、47.89wt％、49.25wt％、51.71wt％、54.89wt％等。
优选地，所述水洗高岭土中Al2O3的质量百分数为32wt％～45wt％，例如33.59wt％、35.78wt％、39.08wt％、44.56wt％等。
优选地，所述水洗高岭土中Fe2O3的质量百分数为1.1wt％～1.6wt％，例如1.2wt％、1.3wt％、1.4wt％、1.5wt％等。
优选地，所述水洗高岭土中CaO的质量百分数为0.1wt％～1.5wt％，例如0.21wt％、0.56wt％、0.89wt％、1.45wt％等。
优选地，所述水洗高岭土中MgO的质量百分数为0.2wt％～1.8wt％，例如0.26wt％、0.44wt％、0.89wt％、1.56wt％、1.79wt％等。
优选地，所述水洗高岭土中K2O的质量百分数为1wt％～5wt％，例如1.69wt％、2.96wt％、3.27wt％、3.89wt％、4.98wt％等。
优选地，所述水洗高岭土中Na2O的质量百分数为0.2wt％～2.5wt％，例如0.26wt％、0.38wt％、0.85wt％、1.55wt％、2.17wt％等。
优选地，本发明步骤(3)之后进行步骤(4)：将表面依次具有面釉层和光泽梯度渐变釉层的陶瓷砖进行烧制和磨边，得到陶瓷砖成品。
优选地，所述烧制的温度为1150～1250℃，例如1175℃、1185℃、1190℃、1200℃等。
优选地，所述烧制的时间为50～70min，例如52min、55min、60min、65min等。
优选地，本发明步骤(2)和步骤(3)之间，还包括在所述具有面釉层的瓷砖上进行图案装饰，得到图案装饰层。
优选地，所述图案装饰包括喷墨印刷和/或胶辊印刷。
本发明对图案装饰过程的喷墨印刷和胶辊印刷参数不做具体限定，因本发明中图案装饰层对陶瓷砖的光泽度无影响，进而采用任意一种方式制得的图案装饰层皆可实现本发明。
作为优选技术方案，本发明所述一种陶瓷砖的表面施釉方法，所述方法包括如下步骤：
(1)将2wt％～5wt％ZnO、5wt％～8wt％BaCO3、15wt％～20wt％ZrSiO4、25wt％～32wt％钾长石、10wt％～15wt％烧滑石、8wt％～12wt％CaCO3、8wt％～13wt％高岭土和7wt％～12wt％熔块A釉混合制得面釉，将85wt％～95wt％熔块B和5wt％～15wt％水洗高岭土混合制得光泽梯度渐变釉；
(2)将所述面釉的细度控制在标准筛325目，筛余为0.4～0.6，采用钟罩淋釉将所述面釉施釉在瓷砖坯体表面，釉浆粘度为26～35s，施釉比重为1.70～1.85，施釉量为480～550g/m2，制得具有面釉层的瓷砖，光泽度为1°～10°，在所述面釉层上进行图案装饰，得到图案装饰层；
(3)将所述光泽梯度渐变釉的细度控制在标准筛325目，筛余为0～0.6，依据公式：陶瓷表面光泽度＝面釉光泽度+(光泽梯度渐变釉的施釉量/常数3～5)×1.12，采用喷釉将所述光泽梯度渐变釉施釉在所述图案装饰层上，釉浆粘度为14～18s，施釉比重为1.30～1.45，施釉量为0～320g/m2，得到表面依次具有面釉层和光泽梯度渐变釉层的陶瓷砖；
(4)将表面依次具有面釉层和光泽梯度渐变釉层的陶瓷砖进行1150～1250℃烧制50～70min，磨边，得到陶瓷砖成品。
本发明的目的之二是提供一种陶瓷砖，所述陶瓷砖为通过目的之一所述的方法制备得到。
优选地，所述陶瓷砖的表面光泽度≥1°，优选1°～90°，例如8°、10°、20°、30°、40°、50°、60°、70°、80°、90°等。
本发明的方法可制备任何表面光泽度的陶瓷砖，但在实际应用中，光泽度大于90°的陶瓷砖没有实际应用价值。
优选地，所述陶瓷砖面釉层的组成按质量百分数计，包括以下组分：
所述陶瓷砖面釉层的组成质量百分数之和为100％；
所述陶瓷砖光泽梯度渐变釉层的组成按质量百分数计，包括以下组分：
所述陶瓷砖光泽梯度渐变釉层的组成质量百分数之和为100％。
