CN109065595A - 一种显示装置及其制备方法 - Google Patents

一种显示装置及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN109065595A
CN109065595A CN201810930530.4A CN201810930530A CN109065595A CN 109065595 A CN109065595 A CN 109065595A CN 201810930530 A CN201810930530 A CN 201810930530A CN 109065595 A CN109065595 A CN 109065595A
Authority
CN
China
Prior art keywords
underlay substrate
layer
protective layer
photodiode
display device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201810930530.4A
Other languages
English (en)
Other versions
CN109065595B (zh
Inventor
黄海涛
舒适
卢江楠
岳阳
徐传祥
姚琪
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201810930530.4A priority Critical patent/CN109065595B/zh
Publication of CN109065595A publication Critical patent/CN109065595A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN109065595B publication Critical patent/CN109065595B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/30—Devices specially adapted for multicolour light emission
    • H10K59/38—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising colour filters or colour changing media [CCM]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

本发明涉及显示设备技术领域，公开了一种显示装置及其制备方法，该显示装置包括衬底基板；设置于衬底基板上的光电二极管组件；设置于光电二极管组件背离衬底基板一侧的第一保护层；设置于第一保护层背离衬底基板一侧且与光电二极管组件相邻设置的彩色滤光层，彩色滤光层的厚度大于光电二极管组件的厚度；设置于第一保护层与光电二极管组件相对部位背离衬底基板一侧和彩色滤光层背离衬底基板一侧的第二保护层；设置于第二保护层背离衬底基板一侧的平坦层，平坦层背离衬底基板一侧的表面与衬底基板的表面平行。该显示装置，显示装置能够避免由于光电二极管组件和彩色滤光层之间的段差大而导致的显示装置阴阳级短路、无法发光的问题。

