CN109154081A - 透明高屏蔽膜、以及使用了它的高屏蔽层叠体 - Google Patents

透明高屏蔽膜、以及使用了它的高屏蔽层叠体 Download PDF

Info

Publication number
CN109154081A
CN109154081A CN201680085697.4A CN201680085697A CN109154081A CN 109154081 A CN109154081 A CN 109154081A CN 201680085697 A CN201680085697 A CN 201680085697A CN 109154081 A CN109154081 A CN 109154081A
Authority
CN
China
Prior art keywords
shielded layer
layer
carbon
screened film
shielded
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201680085697.4A
Other languages
English (en)
Other versions
CN109154081B (zh
Inventor
河合公雄
西山了
吉田和巳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Reiko Co Ltd
Original Assignee
Reiko Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Reiko Co Ltd filed Critical Reiko Co Ltd
Publication of CN109154081A publication Critical patent/CN109154081A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN109154081B publication Critical patent/CN109154081B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B27/08—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/36—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
    • B32B27/365—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters comprising polycarbonates
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/16—Layered products comprising a layer of synthetic resin specially treated, e.g. irradiated
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/18—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/28—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
    • B32B27/285—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polyethers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/32—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/34—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyamides
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/36—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04—Interconnection of layers
    • B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • C23C16/40—Oxides
    • C23C16/401—Oxides containing silicon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/40—Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition
    • C23C28/44—Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition characterized by a measurable physical property of the alternating layer or system, e.g. thickness, density, hardness
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2250/00—Layers arrangement
    • B32B2250/02—2 layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2250/00—Layers arrangement
    • B32B2250/24—All layers being polymeric
    • B32B2250/242—All polymers belonging to those covered by group B32B27/32
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2250/00—Layers arrangement
    • B32B2250/24—All layers being polymeric
    • B32B2250/244—All polymers belonging to those covered by group B32B27/36
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00—Coating on the layer surface
    • B32B2255/10—Coating on the layer surface on synthetic resin layer or on natural or synthetic rubber layer
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00—Coating on the layer surface
    • B32B2255/20—Inorganic coating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00—Coating on the layer surface
    • B32B2255/26—Polymeric coating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00—Coating on the layer surface
    • B32B2255/28—Multiple coating on one surface
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • B32B2307/412—Transparent
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50—Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • B32B2307/514—Oriented
    • B32B2307/516—Oriented mono-axially
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50—Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • B32B2307/514—Oriented
    • B32B2307/518—Oriented bi-axially
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50—Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • B32B2307/546—Flexural strength; Flexion stiffness
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/70—Other properties
    • B32B2307/712—Weather resistant
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/70—Other properties
    • B32B2307/714—Inert, i.e. inert to chemical degradation, corrosion
    • B32B2307/7145—Rot proof, resistant to bacteria, mildew, mould, fungi
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/70—Other properties
    • B32B2307/724—Permeability to gases, adsorption
    • B32B2307/7242—Non-permeable
    • B32B2307/7246—Water vapor barrier
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/70—Other properties
    • B32B2307/732—Dimensional properties
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2439/00—Containers; Receptacles
    • B32B2439/70—Food packaging
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2439/00—Containers; Receptacles
    • B32B2439/80—Medical packaging
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00—Electrical equipment
    • B32B2457/12—Photovoltaic modules
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00—Electrical equipment
    • B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • B32B2457/206—Organic displays, e.g. OLED

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Wrappers (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明提供一种可以作为医疗用品的包装材料、柔性密封材料使用的兼具柔软性和高屏蔽性的高屏蔽膜。本发明的透明高屏蔽膜的特征在于，是在塑料膜上至少层叠有屏蔽层的透明屏蔽膜，满足(A)～(C)的全部条件，(A)屏蔽层是将依次层叠屏蔽层A、屏蔽层B、以及屏蔽层A而得的单元层叠2次以上的层。(B)屏蔽层A是利用XPS进行碳的定量分析时的碳的含有比例为大于0％且小于15％的范围的、由SiOC形成的层。(C)屏蔽层B是利用XPS进行碳的定量分析时的碳的含有比例为屏蔽层A的碳的含有比例的1.1～4.0倍的范围的、由SiOC形成的层。

Description

透明高屏蔽膜、以及使用了它的高屏蔽层叠体
技术领域
本发明涉及作为食品、日用品的包装材料、或太阳能电池、电子纸、有机EL等的密封材料使用的屏蔽膜，涉及阻挡水蒸气的水蒸气屏蔽性(以下有时简称为屏蔽性)优异、可以作为需要特别优异的水蒸气屏蔽性的医疗用品的包装材料或太阳能电池、电子纸、有机EL等的密封材料使用的、具有高屏蔽性的透明高屏蔽膜。
需要说明的是，本说明书中所说的所谓高屏蔽性，是指水蒸气透过率为5×10－5g/m2·day以下。
背景技术
一般的屏蔽膜为了抑制收容物的变质，保持其功能、品质，需要防止由透过包装材料、密封材料的氧、水蒸气等使收容物变质的气体造成的影响，要求至少具备水蒸气屏蔽性。
此外，作为医疗用品的包装材料使用的屏蔽膜为了防止作为收容物的医疗用品因水蒸气等而发生品质劣化，特别需要阻挡水蒸气的高屏蔽性，另外希望有还兼具可以利用目视确认作为收容物的医疗用品的透明性的高屏蔽膜。
此外，在太阳能电池、电子纸、有机EL等的开发推进的过程中，进行了它们的柔性化的研究开发，以往，在太阳能电池、电子纸、有机EL等中作为密封材料使用的玻璃基板虽然具备高屏蔽性，然而柔软性低而易于破裂，无法作为柔性的太阳能电池、电子纸、有机EL等的密封材料(以下称作柔性密封材料)使用。
另外，食品、日用品的包装材料中所使用的一般的屏蔽膜不具有如前所述的、医疗用品的包装材料、柔性密封材料所必需的高屏蔽性，因此无法作为医疗用品的包装材料、柔性密封材料使用。
此外，专利文献1中，在食品、日用品、医疗用品等的包装领域、电子设备相关构件等的领域中，作为可以适合于用作包装材料、FPD(平板显示器)的透明的气体屏蔽性层叠膜，记载过在塑料膜上依次层叠有包含能够聚合的丙烯酸系的单体或单体与低聚物的混合物的锚涂层、以及包含以SiOxCy(x为1.5以上且2.0以下，y为0以上且0.5以下)表示的氧化硅的气体屏蔽层的气体屏蔽性层叠膜。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2010－201888号公报
发明内容
发明所要解决的问题
然而，专利文献1记载的气体屏蔽性层叠膜如前所述，是在塑料膜上层叠有锚涂层、以及包含以SiOxCy(x为1.5以上且2.0以下，y为0以上且0.5以下)表示的氧化硅的气体屏蔽层(屏蔽层)的膜，作为屏蔽层层叠的层为单层，因此虽然与一般的屏蔽膜相比，水蒸气屏蔽性提高，然而并非满足对医疗用品的包装材料、作为柔性密封材料使用的屏蔽膜所要求的高屏蔽性(水蒸气透过度为5×10－5g/m2·day以下)的膜，存在有无法在该用途中使用的缺陷。
此外，专利文献1记载的气体屏蔽性层叠膜中，气体屏蔽层(屏蔽层)为单层，因此在屏蔽层产生了成为使气体屏蔽性降低的原因的针孔等缺陷的情况下，无法修补该缺陷，还存在无法可靠地发挥高屏蔽性的缺陷。
本发明的目的在于，提供一种可以去除上述的缺陷、即使是要求高屏蔽性的用途也可以没有问题地使用的透明的高屏蔽膜。
用于解决问题的方法
[1]本发明提供一种透明高屏蔽膜，其特征在于，是在塑料膜的一面或两面至少层叠有屏蔽层的透明屏蔽膜，满足以下(A)～(C)的全部条件。
(A)屏蔽层是以依次层叠屏蔽层A、屏蔽层B、以及屏蔽层A而得的层作为单元、层叠有2次以上的该单元的层。
(B)屏蔽层A是对屏蔽层A利用X射线光电子分光分析法(XPS)进行碳的定量分析时的碳的含有比例为大于0％且小于15％的范围的、由SiOC形成的层。
(C)屏蔽层B是对屏蔽层B利用X射线光电子分光分析法(XPS)进行碳的定量分析时的碳的含有比例为屏蔽层A的碳的含有比例的1.1～4.0倍的范围的、由SiOC形成的层。
[2]本发明提供如下的上述[1]记载的透明高屏蔽膜，即，屏蔽层A、以及屏蔽层B的厚度分别为5～30nm的范围。
[3]本发明提供一种高屏蔽层叠体，其特征在于，上述[1]、或[2]记载的透明高屏蔽膜与功能性膜被夹隔着粘合剂层或粘接剂层贴合。
发明效果
本发明的透明高屏蔽膜由于层叠于本发明的透明高屏蔽膜的屏蔽层为均由SiOC形成、且碳的含有比例不同的屏蔽层A与屏蔽层B的多层结构，因此透明性高，可以发挥高屏蔽性。
具体而言，本发明的透明高屏蔽膜的特征在于，以依次层叠屏蔽层A、屏蔽层B、以及屏蔽层A而得的层作为单元，在塑料膜的一面或两面，层叠有2次以上的该单元，所述屏蔽层A中利用X射线光电子分光分析法(XPS)进行碳的定量分析时的碳的含有比例大于0％且小于15％、且由SiOC形成，所述屏蔽层B中利用X射线光电子分光分析法(XPS)进行碳的定量分析时的碳的含有比例为屏蔽层A的碳的含有比例的1.1～4.0倍的范围、且由SiOC形成。
其结果是，本发明的透明高屏蔽膜成为发挥高屏蔽性(水蒸气透过度为5×10－5g/m2·day以下)的膜，即使是需要高屏蔽性的医疗用品的包装材料、柔性密封材料，也可以没有问题地使用。
另外，为了发挥高屏蔽性，本发明的透明高屏蔽膜更优选将上述屏蔽层A、以及屏蔽层B的厚度分别设为5～30nm的范围。
