CN108828843A - 阵列基板及其制备方法、显示面板及液晶显示器 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种阵列基板及其制备方法、显示面板和液晶显示器。所述阵列基板包括：一衬底；一薄膜晶体管器件层，所述薄膜晶体管器件层设置在所述衬底上；一平坦层，所述平坦层铺设在所述薄膜晶体管器件层上；一配向膜层，所述配向膜层位于所述平坦层之上；其中，在所述配向膜层上形成有多个隔离物区域，分别对应于用来支撑所述阵列基板和一彩膜基板的隔离物，其中所述隔离物区域呈凹槽状，所述隔离物区域能够限制相对应的隔离物的滑动范围；所述平坦层形成有多个与隔离物区域相对应的第一区域，所述第一区域也相应地呈凹槽状。

Description

阵列基板及其制备方法、显示面板及液晶显示器
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板、显示面板、液晶显示器及该阵列基板的制备方法。
背景技术
请参照图1所示，现有的TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid CrystalDisplay，即薄膜场效应晶体管-液晶显示器)面板是由TFT基板(包括薄膜晶体管器件层110、平坦层120和配向膜层130)、彩膜(Color Filter,简称CF)基板140以及两者之间的液晶构成。其中，在平坦层120和配向膜层130之间还包括公共电极层121、钝化层122和像素电极层123。TFT-LCD面板的工作原理为在外加电压控制下，由于液晶具有介电各向异性特点，液晶分子发生转动，使得液晶的折射率或透光率相应发生变化，从而控制TFT-LCD的出光量。
为了更好地控制TFT-LCD面板中的液晶的发光量，一般在成盒制程中会对TFT基板(或称阵列基板)和CF基板同时涂布一层聚酰亚胺(Polyimide,简称PI)配向膜130。通过利用液晶与PI配向膜界面之间的较强作用力，使得当外加电压撤消后，改变排列方向后的液晶分子靠着黏弹性恢复至原来的状态。因此，要求PI配向膜具有均一性、密着性和稳定性的特点。
TFT-LCD面板的盒厚一般是由注入其中的液晶量决定的。在外界压力或重力作用下，TFT-LCD面板容易发生盒厚不均的现象，于是会影响到TFT-LCD面板的穿透率、对比率、相应速度等显示特性。因此，业界通用的技术方案通常是在CF基板上通过曝光、刻蚀工艺制作隔离物150(Photo Spacer，简称PS)，隔离物位于TFT基板和CF基板之间，用于缓冲TFT-LCD面板所受到的外部压力，从而能够保持盒厚的均一性。根据隔离物的高度不同、缓冲应力的主次功能不同，又可以分为主隔离物(Main PS，即MPS)和次隔离物(Sub PS，即SPS)。
然而，在TFT-LCD面板的实际应用中，常常因摔落等其他外力(如图1所示的F)会导致TFT-LCD面板受力而变形，其中主隔离物的滑动(如图1所示的滑动方向A)容易造成PI配向膜的损伤，于是会引起液晶配向紊乱，并且出现碎亮点等不良现象。
发明内容
本发明的目的在于，提供一种阵列基板、显示面板、液晶显示器及该阵列基板的制备方法，能够有效地减少隔离物(尤其是主隔离物)因受外力作用而损伤配向膜层并产生配向膜层碎屑的问题，以及防止碎亮点等显示不良的发生，进而提高了显示面板的落摔可靠性。
为了实现上述目的，本发明提供了一种阵列基板，包括一衬底，所述阵列基板还包括：一薄膜晶体管器件层，所述薄膜晶体管器件层设置在所述衬底上；一平坦层，所述平坦层铺设在所述薄膜晶体管器件层上；一配向膜层，所述配向膜层位于所述平坦层之上；其中，在所述配向膜层上形成有多个隔离物区域，，分别对应于用来支撑所述阵列基板和一彩膜基板的隔离物，其中所述隔离物区域呈凹槽状，所述隔离物区域能够限制相对应的隔离物的滑动范围；所述平坦层形成有多个与所述隔离物区域相对应第一区域，所述第一区域也相应地呈凹槽状。
在本发明的一实施例中，所述配向膜层的隔离物区域的厚度与所述配向膜层除所述隔离物区域外的非隔离物区域的厚度相同。
在本发明的一实施例中，所述平坦层的第一区域的凹槽深度为所述平坦层厚度的五分之一。
在本发明的一实施例中，所述薄膜晶体管器件层包括由下而上依次设置的缓冲层、有源层、栅极绝缘层、栅极、层间绝缘层和源漏极。
在本发明的一实施例中，在所述平坦层与所述配向膜层之间进一步包括由下而上设置的公共电极层、钝化层和像素电极层。
另外，本发明还提供一种显示面板，所述显示面板包括上述的阵列基板、一与所述阵列基板相对设置的彩膜基板、以及多个设置于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的隔离物，其中所述隔离物用于支撑所述阵列基板和所述彩膜基板。
在本发明的一实施例中，所述隔离物为主隔离物，且所述主隔离物沿垂直于所述阵列基板的横截面呈倒梯形设置。
在本发明的一实施例中，所述隔离物靠近所述阵列基板的一端的第一宽度小于所述隔离物区域的第二宽度，且W2＝W1+N，其中W2为第二宽度，W1为第一宽度，N为第二宽度与第一宽度之间的间隙范围，N的取值范围为10～15μm。
另外，本发明还提供一种液晶显示器，所述液晶显示器包括上述的显示面板、用于驱动所述显示面板的驱动电路以及用于向所述显示面板提供背光源的背光模组。
另外，本发明还提供一种上述的阵列基板的制备方法，所述方法包括以下步骤：(a)提供一衬底；(b)在所述衬底上形成一薄膜晶体管器件层；(c)在所述薄膜晶体管器件层上形成一平坦层；(d)通过半色调掩模板并利用曝光、显影工艺在所述平坦层上形成呈凹槽状的第一区域，所述第一区域与用于支撑阵列基板和彩膜基板的隔离物对顶位置相对应；(e)将配向液液滴至配向板上，并由配向板转印至阵列基板，以在位于具有第一区域的平坦层上形成一配向膜层，所述配向膜层具有与所述隔离物对应且呈凹槽状的隔离物区域。
在本发明的一实施例中，所述配向液的滴下量是通过机台的设置参数而控制的，配向液的液滴间距是通过配向板的设计而决定的。
在本发明的实施例中，在步骤(d)和步骤(e)之间进一步包括步骤：在具有第一区域的平坦层上依次形成公共电极层、钝化层和像素电极层；通过曝光和刻蚀工艺在像素电极层上形成图形，以去除与所述隔离物对应的部分像素电极层。
本发明的优点在于，本发明所述阵列基板、显示面板、液晶显示器及所述阵列基板的制备方法能够有效地减少隔离物(尤其是主隔离物)因受外力作用而损伤配向膜层并产生配向膜层碎屑的问题，以及防止碎亮点等显示不良的发生，进而提高了显示面板的落摔可靠性，也进一步改善产品的品质。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是现有技术中的显示面板的结构示意图。
图2是本发明一实施例中的阵列基板的结构示意图。
图3是本发明一实施例中的显示面板的结构示意图。
图4是本发明一实施例中的液晶显示器的结构示意图。
图5是本发明一实施例中的阵列基板的制备方法的步骤流程图。
图6A～图6H是本发明所述实施例中的阵列基板的工艺流程图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明的说明书和权利要求书以及上述附图中的术语“第一”、“第二”、“第三”等(如果存在)是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应当理解，这样描述的对象在适当情况下可以互换。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。
在本专利文档中，下文论述的附图以及用来描述本发明公开的原理的各实施例仅用于说明，而不应解释为限制本发明公开的范围。所属领域的技术人员将理解，本发明的原理可在任何适当布置的系统中实施。将详细说明示例性实施方式，在附图中示出了这些实施方式的实例。此外，将参考附图详细描述根据示例性实施例的终端。附图中的相同附图标号指代相同的元件。
本发明说明书中使用的术语仅用来描述特定实施方式，而并不意图显示本发明的概念。除非上下文中有明确不同的意义，否则，以单数形式使用的表达涵盖复数形式的表达。在本发明说明书中，应理解，诸如“包括”、“具有”以及“含有”等术语意图说明存在本发明说明书中揭示的特征、数字、步骤、动作或其组合的可能性，而并不意图排除可存在或可添加一个或多个其他特征、数字、步骤、动作或其组合的可能性。附图中的相同参考标号指代相同部分。
本发明实施例提供一种阵列基板、显示面板、液晶显示器以及阵列基板的制备方法。以下将分别进行详细说明。
参见图2所示，本发明提供了一种阵列基板200，包括一衬底201，所述阵列基板200还包括：一薄膜晶体管器件层210、平坦层220和配向膜层230。其中，所述薄膜晶体管器件层210设置在所述衬底201上。所述平坦层220设置在所述薄膜晶体管器件层210上，所述配向膜层230位于所述平坦层220之上(需注意的是，所述配向膜层230非直接接触所述薄膜晶体管器件层210)。在所述薄膜晶体管器件层210和所述配向膜层230之间还设有公共电极层、钝化层和像素电极层，如下文所述。所述平坦层220为有机材料形成的膜层，其具有足够刚性，以提供所需的应力。另外，衬底201可以为玻璃基板，也可以为其他材质的透明基板。
另外，所述薄膜晶体管器件层210可以包括由下而上依次设置的缓冲层、有源层、栅极绝缘层、栅极、层间绝缘层和源漏极(这些层在图中未示)。这些功能层的设置为本领域技术人员所熟悉，在此不再详述。需说明的是，为了更清楚地表明本发明的技术方案，所述薄膜晶体管器件层210的具体结构在附图中进行了省略，以示意性的形式来表示所述薄膜晶体管器件层210与其他功能层的位置关系。
在TFT-LCD面板的制造工艺中，无论是阵列基板200还是彩膜基板，其基本结构均是类似于三明治模型的层层堆叠结构。通过曝光刻蚀工艺在不同膜层形成特定图案，以实现特定功能。由于阵列基板膜层结构复杂，既有非金属膜层又有金属膜层，既有线状图案，又有孔状图案，因此，薄膜晶体管器件层210制作完成后，其表面凹凸不平，不利于后继的配向膜层的制作。本领域通用的做法是在薄膜晶体管层制作完成后，先涂布一层高厚度的平坦层220(planarization，即PLN)，用于表面平坦化，然后再制作公共电极层221、钝化层222和像素电极层223以及配向膜层230。
在本实施例中，在所述平坦层220之上依次设置的公共电极层221、钝化层222和像素电极层223。所述公共电极层221、钝化层222和像素电极层223对应隔离物320位置均相应地呈凹槽状。所述公共电极层221、钝化层222和像素电极层223可以通过本领域常规的手段如沉积方式而形成。在像素电极层223之上进一步设置配向膜层230。
在本实施例中，在所述配向膜层230上形成有多个隔离物区域240，分别对应于用来支撑所述阵列基板200和一彩膜基板310(如图3所示)的隔离物320，如图3所示。所述隔离物区域240呈凹槽状，所述隔离物区域240能够限制隔离物320在所述隔离物区域内的滑动范围。更详细地讲，所述隔离物区域240能够限制所述隔离物320沿着图3所示的滑动方向A进行左右滑动的滑动距离。当TFT-LCD面板受到落摔等外力(如图3所示的外力F)冲击时，由于所述隔离物区域240能够起到限制作用，隔离物320(例如主隔离物，即MPS)的滑动距离受限，配向膜层损伤被局限在隔离物区域内(即凹槽范围内)，因此，有效地减少隔离物320(尤其是主隔离物)因受外力作用而损伤配向膜层并产生配向膜层碎屑的问题，以及防止碎亮点等显示不良的发生，进而提高了显示面板的落摔可靠性，也进一步改善产品的品质。
优选地，所述配向膜层的隔离物区域240的厚度与所述配向膜层除所述隔离物区域外的非隔离物区域(图中未标)的厚度相同。在本实施例中，所述配向膜层是聚酰亚胺(Polyimide，简称PI)配向膜层，其通过一喷嘴将配向液(可以使用聚酰亚胺配向液，但不限于此)液滴至配向板上，然后配向板转印至阵列基板200，形成间距相等、体积大小相同的PI液滴，最终形成PI配向膜层。喷嘴的(配向液)滴下量可以通过机台设置参数而得到调控。配向液的液滴之间距离是通过配向板设计(例如配向板的孔径大小)而决定的。配向液转印至阵列基板200后，自然铺展，相邻的胺配向液连成一片，形成厚度均匀的薄膜。这种自然扩散方式成膜可以保证所述配向膜层的隔离物区域的厚度与所述配向膜层除所述隔离物区域外的非隔离物区域的厚度相同。
另外，所述配向膜层的隔离物区域240的厚度以及非隔离物区域的厚度尺寸设计合理，可以进一步减小隔离物320与配向膜层之间因摩擦所产生的取向膜碎屑，从而提高产品的品质。
在本实施例中，所述平坦层220形成有多个与所述隔离物区域240相对应的第一区域，所述第一区域也相应地呈凹槽状。也就是说，所述第一区域与隔离物320相对应。由于平坦层220为有机平坦层，采用光敏材料而形成，因此，通过使用半色调掩膜板，并且利用曝光和显影工艺就可以实现在平坦层220上对应所述隔离物区域240的位置(即第一区域)制成浅凹槽。具体地，涂布一层平坦层220，接着通过半色调掩模板对需要形成浅凹槽的位置(即对应隔离物320)进行曝光，光化学反应使得有机材料的特性发生改变(即显影)，然后通过显影液对被曝光位置的平坦层220进行剥离，非曝光位置膜层进行保留，于是在平坦层220对应隔离物320位置形成第一区域，在平坦层220除所述第一区域之外的位置形成第二区域(图中未标)。在本实施例中，所述平坦层220对应所述隔离物320的第一区域的凹槽深度为所述平坦层厚度的五分之一。
参见图3所示，在本发明的一实施例中，提供一种显示面板300，所述显示面板300包括上述的阵列基板200、与所述阵列基板200相对设置的彩膜基板310、以及多个设置于所述阵列基板200和所述彩膜基板310之间的隔离物320，其中所述隔离物320用于支撑所述阵列基板200和所述彩膜基板310。需注意的是，下文中的所述隔离物是指主隔离物。
其中，所述阵列基板200包括一透明衬底201、一薄膜晶体管器件层210、一平坦层220和一配向膜层230。所述薄膜晶体管器件层210设置在所述衬底201上。所述平坦层220设置在所述薄膜晶体管器件层210上，所述配向膜层230位于所述平坦层220之上。其中，所述薄膜晶体管器件层210包括由下而上依次设置的缓冲层、有源层、栅极绝缘层、栅极、层间绝缘层和源漏极。需说明的是，为了更清楚地表明本发明的技术方案，所述薄膜晶体管器件层210的具体结构在附图中进行了省略，以示意性的形式来表示所述薄膜晶体管器件层210与其他功能层的位置关系。
在所述平坦层220与所述配向膜层230之间进一步包括由下而上设置的公共电极层221、钝化层222和像素电极层223。
所述平坦层220形成有多个与所述隔离物区域240相对应的第一区域250，所述第一区域250也相应地呈凹槽状。由于平坦层220为有机平坦层，采用光敏材料而形成，因此，通过使用半色调掩膜板，并且利用曝光和显影工艺就可以实现在平坦层220上对应所述隔离物区域240的位置(即第一区域250)制成浅凹槽。
在本实施例中，所述隔离物320为主隔离物，且所述主隔离物沿垂直于所述阵列基板200的横截面呈倒梯形设置，即该倒梯形的远离阵列基板200的上底的长度大于靠近阵列基板200的下底的长度，且下底与倒梯形的腰之间的夹角为钝角。当然，所述主隔离物的形状不限于此，在其他部分实施例中，所述主隔离物的横截面呈矩形设置。
在本实施例中，在所述配向膜层230上形成有多个隔离物区域240，分别对应于用来支撑所述阵列基板200和一彩膜基板310的隔离物，其中所述隔离物区域240呈凹槽状，所述隔离物区域能够限制隔离物320在所述隔离物区域内的滑动范围。当TFT-LCD面板受到落摔等外力(如图3所示的外力F)冲击时，由于所述隔离物区域240能够起到限制作用，隔离物320(例如主隔离物，即MPS)的滑动距离受限，配向膜层230损伤被局限在隔离物区域内(即凹槽范围内)，因此，有效地减少隔离物320(尤其是主隔离物)因受外力作用而损伤配向膜层230并产生配向膜层230碎屑的问题，以及防止碎亮点等显示不良的发生，进而提高了显示面板300的落摔可靠性，也进一步改善产品的品质。
另外，在本实施例中，所述隔离物320靠近所述阵列基板200的一端的第一宽度小于所述隔离物区域240的第二宽度，且W2＝W1+N，其中如图3所示，W2为第二宽度，W1为第一宽度，N为第二宽度与第一宽度之间的间隙范围，N的取值范围为10～15μm。因此，通过上述第一宽度、第二宽度及间隙范围的设定，可以进一步有效地控制的隔离物320在隔离物区域240内的滑动范围，更加有效地减少隔离物320(尤其是主隔离物)因受外力作用而损伤配向膜层230并产生配向膜层碎屑的问题，以及有效地控制碎亮点等显示不良的发生。
另外，合理地设计所述配向膜层230的隔离物区域的厚度以及非隔离物区域的厚度尺寸，可以进一步减小隔离物320与配向膜层230之间因摩擦所产生的取向膜碎屑，从而提高产品的品质。在本实施例中，所述配向膜层230的隔离物区域的厚度与非隔离物区域的厚度相同。
在本实施例中，所述隔离物320在所述阵列基板200上的投影落在所述阵列基板200的配线区域内，所述配线区域用于设置数据线或扫描线。具体地，所述隔离物站位位于两个像素电极之间的金属线上。需注意的是，上述配线区域可以为阵列基板200提供信号配线区域。
另外，在本实施例中，所述隔离物区域240的设计主要用于控制主隔离物(MPS)因受外力作用而在配向膜层230的隔离物区域内(即凹槽内)的移动范围，当然在其他部分实施例中，上述方式也同样适用于控制次隔离物(sub-photo spacer，简称SPS)因受外力作用而在配向膜层230的隔离物区域内(即凹槽内)的移动范围。
参见图4所示，本发明还提供一种液晶显示器400，所述液晶显示器400包括上述的显示面板300、驱动电路410以及背光模组420。其中，驱动电路410用于驱动上述显示面板300，背光模组420用于为显示面板300提供背光源，显示面板是上文实施例中的显示面板300。在其他实施例中，显示面板也可以为具有上述显示面板300功能及特点的面板。具体地，液晶显示器400可以是电视、电脑、户外广告平板等需要设置显示面板的器件。在本实施中，所述液晶显示器400包括显示面板300，显示面板300中的阵列基板200包括衬底201、薄膜晶体管器件层210、平坦层220和配向膜层230；所述薄膜晶体管器件层210设置在所述衬底201上，所述平坦层220设置在所述薄膜晶体管器件层210上，所述配向膜层230位于所述平坦层220之上；其中所述配向膜层230上形成有多个隔离物区域240，分别对应于用来支撑阵列基板和彩膜基板的隔离物，所述隔离物区域240呈凹槽状，所述隔离物区域240能够限制隔离物320在所述隔离物区域内的滑动范围；所述平坦层220形成有多个与所述隔离物区域240相对应第一区域250，所述第一区域250也相应地呈凹槽状。如此设计的液晶显示器400能够有效地减少隔离物320(尤其是主隔离物)因受外力作用而损伤配向膜层230并产生配向膜层碎屑的问题，以及防止碎亮点等显示不良的发生，进而提高了产品的落摔可靠性。
以下结合图5以及图6A至图6H，对阵列基板的制备方法进行详细描述。所述制备方法包括以下步骤：
参见步骤S510及图6A：提供一衬底。
所述衬底为玻璃基板，也可以为其他材质的透明基板。
参见步骤S520及图6B：在所述衬底上形成一薄膜晶体管器件层。
在所述衬底上形成薄膜晶体管器件层。所述薄膜晶体管器件层可以包括由下而上依次设置的缓冲层、有源层、栅极绝缘层、栅极、层间绝缘层和源漏极。这些功能层的设置为本领域技术人员所熟悉，在此不再详述。需说明的是，为了更清楚地表明本发明的技术方案，所述薄膜晶体管器件层的具体结构在附图中进行了省略，以示意性的形式来表示所述薄膜晶体管器件层与其他功能层的位置关系。
参见步骤S530及图6C：在所述薄膜晶体管器件层上形成一平坦层。
由于阵列基板膜层结构复杂，既有非金属膜层又有金属膜层，既有线状图案，又有孔状图案，因此,薄膜晶体管器件层制作完成后，其表面凹凸不平，不利于后继的配向膜层的制作。本领域通用的做法是在薄膜晶体管层制作完成后，先涂布一层高厚度的平坦层(planarization，即PLN)，用于表面平坦化。在本实施例中，所述平坦层为有机平坦层，其采用光敏材料而形成。
参见步骤S540及图6D：通过半色调掩模板并利用曝光、显影工艺在所述平坦层上形成呈凹槽状的第一区域，所述第一区域与用于支撑阵列基板和彩膜基板310的隔离物320对顶位置相对应。
具体地，通过使用半色调掩膜板，并且利用曝光和显影工艺就可以实现在平坦层上对应所述隔离物区域的位置(即第一区域)制成浅凹槽。也就是说，涂布一层平坦层，接着通过半色调掩模板对需要形成浅凹槽的位置(即对应隔离物320)进行曝光，光化学反应使得有机材料的特性发生改变(即显影)，然后通过显影液对被曝光位置的平坦层进行剥离，非曝光位置膜层进行保留，于是在平坦层对应隔离物320位置形成第一区域，在平坦层除所述第一区域之外的位置形成第二区域。在本实施例中，所述平坦层对应所述隔离物320的第一区域的凹槽深度为所述平坦层厚度的五分之一。
其中，在步骤S540至步骤S550之间进一步包括以下步骤：
参见步骤S541及图6E：在制作完具有第一区域的平坦层后，可以继续在平坦层上通过沉积方式由下而上依次设置的公共电极层、钝化层和像素电极层。
所述公共电极层、钝化层和像素电极层对应隔离物位置均相应地呈凹槽状(即沿着凹槽成膜)。
参见步骤S542及图6F：通过曝光和刻蚀工艺在像素电极层上形成图形，以去除与所述隔离物对应的部分像素电极层，这样，在凹槽位置处不存在像素电极层。
参见步骤S550及图6G：将配向液液滴至配向板上，并由配向板转印至阵列基板，以在位于具有第一区域的平坦层之上形成一配向膜层，所述配向膜层具有与所述隔离物对应且呈凹槽状的隔离物区域。
通过一喷嘴将配向液(例如采用聚酰亚胺配向液，但不限于此)液滴至配向板上，并由配向板转印至阵列基板，形成间距相等、体积大小相同的PI液滴。于是，在步骤S550中，在位于具有第一区域的平坦层之上且图形化的像素电极层上进行涂布并形成PI配向膜层。喷嘴的(配向液)滴下量可以通过机台设置参数而得到控制。配向液的液滴之间距离是通过配向板设计(例如配向板的孔径大小)而决定的。配向液转印至阵列基板后，自然铺展，相邻的配向液连成一片，形成厚度均匀的薄膜。这种自然扩散方式成膜可以保证所述配向膜层的隔离物区域的厚度与所述配向膜层除所述隔离物区域外的非隔离物区域的厚度相同。
参见图6H，通过上述步骤的实施，使得所述配向膜层具有与所述隔离物对应且呈凹槽状的隔离物区域。所述隔离物区域能够限制用于支撑阵列基板和彩膜基板的隔离物在所述隔离物区域内的滑动范围。当TFT-LCD面板受到落摔等外力冲击时，由于所述隔离物区域能够起到限制作用，隔离物(例如主隔离物，即MPS)的滑动距离受限，配向膜层损伤被局限在隔离物区域内(即凹槽范围内)，因此，有效地减少隔离物(尤其是主隔离物)因受外力作用而损伤配向膜层并产生配向膜层碎屑的问题，以及防止碎亮点等显示不良的发生，进而提高了显示面板的落摔可靠性，也进一步改善产品的品质。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (12)

1.一种阵列基板，包括一衬底，其特征在于，所述阵列基板还包括：
一薄膜晶体管器件层，所述薄膜晶体管器件层设置在所述衬底上；
一平坦层，所述平坦层铺设在所述薄膜晶体管器件层上；
一配向膜层，所述配向膜层位于所述平坦层之上；
其中，在所述配向膜层上形成有多个隔离物区域，分别对应于用来支撑所述阵列基板和一彩膜基板的隔离物，其中所述隔离物区域呈凹槽状，所述隔离物区域能够限制相对应的隔离物的滑动范围；
所述平坦层形成有多个与所述隔离物区域相对应的第一区域，所述第一区域也相应地呈凹槽状。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述配向膜层的隔离物区域的厚度与所述配向膜层除所述隔离物区域外的非隔离物区域的厚度相同。
3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述平坦层的第一区域的凹槽深度为所述平坦层厚度的五分之一。
4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述薄膜晶体管器件层包括由下而上依次设置的缓冲层、有源层、栅极绝缘层、栅极、层间绝缘层和源漏极。
5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，在所述平坦层与所述配向膜层之间进一步包括由下而上设置的公共电极层、钝化层和像素电极层。
6.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1至5任一项所述的阵列基板、一与所述阵列基板相对设置的彩膜基板、以及多个设置于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的隔离物，其中所述隔离物用于支撑所述阵列基板和所述彩膜基板。
7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述隔离物为主隔离物，且所述主隔离物沿垂直于所述阵列基板的横截面呈倒梯形设置。
8.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述隔离物靠近所述阵列基板的一端的第一宽度小于所述隔离物区域的第二宽度，且W2＝W1+N，其中W2为第二宽度，W1为第一宽度，N为第二宽度与第一宽度之间的间隙范围，N的取值范围为10～15μm。
9.一种液晶显示器，其特征在于，包括如权利要求6所述的显示面板、用于驱动所述显示面板的驱动电路以及用于向所述显示面板提供背光源的背光模组。
10.一种如权利要求1所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
(a)提供一衬底；
(b)在所述衬底上形成一薄膜晶体管器件层；
(c)在所述薄膜晶体管器件层上形成一平坦层；
(d)通过半色调掩模板并利用曝光、显影工艺在所述平坦层上形成呈凹槽状的第一区域，所述第一区域与用于支撑阵列基板和彩膜基板的隔离物对顶位置相对应；
(e)将配向液液滴至配向板上，并由配向板转印至阵列基板，以在位于具有第一区域的平坦层之上形成一配向膜层，所述配向膜层具有与所述隔离物对应且呈凹槽状的隔离物区域。
11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述配向液的滴下量是通过机台的设置参数而控制的，配向液的液滴间距是通过配向板的设计而决定的。
12.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，在步骤(d)和步骤(e)之间进一步包括步骤：
在具有第一区域的平坦层上依次形成公共电极层、钝化层和像素电极层；
通过曝光和刻蚀工艺在像素电极层上形成图形，以去除与所述隔离物对应的部分像素电极层。
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