CN109219584B - 具有导电涂层和减小的指纹可见性的玻璃板 - Google Patents

Abstract

本发明涉及具有导电涂层的玻璃板，其包括基底(1)和在基底(1)的暴露表面上的导电涂层(2)，所述导电涂层包括至少一个导电层(4)，其中所述玻璃板在310 nm至360 nm下具有反射率(R_L)的局部最小值，且在400 nm至460 nm下具有反射率(R_L)的局部最大值。

Description

具有导电涂层和减小的指纹可见性的玻璃板

本发明涉及具有导电涂层的玻璃板及其制造和用途。

具有透明导电涂层的玻璃质玻璃板是已知的。该玻璃质玻璃板可以由此配备有功能，而不明显干扰透过玻璃板的透视。此类涂层例如用作车辆或建筑物的窗户玻璃板上的可加热涂层或热辐射反射涂层。

机动车管或建筑物的内室可以在夏天在高环境温度和强烈的直接太阳辐射下严重升温。如果外部温度相反小于内室的温度，这特别是出现在冬天，则冷玻璃板充当散热器，其被认为是不舒适的。内室还必须强烈加热，以避免经由窗户玻璃板的变冷。

热辐射反射涂层（所谓的低辐射涂层）反射阳光辐射特别是在红外区域内的很大一部分，这在夏天导致内室的升温减少。此外，该涂层减少已升温的玻璃板的长波热辐射发射到内室中。此外，其在冬天的低外部温度下减少内室热量辐射到外部环境中。

为了最佳地起作用，热辐射反射涂层必须布置在玻璃板的内室侧暴露表面上，即似乎在内室和实际的玻璃质玻璃板之间。在那里，所述涂层暴露于气氛中，这排除使用易腐蚀的涂层，例如基于银的那些。作为暴露表面上的导电涂层，基于透明导电氧化物（TCO，透明导电氧化物），例如氧化铟锡（ITO，氧化铟锡）的涂层由于其耐腐蚀性和良好的导电性被证明是有利的。此类涂层例如由EP 2 141 135 A1、WO 2010115558 A1和WO 2011105991 A1已知。

暴露表面上的涂层的缺点是，其可以被人员触摸，他们可能留下指纹。所述指纹在涂层上经常可特别好地识别，这严重降低玻璃板的美观效果，或可能导致光反射的干扰性局部变化。指纹可以部分地通过常见的清洁剂仅困难地清除，其中还必须注意，所述涂层不被清洁时的化学品或强机械应力损坏。

减小指纹可见性的已知方法包括使用粗糙化表面或疏水性和疏油性层，如例如在US2010304086A1中所示，但是这使玻璃板的制造变难或可能限制其使用可能性。US2003179455A1公开了用于塑料部件的两层的抗反射涂层，其应减少指纹可见性。选择层厚度，以使得其对应于平均波长的一半或四分之一，以实现合适的干涉效应。

US20130129945A1公开了具有热辐射反射涂层的玻璃板，其例如从基底起始由氮化硅层、氧化硅层、ITO层、另一氮化硅层、另一氧化硅层和最后的氧化钛层构成。所述涂层施加在外部玻璃表面上，并由于最后的氧化钛层而具有自清洁性能。指纹可见性在US20130129945A1中并不重要。

US20150146286A1公开了具有热辐射反射涂层的玻璃板，其从基底起始由氧化硅层、ITO层、氮化硅层和另一氧化硅层构成。所述涂层施加在内室侧的外部玻璃表面上。指纹的可见性在US20150146286A1中并不重要。

US6416194B公开了由基底和反射涂层构成的镜子。该涂层的反射谱具有428 nm下的局部最大值。此外向较短波长推移的局部最小值未被公开，但是借助反射谱的外推看起来位于175 nm和260 nm之间。