需要说明的是，本说明书中所说的所谓SiOC，并非是指表示硅(Si)、氧(O)、以及碳(C)的含有比例为Si：O：C＝1：1：1的状态的意思，而是指硅(Si)、以及氧(O)的含有比例根据所述的碳(C)的含有比例而变化的意思。
另外，如果本发明的透明高屏蔽膜的总光线透射率为80％以上，则在将本发明的透明高屏蔽作为包装材料使用的情况下，可以确认内容物，实用上没有问题。
本发明的高屏蔽层叠体是将本发明的透明高屏蔽膜与功能性膜夹隔着粘合剂层、或粘接剂层贴合而得的层叠体，在维持了本发明的透明高屏蔽膜的高屏蔽性的同时，赋予了功能性膜所具有的功能。
具体实施方式
(塑料膜)
本发明的透明高屏蔽膜中使用的塑料膜没有特别限制，可以使用聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚碳酸酯膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚酰胺膜等各种以往公知的塑料膜。
塑料膜可以是未拉伸、单轴拉伸、双轴拉伸的任意一种，另外，也可以包含防静电干扰剂、着色剂、热稳定剂等各种添加剂。
另外，塑料膜的种类、厚度只要根据所期望的用途、目的适当地选择即可。
塑料膜也可以是出于增强塑料膜与层叠于塑料膜上的层(屏蔽层A、后述的锚涂层)的密合力的目的而在塑料膜上进行了易粘接涂布、电晕处理等表面处理的塑料膜，这些进行了表面处理的塑料膜也包含于本说明书的塑料膜中。
塑料膜的厚度没有特别限定，然而优选为12～250μm的范围。
如果塑料膜的厚度小于12μm，则在制造本发明的透明高屏蔽膜的情况下，有可能易于产生卷曲、褶皱等，因此不优选，如果大于250μm，则制造本发明的透明高屏蔽膜时制造成本升高，因此不优选。
(屏蔽层)
层叠于本发明的透明高屏蔽膜的屏蔽层是出于赋予高屏蔽性的目的而层叠的层，是由碳的含有比例不同的SiOC形成的屏蔽层A、以及屏蔽层B的多层结构的层。
此外，本发明的透明高屏蔽膜以依次层叠屏蔽层A、屏蔽层B、以及屏蔽层A而得的层作为单元，将屏蔽层设为在塑料膜的一面或两面层叠2次以上的该单元的多层结构的层，由此成为发挥高屏蔽性的屏蔽膜。
为了使本发明的透明高屏蔽膜可靠地发挥高屏蔽性，本发明的透明高屏蔽膜的屏蔽层A、以及屏蔽层B需要将屏蔽层A设为利用X射线光电子分光分析法(XPS)进行碳的定量分析时的碳的含有比例大于0％且小于15％的、由SiOC形成的层，并且将屏蔽层B设为利用X射线光电子分光分析法(XPS)进行碳的定量分析时的碳的含有比例为屏蔽层A的碳的含有比例的1.1～4.0倍的范围的、由SiOC形成的层。
另外，假使在产生了层叠屏蔽层等时发生的成为使屏蔽性降低的原因的针孔等缺陷的情况下，因本发明的透明高屏蔽膜将屏蔽层设为多层结构，由此也可以覆盖该缺陷而修复，可以不使屏蔽性劣化地可靠地发挥高屏蔽性。
本发明的透明高屏蔽膜的屏蔽层的厚度(屏蔽层A的厚度与屏蔽层B的厚度的总厚度)只要根据所使用的用途、所期望的透过性或屏蔽性等目的适当地选择即可，然而优选设为150～450nm的范围。
如果屏蔽层的厚度(总厚度)小于150nm，则无法充分地发挥阻挡水蒸气的功能，有可能无法发挥所期望的高屏蔽性，因此不优选，如果屏蔽层的厚度(总厚度)大于450nm，则在制造时制成卷筒状等情况下，如果施加弯曲、拉伸等外部应力，则易于在屏蔽层中产生裂纹，有可能无法发挥所期望的高屏蔽性，因此不优选。
屏蔽层A、以及屏蔽层B的厚度(单层)只要根据所期望的目的适当地选择即可，屏蔽层A、以及屏蔽层B的各自的厚度(单层)优选设为5～30nm的范围。
此外，本发明的透明高屏蔽膜将屏蔽层以依次层叠屏蔽层A、屏蔽层B、以及屏蔽层A而得的层作为单元、制成层叠2次以上的该单元的层，形成屏蔽层A、以及屏蔽层B合计为6～90层的多层结构的层，由此可以可靠地发挥高屏蔽性。
如果以制成层叠2次单元的层的情况为例来说明本发明的透明高屏蔽膜的屏蔽层，所述单元是依次层叠屏蔽层A、屏蔽层B、以及屏蔽层A而得，则本发明的透明高屏蔽膜为塑料膜/屏蔽层A1/屏蔽层B1/屏蔽层A2/屏蔽层A3/屏蔽层B2/屏蔽层A4。
此外，上述屏蔽层A1～A4的厚度、碳的含有比例只要根据所使用的用途、所期望的透过性或屏蔽性等目的分别适当地选择即可，既可以相同也可以不同。另外，对于屏蔽层B1、以及屏蔽层B2的厚度、碳的含有比例也相同。
层叠屏蔽层A、以及屏蔽层B的方法优选为使用化学气相生长法(CVD法)的方法，特别优选使用如下的等离子体化学气相生长法(等离子体CVD法)来层叠，即，将使硅烷系化合物气化并与氧混合而得的气体导入电极间，利用等离子体发生装置施加电力进行等离子体化而形成。
如果使用等离子体CVD法，则可以比较容易地变更所使用的硅烷系化合物的种类、硅烷系化合物与氧的混合比、施加电力的强弱、CVD装置内的真空度等加工条件，因此通过分别适当地调整这些加工条件，可以将碳的含有比例不同的屏蔽层A和屏蔽层B容易地设为多层结构。
所使用的硅烷系化合物可以没有特别限制地使用，可以使用四乙氧基硅烷(TEOS)、四甲氧基硅烷(TMOS)、四甲基硅烷(TMS)、四甲基二硅氮烷(TMDS)、四甲基二硅氧烷、六甲基二硅氧烷(HMDSO)、甲基三甲氧基硅烷(MTMS)等以往公知的硅烷系化合物，只要根据所期望的目的适当地选择即可。
另外，本发明的透明高屏蔽膜也可以在不损害本发明的效果的范围中，出于增强塑料膜与屏蔽层A的密合力等目的，在塑料膜与屏蔽层A之间层叠包含树脂的锚涂层。
另外，本发明的透明高屏蔽膜也可以出于防止屏蔽层的损伤等目的，在本发明的透明高屏蔽膜的最表层，层叠包含树脂的顶涂层。
本发明的透明高屏蔽膜也可以层叠上述锚涂层和顶涂层的任意一方、或双方。
锚涂层、以及顶涂层中所使用的树脂可以设为聚乙烯系树脂、聚丙烯系树脂、聚苯乙烯系树脂、氯乙烯系树脂、聚酯系树脂、丙烯酸系树脂、氨基甲酸酯系树脂、三聚氰胺系树脂、环氧系树脂等各种公知的树脂的一种、或两种以上的混合树脂，只要根据目的适当地选择即可。
另外，在锚涂层、以及顶涂层中，根据需要，也可以添加防静电干扰剂、紫外线吸收剂、着色剂、热稳定剂等各种添加剂。
层叠锚涂层、以及顶涂层的方法可以使用凹版涂布法、反转涂布法、模涂法、微型凹版涂布(反转凹版涂布)法、棒涂法等以往公知的涂布方法，只要根据目的适当地选择即可，锚涂层、以及顶涂层的厚度只要根据层叠锚涂层、以及顶涂层的目的适当地选择即可。
(高屏蔽层叠体)
本发明的高屏蔽层叠体是将本发明的透明高屏蔽膜与功能性膜夹隔着粘合剂层、或粘接剂层贴合而得的层叠体，在维持本发明的透明高屏蔽膜的高屏蔽性的同时，赋予了功能性膜所具有的功能。
另外，本发明的高屏蔽层叠体可以是将本发明的透明高屏蔽膜的塑料膜面与功能性膜贴合而得的层叠体，也可以是将本发明的透明高屏蔽膜的屏蔽层侧的面与功能性膜贴合而得的层叠体。
功能性膜可以仅为塑料膜，也可以在塑料膜上层叠有功能层。
功能性膜中使用的塑料膜可以使用与本发明的透明高屏蔽膜中使用的塑料膜相同的塑料膜，所使用的塑料膜的种类、厚度等只要根据目的适当地选择即可。
在仅将塑料膜作为功能性膜使用时的、本发明的高屏蔽层叠体的功能是，可以在维持使用厚度较薄的塑料膜有效地制造本发明的透明高屏蔽膜而得的、本发明的透明高屏蔽膜的高屏蔽性的同时，增强本发明的高屏蔽层叠体的所谓硬挺度，可以容易地将本发明的高屏蔽层叠体的总厚度设为所期望的厚度。
功能层是出于赋予设计性、硬涂性、导电性、防污性、防反射性、耐候性、防雾性等各种功能的目的层叠于塑料膜上的层。
所述功能层是由着色层、印刷层、硬涂层、导电层、防污层、防反射层、耐候性树脂层、防雾层等任意一个或这些层的组合形成的层，可以将构成功能层的所有层全面或部分地层叠于塑料膜上，也可以将构成功能层的任意一层全面或部分地层叠于塑料膜上。
所述功能层的厚度只要是可以获得所期望的功能层的效果的厚度即可，优选为1～50μm的厚度，只要根据所期望的功能适当地选择即可。
另外，层叠功能层的方法只要根据所层叠的功能层适当地选择即可。
本发明的高屏蔽层叠体中使用的粘合剂层、或粘接剂层是包含树脂的层，可以使用丙烯酸系树脂、聚醚系树脂等出于将塑料膜之间贴合的目的使用的、包含以往公知的树脂的粘合剂、粘接剂。
粘合剂、粘接剂中使用的树脂的种类、以及厚度只要是可以获得上述效果的厚度即可，优选为3～30μm的厚度，只要根据目的适当地选择即可。
本发明的高屏蔽层叠体中使用的粘合剂层、或粘接剂层可以透明，也可以不透明。
如上所述，本发明的透明高屏蔽膜的特征在于，是以依次层叠屏蔽层A、屏蔽层B、以及屏蔽层A而得的层叠体作为单元、在塑料膜的一面或两面层叠2次以上的该单元而得的层，所述屏蔽层A中对屏蔽层利用X射线光电子分光分析法(XPS)进行碳的定量分析时的碳的含有比例为大于0％且小于15％的范围、且由SiOC形成，所述屏蔽层B中利用X射线光电子分光分析法(XPS)进行碳的定量分析时的碳的含有比例为屏蔽层A的碳的含有比例的1.1～4.0倍的范围、且由SiOC形成。
其结果是，本发明的透明高屏蔽膜具有水蒸气透过度为5×10－5g/m2·day以下的高屏蔽性，可以在医疗用品的包装材料、柔性密封材料等需要柔软性和高屏蔽性的用途中没有问题地使用。
此外，为了发挥高屏蔽性，本发明的透明高屏蔽膜更优选将上述屏蔽层A、以及屏蔽层B的厚度分别设为5～30nm的范围。
实施例
[屏蔽层A、或屏蔽层B中的碳的含有比例的算出方法]
屏蔽层A、或屏蔽层B中的利用X射线光电子分光分析法(XPS)进行碳的定量分析时的碳的含有比例，是利用以下的装置及测定条件分析屏蔽层A或屏蔽层B，利用Shirley法求出背景，根据所得的峰面积的比率算出而求出。
测定装置：日本电子株式会社制JPS－9010MC
测定光源：Mg－Ka射线
测定输出功率：100W
[实施例1]
依次进行以下的(工序1)～(工序3)，得到在塑料膜的一面依次层叠有锚涂层、屏蔽层、以及顶涂层的实施例1的本发明的透明高屏蔽膜(以屏蔽层A、屏蔽层B、以及屏蔽层A作为单元、层叠24次而得的层叠体)。
(工序1)在长尺寸的厚50μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(TORAY株式会社制商品名：Lumirror U483)的一面，利用凹版涂布法涂布丙烯酸系紫外线固化型树脂而层叠了厚1.5μm的锚涂层。