优选地，所述面釉层中SiO2的质量百分数为35wt％～45wt％，例如37wt％、39wt％、40wt％、41wt％、42wt％、44wt％等。
优选地，所述面釉层中Al2O3的质量百分数为8wt％～15wt％，例如8.98wt％、9.56wt％、12.99wt％、14.59wt％等。
优选地，所述面釉层中Fe2O3的质量百分数为0.1wt％～0.5wt％，例如0.12wt％、0.25wt％、0.39wt％、0.45wt％等。
优选地，所述面釉层中CaO的质量百分数为5wt％～10wt％，例如6wt％、7wt％、8wt％、9wt％等。
优选地，所述面釉层中MgO的质量百分数为2wt％～5wt％，例如2.51wt％、3.15wt％、3.72wt％、4.25wt％、4.89wt％等。
优选地，所述面釉层中K2O的质量百分数为2wt％～5wt％，例如2.8wt％、3.1wt％、3.8wt％、4.1wt％、4.8wt％等。
优选地，所述面釉层中Na2O的质量百分数为1wt％～2wt％，例如1.2wt％、1.5wt％、1.9wt％等。
优选地，所述面釉层中ZnO的质量百分数为2wt％～5wt％，例如2.12wt％、3.25wt％、4.39wt％、4.95wt％等。
优选地，所述面釉层中ZrO2的质量百分数为8wt％～15wt％，例如9wt％、10wt％、12wt％、14wt％等。
优选地，所述面釉层中TiO2的质量百分数为0.005wt％～0.02wt％，例如0.007wt％、0.008wt％、0.01wt％、0.015wt％、0.018wt％等。
优选地，所述面釉层中B2O3的质量百分数为0.01wt％～0.04wt％，例如0.02wt％、0.025wt％、0.03wt％、0.035wt％等。
优选地，所述面釉层中BaO的质量百分数为5wt％～10wt％，例如6wt％、7wt％、9wt％等。
优选地，所述光泽梯度渐变釉层中SiO2的质量百分数为48wt％～55wt％，例如49wt％、50wt％、51wt％、52wt％、53wt％、54wt％等。
优选地，所述光泽梯度渐变釉层中Al2O3的质量百分数为12wt％～18wt％，例如13wt％、14wt％、15wt％、16wt％等。
优选地，所述光泽梯度渐变釉层中Fe2O3的质量百分数为0.1wt％～0.5wt％，例如0.12wt％、0.25wt％、0.39wt％、0.45wt％等。
优选地，所述光泽梯度渐变釉层中CaO的质量百分数为10wt％～14wt％，例如11wt％、12wt％、13wt％等。
优选地，所述光泽梯度渐变釉层中MgO的质量百分数为2wt％～4wt％，例如2.51wt％、3.15wt％、3.72wt％等。
优选地，所述光泽梯度渐变釉层中K2O的质量百分数为4wt％～7wt％，例如4.8wt％、5.1wt％、5.8wt％、6.1wt％、6.8wt％等。
优选地，所述光泽梯度渐变釉层中Na2O的质量百分数为0.5wt％～1.2wt％，例如0.6wt％、0.8wt％、1.1wt％等。
优选地，所述光泽梯度渐变釉层中ZnO的质量百分数为3wt％～6wt％，例如3.12wt％、4.25wt％、5.39wt％、5.95wt％等。
优选地，所述光泽梯度渐变釉层中B2O3的质量百分数为0.3wt％～0.6wt％，例如0.32wt％、0.45wt％、0.51wt％、0.55wt％等。
优选地，所述光泽梯度渐变釉层中BaO的质量百分数为4wt％～8wt％，例如5wt％、6wt％、7wt％等。
本发明制备得到的陶瓷砖表面平整无针孔等缺陷，陶瓷砖表面光泽度可控。
与现有技术相比，本发明具有如下有益效果：
(1)本发明解决了现有技术中通过调整釉料配方的方式来控制釉面的光泽度的问题，本发明分别制备了固定配方的面釉和光泽梯度渐变釉，针对不同的光泽度要求，不更换釉料和工艺过程，在确定面釉光泽度的情况下，只需调整光泽梯度渐变釉的施釉量，即可在同一个生产平台上，完成所需的各种不同光泽梯度的陶瓷砖产品的生产。
(2)本发明统一了釉料配方与工艺方法，简化了生产工艺，降低了生产成本，提升了工作效率和产品质量。
(3)本发明制备的光泽梯度渐变釉可控性高、性能稳定、并且易于操作，可针对仿古砖不同的表面效果要求，选择不同的施釉方式及施釉量，从而可产生不同的光泽对比效果，进而提高产品的装饰性能。
(4)本发明制备得到的陶瓷砖表面平整无针孔等缺陷，光泽度可控。
附图说明
图1是本发明实施例1产品结构的3D层状示意图。
图2为本发明实施例1产品结构的剖面示意图。
具体实施方式
为便于理解本发明，本发明列举实施例如下。本领域技术人员应该明了，所述实施例仅仅是帮助理解本发明，不应视为对本发明的具体限制。
实施例1
一种陶瓷砖的制备方法包括如下步骤：
(1)将3wt％ZnO、7wt％BaCO3、18wt％ZrSiO4、30wt％钾长石、12wt％烧滑石、10wt％CaCO3、10wt％高岭土和10wt％熔块A釉混合制得面釉，所述熔块A的组成包括44.7wt％SiO2、18.8wt％Al2O3、0.18wt％Fe2O3、7.64wt％CaO、0.63wt％MgO、1.69wt％K2O、4.78wt％Na2O、4.6wt％ZnO、0.14wt％TiO2、0.34wt％B2O3和16.5wt％BaO，将90wt％熔块B和10wt％水洗高岭土混合制得光泽梯度渐变釉，所述熔块B的组成包括51.71wt％SiO2、14.08wt％Al2O3、0.18wt％Fe2O3、13.60wt％CaO、3.1wt％MgO、5.27wt％K2O、0.8wt％Na2O、4.59wt％ZnO、0.43wt％B2O3和6.24wt％BaO；
(2)将所述面釉的细度控制在标准筛325目，筛余为0.5，采用钟罩淋釉将所述面釉施釉在瓷砖坯体表面，釉浆粘度为30s，施釉比重为1.8，施釉量为500g/m2，制得具有面釉层的瓷砖，光泽度为8°，在所述面釉层上进行图案装饰，得到图案装饰层；
(3)将所述光泽梯度渐变釉的细度控制在标准筛325目，筛余为0.4，采用高压喷釉将所述光泽梯度渐变釉施釉在所述图案装饰层上，釉浆粘度为16s，施釉比重为1.4，加入不同量的光泽梯度渐变釉，得到表面依次具有面釉层和光泽梯度渐变釉层的陶瓷砖；
(4)将表面依次具有面釉层和光泽梯度渐变釉层的陶瓷砖在1175℃烧制65min，抛光和磨边，得到14种不同光泽度的陶瓷砖成品(A1～A14)，陶瓷砖成品结构如图1和图2所示，其中1为坯体层，2为面釉层，3为图案装饰层，4为光泽梯度渐变层。
实施例2
一种陶瓷砖的制备方法包括如下步骤：
(1)将2wt％ZnO、8wt％BaCO3、20wt％ZrSiO4、25wt％钾长石、15wt％烧滑石、8wt％CaCO3、10wt％高岭土和12wt％熔块A釉混合制得面釉，所述熔块A的组成包括44.9wt％SiO2、18.6wt％Al2O3、0.18wt％Fe2O3、7.64wt％CaO、0.63wt％MgO、1.67wt％K2O、4.8wt％Na2O、4.6wt％ZnO、0.14wt％TiO2、0.32wt％B2O3和16.7wt％BaO，将85wt％熔块B和15wt％水洗高岭土混合制得光泽梯度渐变釉，所述熔块B的组成包括51.73wt％SiO2、14.06wt％Al2O3、0.15wt％Fe2O3、13.63wt％CaO、3.1wt％MgO、5.27wt％K2O、0.8wt％Na2O、4.59wt％ZnO、0.45wt％B2O3和6.22wt％BaO；
(2)将所述面釉的细度控制在标准筛325目，筛余为0.4，采用高压喷釉将所述面釉施釉在瓷砖坯体表面，釉浆粘度为16s，施釉比重为1.35，施釉量为680g/m2，制得具有面釉层的瓷砖，光泽度为10°，在所述面釉层上进行图案装饰，得到图案装饰层；
(3)将所述光泽梯度渐变釉的细度控制在标准筛325目，筛余为0.6，采用钟罩淋釉将所述光泽梯度渐变釉施釉在所述图案装饰层上，釉浆粘度为28s，施釉比重为1.7，加入不同量的光泽梯度渐变釉，得到表面依次具有面釉层和光泽梯度渐变釉层的陶瓷砖；
(4)将表面依次具有面釉层和光泽梯度渐变釉层的陶瓷砖进行1185℃烧制60min，磨边，得到23种不同光泽度的陶瓷砖成品(B1～B23)。
实施例3
一种陶瓷砖的制备方法包括如下步骤：
(1)将5wt％ZnO、8wt％BaCO3、15wt％ZrSiO4、32wt％钾长石、10wt％烧滑石、12wt％CaCO3、8wt％高岭土和10wt％熔块A釉混合制得面釉，所述熔块A的组成包括48wt％SiO2、15wt％Al2O3、0.1wt％Fe2O3、7wt％CaO、0.5wt％MgO、1.7wt％K2O、3wt％Na2O、6wt％ZnO、0.3wt％TiO2、0.4wt％B2O3和18wt％BaO，将95wt％熔块B和5wt％水洗高岭土混合制得光泽梯度渐变釉，所述熔块B的组成包括55wt％SiO2、12.7wt％Al2O3、0.2wt％Fe2O3、14wt％CaO、2wt％MgO、4wt％K2O、0.5wt％Na2O、3wt％ZnO、0.6wt％B2O3和8wt％BaO；
(2)将所述面釉的细度控制在标准筛325目，筛余为0.6，采用高压喷釉将所述面釉施釉在瓷砖坯体表面，釉浆粘度为14s，施釉比重为1.3，施釉量为650g/m2，制得具有面釉层的瓷砖，光泽度为10°，在所述面釉层上进行图案装饰，得到图案装饰层；
(3)将所述光泽梯度渐变釉的细度控制在标准筛325目，筛余为0.4，采用平板丝网印刷将所述光泽梯度渐变釉施釉在所述图案装饰层上，施釉比重为1.3，花网目数为150目，加入不同量的光泽梯度渐变釉，得到表面依次具有面釉层和光泽梯度渐变釉层的陶瓷砖；
(4)将表面依次具有面釉层和光泽梯度渐变釉层的陶瓷砖进行1190℃烧制55min，磨边，得到10种不同光泽度的陶瓷砖成品(C1～C10)。
实施例4
一种陶瓷砖的制备方法包括如下步骤：
(1)将5wt％ZnO、8wt％BaCO3、15wt％ZrSiO4、32wt％钾长石、10wt％烧滑石、12wt％CaCO3、8wt％高岭土和10wt％熔块A釉混合制得面釉，所述熔块A的组成包括45.25wt％SiO2、19.12wt％Al2O3、0.13wt％Fe2O3、6.52wt％CaO、0.51wt％MgO、1.98wt％K2O、4.89wt％Na2O、5.7wt％ZnO、0.25wt％TiO2、0.23wt％B2O3和15.42wt％BaO，将95wt％熔块B和5wt％水洗高岭土混合制得光泽梯度渐变釉，所述熔块B的组成包括54.89wt％SiO2、12.8wt％Al2O3、0.15wt％Fe2O3、11.52wt％CaO、2.95wt％MgO、4.95wt％K2O、1.1wt％Na2O、6wt％ZnO、0.58wt％B2O3和5.06wt％BaO；
(2)将所述面釉的细度控制在标准筛325目，筛余为0.6，采用高压喷釉将所述面釉施釉在瓷砖坯体表面，釉浆粘度为18s，施釉比重为1.55，施釉量为700g/m2，制得具有面釉层的瓷砖，光泽度为9°，在所述面釉层上进行图案装饰，得到图案装饰层；
(3)将所述光泽梯度渐变釉的细度控制在标准筛325目，筛余为0，采用胶辊印刷将所述光泽梯度渐变釉施釉在所述图案装饰层上，釉浆粘度为20s，施釉比重为1.5，得到表面依次具有面釉层和光泽梯度渐变釉层的陶瓷砖；
(4)将表面依次具有面釉层和光泽梯度渐变釉层的陶瓷砖进行1200℃烧制52min，磨边，得到7种不同光泽度的陶瓷砖成品(D1～D7)。
对比例1
以CN104261879A中实施例1为对比例，制备方法包括如下步骤：
(1)按照釉料配方精确称量原料，长石31、双飞粉6、石灰石6、滑石6、白云石4、高岭土8、氧化硅22、氧化锌7、碳酸钡3、水7；
(2)将原料混合后湿球磨制得釉浆，其中料：球：水＝1:2:1.5；
(3)釉浆过320目筛后陈化待用，制得透明釉料，得到1种光泽度的陶瓷砖成品，光泽度为88°。
性能测试：
(1)光泽度测试：使用光泽仪在实施例每种生产的瓷砖面各取5处进行光泽度测量，取5处测量结果的平均值表示每块釉面砖的光泽度。
表1
表2
表3
预定光泽度(°) 光泽梯度渐变釉施釉量(g/m<sup>2</sup>) 实测光泽度(°)
C1 27 60.7 27
C2 34 85.7 34
C3 41 110.7 41
C4 48 135.7 48
C5 55 160.7 55
C6 62 185.7 62
C7 69 210.7 69
C8 76 235.7 76
C9 83 260.7 83
C10 90 285.7 90
表4
通过表1～4可以看出，本发明采用固定配方的面釉与光泽梯度渐变釉配合使用，在实际生产中，不更换釉料和工艺，在同一个生产平台上，确定面釉光泽度的情况下，只需调节光泽梯度渐变釉的施釉量，即可在陶瓷砖表面产生各种等差数列梯度的光泽效果，符合公式：陶瓷表面光泽度＝面釉光泽度+(光泽梯度渐变釉的施釉量/常数3～5)×1.12。
表1中A1～A14陶瓷砖成品光泽效果的等差数列梯度以3为公差，表2中B1～B23陶瓷砖成品光泽效果的等差数列梯度以5为公差，表3中C1～C10光泽效果的等差数列梯度以7为公差，表4中D1～D7光泽效果的等差数列梯度以10为公差。
本发明在实际生产中可产生的光泽效果等差数列梯度不限于实施例中的3、5、7和10，本发明将面釉与光泽梯度渐变釉配合使用可生产任何预定光泽度的陶瓷砖。
相对于对比例1，本发明实施例1～4中不更换釉料和工艺，在同一个生产平台上，就可以在陶瓷砖表面产生各种等差数列梯度的光泽效果，而对比例1中一个配方只能产生一种光泽效果，对于不同的光泽度要求，需要重新配料、磨釉、施釉才能够实现，工作量大、损耗大。
申请人声明，本发明通过上述实施例来说明本发明的详细工艺设备和工艺流程，但本发明并不局限于上述详细工艺设备和工艺流程，即不意味着本发明必须依赖上述详细工艺设备和工艺流程才能实施。所属技术领域的技术人员应该明了，对本发明的任何改进，对本发明产品各原料的等效替换及辅助成分的添加、具体方式的选择等，均落在本发明的保护范围和公开范围之内。

Claims (10)

1.一种陶瓷砖的表面施釉方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：
(1)分别配制面釉与光泽梯度渐变釉；
所述面釉的组成按质量百分数计，包括以下组分：
所述面釉各组分的质量百分数之和为100％；
所述光泽梯度渐变釉的组成按质量百分数计，包括以下组分：
熔块B 85wt％～95wt％
水洗高岭土 5wt％～15wt％；
所述光泽梯度渐变釉各组分的质量百分数之和为100％；
(2)根据预定的陶瓷砖表面光泽度，在瓷砖坯体表面进行所述面釉的施釉，得到具有面釉层的瓷砖；
(3)根据预定的陶瓷砖表面光泽度，进行所述光泽梯度渐变釉的施釉，得到表面依次具有面釉层和光泽梯度渐变釉层的陶瓷砖。
2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)所述预定陶瓷砖表面光泽度与所述面釉和所述光泽梯度渐变釉之间的关系可以表示为：
陶瓷表面光泽度＝面釉光泽度+(光泽梯度渐变釉的施釉量/常数3～5)×1.12。
3.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，步骤(2)所述面釉层的光泽度为1°～10°。
4.如权利要求1-3之一所述的方法，其特征在于，步骤(2)所述面釉的施釉方式包括钟罩淋釉或喷釉；
优选地，所述面釉的细度控制在标准筛325目，筛余为0.4～0.6；
优选地，所述面釉的施釉方式为钟罩淋釉，所述钟罩淋釉的釉浆粘度为26～35s，施釉比重为1.70～1.85，施釉量为480～550g/m2；
优选地，所述面釉的施釉方式为喷釉，所述喷釉的釉浆粘度为14～18s，施釉比重为1.30～1.45，施釉量为650～700g/m2。
5.如权利要求1-4之一所述的方法，其特征在于，步骤(3)所述光泽梯度渐变釉的施釉方式包括喷釉、钟罩淋釉、平板丝网印刷和胶辊印刷中的任意一种或至少两种的组合；
优选地，所述光泽梯度渐变釉的细度控制在标准筛325目，筛余为0～0.6；
优选地，所述光泽梯度渐变釉的施釉量为0～320g/m2；
优选地，所述光泽梯度渐变釉的施釉方式为喷釉，所述喷釉的釉浆粘度为14～18s，施釉比重为1.30～1.45；
优选地，所述光泽梯度渐变釉的施釉方式为钟罩淋釉，所述钟罩淋釉的釉浆粘度为26～35s，施釉比重为1.70～1.85；
优选地，所述光泽梯度渐变釉的施釉方式为平板印刷，所述平板印刷的施釉比重为1.20～1.35，花网目数为80～200目；
优选地，所述光泽梯度渐变釉的施釉方式为胶辊印刷，所述胶辊印刷的釉浆粘度为16～24s，施釉比重为1.30～1.55。
6.如权利要求1-5之一所述的方法，其特征在于，所述熔块A的组成按质量百分数计，包括以下组分：
所述熔块A各组分的质量百分数之和为100％；
优选地，所述熔块B的组成按质量百分数计，包括以下组分：
所述熔块B各组分的质量百分数之和为100％。
7.如权利要求1-6之一所述的方法，其特征在于，步骤(2)和步骤(3)之间，还包括在所述具有面釉层的瓷砖上进行图案装饰，得到图案装饰层；
优选地，所述图案装饰包括喷墨印刷和/或胶辊印刷。
8.如权利要求1-7之一所述的方法，其特征在于，步骤(3)之后进行步骤(4)：将表面依次具有面釉层和光泽梯度渐变釉层的陶瓷砖进行烧制和磨边，得到陶瓷砖成品；
优选地，所述烧制的温度为1150～1250℃；
优选地，所述烧制的时间为50～70min。
9.如权利要求1-8之一所述一种陶瓷砖的表面施釉方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：
(1)将2wt％～5wt％ZnO、5wt％～8wt％BaCO3、15wt％～20wt％ZrSiO4、25wt％～32wt％钾长石、10wt％～15wt％烧滑石、8wt％～12wt％CaCO3、8wt％～13wt％高岭土和7wt％～12wt％熔块A釉混合制得面釉，将85wt％～95wt％熔块B和5wt％～15wt％水洗高岭土混合制得光泽梯度渐变釉；
(2)将所述面釉的细度控制在标准筛325目，筛余为0.4～0.6，采用钟罩淋釉将所述面釉施釉在瓷砖坯体表面，釉浆粘度为26～35s，施釉比重为1.70～1.85，施釉量为480～550g/m2，制得具有面釉层的瓷砖，光泽度为1°～10°，在所述面釉层上进行图案装饰，得到图案装饰层；
(3)将所述光泽梯度渐变釉的细度控制在标准筛325目，筛余为0～0.6，依据公式：陶瓷表面光泽度＝面釉光泽度+(光泽梯度渐变釉的施釉量/常数3～5)×1.12，采用喷釉将所述光泽梯度渐变釉施釉在所述图案装饰层上，釉浆粘度为14～18s，施釉比重为1.30～1.45，施釉量为0～320g/m2，得到表面依次具有面釉层和光泽梯度渐变釉层的陶瓷砖；
(4)将表面依次具有面釉层和光泽梯度渐变釉层的陶瓷砖进行1150～1250℃烧制50～70min，磨边，得到陶瓷砖成品。
10.一种陶瓷砖，其特征在于，所述陶瓷砖为通过权利要求1-9之一所述的一种陶瓷砖的表面施釉方法得到的陶瓷砖；
优选地，所述陶瓷砖的表面光泽度≥1°，优选1°～90°；
优选地，所述陶瓷砖面釉层的组成按质量百分数计，包括以下组分：
所述陶瓷砖面釉层的组成质量百分数之和为100％；
所述陶瓷砖光泽梯度渐变釉层的组成按质量百分数计，包括以下组分：
所述陶瓷砖光泽梯度渐变釉层的组成质量百分数之和为100％。
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