本发明的目的是提供在暴露表面上具有导电涂层的进一步改进的玻璃板，在该玻璃板上指纹较不明显可见。

根据本发明，本发明的目的通过根据权利要求1的具有导电涂层的玻璃板实现。优选实施方式来自从属权利要求。

本发明的玻璃板包括基底和在基底的暴露表面上的导电涂层。本发明的涂层包括至少一个导电层。在本发明中，暴露表面被理解为是指基底的表面，其可触及并且与环境气氛具有直接接触，以使得该涂层可以直接被人员触摸或可以例如被污物、油或脂肪污染。该涂层是足够耐腐蚀的，以被用于暴露表面。

指纹由不同生物物质，特别是脂肪和酸的混合物构成。根据文献值，对于指纹而言可以假设大约1.3至1.6的折射率。本发明人已通过借助白光干涉显微镜（WLIM）的测量而发现，常见指纹的厚度为几纳米至几百纳米。本发明人基于如下发现，即最多几百纳米厚度的指纹的可见性可借助干涉光学性能（Interferenzoptik）而受影响，该干涉光学性能又通过形成该涂层的层体系的构造而可调节。非常厚的指纹虽然较少地可被干涉光学性能影响，但是当至少厚度为几百纳米的指纹（其占所有指纹中的大部分）较不可见时，玻璃板的总光学性能明显改进。本发明人已令人惊奇地发现，被设定成在310 nm至360 nm下具有反射率局部最小值和在400 nm至460 nm 下具有反射率局部最大值的具有导电涂层的玻璃板导致常见指纹的可见性减少。反射率局部最小值优选在315 nm至355 nm下，特别优选在320 nm至350 nm下。反射率局部最大值优选在415 nm至450 nm下。所述局部极限值在此被理解为最低要求，并且不应排除其是全局极限值的情况。虽然在反射率最大值的情况中至少在可见区域外存在具有更高透射率的光谱区域，但是可设想，所述反射率局部最小值在数学意义上是全局最小值。

术语“反射率”在标准DIN EN 410的意义上使用。反射率始终是指层侧的反射率，其当玻璃板的经涂覆的表面朝向光源和检测器时被测量。折射率的所示值在550 nm的波长下测量。

本发明的涂层在一个优选的实施方式中是热辐射反射涂层。此类涂层经常也称为低E涂层、低辐射涂层或辐射系数减小涂层。其功能是避免热向内室中的辐射（太阳辐射中的IR部分，特别是玻璃板本身的热辐射）并同样避免热从内室辐射出去。该涂层原则上也可以满足其它功能，例如作为可加热涂层，当其电接触以使得其由于电流流动而被加热时。

本发明的玻璃板优选是窗户玻璃板并被设置用于在例如车辆或建筑物的开口中将内室相对于外部环境分开。布置有本发明涂层的暴露表面优选是玻璃板或基底的内室侧表面。在本发明的意义上，内室侧表面是被设置用于在玻璃板的安装位置中朝向内室的那个表面。这在内室中的热舒适度方面特别有利。本发明的涂层可以在此在高外部温度和太阳辐射下特别有效地至少部分反射由整个玻璃板朝着内室方向辐射出的热辐射。在低外部温度下，本发明的涂层可以有效地反射从内室辐射出的热辐射并因此减少冷玻璃板作为散热器的效果。通常，将玻璃的表面从外部向内部编号，以使得内室侧表面在单玻璃的情况下称为“面2”，在两层玻璃（例如复合玻璃或隔热玻璃）的情况下称为“面4”。所述涂层可以替代地还布置在玻璃板的外侧表面上行。其可以特别地在建筑领域中是有意义的，例如作为窗户玻璃板上的抗结露涂层。

但是，所述涂层还可以替代地满足其它功能，例如作为触觉应用的基于电的电容式或电阻式传感器，例如触摸屏或触控面板，其自然地经常被指纹污染。

所述涂层是薄层的序列（层结构、层堆叠体）。当通过所述至少一个导电层确保导电性时，则光学性能，特别是透射率和反射率受其余层极大影响，并且可以通过其构造而有针对性地调节。就此而言，所谓的抗反射层或防反射层具有特别影响，其具有比所述导电层更小的折射率并且布置在其下方和上方。所述抗反射层可以特别地由于干涉效应而提高透过玻璃板的透射，并减小反射率。该效果决定性地取决于折射率和层厚度。在一个有利的实施方式中，所述涂层至少包括在所述导电层下方和上方的各一个抗反射层，其中该抗反射层具有比导电层更小的折射率，优选最高1.8，特别是最高1.6的折射率。

本发明的涂层是透明的，因此不明显地限制透过玻璃板的透视。所述涂层的吸收优选为在可见光谱范围内大约1 %至大约20 %。可见光谱范围被理解为380 nm至780 nm的光谱范围。

如果第一层布置在第二层上方，则在本发明中，这意味着第一层比第二层距离基底更远地布置。如果第一层布置在第二层下方，则在本发明中，这意味着第二层比第一层距离基底更远地布置。如果第一层布置在第二层上方或下方，则在本发明中，这不必然地意味着第一和第二层直接地相互接触。可以将一个或多个其它层布置在第一和第二层之间，如果没有明确地排除这一情况。

所述涂层通常完全施加在基底表面上，可能的例外是环形边缘区域和/或例如可用于数据传输的其它局部受限的区域。该基底表面的经涂覆的部分优选为至少90%。

如果层或其它元件含有至少一种材料，则这在本发明的意义上包括下列情况：所述层由该材料构成，这原则上也是优选的。在本发明范围中所述的化合物，特别是氧化物、氮化物和碳化物原则上可以是化学计量、亚化学计量或超化学计量的，甚至当为了更好地理解而提到化学计量化学式时。

对于指纹或表面污物的减少的可见性，本发明出现反射率的局部极限值是决定性的。该性能原则上可以通过所述涂层的层结构的多种构型来实现，并且本发明不应受限于特定的层构造。原则上，极限值分布通过层次序、单层材料和各个层厚度的选择而决定，其中可以通过在涂覆后发生的温度处理而被影响。但是，特定构型甚至在优化的材料使用和其它光学性能方面被证明是特别有利的，其在下面进行介绍。

所述导电层的折射率优选为1.7至2.3。该导电层在一个有利的实施方式中含有至少一种透明的导电氧化物（TCO，透明导电氧化物）。此类层是耐腐蚀的并且可以用于暴露表面上。该导电层优选地含有氧化铟锡（ITO，氧化铟锡），这被证明特别有利，特别是由于小的比电阻和在面电阻方面的低偏差。但是，该导电层还可以替代地含有例如铟锌混合氧化物（IZO）、掺镓的氧化锡（GZO）、掺氟的氧化锡（SnO₂:F）或掺锑的氧化锡（SnO₂:Sb）。

所述导电层的厚度优选为50 nm至130 nm，特别优选60 nm至100 nm，例如65 nm至80 nm。由此实现在导电性方面的特别好的结果以及同时足够的光学透明度。

在一个有利的实施方式中，所述涂层包括下部介电抗反射层，其布置在导电层的下方。该下部抗反射层的折射率优选为最高1.8，特别优选1.3至1.8。所述下部抗反射层的厚度优选为5 nm至50 nm，优选10 nm至30 nm，例如10 nm至20 nm。

在一个有利的实施方式中，所述涂层包括上部介电抗反射层，其布置在所述导电层的上方。该上部抗反射层的折射率优选为最高1.8，特别优选1.3至1.8。该上部抗反射层的厚度优选为10 nm至100 nm，特别优选30 nm至70 nm，例如45 nm至55 nm。

在一个特别有利的实施方式中，所述涂层既具有在导电层下方的下部抗反射层，也具有在导电层上方的上部抗反射层。

所述抗反射层导致玻璃板的特别有利的光学性能。例如它们降低反射率并且由此提高玻璃板的透明度并确保中性的颜色印象。该抗反射层优选含有氧化物或氟化物，特别优选氧化硅、氧化铝、氟化镁或氟化钙。该氧化硅可以具有掺杂并优选被铝（SiO₂:Al）、被硼（SiO₂:B）、被钛（SiO₂:Ti）或被锆（SiO₂:Zr）掺杂。但是，所述层还可以替代地含有例如氧化铝（Al₂O₃）。

在一个特别有利的实施方式中，该上部抗反射层是所述涂层的最上层。其因此具有与基底表面的最大距离并且是所述层堆叠体的最后层，其是裸露、暴露的以及对于人员而言够得着和可触摸的。在这一情况中，所述层堆叠体的光学性能在减少的指纹可见性方面是最佳的。在抗反射上方的特别是具有比抗反射层更高折射率的其它层将改变光学性能并可能降低所需效果。

已证明，所述导电层的氧含量（特别是当其基于TCO时）对于其性能，特别是对于透明度和导电性而言具有明显影响。所述玻璃板的制造通常包括温度处理，例如热预加应力工艺，其中氧扩散至导电层并且可以将其氧化。在一个有利的实施方式中，所述涂层在导电层和上部抗反射层之间包括折射率为至少1.9的用于调节氧扩散的介电阻隔层。该阻隔层用于将氧供给调节至最佳程度。当该阻隔层的折射率为1.9至2.5时，实现特别好的结果。

用于调节氧扩散的介电阻隔层含有至少一种金属、氮化物或碳化物。该阻隔层可以例如含有钛、铬、镍、锆、铪、铌、钽或钨或含有钨、铌、钽、锆、铪、铬、钛、硅或铝的氮化物或碳化物。在一个优选的实施方式中，所述阻隔层含有氮化硅（Si₃N₄）或碳化硅，特别是氮化硅（Si₃N₄），由此实现特别好的结果。该氮化硅可以具有掺杂并且在一个优选的扩展方式中被铝（Si₃N₄:Al）、被锆（Si₃N₄:Zr）、被钛（Si₃N₄:Ti）或被硼（Si₃N₄:B）掺杂。在施加本发明涂层后的温度处理过程中，该氮化硅可以部分地氧化。作为Si₃N₄沉积的阻隔层此时在温度处理后含有Si_xN_yO_z，其中氧含量通常为0原子%至35原子%。

所述阻隔层的厚度优选为5 nm至20 nm，特别优选7 nm至12 nm，例如8 nm至10nm。由此，特别有利地调节所述导电层的氧含量。在氧扩散方面，较少在玻璃板的光学性能方面选择所述阻隔层的厚度。但是已证明，具有所示范围的厚度的阻隔层与本发明的涂层及其光学要求相兼容。

在一个有利的实施方式中，所述涂层在导电层下方和任选在下部抗反射层下方包括针对碱金属扩散（Alkalidiffusion）的介电阻挡层。通过该阻挡层，碱金属离子从玻璃基底至所述层体系的扩散被减少或抑制。碱金属离子可能不利地影响所述涂层的性能。此外，所述阻挡层与下部抗反射一起有助于有利地调节整个层结构的光学性质。所述阻挡层的折射率优选为至少1.9。当所述阻挡层的折射率为1.9至2.5时，实现特别好的结果。所述阻挡层优选地含有优选钨、铬、铌、钽、锆、铪、钛、硅或铝的氧化物、氮化物或碳化物，例如氧化物例如WO₃、Nb₂O₅、Bi₂O₃、TiO₂、Ta₂O₅、Y₂O₃、ZrO₂、HfO₂、SnO₂或ZnSnO_x，或氮化物例如AlN、TiN、TaN、ZrN或NbN。所述阻挡层特别优选地含有氮化硅（Si₃N₄），由此实现特别好的结果。所述氮化硅可以具有掺杂，并在一个优选的扩展方案中被铝（Si₃N₄:Al）、被钛（Si₃N₄:Ti）、被锆（Si₃N₄:Zr）或被硼（Si₃N₄:B）掺杂。所述阻挡层的厚度优选为10 nm至50 nm，特别优选20 nm至40 nm，例如25 nm至35 nm。该阻挡层优选是所述层堆叠体的最下层，即与基底表面具有直接接触，在那里其可以最佳地展现其效果。

所述涂层在一个有利的实施方式中仅由折射率为至少1.9或最高1.8，优选最高1.6的层构成。在一个特别优选的实施方案中，所述涂层仅由所述层构成并且不含其它层。所述涂层此时由下列层以从基底表面起始的所示次序构成：

- 针对碱金属扩散的阻挡层

- 下部抗反射层

- 导电层

- 用于调节氧扩散的阻隔层

- 上部抗反射层。

本发明玻璃板的内室侧辐射系数优选为小于或等于45%，特别优选小于或等于35%，非常特别优选为小于或等于30%。内室侧辐射系数在此表示说明所述玻璃板在安装位置中相比于理想热辐射器（黑色物体）而言向例如建筑物或车辆的内室中释放多少热辐射的量度。在本发明中，辐射系数被理解为根据EN 12898在283 K下的标准辐射率。

本发明涂层的面电阻优选为10欧/方至100欧/方，特别优选15欧/方至35欧/方。

所述基底由电绝缘，特别是刚性的材料，优选由玻璃或塑料制成。该基底在一个优选的实施方式中含有钠钙玻璃，但是原则上也可以含有其它玻璃种类，例如硼硅酸盐玻璃或石英玻璃。该基底在另一个优选实施方式中含有聚碳酸酯（PC）或聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）。该基底可以是基本上透明的或是着色或有色的。该基底优选具有0.1 mm至20 mm，通常2 mm至5 mm的厚度。该基底可以被设计为平坦或弯曲的。在一个特别有利的实施方式中，该基底是热预加应力的玻璃质玻璃板。

本发明此外包括制造具有导电涂层的玻璃板的方法，其中

(a) 在基底的暴露表面上施加导电涂层，其包括至少一个导电层；并

(b) 使具有该涂层的基底在至少100℃下经受温度处理，因此所述玻璃板在310nm至360 nm下，特别是在320 nm至350 nm下具有反射率局部最小值，且在400 nm至460 nm下具有反射率局部最大值。

所述玻璃板在施加可加热涂层后经受温度处理，通过其特别地改进功能层的结晶度。该温度处理优选在至少300℃下进行。该温度处理特别地减小该涂层的面电阻。此外，该玻璃板的光学性能明显改进，特别是透射率提高。

所述温度处理可以以各种方式进行，例如通过借助炉或加热辐射器加热玻璃板。但是替代地，该温度处理还可以通过用光辐射进行，例如借助灯或激光器作为光源。

在一个有利的实施方式中，该温度处理在玻璃基底的情况下在热预加应力工艺中进行。在此，对经加热的基底施以空气流，由此使其迅速冷却。在玻璃板表面上形成压应力，且在玻璃板芯中形成拉应力。特征性应力分布提高玻璃质玻璃板的断裂强度。还可以在该预加应力前进行弯曲工艺。

所述可加热涂层的各个层通过本身已知的方法沉积，优选通过磁场辅助阴极溅射。这在基底的简单、快速、成本有利且均匀涂覆方面是特别有利的。该阴极溅射在例如氩气的保护气体气氛中或在反应性气体气氛中例如通过加入氧气或氮气进行。但是，所述层也可以通过本领域技术人员已知的其它方法施加，例如通过蒸镀或化学气相沉积（化学气相沉积，CVD）、通过原子层沉积（原子层沉积，ALD）、通过等离子体辅助气相沉积（PECVD）或通过湿化学方法。

在所述导电层之前，在一个有利的实施方式中施加针对碱金属扩散的阻挡层。在该导电层之前和任选在阻挡层之后，在一个有利的实施方式中施加下部抗反射层。在导电层之后，在一个有利的实施方式中施加用于调节氧扩散的阻隔层。在导电层之后和任选在阻隔层之后，在一个有利的实施方式中施加上部抗反射层。

为了选择合适的材料和层厚度以实现本发明的反射谱，本领域技术人员可以进行例如专业常规模拟。

本发明此外包括本发明玻璃板在建筑物中、在电气或电子器件中或在水陆空交通运输工具中的用途。该玻璃板在此优选用作窗户玻璃板，例如作为建筑物窗户玻璃板或作为车辆，特别是机动车的顶玻璃板、侧玻璃板、后玻璃板或挡风玻璃板。该玻璃板替代地优选用作用于触觉应用的基于电的电容式或电阻式传感器，例如作为触摸屏或触控面板。

下面借助附图和实施例更详细阐述本发明。所述附图是示意图并且不按比例。所述附图绝不限制本发明。

图1显示了通过具有可加热涂层的本发明玻璃板的一个实施方式的截面，

图2显示了本发明方法的一个实施方案的流程图，

图3显示了两个本发明实施例和两个对比例的反射率R_L根据波长的图表，且

图4显示了图3的实施例和对比例的相对反射率根据沉积在涂层2上的油膜的厚度的模拟结果。

图1显示了通过具有基底1和导电涂层2的本发明玻璃板的一个实施方式的截面。基底1例如是由着色的钠钙玻璃制成的玻璃质玻璃板并具有2.1 mm的厚度。涂层2是热辐射反射涂层（低E涂层）。该玻璃板例如被设置作为机动车的顶玻璃板。顶玻璃板通常制造为复合玻璃质玻璃板，其中基底1通过其背离涂层2的表面借助热塑性薄膜与未示出的外玻璃板接合。基底1形成该复合玻璃的内玻璃板，其中涂层2施加在暴露的内室侧表面上，该表面可以被车辆乘客直接触摸。由此使指纹可能聚集在涂层2上。涂层2的光学性能如下优化，即指纹比在传统涂层的情况下更不明显可见。这通过本发明如下实现，即设计该涂层以使得所述玻璃板的反射率R_L局部最小值在320 nm至350 nm下且反射率R_L局部最大值在400 nm至460 nm下。令人惊奇地，指纹在该前提条件下较不明显可见。

涂层2是薄层的序列，其从基底1起始由下列单层构成：针对碱金属扩散的阻挡层7、下部抗反射层3、导电层4、用于调节氧扩散的阻隔层5（层5）和上部抗反射层6。材料和层厚度总结在表1中。涂层2的各层通过磁场辅助阴极溅射沉积。

表1

。

图2显示了本发明制造方法的一个实施例的流程图。

图3显示了四个本发明实施例和三个对比例的反射率R_L的图表。实施例1-4的涂层2的材料和层厚度总结在表2中，对比例1-3的那些在表3中。在实施例1-4中，玻璃板由透光率T_L为大约25%的着色钠钙玻璃的基底1和从基底1起始由阻挡层7、下部抗反射层3、导电层4、阻隔层5和上部抗反射层6形成的涂层2构成。所述层由相同材料形成，其中实施例1-4的涂层2在层厚度方面不同。但是对于本发明的实施例1-4，涂层2不同于对比例而各自设定，以使得该玻璃板的反射率R_L局部最小值在320 nm至350 nm下且反射率R_L局部最大值在400nm至460 nm下，这在图中可看出。所有玻璃板经受在大约650℃下的玻璃弯曲工艺中的温度处理。

表2

。

表3

。

对比例1和2与本发明实施例的不同之处根本在于不存在阻挡层7，这导致反射谱的明显变化，以使得局部极限值不根据本发明出现。在对比例3中在上部抗反射层6的上方还施加TiO₂的另一层，如例如用作自清洁涂层中的光催化层那样。上部抗反射层6因此不是涂层2的最上层。

不同于本发明实施例1-4，将反射率R_L的局部极限值在对比例1-3中不根据本发明位于谱图中。局部极限值的出现总结在表4中。反射率R_L的所示值通过使用软件CODE的模拟确定。

表4

	最小值R<sub>L</sub>	最大值R<sub>L</sub>
实施例1	335 nm	420 nm
			实施例2	335 nm	425 nm
实施例3	345 nm	450 nm
			实施例4	335 nm	450 nm
			对比例1	< 300 nm	350 nm
对比例2	305 nm	370 nm
			对比例3	375 nm	425 nm

为了考虑指纹的影响，将模拟以涂层2上的油膜（折射率1.58）扩展。然后对于实施例和对比例将相对反射率计算为商值(具有油膜的玻璃板的反射率) / (没有油膜的玻璃板的反射率)。结果根据油膜厚度示于图4中。

在本发明实施例1和2中，相对反射率对于最多大约20 nm的薄油膜而言为大约1，因此反射率由于该油膜几乎不变。在较厚油膜的情况下，对于100 nm的油膜而言的反射率缓慢地增大至大约2.5的值。在实施例3和4中，相对反射率一开始轻微减小，并且在大约30nm 油膜厚度以上时同样缓慢增大。

在对比例1和2中，可看到明显不同的性质。在薄油膜的情况下，反射率就明显改变，相对反射率首先严重减小。然后同样在大约20 nm的油膜厚度以上时增大，但是比在本发明实施例中明显更严重。在对比例3中，在非常薄的油膜的情况下就可看出相当严重的相对反射率增大。

从所述实施例和对比例可明显看出，油膜的存在在本发明涂层2的情况下导致比在非本发明涂层情况下明显更不显著的反射率变化。基本上是脂肪沉积物并在光学上与油膜非常类似的指纹因此由于较小的对比度而明显较不可见。指纹可见性单纯通过优化涂层的光学性能就可减小，这对于本领域技术人员而言不可预料和令人惊讶。

其它的本发明实施例（实施例6-12）和对比例（对比例4-12）示于表5中。分别示出各层的厚度，从左到右从基底1（着色钠钙玻璃）起始。反射率R_L的局部极限值的光谱位置总结在表6中。所有玻璃板又经历在大约650℃下的玻璃弯曲工艺中的温度处理。

表5

层

1

7

3

4

5

6

材料

玻璃

Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>

SiO<sub>2</sub>

ITO

Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>

SiO<sub>2</sub>

TiO<sub>2</sub>

实施例6

2.1 mm

30 nm

30 nm

75 nm

9 nm

30 nm

-

实施例7

2.1 mm

40 nm

10 nm

70 nm

9 nm

50 nm

-

实施例8

2.1 mm

15 nm

20 nm

90 nm

9 nm

50 nm

-

实施例9

2.1 mm

20 nm

15 nm

100 nm

9 nm

45 nm

-

实施例10

2.1 mm

25 nm

20 nm

60 nm

9 nm

50 nm

-

实施例11

2.1 mm

25 nm

25 nm

50 nm

9 nm

60 nm

-

实施例12

2.1 mm

20 nm

10 nm

70 nm

9 nm

70 nm

-

对比例4

2.1 mm

20 nm

10 nm

70 nm

9 nm

70 nm

5 nm

对比例5

2.1 mm

-

30 nm

70 nm

9 nm

50 nm

-

对比例6

2.1 mm

0 nm

30 nm

70 nm

9 nm

50 nm

5 nm

对比例7

2.1 mm

20 nm

15 nm

100 nm

9 nm

45 nm

5 nm

对比例8

2.1 mm

-

30 nm

100 nm

9 nm

55 nm

-

对比例9

2.1 mm

10 nm

15 nm

120 nm

9 nm

50 nm

5 nm

对比例10

2.1 mm

-

30 nm

120 nm

9 nm

75 nm

-

对比例11

2.1 mm

25 nm

20 nm

60 nm

9 nm

50 nm

5 nm

对比例12

2.1 mm

-

30 nm

50 nm

9 nm

50 nm

-

表6

	最小值R<sub>L</sub>	最大值R<sub>L</sub>
实施例6	330 nm	425 nm
			实施例7	330 nm	415 nm
实施例8	340 nm	450 nm
			实施例9	345 nm	455 nm
实施例10	320 nm	400 nm
			实施例11	345 nm	410 nm
实施例12	355 nm	430 nm
对比例4	385 nm	455 nm
			对比例5	385 nm	610 nm
对比例6	300 nm	370 nm
			对比例7	385 nm	500 nm
对比例8	310 nm	375 nm
			对比例9	390 nm	490 nm
对比例10	380 nm	460 nm
			对比例11	365 nm	455 nm
对比例12	350 nm	560 nm

在现实中，指纹以大带宽的厚度存在，其中还包括具有超过一微米的层厚度的那些。在这样厚的沉积物的情况下，干涉光学性能的效应不再起决定性作用，以使得可见性不再能受涂层2的光学性能的显著影响。但是对于最多大约100微米的大多数指纹而言，可见性可以明显减小。玻璃板的整体印象由此明显改进。

附图标记列表：

(1) 基底

(2) 可加热涂层

(3) 下部抗反射层

(4) 导电层

(5) 用于调节氧扩散的阻隔层

(6) 上部抗反射层

(7) 针对碱金属扩散的阻挡层

R_L 反射率（根据DIN EN410）。

Claims (12)

1.具有导电涂层的玻璃板，其包括基底(1)和在基底(1)的暴露表面上的导电涂层(2)，所述导电涂层从基底(1)起始至少包括

- 折射率为至少1.9的针对碱金属扩散的阻挡层(7)，

- 折射率为1.3至1.8的下部介电抗反射层(3)，

- 导电层(4)，

- 折射率为至少1.9的用于调节氧扩散的介电阻隔层(5)，和

- 折射率为1.3至1.8的上部介电抗反射层(6)，

其中上部抗反射层(6)是涂层(2)的最上层，

其中下部抗反射层(3)和/或上部抗反射层(6)含有氧化硅、氧化铝、氟化镁或氟化钙，

其中下部抗反射层(3)的厚度为10 nm至20 nm，以及上部抗反射层(6)厚度为45 nm至55 nm，

其中所述玻璃板在310 nm至360 nm下具有反射率(R_L)的局部最小值，且在400 nm至460nm下具有反射率(R_L)的局部最大值。

2.根据权利要求1的玻璃板，其中导电层(4)含有透明导电氧化物（TCO）。

3.根据权利要求1或2的玻璃板，其中导电层(4)的厚度为50 nm至150 nm。

4.根据权利要求1或2的玻璃板，其中下部抗反射层(3)和/或上部抗反射层(6)含有至少一种氧化物。

5.根据权利要求1或2的玻璃板，其中阻隔层(5)的折射率为1.9至2.5。

6.根据权利要求1或2的玻璃板，其中阻隔层(5)含有金属、氮化物或碳化物。

7.根据权利要求1或2的玻璃板，其中阻隔层(5)的厚度为5 nm至20 nm。

8.根据权利要求1或2的玻璃板，其中阻挡层(7)的折射率为1.9至2.5。

9.根据权利要求1或2的玻璃板，其中阻挡层(7)含有氮化硅。

10.根据权利要求1或2的玻璃板，其中阻挡层(7)的厚度为10 nm至50 nm。

11.制造根据权利要求1至10任一项的具有导电涂层的玻璃板的方法，其中

(a)在基底(1)的暴露表面上施加导电涂层(2)，所述导电涂层从基底(1)起始至少包括

- 折射率为至少1.9的针对碱金属扩散的阻挡层(7)，

- 折射率为1.3至1.8的下部介电抗反射层(3)，

- 导电层(4)，

- 折射率为至少1.9的用于调节氧扩散的介电阻隔层(5)，和

- 折射率为1.3至1.8的上部介电抗反射层(6)；并且

(b) 具有涂层(2)的基底(1)经受至少100℃的温度处理，因此所述玻璃板在310 nm至360 nm下具有反射率(R_L)的局部最小值，且在400 nm至460 nm下具有反射率(R_L)的局部最大值。

12.根据权利要求1至10任一项的玻璃板在建筑物中、在电气或电子器件中或在水陆空交通运输工具中的用途。

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