(工序2)在锚涂层上，作为硅烷系化合物使用六甲基二硅氧烷(HMDSO)，利用等离子体CVD法，以依次层叠厚4nm的由SiOC形成的屏蔽层A、厚4nm的由SiOC形成的屏蔽层B、以及厚4nm的由SiOC形成的屏蔽层A而得的层叠体作为单元，将该单元层叠24次，层叠了总厚度288nm的屏蔽层。
需要说明的是，对于上述屏蔽层A、以及屏蔽层B的碳的含有比例，屏蔽层A全都为4.0％，屏蔽层B全都为7.2％，屏蔽层B的碳的含有比例为屏蔽层A的碳的含有比例的1.8倍。
(工序3)在屏蔽层A上，利用凹版涂布法涂布聚酯系树脂，从而层叠了厚0.1μm的顶涂层。
[实施例2]
依次进行以下的(工序1)～(工序3)，得到在塑料膜的一面依次层叠有锚涂层、屏蔽层、以及顶涂层的实施例1的本发明的透明高屏蔽膜(以屏蔽层A、屏蔽层B、以及屏蔽层A作为单元、层叠12次而得的层叠体)。
(工序1)在长尺寸的厚38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(东洋纺株式会社制商品名：COSMOSHINE A4300)的一面，利用凹版涂布法涂布丙烯酸系紫外线固化型树脂，层叠了厚1.5μm的锚涂层。
(工序2)在锚涂层上，作为硅烷系化合物使用六甲基二硅氧烷(HMDSO)，利用等离子体CVD法，以依次层叠厚5nm的由SiOC形成的屏蔽层A、厚5nm的由SiOC形成的屏蔽层B、以及厚5nm的由SiOC形成的屏蔽层A而得的层叠体作为单元，将该单元层叠12次，层叠了总厚度180nm的屏蔽层。
需要说明的是，对于上述屏蔽层A、以及屏蔽层B的碳的含有比例，屏蔽层A全都为5.0％，屏蔽层B全都为8.0％，屏蔽层B的碳的含有比例为屏蔽层A的碳的含有比例的1.6倍。
(工序3)在屏蔽层A上，利用凹版涂布法涂布聚酯系树脂，从而层叠了厚0.1μm的顶涂层。
[比较例1]
除了将实施例1的(工序2)设为在锚涂层上作为硅烷系化合物使用六甲基二硅氧烷(HMDSO)、利用等离子体CVD法仅层叠1层厚310nm的屏蔽层A的工序以外，与实施例1相同地得到比较例1的屏蔽膜。
需要说明的是，上述屏蔽层A的碳的含有比例为8.8％。
[试验试样]
将实施例1、以及实施例2中得到的本发明的透明高屏蔽膜、以及比较例1中得到的屏蔽膜分别以5cm见方切出，作为试验试样。
[水蒸气透过度测定]
(测定内容)
使用各试验试样，利用水蒸气透过测定装置(MOCON公司制AQUATRAN2)进行了测定。
[总光线透射率测定]
(测定内容)
使用各试验试样，依照JIS K 7361法，利用Haze Meter(日本电色工业公司制NDH2000)进行了测定。
[测定结果]
将上述各试验的测定结果表示于表1中。
[表1]
如上所述，实施例1、以及实施例2中得到的本发明的透明高屏蔽膜的水蒸气透过度均为5×10－5g/m2·day以下，均发挥出高屏蔽性，然而比较例1中得到的屏蔽膜的水蒸气透过度为5×10－3g/m2·day，并非发挥高屏蔽性的屏蔽膜。
另外，实施例1、以及实施例2中得到的本发明的透明高屏蔽膜的总光线透射率为80％以上，是透过性高的屏蔽膜。
[高屏蔽层叠体的制成]
[实施例3]
使用厚25μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜作为功能性膜，将上述聚对苯二甲酸乙二醇酯膜与实施例1中得到的本发明的透明高屏蔽膜的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜面夹隔着厚25μm的丙烯酸系透明粘合剂层贴合，制成实施例3的本发明的高屏蔽层叠体。通过使用在两片塑料膜间均匀地层叠有丙烯酸系透明粘合剂层的高透明粘合性转印胶带(株式会社SunA化研制型号：DH425A)，转印到本发明的透明高屏蔽膜的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜而层叠了透明粘合剂层。
[实施例4]
代替实施例3中使用的厚25μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜，而使用在厚50μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜上，作为功能层(导电层)层叠厚36nm的掺杂了锡的氧化铟层(ITO层)而得的透明导电膜，将实施例1中得到的本发明的透明高屏蔽膜的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜面与透明导电膜的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜面贴合，除此以外，与实施例3同样地制成实施例4的本发明的高屏蔽层叠体。
实施例3中得到的本发明的高屏蔽层叠体，在维持实施例1中得到的本发明的透明高屏蔽膜的高屏蔽性的同时，可以增大本发明的高屏蔽层叠体的总厚度，可以增强本发明的高屏蔽层叠体的硬挺度。
另外，实施例4中得到的本发明的高屏蔽层叠体，在维持实施例1中得到的本发明的透明高屏蔽膜的高屏蔽性的同时，可以赋予导电性的功能。

Claims (3)

1.一种透明高屏蔽膜，其特征在于，
是在塑料膜的一面或两面至少层叠有屏蔽层的透明屏蔽膜，满足以下(A)～(C)的全部条件：
(A)屏蔽层是以依次层叠屏蔽层A、屏蔽层B、以及屏蔽层A而得的层作为单元、且层叠有2次以上的该单元的层；
(B)屏蔽层A是对屏蔽层A利用X射线光电子分光分析法XPS进行碳的定量分析时的碳的含有比例为大于0％且小于15％的范围的、由SiOC形成的层；
(C)屏蔽层B是对屏蔽层B利用X射线光电子分光分析法XPS进行碳的定量分析时的碳的含有比例为屏蔽层A的碳的含有比例的1.1～4.0倍的范围的、由SiOC形成的层。
2.根据权利要求1所述的透明高屏蔽膜，其中，
屏蔽层A、以及屏蔽层B的厚度分别为5～30nm的范围。
3.一种高屏蔽层叠体，其特征在于，
其是将权利要求1或2所述的透明高屏蔽膜与功能性膜夹隔着粘合剂层或粘接剂层贴合而成的。
CN201680085697.4A 2016-09-06 2016-09-06 透明高屏蔽膜、以及使用了它的高屏蔽层叠体 Active CN109154081B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2016/004060 WO2018047208A1 (ja) 2016-09-06 2016-09-06 透明ハイバリアフイルム、及びそれを使用したハイバイリア積層体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN109154081A true CN109154081A (zh) 2019-01-04
CN109154081B CN109154081B (zh) 2020-12-08

Family

ID=61561783

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201680085697.4A Active CN109154081B (zh) 2016-09-06 2016-09-06 透明高屏蔽膜、以及使用了它的高屏蔽层叠体

Country Status (7)

Country Link
US (1) US11014343B2 (zh)
EP (1) EP3511438B1 (zh)
JP (1) JP6359782B1 (zh)
KR (1) KR102195810B1 (zh)
CN (1) CN109154081B (zh)
TW (1) TWI654092B (zh)
WO (1) WO2018047208A1 (zh)

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003342735A (ja) * 2002-05-24 2003-12-03 Dainippon Printing Co Ltd ガスバリア性フィルム
CN1543514A (zh) * 2001-08-20 2004-11-03 ��˹��ŵ�� 气体和蒸气低渗透性的涂层
JP4357913B2 (ja) * 2003-09-18 2009-11-04 大日本印刷株式会社 バリア性フィルム
CN101641400A (zh) * 2007-04-04 2010-02-03 利乐拉瓦尔集团及财务有限公司 包装层压板，制造该包装层压板的方法和由其生产的包装容器
JP2011144438A (ja) * 2010-01-18 2011-07-28 Toppan Printing Co Ltd ガスバリア性フィルムの製造方法
KR20130125362A (ko) * 2010-11-04 2013-11-18 미쓰비시 쥬시 가부시끼가이샤 가스 배리어성 적층 필름
KR20140099043A (ko) * 2013-02-01 2014-08-11 주성엔지니어링(주) 다중 봉지층을 구비하는 반도체 장치 및 반도체 장치의 제조방법
CN104185548A (zh) * 2012-03-30 2014-12-03 三菱树脂株式会社 气体阻隔性膜及其制造方法、以及气体阻隔性层叠体
WO2015190572A1 (ja) * 2014-06-13 2015-12-17 Jnc株式会社 ガスバリアフィルム積層体とそれを用いた電子部品
CN105899361A (zh) * 2014-01-10 2016-08-24 柯尼卡美能达株式会社 气体阻隔性膜及含有其的电子器件

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007111974A (ja) * 2005-10-20 2007-05-10 Dainippon Printing Co Ltd バリア性フィルム
JP2007190844A (ja) * 2006-01-20 2007-08-02 Konica Minolta Holdings Inc ガスバリア性樹脂基材および有機エレクトロルミネッセンスデバイス
US20100003483A1 (en) * 2007-02-05 2010-01-07 Kazuhiro Fukuda Transparent gas barrier film
JP5262848B2 (ja) 2009-03-06 2013-08-14 凸版印刷株式会社 ガスバリア性積層フィルム
JP2014100806A (ja) * 2012-11-16 2014-06-05 Konica Minolta Inc ガスバリア性フィルムおよびその製造方法
JP6229506B2 (ja) * 2014-01-15 2017-11-15 コニカミノルタ株式会社 ガスバリア性フィルム、およびこれを用いた電子デバイス
JP6342776B2 (ja) * 2014-10-09 2018-06-13 住友化学株式会社 積層体の製造方法

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1543514A (zh) * 2001-08-20 2004-11-03 ��˹��ŵ�� 气体和蒸气低渗透性的涂层
JP2003342735A (ja) * 2002-05-24 2003-12-03 Dainippon Printing Co Ltd ガスバリア性フィルム
JP4357913B2 (ja) * 2003-09-18 2009-11-04 大日本印刷株式会社 バリア性フィルム
CN101641400A (zh) * 2007-04-04 2010-02-03 利乐拉瓦尔集团及财务有限公司 包装层压板，制造该包装层压板的方法和由其生产的包装容器
JP2011144438A (ja) * 2010-01-18 2011-07-28 Toppan Printing Co Ltd ガスバリア性フィルムの製造方法
KR20130125362A (ko) * 2010-11-04 2013-11-18 미쓰비시 쥬시 가부시끼가이샤 가스 배리어성 적층 필름
CN104185548A (zh) * 2012-03-30 2014-12-03 三菱树脂株式会社 气体阻隔性膜及其制造方法、以及气体阻隔性层叠体
KR20140099043A (ko) * 2013-02-01 2014-08-11 주성엔지니어링(주) 다중 봉지층을 구비하는 반도체 장치 및 반도체 장치의 제조방법
CN105899361A (zh) * 2014-01-10 2016-08-24 柯尼卡美能达株式会社 气体阻隔性膜及含有其的电子器件
WO2015190572A1 (ja) * 2014-06-13 2015-12-17 Jnc株式会社 ガスバリアフィルム積層体とそれを用いた電子部品

Also Published As

Publication number Publication date
US11014343B2 (en) 2021-05-25
JP6359782B1 (ja) 2018-07-18
CN109154081B (zh) 2020-12-08
JPWO2018047208A1 (ja) 2018-09-06
TW201811554A (zh) 2018-04-01
EP3511438A4 (en) 2020-05-06
WO2018047208A1 (ja) 2018-03-15
TWI654092B (zh) 2019-03-21
KR102195810B1 (ko) 2020-12-28
EP3511438A1 (en) 2019-07-17
KR20180123696A (ko) 2018-11-19
US20190134959A1 (en) 2019-05-09
EP3511438B1 (en) 2021-05-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5414426B2 (ja) 複合フィルム
EP2138533B1 (en) Barrier laminate, gas barrier film and device using the same
JP4922148B2 (ja) バリア性積層体、バリア性フィルム基板、それらの製造方法、およびデバイス
JP5630747B2 (ja) 酸化亜鉛系導電性積層体及びその製造方法並びに電子デバイス
US20120301634A1 (en) Gas barrier film and process for producing the same, and device using the same
JP2011200780A (ja) バリア性積層体とその製造方法、ガスバリアフィルム及びデバイス
JP5752438B2 (ja) ガスバリアフィルム
JP5181977B2 (ja) ガスバリア性積層フィルム
KR20140048960A (ko) 가스 배리어 필름 및 디바이스
WO2015198991A1 (ja) 電子デバイスの製造方法および複合フィルム
JP2012025099A (ja) ガスバリアフィルムおよび電子デバイス
JP2012020409A (ja) バリア性積層体、ガスバリアフィルムおよびこれらを用いたデバイス、ならびに、バリア性積層体の製造方法
JP5990945B2 (ja) ガスバリア積層フィルム
WO2011027902A1 (en) Barrier laminate, gas barrier film and method for manufacturing the barrier laminate
JP5490640B2 (ja) バリア性積層体、ガスバリアフィルムおよびこれらを用いたデバイス、ならびに、バリア性積層体の製造方法
EP2128192A1 (en) Barrier laminate, gas barrier film and device using the same
JP6467867B2 (ja) 透明ガスバリア性フィルム
CN109154081A (zh) 透明高屏蔽膜、以及使用了它的高屏蔽层叠体
JP2013226773A (ja) ガスバリア性フィルム
JP6248471B2 (ja) 透明積層フィルム及び透明基板
JP6430982B2 (ja) 透明ハイバリアフイルム
JP5757170B2 (ja) ガスバリア性フィルムの製造方法
JP2020163857A (ja) 保護フィルム、それを用いたフィルム積層体およびその製造方法
EP1958981B1 (en) Barrier laminate, barrier film substrate, methods for producing them, and device
JP2021138066A (ja) 積層フィルム、それを用いたフィルム積層体

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant