CN101285970B - 液晶显示装置及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种液晶显示装置及其制造方法,提供一种液晶显示装置以简化工艺并降低制造成本,该液晶显示装置包括:具有滤色器的第一基板和具有薄膜晶体管的第二基板,其中,所述第一基板和第二基板相互面对;第一钝化膜,其形成于所述薄膜晶体管上;以及,第一柱状分隔体,其与所述第一钝化膜形成为一体。
Description
技术领域
本发明涉及液晶显示装置及其制造方法。
背景技术
近来,例如移动电话、PDA、笔记本电脑等的各类移动型电子设备得到广泛使用,由此,对薄而轻的平板显示装置的需求持续增长。平板显示装置的例子包括液晶显示器LCD、等离子体显示板PDP、场发射显示器FED和真空荧光显示器VFD。在平板显示装置的各个例子中,液晶显示器LCD由于其大规模生产、简单的驱动方式和高分辨率及图像质量的优点而得到极大关注。
图1为示出根据相关技术的液晶显示装置的剖面图。如图1所示,根据相关技术的液晶显示装置包括下基板5、上基板3和形成于下基板5与上基板3之间的液晶层7。
下基板5对应于包括多个像素区域的薄膜晶体管阵列基板,其中,在每个像素区域中形成有薄膜晶体管。
上基板3对应于包括滤色器层、以实现色彩的滤色器基板。
此外,分别在下基板5与上基板3上形成像素电极和公共电极。另外,下基板5与上基板3涂布有配向膜,以对液晶层7中包含的液晶分子进行配向。
然后,在下基板5与上基板3之间设置分隔体9,以维持这两个基板之间的单元间隙。另外,液晶层7形成于下基板5与上基板3之间。随着包括在液晶层7内的液晶分子被形成于下基板5上的薄膜晶体管所驱动,控制通过该液晶层的光量,从而显示信息。
该液晶显示装置使用基于液晶的各向异性和液晶分子的配向而确定的光电效应。因此,该液晶显示装置中的显示稳定性很大程度上受液晶 分子的配向控制的影响。
形成配向膜、以对液晶分子进行配向的处理和形成分隔体、以与密封图案一起维持单元间隙的处理很大程度上影响液晶单元的图像质量。
然而,如果通过相关技术的方法来散布分隔体,则各个分隔体存在于光所通过的像素区域。存在于像素区域的分隔体可能扰乱液晶的配向,并降低孔径比。在这个方面,必须把分隔体的密度控制为低于预定水平。此外,在整个屏幕上设置分隔体时必须保持均匀性。
如果提供高密度的分隔体,维持这两个基板之间的单元间隙是有用的。在这种情况下,因为分隔体导致其周围光的散射和配向的扰乱,所以会由于黑色显示功能的劣化而使对比度降低。
为了解决这个问题,近来提出了提供柱状分隔体(column spacer)的方法,在该方法中形成在下基板或上基板上直接构图而成的分隔体。柱状分隔体可以通过以下步骤来制造:在基板上淀积或涂布有机聚合材料,执行光刻、以选择性地移除所淀积或涂布的有机聚合材料。
但是,光刻包括光刻胶的涂布、曝光和显影,从而必须要求额外的掩模,因此,使得工艺复杂且成本增加。
发明内容
因此,本发明旨在一种液晶显示装置及其制造方法,其基本上消除了由于相关技术的局限和缺点而导致的一个或者更多个问题。
本发明的目的在于,提供一种液晶显示装置及其制造方法,以简化工艺并降低制造成本。
本发明的其它优点、目的及特征将在以下的说明书中部分地进行阐述,并且对于本领域的技术人员,将通过对以下说明书进行研究而部分地变得明了,或者可以通过对本发明的实践而得知。本发明的这些目的和其它优点可以通过在书面说明书、权利要求书及附图中具体指出的结构来实现和获得。
为获得本发明的这些目的和其他优点,并根据本发明的目的,如这里具体实施并宽泛地说明的,一种使用软模制造的液晶显示装置,该软模设置有用于形成接触孔的凸起图案和用于形成第一柱状分隔体的凹进图案,该液晶显示装置包括:具有滤色器的第一基板和具有薄膜晶体管的第二基板,其中,所述第一基板和第二基板相互面对,所述第二基板 包括像素电极,该像素电极通过所述接触孔连接到所述薄膜晶体管的漏极;第一钝化膜,其形成于所述薄膜晶体管上;以及,第一柱状分隔体,其与所述第一钝化膜形成为一体,其中,通过使所述软模与形成在所述第二基板上的图案材料层接触并在所述凸起图案与所述薄膜晶体管的漏极接触的情况下形成所述接触孔、所述第一钝化膜和所述第一柱状分隔体。
这里,所述第一柱状分隔体与所述第一基板相接触。
此外,该装置还包括第二柱状分隔体,所述第二柱状分隔体与所述第一钝化膜形成为一体,其中所述软模还设置有用于形成第二柱状分隔体的凹进图案。
此外,所述第一柱状分隔体与所述第二柱状分隔体彼此高度不同。
此外,所述第一钝化膜、所述第一柱状分隔体与所述第二柱状分隔体由有机绝缘材料形成,所述有机绝缘材料包括紫外线可固化液态预聚物、光引发剂和表面活性剂。
另外,该装置还包括第二钝化膜,所述第二钝化膜位于所述薄膜晶体管与所述第一钝化膜之间。
此外,该装置还包括第三钝化膜,所述第三钝化膜位于所述第一钝化膜上。
此外,所述第二钝化膜和所述第三钝化膜由无机绝缘材料形成。
此外,所述第二基板包括:选通线和数据线,所述选通线和数据线相互交叉而在所述第二基板上限定像素区域;以及,像素电极,所述像素电极连接到所述薄膜晶体管的预定部分、并形成于所述像素区域内。
在另一方面,一种液晶显示装置的制造方法包括以下步骤:制备具有滤色器的第一基板;在面对所述第一基板的第二基板上形成薄膜晶体管;在包括所述薄膜晶体管的所述第二基板上形成图案材料层;将软模与包括所述图案材料层的所述第二基板对准,该软模设置有用于形成接触孔的凸起图案和用于形成第一柱状分隔体的凹进图案;通过使所述软模与所述图案材料层相接触,来形成所述接触孔、第一钝化膜和所述第一柱状分隔体,其中所述凸起图案与所述薄膜晶体管的漏极接触;将所述软模与所述图案材料层分离开;以及,形成通过所述接触孔连接到所述漏极的像素电极。
此外,所述图案材料层由有机绝缘材料形成,所述有机绝缘材料包 括紫外线可固化液态预聚物、光引发剂和表面活性剂。
此外,所述软模设置有用于形成所述接触孔的凸起图案,以及用于形成所述柱状分隔体的凹进图案。
所述软模由PDMS(聚二甲基硅氧烷)、聚氨酯或聚酰亚胺中的任一种形成。
此外,该方法还包括通过在所述软模与包括所述图案材料层的第二基板相接触的状态下对所述第二基板施加热或光,来固化所述图案材料层。
另外,该方法还包括当形成所述接触孔、所述第一钝化膜和所述第一柱状分隔体时,形成所述第二柱状分隔体。
此外,所述第一柱状分隔体具有能与所述第一基板相接触的高度,而所述第二柱状分隔体与所述第一柱状分隔体高度不同。
所述软模设置有用于形成所述第二柱状分隔体的凹进图案。
另外,该方法还包括在所述图案材料层与包括所述薄膜晶体管的基板之间,形成第二钝化膜。
此外,该方法还包括在所述第一钝化膜与所述像素电极之间,形成第三钝化膜。
应该理解,对本发明的以上概述和下面的详述都是示例性和说明性的,并旨在对所要求保护的本发明提供进一步的说明。
附图说明
包括附图以提供对本发明的进一步理解,并入附图而构成本申请的一部分,附图示出了本发明的实施方式并与说明书一起用于解释本发明的原理。在附图中:
图1为示出相关技术的液晶显示装置的剖面图;
图2为示出根据本发明的一个液晶显示装置的平面图;
图3为示出根据本发明的第一实施方式的液晶显示装置沿图2中的I-I’和II-II’的剖面图;
图4A到4D为示出根据本发明的第一实施方式的液晶显示装置的制造方法的剖面图;
图5为示出根据本发明的第二实施方式的液晶显示装置沿图2中的I-I’和II-II’的剖面图;
图6A到6E为示出根据本发明的第二实施方式的液晶显示装置的制造方法的剖面图;
图7为示出根据本发明的第三实施方式的液晶显示装置沿图2中的I-I’和II-II’的剖面图;
图8A到8B为示出根据本发明的第三实施方式的液晶显示装置的制造方法的剖面图;
图9为示出根据本发明的另一液晶显示装置的平面图;
图10为示出根据本发明的第四实施方式的液晶显示装置沿图9中的I-I’和II-II’的剖面图;
图11A到11D为示出根据本发明的第四实施方式的液晶显示装置的制造方法的剖面图;
图12为示出根据本发明的第五实施方式的液晶显示装置沿图9中的I-I’和II-II’的剖面图;
图13A到13E为示出根据本发明的第五实施方式的液晶显示装置的制造方法的剖面图;
图14为示出根据本发明的第六实施方式的液晶显示装置沿图9中的I-I’和II-II’的剖面图;以及
图15A到15B为示出根据本发明的第六实施方式的液晶显示装置的制造方法的剖面图。
具体实施方式
现在详细描述本发明的优选实施方式,在附图中说明该实施方式的示例。在附图中,将尽可能地使用相同的附图标记来指明相同或类似的部分。
以下,参照附图,说明根据本发明的液晶显示装置及其制造方法。
第一实施方式
图2为示出根据本发明的一个液晶显示装置的平面图。图3为示出根据本发明的第一实施方式的液晶显示装置沿图2中的I-I’和II-II’的剖面图。
如图2和图3所示,根据本发明的第一实施方式的液晶显示装置包括滤色器基板100、TFT基板200、以及通过将液晶注入滤色器基板100 与TFT基板200之间的空间而形成的液晶层55。
滤色器基板100包括黑底(black matrix)层31,以及位于基板60上的R/G/B滤色器层32,其中,黑底层31防止光泄漏到像素区域以外的区域(选通线、数据线和薄膜晶体管区域),而R/G/B滤色器层32设置在像素区域中、以表现其中的颜色。此外,在黑底层31和R/G/B滤色器层32的整个表面上形成有外覆层(未示出)。
TFT基板200与滤色器基板100相对,包括位于基板70上的多条选通线41和多条数据线42,其中,各选通线41与各数据线42垂直、从而限定各个像素区域。此外,形成与选通线41平行的公共线47,并从公共线47朝向像素区域的内侧分支出公共电极47a,其中,按固定的间隔形成公共电极47a。在选通线41与数据线42的各交叉处,存在具有源极42a和漏极42b的薄膜晶体管TFT。此外,像素电极43连接到像素区域内的薄膜晶体管的漏极,其中,像素电极43与公共电极47a在像素区域内交替地平行排列。
在此,基板60与基板70可以由玻璃或塑料形成。此外,在选通线41与数据线42之间形成栅绝缘膜45。半导体层44形成在栅绝缘膜45上、栅极41a的上方。然后,在薄膜晶体管TFT与像素电极43之间形成钝化膜46a。同时,由与钝化膜46a相同的材料形成柱状分隔体46b。
柱状分隔体46b维持这两个基板之间的单元间隙,且柱状分隔体46b与滤色器基板100相接触。此时,通过以下步骤,一体地形成钝化膜46a与柱状分隔体46b:将紫外线可固化液态预聚物的有机绝缘材料置于具有薄膜晶体管TFT的基板70上,而且,使用具有钝化膜46a与柱状分隔体46b的反转形状的图案的软模,来进行面内印刷(In-Plane Printing)。
因此,根据本发明的第一实施方式的该液晶显示装置包括使用该软模通过面内印刷而形成的钝化膜46a与柱状分隔体46b。与使用光刻胶的涂布、曝光和显影、通过光刻而形成柱状分隔体的相关技术的工艺相比,使用软模的面内印刷具有工艺简单且制造成本降低的优点。
图4A到4D为示出根据本发明的第一实施方式的液晶显示装置的制造方法的剖面图。
在基板70上形成栅金属层之后,通过光刻对该栅金属层进行构图,由此形成包括选通线41与栅极41a的栅图案,如图4A所示。然后,在包括该栅图案的基板70上形成栅绝缘膜45。
随后,在包括栅绝缘膜45的基板70上形成n+型非晶硅层的非晶硅层,然后,通过光刻对该非晶硅层进行构图,从而形成半导体层44。此时,按包括有源层和欧姆接触层的双层结构来形成半导体层44。然后,在包括半导体层44的基板70上形成源/漏金属层,然后通过光刻对该源/漏金属层进行构图,由此形成包括数据线42、源极42a和漏极42b的源/漏图案。然后,在包括该源/漏图案的基板70上形成图案材料层46。
此时,图案材料层46包括紫外线可固化液态预聚物、光引发剂和表面活性剂。一般地,紫外线可固化液态预聚物采用紫外线可固化丙烯酸酯预聚物,例如,HEA(丙烯酸-2-羟基乙酯),EGDMA(二甲基丙烯酸乙二醇酯),EGPEA(丙烯酸乙二醇苯基醚酯),HPA(丙烯酸羟基丙酯),和HPPA(丙烯酸羟基苯氧基丙酯)。
然后,在包括图案材料层46的基板上准备软模300,在该软模300的后表面设置有背板,而其前表面设置有位于的凸起图案(embossingpattern)300b和凹进图案(depressed pattern)300a。可以通过固化诸如PDMS(聚二甲基硅氧烷)的弹性聚合物来制造软模300。此外,可以由聚氨酯或聚酰亚胺形成软模300。在此,软模300设置有用于形成接触孔的凸起图案300b和用于形成柱状分隔体的凹进图案300a。
如图4B所示,在将软模300与包括图案材料层46的基板70对准之后,使软模300的表面与图案材料层46接触,由此在图案材料层46中形成钝化膜46a、柱状分隔体46b和露出漏极电极42b的接触孔46d,其中,柱状分隔体46b对应于软模300的凹进图案300a,接触孔46d对应于软模300的凸起图案300b。此时,在软模300与图案材料层46接触的状态下,对其施加热或光、以固化图案材料层46。
如图4C所示,将软模300从具有接触孔46d的钝化膜46a和具有柱状分隔体46b的图案材料层46分离开。接下来,如图4D所示,在具有接触孔46d的钝化膜46a上形成透明导电膜,然后通过光刻对该透明导 电膜进行构图,由此形成连接到漏极42b的像素电极43,并完成该工艺。
因此,通过使用软模的面内印刷来形成钝化膜46a与柱状分隔体46b。与使用光刻胶的涂布、曝光和显影、通过光刻来形成柱状分隔体的相关技术工艺相比,使用软模的面内印刷能够实现简化的工艺和更低的制造成本。
第二实施方式
以下,说明具有双层结构的钝化膜和单元间隙柱状分隔体的液晶显示装置及其制造方法。
图5为示出根据本发明的第二实施方式的液晶显示装置沿图2中的I-I’和II-II’的剖面图。
首先,如图5所示,根据本发明的第二实施方式的液晶显示装置包括滤色器基板100、TFT基板200、以及通过将液晶注入滤色器基板100与TFT基板200之间的空间而形成的液晶层55。
滤色器基板100包括基板60、黑底层31、R/G/B滤色器层32以及外覆层(未示出)。与滤色器基板100相对设置的TFT基板200包括基板70、选通线41、数据线42、公共线47、公共电极47a、源极42a和漏极42b、像素电极43、栅绝缘膜45和半导体层44。此时,基板60与基板70可以由玻璃或塑料形成。
此外,在薄膜晶体管TFT与像素电极43之间形成第一钝化膜48和第二钝化膜46a。同时,由与第二钝化膜46a相同的材料形成柱状分隔体46b。柱状分隔体46b维持这两个基板之间的单元间隙,而且柱状分隔体46b与滤色器基板100相接触。此时,在选通线41上以固定间隔设置柱状分隔体57。
第一钝化膜48由诸如SiNx的无机绝缘材料形成,由此提高含有紫外线可固化液态预聚物的有机绝缘材料的第二钝化膜46a与源极42a、漏极42b/数据线42/栅绝缘膜45之间的界面稳定性。此时,通过完成以下步骤,一体地形成第二钝化膜46a与柱状分隔体46b:将紫外线可固化液态预聚物的有机绝缘材料置于包括薄膜晶体管TFT的基板70上,而且,使用具有第二钝化膜46a和柱状分隔体46b的反转形状的图案的软模, 来进行面内印刷。
因此,根据本发明的第二实施方式的液晶显示装置包括使用软模、通过面内印刷而形成的第二钝化膜46a与柱状分隔体46b。与使用光刻胶的涂布、曝光和显影、通过光刻而形成柱状分隔体的相关技术的工艺相比,使用软模的面内印刷具有简化的工艺和更低的制造成本。此外,由于在第二钝化膜46a下形成无机绝缘材料的第一钝化膜48,提高了有机绝缘材料的第二钝化膜46a与接触层之间的界面稳定性。
图6A到6E为示出根据本发明的第二实施方式的液晶显示装置的制造方法的剖面图。
如图6A所示,在基板70上具有包括选通线41和栅极41a的栅图案;栅绝缘膜45;半导体层44;以及包括数据线42和源极42a及漏极42b的源/漏图案。然后,在基板70上形成诸如SiNx的无机绝缘材料的第一钝化膜48,在第一钝化膜48上形成图案材料层46。
此后,在包括图案材料层46的基板70上准备软模300,在该软模300的后表面设置有背板,而其前表面设置有凸起图案300b和凹进图案300a。在此,软模300设置有用于形成接触孔的凸起图案300b和用于形成柱状分隔体的凹进图案300a。
如图6B所示,在将软模300与包括图案材料层46的基板70对准之后,使软模300的表面与图案材料层46接触,由此在图案材料层46中形成第二钝化膜46a、柱状分隔体46b和露出漏极42b的接触孔46d,其中,柱状分隔体46b对应于软模300的凹进图案300a,接触孔46d对应于软模300的凸起图案300b。此时,在软模300与图案材料层46相接触的状态下,对其施加热或光、以固化图案材料层46。
接下来,如图6C所示,将软模300从具有接触孔46d的第二钝化膜46a和具有柱状分隔体46b的图案材料层46分离开。
如图6D所示,在使用具有接触孔46d的第二钝化膜46a作为蚀刻掩模的状态下,进行蚀刻处理,由此形成用于露出漏极42b的接触孔46d。
如图6E所示,在包括接触孔46d的基板70上形成透明导电膜,然后通过光刻对该透明导电膜进行构图,由此形成连接到漏极42b的像素 电极43,并完成该工艺。
因此,根据本发明的第二实施方式的液晶显示装置包括使用软模、通过面内印刷而形成的第二钝化膜46a与柱状分隔体46b。与使用光刻胶的涂布、曝光和显影、通过光刻而形成柱状分隔体的相关技术的工艺相比,使用软模的面内印刷能够实现简化的工艺和更低的制造成本。此外,在有机绝缘材料的第二钝化膜46a下形成无机绝缘材料的第一钝化膜48,由此提高了有机绝缘材料的第二钝化膜46a与接触层之间的界面稳定性。
第三实施方式
以下,说明设置了具有三层结构的钝化膜和单元间隙柱状分隔体的液晶显示装置及其制造方法。
图7为示出根据本发明的第三实施方式的液晶显示装置沿图2中的I-I’和II-II’的剖面图。
如图7所示,根据本发明的第三实施方式的液晶显示装置包括滤色器基板100、TFT基板200、以及通过将液晶注入滤色器基板100与TFT基板200之间的空间而形成的液晶层55。
滤色器基板100包括基板60、黑底层31、R/G/B滤色器层32以及外覆层(未示出)。与滤色器基板100相对设置的TFT基板200包括基板70、选通线41、数据线42、公共线47、公共电极47a、源极42a和漏极42b、像素电极43、栅绝缘膜45和半导体层44。此时,基板60与基板70可以由玻璃或塑料形成。
此外,在薄膜晶体管TFT与像素电极43之间形成第一钝化膜48、第二钝化膜46a和第三钝化膜49,同时,由与第二钝化膜46a相同的材料形成柱状分隔体46b。柱状分隔体46b维持这两个基板之间的单元间隙,而且柱状分隔体46b与滤色器基板100相接触。
第一钝化膜48和第三钝化膜49由诸如SiNx的无机绝缘材料形成。这样,第一钝化膜48被提供以提高含有紫外线可固化液态预聚物的有机绝缘材料的第二钝化膜46a与源极42a和漏极42b/数据线42/栅绝缘膜45之间的界面稳定性。第三钝化膜49被提供以提高第二钝化膜46a与像素电极43之间的界面稳定性。
通过完成以下步骤,一体地形成第二钝化膜46a与柱状分隔体46b:将紫外线可固化液态预聚物的有机绝缘材料置于包括薄膜晶体管TFT的基板70上,并且使用具有第二钝化膜46a与柱状分隔体46b的反转形状的图案的软模,来进行面内印刷。
因此,根据本发明的第三实施方式的液晶显示装置包括使用软模通过面内印刷而形成的第二钝化膜46a与柱状分隔体46b。与使用光刻胶的涂布、曝光和显影、通过光刻而形成柱状分隔体的相关技术的工艺相比,使用软模的面内印刷具有简化的工艺和更低的制造成本。此外,由于分别在第二钝化膜46a上、下形成无机绝缘材料的第一钝化膜48和第三钝化膜49,提高了有机绝缘材料的第二钝化膜46a与接触层之间的界面稳定性。
参照图8A和8B,说明根据本发明的液晶显示装置的制造方法。
到形成柱状分隔体46b、钝化膜46a和露出漏极42b的接触孔46d为止的处理,与根据本发明的第二实施方式的图6A到6D的处理相同。此后,如图8A所示,在第二钝化膜46a上形成诸如SiNx的无机绝缘材料的第三钝化膜49。
然后,如图8B所示,在包括接触孔46d的基板70上形成透明导电膜,然后通过光刻对该透明导电膜进行构图,由此形成连接到漏极42b的像素电极43,并完成该工艺。
因此,根据本发明的第三实施方式的液晶显示装置包括使用软模、通过面内印刷而形成的第二钝化膜46a与柱状分隔体46b。与使用光刻胶的涂布、曝光和显影、通过光刻而形成柱状分隔体的相关技术的工艺相比,使用软模的面内印刷能够实现简化的工艺和更低的制造成本。此外,分别在有机绝缘材料的第二钝化膜上、下形成无机绝缘材料的第一钝化膜48和第三钝化膜49,由此提高了第二钝化膜46a与接触层之间的界面稳定性。
第四实施方式
以下,参照附图,说明设置有防压陷柱状分隔体46c和单元间隙柱状分隔体46b的液晶显示装置及其制造方法。
图9为示出根据本发明的另一液晶显示装置的平面图。图10为示出根据本发明的第四实施方式的液晶显示装置沿图9中的I-I’和II-II’的剖面图。
如图9和图10所示,根据本发明的第四实施方式的液晶显示装置包括滤色器基板100、TFT基板200、以及通过将液晶注入滤色器基板100与TFT基板200之间的空间而形成的液晶层55。
滤色器基板100包括基板60、黑底层31、R/G/B滤色器层32以及外覆层(未示出)。与滤色器基板100相对设置的TFT基板200包括基板70、选通线41、数据线42、公共线47、公共电极47a、源极42a和漏极42b、像素电极43、栅绝缘膜45和半导体层44。此时,基板60与基板70可以由玻璃或塑料形成。
此外,在薄膜晶体管TFT与像素电极43之间形成钝化膜46a。同时,由与钝化膜46a相同的材料形成第一柱状分隔体46b和第二柱状分隔体46c。第一柱状分隔体46b对应于单元间隙柱状分隔体,以维持这两个基板之间的单元间隙,其中,第一柱状分隔体46b与滤色器基板100相接触。提供第二柱状分隔体46c以防止液晶板被压陷,其中,第二柱状分隔体46c的高度为不与滤色器基板100相接触。因此,根据本发明的第四实施方式的液晶显示装置设置有包括第一柱状分隔体46b与第二柱状分隔体46c在内的双份柱状分隔体,以维持这该单元间隙并防止液晶板被压陷。
此时,通过完成以下步骤,一体地形成钝化膜46a与第一柱状分隔体46b和第二柱状分隔体46c:将紫外线可固化液态预聚物的有机绝缘材料置于包括薄膜晶体管TFT的基板70上,并且,使用具有钝化膜46a与第一柱状分隔体46b、第二柱状分隔体46c的反转形状的图案的软模来进行面内印刷。
因此,根据本发明的第四实施方式的液晶显示装置包括使用软模通过面内印刷而形成的钝化膜46a与第一柱状分隔体46b和第二柱状分隔体46c。与使用光刻胶的涂布、曝光和显影、通过光刻而形成柱状分隔体的相关技术的工艺相比,使用软模的面内印刷具有简化的工艺和更低的 制造成本。
参照附图11A到11D,说明根据本发明的第四实施方式的液晶显示装置的制造方法。
如图11A所示,在基板70上具有包括选通线41和栅极41a的栅图案;栅绝缘膜45;半导体层44;以及包括数据线42和源极42a及漏极42b的源/漏图案。
此后,在包括图案材料层46的基板70上准备软模300,在该软模300的后表面设置有背板,而其前表面设置有凸起图案300b和凹进图案300a和300c。在此,软模300设置有用于形成接触孔的凸起图案300b和用于形成第一柱状分隔体46b和第二柱状分隔体46c的凹进图案300a和300c。
如图11B所示,在将软模300与包括图案材料层46的基板70对准之后,使软模300的表面与图案材料层46相接触,由此在图案材料层46中形成钝化膜46a、第一柱状分隔体46b及第二柱状分隔体46c、和露出漏极42b的接触孔46d,其中,第一柱状分隔体46b及第二柱状分隔体46c对应于软模300的凹进图案300a和300c,接触孔46d对应于软模300的凸起图案300b。此时,在软模300与图案材料层46相接触的状态下,对其施加热或光、由此固化图案材料层46。此时,第一柱状分隔体46b的高度为与滤色器基板100相接触。第二柱状分隔体46c的高度为不与滤色器基板100相接触,其中,第二柱状分隔体46c防止液晶板被压陷。
如图11C所示,将软模300从具有接触孔46d的钝化膜46a和具有第一柱状分隔体46b及第二柱状分隔体46c的图案材料层46分离开。
接下来,如图11D所示,在具有接触孔46d的钝化膜46a上形成透明导电膜,然后通过光刻对该透明导电膜进行构图,由此形成连接到漏极42b的像素电极43,并完成该工艺。
因此,根据本发明的第四实施方式的液晶显示装置包括使用软模、通过面内印刷而形成的钝化膜46a与第一柱状分隔体46b及第二柱状分隔体46c。与使用光刻胶的涂布、曝光和显影、通过光刻而形成柱状分隔体的相关技术的工艺相比,使用软模的面内印刷能够实现简化的工艺和 更低的制造成本。
第五实施方式
以下,参照附图,说明具有双层结构的钝化膜、单元间隙柱状分隔体46b和防压陷柱状分隔体46c的液晶显示装置及其制造方法。
图12为示出根据本发明的第五实施方式的液晶显示装置沿图9中的I-I’和II-II’的剖面图。
如图12所示,根据本发明的第五实施方式的液晶显示装置包括滤色器基板100、TFT基板200、以及通过将液晶注入滤色器基板100与TFT基板200之间的空间而形成的液晶层55。
滤色器基板100包括基板60、黑底层31、R/G/B滤色器层32以及外覆层(未示出)。与滤色器基板100相对设置的TFT基板200包括基板70、选通线41、数据线42、公共线47、公共电极47a、源极42a和漏极42b、像素电极43、栅绝缘膜45和半导体层44。此时,基板60与基板70可以由玻璃或塑料形成。
此外,在像素电极43与薄膜晶体管TFT之间形成第一钝化膜48和第二钝化膜46a,同时,由与第二钝化膜46a相同的材料形成第一柱状分隔体46b和第二柱状分隔体46c。第一柱状分隔体46b对应于单元间隙柱状分隔体,以维持这两个基板之间的单元间隙,其中,第一柱状分隔体46b与滤色器基板100相接触。提供第二柱状分隔体46c以防止液晶板被压陷,其中,第二柱状分隔体46c的高度为不与滤色器基板100相接触。因此,根据本发明的第五实施方式的液晶显示装置设置有包括第一柱状分隔体46b与第二柱状分隔体46c的双份柱状分隔体,以维持单元间隙并防止液晶板被压陷。
第一钝化膜48由诸如SiNx的无机绝缘材料形成,以提高包括紫外线可固化液态预聚物的有机绝缘材料的第二钝化膜46a与源极42a和漏极42b/数据线42/栅绝缘膜45之间的界面稳定性。此外,通过完成以下步骤,一体地形成第二钝化膜46a与第一柱状分隔体46b及第二柱状分隔体46c:将紫外线可固化液态预聚物的有机绝缘材料置于包括薄膜晶体管TFT的基板70上,并且,使用具有第二钝化膜46a与第一柱状分隔体 46b、第二柱状分隔体46c的反转形状的图案的软模,来进行面内印刷。
因此,根据本发明的第五实施方式的液晶显示装置包括使用软模、通过面内印刷而形成的第二钝化膜46a与第一柱状分隔体46b及第二柱状分隔体46c。与使用光刻胶的涂布、曝光和显影、通过光刻而形成柱状分隔体的相关技术的工艺相比,使用软模的面内印刷具有简化的工艺和更低的制造成本。此外,在有机绝缘材料的第二钝化膜46a下形成无机绝缘材料的第一钝化膜48,由此提高了第二钝化膜46a与接触层之间的界面稳定性。
参照图13A到13E,说明根据本发明的第五实施方式的液晶显示装置的制造方法。
如图13A所示,在基板70上具有包括选通线41和栅极41a的栅图案;栅绝缘膜45;半导体层44;以及包括数据线42和源极42a及漏极42b的源/漏图案。然后,在包括源/漏图案的基板70上形成诸如SiNx的无机绝缘材料的第一钝化膜48,在第一钝化膜48上形成图案材料层46。
此后,在包括图案材料层46的基板70上准备软模300,在该软模300的后表面设置有背板,而其前表面设置有凸起图案300b和凹进图案300a和300c。在此,软模300设置有用于形成接触孔的凸起图案300b和用于形成第一柱状分隔体和第二柱状分隔体的凹进图案300a和300c。
如图13B所示,在将软模300与具有图案材料层46的基板70对准之后,软模300的表面与图案材料层46相接触,由此在图案材料层46中形成第二钝化膜46a、第一柱状分隔体46b及第二柱状分隔体46c、和露出漏极42b的接触孔46d,其中,第一柱状分隔体46b及第二柱状分隔体46c对应于软模300的凹进图案300a和300c,接触孔46d对应于软模300的凸起图案300b。此时,在软模300与图案材料层46相接触的状态下,对其施加热或光以固化图案材料层46。
此时,第一柱状分隔体46b对应于单元间隙柱状分隔体,以维持这两个基板之间的单元间隙,其中,第一柱状分隔体46b与滤色器基板100相接触。提供第二柱状分隔体46c以防止液晶板被压陷,其中,第二柱状分隔体46c的高度为不与滤色器基板100相接触。
接下来,如图13C所示,将软模300从具有对应于接触孔的孔46e的第二钝化膜46a和具有第一柱状分隔体46b及第二柱状分隔体46c的图案材料层46分离开。
如图13D所示,在使用具有对应于接触孔的孔46e的第二钝化膜46a作为蚀刻掩模的状态下,进行蚀刻处理,由此形成用于露出漏极42b的接触孔46d。
如图13E所示,在包括接触孔46d的第二钝化膜46a上形成透明导电膜,然后通过光刻对该透明导电膜进行构图,由此形成连接到漏极42b的像素电极43,并完成该工艺。
因此,根据本发明的第五实施方式的液晶显示装置包括使用软模、通过面内印刷而形成的第二钝化膜46a与第一柱状分隔体46b及第二柱状分隔体46c。与使用光刻胶的涂布、曝光和显影、通过光刻而形成柱状分隔体的相关技术的工艺相比,使用软模的面内印刷实现简化的工艺和更低的制造成本。此外,在有机绝缘材料的第二钝化膜46a下形成无机绝缘材料的第一钝化膜48,由此提高了有机绝缘材料的第二钝化膜46a与接触层之间的界面稳定性。
第六实施方式
以下,参照附图,说明具有三层结构的钝化膜、单元间隙柱状分隔体46b和防压陷柱状分隔体46c的液晶显示装置及其制造方法。
图14为示出根据本发明的第六实施方式的液晶显示装置沿图9中的I-I’和II-II’的剖面图。
如图14所示,根据本发明的第六实施方式的液晶显示装置包括滤色器基板100、TFT基板200、以及通过将液晶注入滤色器基板100与TFT基板200之间的空间而形成的液晶层55。
滤色器基板100包括基板60、黑底层31、R/G/B滤色器层32以及外覆层(未示出)。与滤色器基板100相对设置的TFT基板200包括基板70、选通线41、数据线42、公共线47、公共电极47a、源极42a和漏极42b、像素电极43、栅绝缘膜45和半导体层44。此时,基板60与基板70可以由玻璃或塑料形成。
此外,在薄膜晶体管TFT与像素电极43之间形成第一钝化膜48、第二钝化膜46a和第三钝化膜49,同时,由与第二钝化膜46a相同的材料形成第一柱状分隔体46b及第二柱状分隔体46c。第一柱状分隔体46b对应于单元间隙柱状分隔体,以维持这两个基板之间的单元间隙,其中,第一柱状分隔体46b与滤色器基板100相接触。提供第二柱状分隔体46c以防止液晶板被压陷,其中,第二柱状分隔体46c的高度为不与滤色器基板100相接触。
第一钝化膜48和第三钝化膜49由诸如SiNx的无机绝缘材料形成。第一钝化膜48提高了包括紫外线可固化液态预聚物的有机绝缘材料的第二钝化膜46a与源极42a和漏极42b/数据线42/栅绝缘膜45之间的界面稳定性。此外,第三钝化膜49提高了像素电极43与第二钝化膜46a之间的界面稳定性。
此时,通过完成以下步骤,一体地形成第二钝化膜46a与第一柱状分隔体46b及第二柱状分隔体46c:将紫外线可固化液态预聚物的有机绝缘材料置于具有薄膜晶体管TFT的基板70上,并且,使用具有第二钝化膜46a与第一柱状分隔体46b、第二柱状分隔体46c的反转形状的图案的软模,来进行面内印刷。
因此,根据本发明的第六实施方式的液晶显示装置包括使用软模、通过面内印刷而形成的第二钝化膜46a与第一柱状分隔体46b及第二柱状分隔体46c。与使用光刻胶的涂布、曝光和显影、通过光刻而形成柱状分隔体的相关技术的工艺相比,使用软模的面内印刷具有简化的工艺和更低的制造成本。此外,分别在有机绝缘材料的第二钝化膜46a上、下形成无机绝缘材料的第一钝化膜48和第三钝化膜49,由此提高了第二钝化膜46a与接触层之间的界面稳定性。
图15A到15B为示出根据本发明的第六实施方式的液晶显示装置的制造方法的剖面图。
到形成柱状分隔体46b、钝化膜46a、第一柱状分隔体46b及第二柱状分隔体46c和露出漏极42b的接触孔46d为止的处理,与根据本发明的第五实施方式的图13A到13D的处理相同。此后,如图15A所示,在 第二钝化膜46a上形成诸如SiNx的无机绝缘材料的第三钝化膜49。
然后,如图15B所示,在包括接触孔46d的基板70上形成透明导电膜,然后通过光刻对该透明导电膜进行构图,由此形成连接到漏极42b的像素电极43,并完成该工艺。
因此,根据本发明的第六实施方式的液晶显示装置包括使用软模、通过面内印刷而形成的第二钝化膜46a与第一柱状分隔体46b及第二柱状分隔体46c。与使用光刻胶的涂布、曝光和显影、通过光刻而形成柱状分隔体的相关技术的工艺相比,使用软模的面内印刷实现简化的工艺和更低的制造成本。此外,分别在有机绝缘材料的第二钝化膜46a上、下形成无机绝缘材料的第一钝化膜48和第三钝化膜49,由此提高了有机绝缘材料的第二钝化膜46a与接触层之间的界面稳定性。
如上所述,根据本发明的液晶显示装置及其制造方法具有以下优点。
根据本发明的液晶显示装置包括使用软模、通过面内印刷而形成的钝化膜与柱状分隔体。与使用光刻胶的涂布、曝光和显影、通过光刻而形成柱状分隔体的相关技术的工艺相比,使用软模的面内印刷具有简化的工艺和更低的制造成本。
在根据本发明的液晶显示装置中,在有机绝缘材料的钝化膜与接触层之间设置有无机绝缘材料的钝化膜,由此提高了有机绝缘材料的钝化膜与接触层之间的界面稳定性。
对于本领域技术人员而言,很明显,可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下对本发明中做出各种修改和变化。因此,本发明旨在涵盖落入所附权利要求及其等同形式范围内的本发明的这些修改和变化。
本申请要求2007年4月9日递交的韩国专利申请No.P2007-34743的优先权,在此通过引用并入本申请,如同在此完全进行了阐述。
Claims (17)
1.一种使用软模制造的液晶显示装置,该软模设置有用于形成接触孔的凸起图案和用于形成第一柱状分隔体的凹进图案,该液晶显示装置包括:
具有滤色器的第一基板和具有薄膜晶体管的第二基板,其中,所述第一基板和第二基板相互面对,所述第二基板包括像素电极,该像素电极通过所述接触孔连接到所述薄膜晶体管的漏极;
第一钝化膜,其形成于所述薄膜晶体管上;以及
第一柱状分隔体,其与所述第一钝化膜形成为一体,
其中,通过使所述软模与形成在所述第二基板上的图案材料层接触并在所述凸起图案与所述薄膜晶体管的漏极接触的情况下形成所述接触孔、所述第一钝化膜和所述第一柱状分隔体。
2.根据权利要求1所述的液晶显示装置,其中,所述第一柱状分隔体与所述第一基板接触。
3.根据权利要求1所述的液晶显示装置,该液晶显示装置还包括第二柱状分隔体,所述第二柱状分隔体与所述第一钝化膜形成为一体,其中所述软模还设置有用于形成所述第二柱状分隔体的凹进图案。
4.根据权利要求3所述的液晶显示装置,其中,所述第一柱状分隔体与所述第二柱状分隔体彼此高度不同。
5.根据权利要求1或3所述的液晶显示装置,其中,所述第一钝化膜、所述第一柱状分隔体与所述第二柱状分隔体由有机绝缘材料形成,所述有机绝缘材料包括紫外线可固化液态预聚物、光引发剂和表面活性剂。
6.根据权利要求1所述的液晶显示装置,该液晶显示装置还包括第二钝化膜,所述第二钝化膜位于所述薄膜晶体管与所述第一钝化膜之间。
7.根据权利要求6所述的液晶显示装置,该液晶显示装置还包括第三钝化膜,所述第三钝化膜位于所述第一钝化膜上。
8.根据权利要求6或7所述的液晶显示装置,其中,所述第二钝化膜和所述第三钝化膜由无机绝缘材料形成。
9.一种液晶显示装置的制造方法,该方法包括以下步骤:
制备具有滤色器的第一基板;
在面对所述第一基板的第二基板上形成薄膜晶体管;
在包括所述薄膜晶体管的所述第二基板上形成图案材料层;
将软模与包括所述图案材料层的所述第二基板对准,该软模设置有用于形成接触孔的凸起图案和用于形成第一柱状分隔体的凹进图案;
通过使所述软模与所述图案材料层相接触,来形成所述接触孔、第一钝化膜和所述第一柱状分隔体,其中所述凸起图案与所述薄膜晶体管的漏极接触;
将所述软模从所述图案材料层分离开;以及
形成通过所述接触孔连接到所述漏极的像素电极。
10.根据权利要求9所述的方法,其中,所述图案材料层由有机绝缘材料形成,所述有机绝缘材料包括紫外线可固化液态预聚物、光引发剂和表面活性剂。
11.根据权利要求9所述的方法,其中,所述软模由聚二甲基硅氧烷PDMS、聚氨酯或聚酰亚胺中的任一种形成。
12.根据权利要求9所述的方法,该方法还包括通过在所述软模与包括所述图案材料层的第二基板相接触的状态下对所述第二基板施加热或光,来固化所述图案材料层。
13.根据权利要求9所述的方法,该方法还包括在形成所述接触孔、所述第一钝化膜和所述第一柱状分隔体时,形成第二柱状分隔体。
14.根据权利要求13所述的方法,其中,所述第一柱状分隔体具有能与所述第一基板相接触的高度,而所述第二柱状分隔体与所述第一柱状分隔体高度不同。
15.根据权利要求9或13所述的方法,其中,所述软模还设置有用于形成所述第二柱状分隔体的凹进图案。
16.根据权利要求9所述的方法,该方法还包括在所述图案材料层与包括所述薄膜晶体管的基板之间形成第二钝化膜。
17.根据权利要求16所述的方法,该方法还包括在所述第一钝化膜与所述像素电极之间形成第三钝化膜。
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DE102009028241A1 (de) * | 2009-08-05 | 2011-02-10 | Robert Bosch Gmbh | Halbleiteranordnung |
KR20110057981A (ko) * | 2009-11-25 | 2011-06-01 | 삼성전자주식회사 | 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 |
KR101715849B1 (ko) * | 2010-07-02 | 2017-03-14 | 엘지디스플레이 주식회사 | 스위처블 입체 전환 수단의 제조 방법 |
TWI432798B (zh) * | 2011-10-03 | 2014-04-01 | Benq Materials Corp | 彩色濾光片及其製造方法 |
JP5851317B2 (ja) * | 2012-04-10 | 2016-02-03 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置 |
KR101947379B1 (ko) * | 2012-09-27 | 2019-04-25 | 엘지디스플레이 주식회사 | 전기영동 표시소자와 이의 제조방법 |
CN103293776A (zh) * | 2013-05-07 | 2013-09-11 | 北京京东方光电科技有限公司 | 一种阵列基板及其制备方法、显示装置 |
KR102101734B1 (ko) | 2013-12-13 | 2020-04-21 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법 |
US9482905B2 (en) | 2014-06-18 | 2016-11-01 | Apple Inc. | Display with column spacer structures |
CN104317112A (zh) * | 2014-10-28 | 2015-01-28 | 京东方科技集团股份有限公司 | 液晶显示面板及其制备方法、液晶显示装置 |
KR102410039B1 (ko) * | 2015-11-30 | 2022-06-20 | 엘지디스플레이 주식회사 | 표시장치의 화소구조 및 이를 포함한 터치스크린 내장형 표시장치 |
CN107180925B (zh) * | 2017-07-20 | 2019-07-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | 阵列基板的制作方法及显示装置的制作方法 |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW463068B (en) * | 1995-10-12 | 2001-11-11 | Toshiba Corp | Liquid crystal display device |
TWI226470B (en) * | 1998-01-19 | 2005-01-11 | Hitachi Ltd | LCD device |
JP2000180862A (ja) | 1998-12-11 | 2000-06-30 | Ricoh Microelectronics Co Ltd | 液晶表示装置用スペーサ形成方法、液晶表示装置用スペーサ形成装置、及び、液晶表示装置 |
JP3525102B2 (ja) * | 2000-08-10 | 2004-05-10 | シャープ株式会社 | 液晶表示パネルの製造方法 |
JP2002341355A (ja) * | 2001-05-16 | 2002-11-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示装置の製造方法およびアレイ基板ならびに液晶表示装置 |
JP3976544B2 (ja) * | 2001-10-29 | 2007-09-19 | Nec液晶テクノロジー株式会社 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
US7903209B2 (en) * | 2001-11-02 | 2011-03-08 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Reflection-transmission type liquid crystal display device and method for manufacturing the same |
JP2003202589A (ja) * | 2001-12-28 | 2003-07-18 | Fujitsu Display Technologies Corp | 液晶表示装置及びその製造方法 |
TW200411260A (en) * | 2002-09-26 | 2004-07-01 | Samsung Electronics Co Ltd | Liquid crystal display, panel therefor, and manufacturing method thereof |
KR100745415B1 (ko) * | 2002-12-27 | 2007-08-03 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정 표시패널의 데이터 패드부 및 그 제조방법 |
JP4276988B2 (ja) | 2003-09-22 | 2009-06-10 | 大日本印刷株式会社 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
KR101074947B1 (ko) * | 2003-12-27 | 2011-10-18 | 엘지디스플레이 주식회사 | 박막트랜지스터 어레이 기판 및 그 제조방법 |
US7561245B2 (en) * | 2004-02-25 | 2009-07-14 | Lg Display Co., Ltd. | Liquid crystal display device and method of fabricating the same |
KR101086476B1 (ko) * | 2004-04-14 | 2011-11-25 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시패널 및 그 제조방법 |
JP4020919B2 (ja) * | 2005-03-04 | 2007-12-12 | シャープ株式会社 | 反射型表示装置およびその製造方法 |
KR101174771B1 (ko) * | 2005-06-24 | 2012-08-17 | 엘지디스플레이 주식회사 | 소프트 몰드 및 이의 제조방법 |
KR20070001659A (ko) * | 2005-06-29 | 2007-01-04 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 |
KR20070036286A (ko) | 2005-09-29 | 2007-04-03 | 삼성전자주식회사 | 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 |
KR101157966B1 (ko) * | 2005-12-29 | 2012-06-25 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시소자의 제조방법 |
KR101224582B1 (ko) * | 2006-01-16 | 2013-01-22 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정 표시 패널 및 그 제조 방법 |
US7749178B2 (en) | 2006-02-01 | 2010-07-06 | Jimmyjane, Inc. | Inductively chargeable massager |
KR100857521B1 (ko) * | 2006-06-13 | 2008-09-08 | 엘지디스플레이 주식회사 | 박막트랜지스터 제조용 몰드의 제조방법 및 그 제조장비 |
KR101308444B1 (ko) * | 2006-12-04 | 2013-09-16 | 엘지디스플레이 주식회사 | 평판표시소자의 제조장치 및 그 제조방법 |
KR101274048B1 (ko) * | 2007-04-19 | 2013-06-12 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시패널 및 그 제조방법 |
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