Description

一种显示装置及其制备方法
技术领域
本发明涉及显示设备技术领域，特别涉及一种显示装置及其制备方法。
背景技术
有机发光二极管显示产品经过长时间发展日趋成熟，近期发展迅速，已经逐步在终端产品中现身。目前有机发光二极管仍然存在一些技术难题，比如补偿方法方面的问题。因为有机发光二极管器件为电流驱动，因此在驱动背板必须至少有开关薄膜晶体管和驱动薄膜晶体管，最终的发光强度由驱动薄膜晶体管的栅极电压决定。这就要求驱动薄膜晶体管的阈值电压和亚阈值斜率行为要非常的精确，稍有偏移即会导致发光强度变化。而由于工艺均匀性原因，波动是难以避免的，现有的白光有机发光二极管的光电二极管光学补偿方案工艺过程中，彩色滤光片一侧和光电二极管一侧段差较大，平坦层难平坦，在发光层蒸镀过程中，因光电二极管和彩色滤光片间段差大，导致发光层容易断裂，进而导致白光有机发光二极管阴阳级短路，从而导致白光有机发光二极管无法发光。
发明内容
本发明提供了一种显示装置及其制备方法，上述显示装置能够避免由于光电二极管组件和彩色滤光层之间的段差大而导致的显示装置阴阳级短路、无法发光的问题。
为达到上述目的，本发明提供以下技术方案：
一种显示装置，包括：
衬底基板；
设置于所述衬底基板上的光电二极管组件；
设置于所述光电二极管组件背离所述衬底基板一侧的第一保护层；
设置于所述第一保护层背离所述衬底基板一侧且与所述光电二极管组件相邻设置的彩色滤光层，所述彩色滤光层背离所述衬底基板一侧表面与所述衬底基板之间的距离大于所述光电二极管组件背离所述衬底基板一侧表面与所述衬底基板之间的距离；
设置于所述第一保护层与所述光电二极管组件相对部位背离所述衬底基板一侧和所述彩色滤光层背离所述衬底基板一侧的第二保护层；
设置于所述第二保护层背离所述衬底基板一侧的平坦层，所述平坦层背离所述衬底基板一侧的表面与所述衬底基板的表面平行。
上述显示装置包括衬底基板、光电二极管组件、第一保护层、彩色滤光层、第二保护层和平坦层，其中，平坦层背离第二保护层一侧的表面呈水平，增强了平坦层的平坦度，同时使得光电二极管组件一侧的平坦层厚度增加，减小光电二极管组件与平坦层背离光电二极管组件一侧器件之间的寄生电容；且平坦层背离第二保护层一侧的表面呈水平使得平坦层背离光电二极管组件一侧器件也均可制作成水平，降低了由于光电二极管组件和彩色滤光层之间的段差大，平坦层背离光电二极管组件一侧器件在段差处易断裂的现象发生。
优选地，还包括设置于所述衬底基板与所述光电二极管组件之间的缓冲层。
优选地，所述光电二极管组件包括依次设置于所述缓冲层上的栅极、第一层间绝缘层、第一源漏极、第二层间绝缘层、第二源漏极、光电二极管层和光电二极管电极。
优选地，所述第一保护层与所述光电二极管电极相对的部分形成有第一过孔。
优选地，所述第二保护层与所述第一过孔相对的部位形成有第二过孔。
优选地，所述光电二极管电极的材料为氧化铟锡。
本发明还公开了一种上述显示装置的制备方法，包括：
在所述衬底基板上形成所述缓冲层、光电二极管组件、第一保护层和彩色滤光层，其中，在所述衬底基板上沉积所述缓冲层，在所述缓冲层上设置光电二极管组件，在所述光电二极管组件背离所述衬底基板的一侧沉积第一保护层，在所述第一保护层背离所述衬底基板的一侧沉积彩色滤光层并进行图案化处理，所述彩色滤光层与所述光电二极管组件相邻设置且彩色滤光层的厚度大于所述光电二极管组件的厚度；
在所述第一保护层与所述光电二极管相对部位背离所述衬底基板一侧和所述彩色滤光层背离所述衬底基板一侧沉积第二保护层；
对与所述彩色滤光层相对部分的所述第二保护层进行疏水处理；
在所述第二保护层背离所述衬底基板一侧沉积平坦层，所述平坦层背离所述衬底基板一侧的表面与所述衬底基板的表面平行。
优选地，采用硅烷类处理剂对所述第二保护层与所述彩色滤光层相对的部分进行疏水处理。
优选地，所述硅烷类处理剂为三甲基一氯硅烷。
附图说明
图1为本发明提供的一种显示装置的结构示意图；
图2a至图2f为本发明提供的显示装置的制作方法示意图。
图标：
1-衬底基板；2-缓冲层；3-光电二极管组件；31-栅极；32-第一层间绝缘层；33-第一源漏极；34-第二层间绝缘层；35-第二源漏极；36-光电二极管层；37-光电二极管电极；4-第一保护层；41-第一过孔；5-彩色滤光层；6-第二保护层；61-第二过孔；7-平坦层。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参考图1，本发明提供一种显示装置，包括：
衬底基板1；
设置于衬底基板1上的光电二极管组件3；
具体地，如图1所示，上述显示装置中的光电二极管组件3包括依次设置于缓冲层2上的栅极31、第一层间绝缘层32、第一源漏极33、第二层间绝缘层34、第二源漏极35、光电二极管层36和光电二极管电极37；
更具体地，如图1所示，上述显示装置还包括设置于衬底基板1与光电二极管组件3之间的缓冲层2；
设置于光电二极管组件3背离衬底基板1一侧的第一保护层4；具体地，第一保护层4与光电二极管电极37相对的部分形成有第一过孔41；第一过孔41方便了光电二极管电极37对发光信号的读取；
设置于第一保护层4背离衬底基板1一侧且与光电二极管组件3相邻设置的彩色滤光层5，彩色滤光层5背离所述衬底基板1一侧表面与所述衬底基板1之间的距离大于光电二极管组件3背离所述衬底基板1一侧表面与所述衬底基板1之间的距离；
设置于第一保护层4与光电二极管组件3相对部位背离衬底基板1一侧和彩色滤光层5背离衬底基板1一侧的第二保护层6；具体地，第二保护层6与第一过孔41相对的部位形成有第二过孔61；优选地，第二过孔61与第一过孔41的轴心线重合，便于光电二极管电极37对发光信号的读取；
设置于第二保护层6背离衬底基板1一侧的平坦层7，平坦层7背离衬底基板1一侧的表面与衬底基板1的表面平行。
上述显示装置中，平坦层7背离衬底基板1一侧的表面呈水平，增强了平坦层7的平坦度，同时使得光电二极管组件3一侧的平坦层7厚度增加，减小光电二极管组件3与平坦层7背离光电二极管组件3一侧器件之间的寄生电容；且平坦层7背离第二保护层6一侧的表面呈水平使得平坦层7背离光电二极管组件3一侧器件也均可制作成水平，降低了由于光电二极管组件3和彩色滤光层5之间的段差大，平坦层7背离光电二极管组件3一侧器件在段差处易断裂的现象发生。
上述显示装置中设置有第二保护层6和背离第二保护层6一侧的表面呈水平的平坦层7，平坦层7的平坦效果增强且由于平坦层7背离衬底基板1的一侧表面与衬底基板1的表面平行，这样一方面能够降低平坦层7背离衬底基板1一侧器件断裂的风险，另一方面能够增加光电二极管组件3一侧平坦层7的厚度，从而减小层间电容。
上述显示装置中平坦层7背离所述衬底基板1的一侧设置有阳极和发光层，本发明提供的显示装置的平坦层7背离衬底基板1一侧的表面呈水平，从而避免了由于光电二极管组件3和彩色滤光层5之间的段差大而导致显示装置阴阳级短路、无法发光的问题，降低了发光层断裂的风险。
具体地，上述光电二极管电极37的材料为氧化铟锡。
采用氧化铟锡材料来制作光电二极管电极37，制作过程方便，且由于氧化铟锡为透明导电材料，易于载流子注入，而且具有光线传播所需要的透明性能，非常适合做光电二极管电极37。
本发明还公开了一种上述显示装置的制备方法，包括：
在衬底基板1上形成缓冲层2、光电二极管组件3、第一保护层4和彩色滤光层5，其中，在衬底基板1上沉积缓冲层2，在缓冲层2上设置光电二极管组件3，在光电二极管组件3背离衬底基板1的一侧沉积第一保护层4，在第一保护层4背离衬底基板1的一侧沉积彩色滤光层5并进行图案化处理，彩色滤光层5与光电二极管组件3相邻设置且彩色滤光层5的厚度大于光电二极管组件3的厚度，如图2a、图2b、图2c和图2d所示；
在第一保护层4与光电二极管相对部位背离衬底基板1一侧和彩色滤光层5背离衬底基板1一侧沉积第二保护层6，如图2e所示；
对与彩色滤光层5相对部分的第二保护层6进行疏水处理；
在第二保护层6背离衬底基板1一侧沉积平坦层7，平坦层7背离衬底基板1一侧的表面与衬底基板1的表面平行,如图2f所示。
在上述显示装置的制备方法中首先制作衬底基板1，再在衬底基板1上制作缓冲层2、光电二极管组件3、第一保护层4、彩色滤光层5、第二保护层6和平坦层7，由于彩色滤光层5背离所述衬底基板1一侧表面与所述衬底基板1之间的距离大于光电二极管组件3背离所述衬底基板1一侧表面与所述衬底基板1之间的距离，因此在第一保护层4与光电二极管组件3相对部位背离衬底基板1的一侧和彩色滤光层5背离衬底基板1的一侧设置有第二保护层6，在制作第二保护层6时，需对第二保护层6与彩色滤光层5相对的部分进行疏水处理，以提高与彩色滤光层5相对部分的第二保护层6的接触角，使得第二保护层6与彩色滤光层5相对的部分的接触角大于第二保护层6与光电二极管组件3相对的部分的接触角，从而在后续沉积平坦层7的过程中，平坦层7会向光电二极管组件3一侧流动，使得平坦层7背离衬底基板1一侧表面呈水平，这样增强了平坦层7的平坦效果，同时使得光电二极管组件3一侧的平坦层7厚度增加，减小光电二极管组件3与平坦层7背离光电二极管组件3一侧器件之间的寄生电容；且平坦层7背离第二保护层6一侧的表面呈水平使得平坦层7背离光电二极管组件3一侧器件也均可制作成水平，降低了由于光电二极管组件3和彩色滤光层5之间的段差大，平坦层7背离光电二极管组件3一侧器件在段差处易断裂的现象发生。
具体地，上述方法中，对与彩色滤光层5相对部分的第二保护层6进行疏水处理，具体可以采用硅烷类处理剂对第二保护层6与彩色滤光层5相对的部分进行疏水处理。
硅烷类处理剂可以对第二保护层6上的一些羟基进行疏水处理，使其接触角增大，从而使得平坦层7更易向光电二极管组件3一侧流动。
具体地，硅烷类处理剂为三甲基一氯硅烷。
采用对三甲基一氯硅烷对第二保护层6与彩色滤光层5部分相对的部分进行疏水处理，这其中主要是利用三甲基一氯硅烷对第二保护层6上的一些羟基进行处理，使其接触角大于第二保护层6与光电二极管组件3相对的部分，使得在沉积平坦层7时，平坦层7会向光电二极管组件3一侧流动，增强平坦层7的平坦度，使得平坦层7背离第二保护层6一侧的表面呈水平，从而保证发光层的水平，防止发生断裂。
显然，本领域的技术人员可以对本发明实施例进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (9)

1.一种显示装置，其特征在于，包括：
衬底基板；
设置于所述衬底基板上的光电二极管组件；
设置于所述光电二极管组件背离所述衬底基板一侧的第一保护层；
设置于所述第一保护层背离所述衬底基板一侧且与所述光电二极管组件相邻设置的彩色滤光层，所述彩色滤光层背离所述衬底基板一侧表面与所述衬底基板之间的距离大于所述光电二极管组件背离所述衬底基板一侧表面与所述衬底基板之间的距离；
设置于所述第一保护层与所述光电二极管组件相对部位背离所述衬底基板一侧和所述彩色滤光层背离所述衬底基板一侧的第二保护层；
设置于所述第二保护层背离所述衬底基板一侧的平坦层，所述平坦层背离所述衬底基板一侧的表面与所述衬底基板的表面平行。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，还包括设置于所述衬底基板与所述光电二极管组件之间的缓冲层。
3.根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于，所述光电二极管组件包括依次设置于所述缓冲层上的栅极、第一层间绝缘层、第一源漏极、第二层间绝缘层、第二源漏极、光电二极管层和光电二极管电极。
4.根据权利要求3所述的显示装置，其特征在于，所述第一保护层与所述光电二极管电极相对的部分形成有第一过孔。
5.根据权利要求4所述的显示装置，其特征在于，所述第二保护层与所述第一过孔相对的部位形成有第二过孔。
6.根据权利要求3所述的显示装置，其特征在于，所述光电二极管电极的材料为氧化铟锡。
7.一种如权利要求1-6任一项所述的显示装置的制备方法，其特征在于，包括：
在所述衬底基板上形成所述缓冲层、光电二极管组件、第一保护层和彩色滤光层，其中，在所述衬底基板上沉积所述缓冲层，在所述缓冲层上设置光电二极管组件，在所述光电二极管组件背离所述衬底基板的一侧沉积第一保护层，在所述第一保护层背离所述衬底基板的一侧沉积彩色滤光层并进行图案化处理，所述彩色滤光层与所述光电二极管组件相邻设置且彩色滤光层的厚度大于所述光电二极管组件的厚度；
在所述第一保护层与所述光电二极管相对部位背离所述衬底基板一侧和所述彩色滤光层背离所述衬底基板一侧沉积第二保护层；
对与所述彩色滤光层相对部分的所述第二保护层进行疏水处理；
在所述第二保护层背离所述衬底基板一侧沉积平坦层，所述平坦层背离所述衬底基板一侧的表面与所述衬底基板的表面平行。
8.根据权利要求7所述的显示装置的制备方法，其特征在于，采用硅烷类处理剂对所述第二保护层与所述彩色滤光层相对的部分进行疏水处理。
9.根据权利要求8所述的显示装置的制备方法，其特征在于，所述硅烷类处理剂为三甲基一氯硅烷。
CN201810930530.4A 2018-08-15 2018-08-15 一种显示装置及其制备方法 Active CN109065595B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810930530.4A CN109065595B (zh) 2018-08-15 2018-08-15 一种显示装置及其制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810930530.4A CN109065595B (zh) 2018-08-15 2018-08-15 一种显示装置及其制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN109065595A true CN109065595A (zh) 2018-12-21
CN109065595B CN109065595B (zh) 2020-08-25

Family

ID=64687103

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810930530.4A Active CN109065595B (zh) 2018-08-15 2018-08-15 一种显示装置及其制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN109065595B (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110085653A (zh) * 2019-05-28 2019-08-02 京东方科技集团股份有限公司 有机发光显示基板及其制作方法、有机发光显示装置
CN110828485A (zh) * 2019-11-19 2020-02-21 京东方科技集团股份有限公司 一种显示基板及其制备方法、显示装置
CN111739918A (zh) * 2020-06-30 2020-10-02 京东方科技集团股份有限公司 显示面板、显示装置及制备方法

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101256980A (zh) * 2007-02-28 2008-09-03 统宝光电股份有限公司 有机电致发光显示装置及其制作方法
CN102891163A (zh) * 2011-07-19 2013-01-23 奇美电子股份有限公司 有机电激发光显示装置
CN103258793A (zh) * 2013-03-29 2013-08-21 京东方科技集团股份有限公司 一种coa阵列基板的制备方法、阵列基板及显示装置
CN103474582A (zh) * 2013-09-23 2013-12-25 京东方科技集团股份有限公司 电致发光装置及其制备方法
CN103779360A (zh) * 2014-02-12 2014-05-07 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 显示基板及其制作方法、显示装置
CN104282728A (zh) * 2014-10-10 2015-01-14 深圳市华星光电技术有限公司 一种白光oled显示器及其封装方法
US20150263048A1 (en) * 2014-03-17 2015-09-17 Japan Display Inc. Display device and the manufacturing method of the same
US20160027852A1 (en) * 2013-12-27 2016-01-28 Boe Technology Group Co., Ltd. Array substrate, manufacturing method thereof and display device
CN106898710A (zh) * 2017-04-28 2017-06-27 深圳市华星光电技术有限公司 一种oled显示面板及其制备方法、显示器
CN106935621A (zh) * 2015-09-30 2017-07-07 乐金显示有限公司 用于有机发光显示装置的基板和有机发光显示装置
CN107667441A (zh) * 2015-06-03 2018-02-06 东友精细化工有限公司 柔性滤色器、包括该柔性滤色器的柔性有机发光显示设备及其制作方法

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101256980A (zh) * 2007-02-28 2008-09-03 统宝光电股份有限公司 有机电致发光显示装置及其制作方法
CN102891163A (zh) * 2011-07-19 2013-01-23 奇美电子股份有限公司 有机电激发光显示装置
CN103258793A (zh) * 2013-03-29 2013-08-21 京东方科技集团股份有限公司 一种coa阵列基板的制备方法、阵列基板及显示装置
CN103474582A (zh) * 2013-09-23 2013-12-25 京东方科技集团股份有限公司 电致发光装置及其制备方法
US20160027852A1 (en) * 2013-12-27 2016-01-28 Boe Technology Group Co., Ltd. Array substrate, manufacturing method thereof and display device
CN103779360A (zh) * 2014-02-12 2014-05-07 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 显示基板及其制作方法、显示装置
US20150263048A1 (en) * 2014-03-17 2015-09-17 Japan Display Inc. Display device and the manufacturing method of the same
CN104282728A (zh) * 2014-10-10 2015-01-14 深圳市华星光电技术有限公司 一种白光oled显示器及其封装方法
CN107667441A (zh) * 2015-06-03 2018-02-06 东友精细化工有限公司 柔性滤色器、包括该柔性滤色器的柔性有机发光显示设备及其制作方法
CN106935621A (zh) * 2015-09-30 2017-07-07 乐金显示有限公司 用于有机发光显示装置的基板和有机发光显示装置
CN106898710A (zh) * 2017-04-28 2017-06-27 深圳市华星光电技术有限公司 一种oled显示面板及其制备方法、显示器

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110085653A (zh) * 2019-05-28 2019-08-02 京东方科技集团股份有限公司 有机发光显示基板及其制作方法、有机发光显示装置
CN110085653B (zh) * 2019-05-28 2021-11-26 京东方科技集团股份有限公司 有机发光显示基板及其制作方法、有机发光显示装置
US11832498B2 (en) 2019-05-28 2023-11-28 Boe Technology Group Co., Ltd. Organic light-emitting display substrate, manufacturing method thereof, and organic light-emitting display device
CN110828485A (zh) * 2019-11-19 2020-02-21 京东方科技集团股份有限公司 一种显示基板及其制备方法、显示装置
CN111739918A (zh) * 2020-06-30 2020-10-02 京东方科技集团股份有限公司 显示面板、显示装置及制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN109065595B (zh) 2020-08-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN109273498A (zh) 一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置
CN102820319B (zh) 氧化物薄膜晶体管及其制造方法
CN109065595A (zh) 一种显示装置及其制备方法
CN105470278A (zh) 有机发光二极管显示装置及其制造方法
CN102171851B (zh) 具有被覆盖的分流线的oled器件
CN103500754A (zh) Oled显示面板及其制作方法、显示装置
CN104659057A (zh) 用于显示装置的阵列基板
CN104867959A (zh) 双栅极氧化物半导体tft基板的制作方法及其结构
CN109698224A (zh) 显示基板及其制造方法和显示面板
CN104952879B (zh) 采用coa技术的双栅极tft基板结构
CN108269829A (zh) 显示装置以及制造该显示装置的方法
CN103299431A (zh) 半导体装置
CN109728050A (zh) 一种阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置
CN103700674A (zh) 阵列基板及其制备方法、显示装置
CN109166895A (zh) 一种阵列基板及显示装置
CN103441119B (zh) 一种制造esd器件的方法、esd器件和显示面板
CN104716196A (zh) 薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板及显示装置
CN105118836A (zh) 具有导电平坦层的阵列基板及其制备方法
CN109360493A (zh) 一种背光模组、显示面板及电子设备
CN102779830B (zh) 一种金属氧化物的显示装置及其制造方法
CN103309106B (zh) 彩色滤光阵列基板及其制造方法
CN105870134A (zh) 单侧发光光源及其制作方法、显示装置
CN102723351B (zh) 一种oled基板及其制造方法、显示装置
CN105097557A (zh) 一种tft基板、tft开关管及其制造方法
CN208999733U (zh) 基板、显示面板和显示装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant