JP2002341355A - 液晶表示装置の製造方法およびアレイ基板ならびに液晶表示装置 - Google Patents
液晶表示装置の製造方法およびアレイ基板ならびに液晶表示装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来の球状スペーサ散布方式から、フォトリ
ソ方式で形成する柱状スペーサ方式に置き換えた場合、
工程数を削減できる。 【解決手段】 アレイ基板１１ａのスイッチング能動素
子３の上に平坦化膜を形成し、この平坦化膜５の上面に
画素電極８を形成する構成において、平坦化膜を形成す
るに際して、アレイ基板１１ａ上に感光性樹脂５を形成
する工程と、全透過の柱状スペーサ用パターン２０ａ
と、遮光の画素電極８とスイッチング能動素子３とを導
通させるために形成するコンタクトホール用パターン２
０ｃと、柱状スペーサ５ｂとコンタクトホール７以外の
ハーフトーンのパネル表示領域用パターン２０ｂとを有
するフォトマスク２０を用いて感光性樹脂５を露光現像
する工程とを含む。これにより、１回の露光現像によ
り、所要高さの柱状スペーサ５ｂとコンタクトホール７
がアレイ基板１１ａに一括形成できる。
ソ方式で形成する柱状スペーサ方式に置き換えた場合、
工程数を削減できる。 【解決手段】 アレイ基板１１ａのスイッチング能動素
子３の上に平坦化膜を形成し、この平坦化膜５の上面に
画素電極８を形成する構成において、平坦化膜を形成す
るに際して、アレイ基板１１ａ上に感光性樹脂５を形成
する工程と、全透過の柱状スペーサ用パターン２０ａ
と、遮光の画素電極８とスイッチング能動素子３とを導
通させるために形成するコンタクトホール用パターン２
０ｃと、柱状スペーサ５ｂとコンタクトホール７以外の
ハーフトーンのパネル表示領域用パターン２０ｂとを有
するフォトマスク２０を用いて感光性樹脂５を露光現像
する工程とを含む。これにより、１回の露光現像によ
り、所要高さの柱状スペーサ５ｂとコンタクトホール７
がアレイ基板１１ａに一括形成できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、液晶表示装置の
特性、表示品位、歩留向上を目的として、基板の表面に
柱状スペーサを形成した液晶表示装置の製造方法および
アレイ基板ならびに液晶表示装置に関する。
特性、表示品位、歩留向上を目的として、基板の表面に
柱状スペーサを形成した液晶表示装置の製造方法および
アレイ基板ならびに液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ Ｆ
ｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｅｒ、以下「ＴＦＴ」と称す
る）型の液晶表示装置（以下「液晶パネル」と称する）
の断面概略構成図の一例を、図６に示す。
ｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｅｒ、以下「ＴＦＴ」と称す
る）型の液晶表示装置（以下「液晶パネル」と称する）
の断面概略構成図の一例を、図６に示す。
【０００３】このＴＦＴ型液晶パネル３１ｄは、アレイ
基板１１ｄおよびカラーフィルタ基板１ｄからなってい
る。
基板１１ｄおよびカラーフィルタ基板１ｄからなってい
る。
【０００４】基板１ｄは、ガラス基板２ａ、その上に設
けられた遮光膜４、ＲＧＢの着色膜６Ｒ，６Ｇおよび６
Ｂからなるカラーフィルタとその上の透明電極１０から
構成されている。
けられた遮光膜４、ＲＧＢの着色膜６Ｒ，６Ｇおよび６
Ｂからなるカラーフィルタとその上の透明電極１０から
構成されている。
【０００５】一方アレイ基板１１ｄは、ガラス基板２ｂ
のその上に形成された信号線および走査線からなる能動
素子３とその上に形成された平坦化膜５と能動素子３と
コンタクトホール７により電気的に導通された画素電極
８とから構成されている。
のその上に形成された信号線および走査線からなる能動
素子３とその上に形成された平坦化膜５と能動素子３と
コンタクトホール７により電気的に導通された画素電極
８とから構成されている。
【０００６】基板１ｄおよびアレイ基板１１ｄの相対向
する面には、それぞれ配向膜９ａおよび９ｂが形成され
ている。そして、基板１ｄおよび１１ｄの球状スぺーサ
１５を挟んでできている間隙には、液晶１４が充填され
ており、その周辺部は、シール材１３で固着されてい
る。さらに、液晶パネル３１ｄの用途に応じてパネル表
裏面に偏光板が貼り付けられる。
する面には、それぞれ配向膜９ａおよび９ｂが形成され
ている。そして、基板１ｄおよび１１ｄの球状スぺーサ
１５を挟んでできている間隙には、液晶１４が充填され
ており、その周辺部は、シール材１３で固着されてい
る。さらに、液晶パネル３１ｄの用途に応じてパネル表
裏面に偏光板が貼り付けられる。
【０００７】また、図７に一般的なカラーフィルタオン
アレイ型ＴＦＴ液晶パネルの一例を示す。
アレイ型ＴＦＴ液晶パネルの一例を示す。
【０００８】基板１１ｃは、ガラス基板２ｂのその上に
形成された信号線および走査線からなる能動素子３と、
その上に形成された着色膜６Ｒ，６Ｇ，６Ｂと、さらに
その上に形成された平坦化膜５と、能動素子３とコンタ
クトホール７により電気的に導通された画素電極８とか
ら構成されている。
形成された信号線および走査線からなる能動素子３と、
その上に形成された着色膜６Ｒ，６Ｇ，６Ｂと、さらに
その上に形成された平坦化膜５と、能動素子３とコンタ
クトホール７により電気的に導通された画素電極８とか
ら構成されている。
【０００９】一方アレイ基板１ｃは、ガラス基板２ａの
その上に形成された透明電極１０から構成されている。
その上に形成された透明電極１０から構成されている。
【００１０】基板１ｃおよびカラーフィルタオンアレイ
基板１１ｃの相対向する面には、それぞれ配向膜９ａお
よび９ｂが形成されている。そして、基板１ｃおよび１
１ｃの球状スぺーサ１５を挟んでできている間隙には、
液晶１４が充填されており、その周辺部は、シール材１
３で固着されている。さらに、液晶パネル３１ｃの用途
に応じてパネル表裏面に偏光板が貼り付けられる。
基板１１ｃの相対向する面には、それぞれ配向膜９ａお
よび９ｂが形成されている。そして、基板１ｃおよび１
１ｃの球状スぺーサ１５を挟んでできている間隙には、
液晶１４が充填されており、その周辺部は、シール材１
３で固着されている。さらに、液晶パネル３１ｃの用途
に応じてパネル表裏面に偏光板が貼り付けられる。
【００１１】このような従来のＴＦＴ液晶パネル３１ｄ
および３１ｃにおいては、以下のような課題がある。
および３１ｃにおいては、以下のような課題がある。
【００１２】第一に、アレイ基板とカラーフィルタ基板
間のギャップ精度が、その表示品位を決める大きな要因
となっている。すなわち、パネル面内にギャップばらつ
きがある場合、パネルの表示面の面内むらが生じること
と、パネルギャップが設計値とずれた場合、コントラス
トなどのパネルの表示特性が悪くなるという不具合を生
じる。
間のギャップ精度が、その表示品位を決める大きな要因
となっている。すなわち、パネル面内にギャップばらつ
きがある場合、パネルの表示面の面内むらが生じること
と、パネルギャップが設計値とずれた場合、コントラス
トなどのパネルの表示特性が悪くなるという不具合を生
じる。
【００１３】第二に、アレイ基板とカラーフィルタ基板
間に挟まれた球状スぺーサ１５のうち、画素の遮光膜４
間に点在した球状スぺーサ１５により、パネルに電圧を
かけて黒色表示をさせた場合、球状スぺーサ１５により
光抜けが生じ、黒表示の視認性に不具合感があり、白色
表示に対する黒表示との対比でコントラストが低くな
る。
間に挟まれた球状スぺーサ１５のうち、画素の遮光膜４
間に点在した球状スぺーサ１５により、パネルに電圧を
かけて黒色表示をさせた場合、球状スぺーサ１５により
光抜けが生じ、黒表示の視認性に不具合感があり、白色
表示に対する黒表示との対比でコントラストが低くな
る。
【００１４】第三に、上記のような、パネルを形成する
場合、球状スぺーサ１５を基板上に点在させるには、乾
式または湿式などの方式により基板上に球状スぺーサ１
５の散布が行なわれるが、このスぺーサを散布を行なう
際、球状スぺーサ１５の凝集や異物の混入により、パネ
ル内に点欠陥部が生じる。すなわち、この点欠陥部によ
りパネル工程での歩留に影響を与える。
場合、球状スぺーサ１５を基板上に点在させるには、乾
式または湿式などの方式により基板上に球状スぺーサ１
５の散布が行なわれるが、このスぺーサを散布を行なう
際、球状スぺーサ１５の凝集や異物の混入により、パネ
ル内に点欠陥部が生じる。すなわち、この点欠陥部によ
りパネル工程での歩留に影響を与える。
【００１５】以上のような理由により、近年では、従来
の散布方式による球状スぺーサ１５に代わる基板上に予
め柱状スぺーサを形成する方式が提案されている。
の散布方式による球状スぺーサ１５に代わる基板上に予
め柱状スぺーサを形成する方式が提案されている。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の球状ス
ぺーサ散布方式から、上記のようなフォトリソ方式で形
成する柱状スぺーサ方式に置き換えた場合、方式の差に
より、コストの上昇につながるものである。
ぺーサ散布方式から、上記のようなフォトリソ方式で形
成する柱状スぺーサ方式に置き換えた場合、方式の差に
より、コストの上昇につながるものである。
【００１７】すなわち、従来のスぺーサ散布は、パネル
形成プロセスにて、乾式方式もしくは湿式方式で基板上
に球状のスぺーサを散布するのに対し、今回の柱状スぺ
ーサ形成は、レジスト塗布、露光、現像、ポストベーク
と一般的なフォトリソ工程が、１回増えることなるた
め、材料費、設備投資、工数の点でコストの上昇につな
がる。
形成プロセスにて、乾式方式もしくは湿式方式で基板上
に球状のスぺーサを散布するのに対し、今回の柱状スぺ
ーサ形成は、レジスト塗布、露光、現像、ポストベーク
と一般的なフォトリソ工程が、１回増えることなるた
め、材料費、設備投資、工数の点でコストの上昇につな
がる。
【００１８】また、アレイ基板上への、柱状スぺーサ形
成は、同工程の前の平坦化膜にコンタクトホールを形成
する工程と同様なフォトリソ法を繰り返すため、工程数
が増加する。
成は、同工程の前の平坦化膜にコンタクトホールを形成
する工程と同様なフォトリソ法を繰り返すため、工程数
が増加する。
【００１９】したがって、この発明の目的は、従来の球
状スペーサ散布方式から、フォトリソ方式で形成する柱
状スペーサ方式に置き換えた場合、工程数を削減できる
液晶表示装置の製造方法およびアレイ基板ならびに液晶
表示装置を提供することである。
状スペーサ散布方式から、フォトリソ方式で形成する柱
状スペーサ方式に置き換えた場合、工程数を削減できる
液晶表示装置の製造方法およびアレイ基板ならびに液晶
表示装置を提供することである。
【００２０】
【課題を解決するための手段】このような課題を解決す
るためこの発明の請求項１記載の液晶表示装置の製造方
法は、画素電極および前記画素電極を駆動するスイッチ
ング能動素子を有するアレイ基板を作製する工程と、前
記画素電極の対向電極を有するカラーフィルタ基板を作
製する工程と、前記アレイ基板に柱状スペーサを形成す
る工程と、前記アレイ基板と前記カラーフィルタ基板と
の間隙に液晶を封入する工程とを含み、前記アレイ基板
の前記スイッチング能動素子の上に平坦化膜を形成し、
この平坦化膜の上面に前記画素電極を形成する液晶表示
装置の製造方法であって、前記平坦化膜を形成する際
に、前記アレイ基板上に感光性樹脂を形成する工程と、
透過率が異なる前記柱状スペーサ用パターンと、前記画
素電極と前記スイッチング能動素子とを導通させるため
に形成するコンタクトホール用パターンと、前記柱状ス
ペーサと前記コンタクトホール以外のパネル表示領域用
パターンとを有し各々のパターンの透過率が異なるフォ
トマスクを用いて前記感光性樹脂を露光現像する工程と
を含む。
るためこの発明の請求項１記載の液晶表示装置の製造方
法は、画素電極および前記画素電極を駆動するスイッチ
ング能動素子を有するアレイ基板を作製する工程と、前
記画素電極の対向電極を有するカラーフィルタ基板を作
製する工程と、前記アレイ基板に柱状スペーサを形成す
る工程と、前記アレイ基板と前記カラーフィルタ基板と
の間隙に液晶を封入する工程とを含み、前記アレイ基板
の前記スイッチング能動素子の上に平坦化膜を形成し、
この平坦化膜の上面に前記画素電極を形成する液晶表示
装置の製造方法であって、前記平坦化膜を形成する際
に、前記アレイ基板上に感光性樹脂を形成する工程と、
透過率が異なる前記柱状スペーサ用パターンと、前記画
素電極と前記スイッチング能動素子とを導通させるため
に形成するコンタクトホール用パターンと、前記柱状ス
ペーサと前記コンタクトホール以外のパネル表示領域用
パターンとを有し各々のパターンの透過率が異なるフォ
トマスクを用いて前記感光性樹脂を露光現像する工程と
を含む。
【００２１】このように、平坦化膜を形成する際に、ア
レイ基板上に感光性樹脂を形成する工程と、透過率が異
なる柱状スペーサ用パターンと、画素電極とスイッチン
グ能動素子とを導通させるために形成するコンタクトホ
ール用パターンと、柱状スペーサとコンタクトホール以
外のパネル表示領域用パターンとを有し各々のパターン
の透過率が異なるフォトマスクを用いて感光性樹脂を露
光現像する工程とを含むので、１回の露光現像により、
所要高さの柱状スペーサとコンタクトホールをアレイ基
板に一括形成できる。
レイ基板上に感光性樹脂を形成する工程と、透過率が異
なる柱状スペーサ用パターンと、画素電極とスイッチン
グ能動素子とを導通させるために形成するコンタクトホ
ール用パターンと、柱状スペーサとコンタクトホール以
外のパネル表示領域用パターンとを有し各々のパターン
の透過率が異なるフォトマスクを用いて感光性樹脂を露
光現像する工程とを含むので、１回の露光現像により、
所要高さの柱状スペーサとコンタクトホールをアレイ基
板に一括形成できる。
【００２２】請求項２記載の液晶表示装置の製造方法
は、画素電極および前記画素電極を駆動するスイッチン
グ能動素子を有するカラーフィルタオンアレイ基板を作
製する工程と、前記画素電極の対向電極を有する対向基
板を作製する工程と、前記カラーフィルタオンアレイ基
板に柱状スペーサを形成する工程と、前記カラーフィル
タオンアレイ基板と前記対向基板との間隙に液晶を封入
する工程とを含み、前記カラーフィルタオンアレイ基板
の前記スイッチング能動素子の上に着色膜を含む平坦化
膜層を形成し、この平坦化膜層の上に前記画素電極を形
成する液晶表示装置の製造方法であって、前記平坦化膜
層を形成する際に、前記アレイ基板上に感光性樹脂を形
成する工程と、透過率が異なる前記柱状スペーサ用パタ
ーンと、前記画素電極と前記スイッチング能動素子とを
導通させるために形成するコンタクトホール用パターン
と、前記柱状スペーサと前記コンタクトホール以外のパ
ネル表示領域用パターンとを有し各々のパターンの透過
率が異なるフォトマスクを用いて前記感光性樹脂を露光
現像する工程とを含む。
は、画素電極および前記画素電極を駆動するスイッチン
グ能動素子を有するカラーフィルタオンアレイ基板を作
製する工程と、前記画素電極の対向電極を有する対向基
板を作製する工程と、前記カラーフィルタオンアレイ基
板に柱状スペーサを形成する工程と、前記カラーフィル
タオンアレイ基板と前記対向基板との間隙に液晶を封入
する工程とを含み、前記カラーフィルタオンアレイ基板
の前記スイッチング能動素子の上に着色膜を含む平坦化
膜層を形成し、この平坦化膜層の上に前記画素電極を形
成する液晶表示装置の製造方法であって、前記平坦化膜
層を形成する際に、前記アレイ基板上に感光性樹脂を形
成する工程と、透過率が異なる前記柱状スペーサ用パタ
ーンと、前記画素電極と前記スイッチング能動素子とを
導通させるために形成するコンタクトホール用パターン
と、前記柱状スペーサと前記コンタクトホール以外のパ
ネル表示領域用パターンとを有し各々のパターンの透過
率が異なるフォトマスクを用いて前記感光性樹脂を露光
現像する工程とを含む。
【００２３】このように、平坦化膜層を形成する際に、
アレイ基板上に感光性樹脂を形成する工程と、透過率が
異なる柱状スペーサ用パターンと、画素電極とスイッチ
ング能動素子とを導通させるために形成するコンタクト
ホール用パターンと、柱状スペーサとコンタクトホール
以外のパネル表示領域用パターンとを有し各々のパター
ンの透過率が異なるフォトマスクを用いて感光性樹脂を
露光現像する工程とを含むので、１回の露光現像によ
り、所要高さの柱状スペーサとコンタクトホールをカラ
ーフィルタオンアレイ基板に一括形成できる。
アレイ基板上に感光性樹脂を形成する工程と、透過率が
異なる柱状スペーサ用パターンと、画素電極とスイッチ
ング能動素子とを導通させるために形成するコンタクト
ホール用パターンと、柱状スペーサとコンタクトホール
以外のパネル表示領域用パターンとを有し各々のパター
ンの透過率が異なるフォトマスクを用いて感光性樹脂を
露光現像する工程とを含むので、１回の露光現像によ
り、所要高さの柱状スペーサとコンタクトホールをカラ
ーフィルタオンアレイ基板に一括形成できる。
【００２４】請求項３記載のアレイ基板は、画素電極お
よび前記画素電極を駆動するスイッチング能動素子を有
し、スイッチング能動素子の上に平坦化膜を形成し、こ
の平坦化膜の上面に前記画素電極を形成し、前記スイッ
チング能動素子と前記画素電極を電気的に導通するため
のコンタクトホールを前記平坦化膜に形成するととも
に、セルギャップを形成する柱状スペーサを前記平坦化
膜と一体に形成した。
よび前記画素電極を駆動するスイッチング能動素子を有
し、スイッチング能動素子の上に平坦化膜を形成し、こ
の平坦化膜の上面に前記画素電極を形成し、前記スイッ
チング能動素子と前記画素電極を電気的に導通するため
のコンタクトホールを前記平坦化膜に形成するととも
に、セルギャップを形成する柱状スペーサを前記平坦化
膜と一体に形成した。
【００２５】このように、スイッチング能動素子の上に
平坦化膜を形成し、この平坦化膜の上面に画素電極を形
成し、スイッチング能動素子と画素電極を電気的に導通
するためのコンタクトホールを平坦化膜に形成するとと
もに、セルギャップを形成する柱状スペーサを平坦化膜
と一体に形成したので、柱状スペーサ用パターンと、コ
ンタクトホール用パターンと、それ以外のパネル表示領
域用パターンとを有するフォトマスクを用いて平坦化膜
となる感光性樹脂を露光現像することにより、同一工程
で柱状スペーサとコンタクトホールを形成できる。
平坦化膜を形成し、この平坦化膜の上面に画素電極を形
成し、スイッチング能動素子と画素電極を電気的に導通
するためのコンタクトホールを平坦化膜に形成するとと
もに、セルギャップを形成する柱状スペーサを平坦化膜
と一体に形成したので、柱状スペーサ用パターンと、コ
ンタクトホール用パターンと、それ以外のパネル表示領
域用パターンとを有するフォトマスクを用いて平坦化膜
となる感光性樹脂を露光現像することにより、同一工程
で柱状スペーサとコンタクトホールを形成できる。
【００２６】請求項４記載のアレイ基板は、画素電極お
よび前記画素電極を駆動するスイッチング能動素子を有
し、スイッチング能動素子の上に着色膜を含む平坦化膜
層を形成し、この平坦化膜層の上面に前記画素電極を形
成し、前記スイッチング能動素子と前記画素電極を電気
的に導通するためのコンタクトホールを前記平坦化膜層
に形成するとともに、セルギャップを形成する柱状スペ
ーサを前記平坦化膜層と一体に形成した。
よび前記画素電極を駆動するスイッチング能動素子を有
し、スイッチング能動素子の上に着色膜を含む平坦化膜
層を形成し、この平坦化膜層の上面に前記画素電極を形
成し、前記スイッチング能動素子と前記画素電極を電気
的に導通するためのコンタクトホールを前記平坦化膜層
に形成するとともに、セルギャップを形成する柱状スペ
ーサを前記平坦化膜層と一体に形成した。
【００２７】このように、スイッチング能動素子の上に
着色膜を含む平坦化膜層を形成し、この平坦化膜層の上
面に画素電極を形成し、スイッチング能動素子と画素電
極を電気的に導通するためのコンタクトホールを平坦化
膜層に形成するとともに、セルギャップを形成する柱状
スペーサを平坦化膜層と一体に形成したので、柱状スペ
ーサ用パターンと、コンタクトホール用パターンと、そ
れ以外のパネル表示領域用パターンとを有するフォトマ
スクを用いて平坦化膜層となる感光性樹脂を露光現像す
ることにより、同一工程で柱状スペーサとコンタクトホ
ールを形成できる。
着色膜を含む平坦化膜層を形成し、この平坦化膜層の上
面に画素電極を形成し、スイッチング能動素子と画素電
極を電気的に導通するためのコンタクトホールを平坦化
膜層に形成するとともに、セルギャップを形成する柱状
スペーサを平坦化膜層と一体に形成したので、柱状スペ
ーサ用パターンと、コンタクトホール用パターンと、そ
れ以外のパネル表示領域用パターンとを有するフォトマ
スクを用いて平坦化膜層となる感光性樹脂を露光現像す
ることにより、同一工程で柱状スペーサとコンタクトホ
ールを形成できる。
【００２８】請求項５記載の液晶表示装置は、請求項３
記載のアレイ基板と、画素電極の対向電極を有するカラ
ーフィルタ基板とを備えた。このように、請求項３記載
のアレイ基板と、画素電極の対向電極を有するカラーフ
ィルタ基板とを備えたので、請求項３と同様に同一工程
で柱状スペーサとコンタクトホールを形成できる。
記載のアレイ基板と、画素電極の対向電極を有するカラ
ーフィルタ基板とを備えた。このように、請求項３記載
のアレイ基板と、画素電極の対向電極を有するカラーフ
ィルタ基板とを備えたので、請求項３と同様に同一工程
で柱状スペーサとコンタクトホールを形成できる。
【００２９】請求項６記載の液晶表示装置は、請求項４
記載のアレイ基板と、画素電極の対向電極を有する対向
基板とを備えた。このように、請求項４記載のアレイ基
板と、画素電極の対向電極を有する対向基板とを備えた
ので、請求項４と同様に同一工程で柱状スペーサとコン
タクトホールを形成できる。
記載のアレイ基板と、画素電極の対向電極を有する対向
基板とを備えた。このように、請求項４記載のアレイ基
板と、画素電極の対向電極を有する対向基板とを備えた
ので、請求項４と同様に同一工程で柱状スペーサとコン
タクトホールを形成できる。
【００３０】
【発明の実施の形態】この発明の第１の実施の形態を図
１および図２に基づいて説明する。図１はこの発明の第
１の実施の形態の液晶表示装置に用いる柱状スぺーサが
形成され、さらにコンタクトホールによりスイッチング
能動素子と画素電極が導通されたアレイ基板の製造方法
の工程毎の断面図である。
１および図２に基づいて説明する。図１はこの発明の第
１の実施の形態の液晶表示装置に用いる柱状スぺーサが
形成され、さらにコンタクトホールによりスイッチング
能動素子と画素電極が導通されたアレイ基板の製造方法
の工程毎の断面図である。
【００３１】この液晶表示装置の製造方法は、画素電極
および画素電極を駆動するスイッチング能動素子を有す
るアレイ基板を作製する工程と、画素電極の対向電極を
有するカラーフィルタ基板を作製する工程と、アレイ基
板に柱状スペーサを形成する工程と、アレイ基板とカラ
ーフィルタ基板との間隙に液晶を封入する工程とを含
む。アレイ基板の形成に際しては、まず、図１（ａ）に
示すように、ガラス基板２ａ上に、スイッチング能動素
子３を、一般的な半導体薄膜成膜と、絶縁膜成膜と、フ
ォトリソ法によるエッチングとを繰り返すことにより形
成する。
および画素電極を駆動するスイッチング能動素子を有す
るアレイ基板を作製する工程と、画素電極の対向電極を
有するカラーフィルタ基板を作製する工程と、アレイ基
板に柱状スペーサを形成する工程と、アレイ基板とカラ
ーフィルタ基板との間隙に液晶を封入する工程とを含
む。アレイ基板の形成に際しては、まず、図１（ａ）に
示すように、ガラス基板２ａ上に、スイッチング能動素
子３を、一般的な半導体薄膜成膜と、絶縁膜成膜と、フ
ォトリソ法によるエッチングとを繰り返すことにより形
成する。
【００３２】次に、図１（ｂ）に示すように、上記基板
上にネガ型の感光性樹脂膜５を形成する。この時の感光
性樹脂膜５の膜厚は、液晶パネルのギャップ厚とガラス
基板上に残す平坦化膜の膜厚を予め設計し決定する。
上にネガ型の感光性樹脂膜５を形成する。この時の感光
性樹脂膜５の膜厚は、液晶パネルのギャップ厚とガラス
基板上に残す平坦化膜の膜厚を予め設計し決定する。
【００３３】この後、図１（ｃ）に示すように、フォト
マスク２０を用いて紫外線１８により露光する。この時
に用いるフォトマスク２０は、柱状スペーサ５ｂを形成
する部分は、全透過２０ａにし、コンタクトホール７を
形成する部分は、遮光２０ｃにし、それ以外のパネル表
示領域は、ハーフトーン２０ｂとする。
マスク２０を用いて紫外線１８により露光する。この時
に用いるフォトマスク２０は、柱状スペーサ５ｂを形成
する部分は、全透過２０ａにし、コンタクトホール７を
形成する部分は、遮光２０ｃにし、それ以外のパネル表
示領域は、ハーフトーン２０ｂとする。
【００３４】このハーフトーンの領域２０ｂのパターン
形状は、図２（ａ）〜（ｆ）に示すように、０．３から
１μｍ程度のスリットまたはホールの形状を用いる。ま
た、密度は所望露光量から決定する。また、この時の露
光量は、柱状スぺーサ５ｂの高さ、感光性樹脂膜５の感
度より決定する。
形状は、図２（ａ）〜（ｆ）に示すように、０．３から
１μｍ程度のスリットまたはホールの形状を用いる。ま
た、密度は所望露光量から決定する。また、この時の露
光量は、柱状スぺーサ５ｂの高さ、感光性樹脂膜５の感
度より決定する。
【００３５】この後、現像を行うことにより、所望の高
さの柱状スぺーサ５ｂを形成することができるだけでな
く、コンタクトホール７を形成することができる。
さの柱状スぺーサ５ｂを形成することができるだけでな
く、コンタクトホール７を形成することができる。
【００３６】この後、図１（ｅ）の表面にＩＴＯを、ス
パッタ法により形成し、再度に、従来のフォトリソ法に
より、画素電極８を形成する。また、ＩＴＯの膜厚は、
５００×１０-10 ｍから１５００×１０-10 ｍとする。
この工程により、スイッチング能動素子３と画素電極８
とを、電気的に導通できる。
パッタ法により形成し、再度に、従来のフォトリソ法に
より、画素電極８を形成する。また、ＩＴＯの膜厚は、
５００×１０-10 ｍから１５００×１０-10 ｍとする。
この工程により、スイッチング能動素子３と画素電極８
とを、電気的に導通できる。
【００３７】以上の工程により、平坦化膜５ａと柱状ス
ぺーサ５ｂの形成を一括に形成できるため、工数を増や
すことなく、柱状スぺーサを形成できる。
ぺーサ５ｂの形成を一括に形成できるため、工数を増や
すことなく、柱状スぺーサを形成できる。
【００３８】以下、この発明の第１の実施の形態に基づ
くアレイ基板および液晶表示装置について図３を用いて
説明する。図３はこの発明の第１の実施の形態の液晶表
示装置の断面図である。
くアレイ基板および液晶表示装置について図３を用いて
説明する。図３はこの発明の第１の実施の形態の液晶表
示装置の断面図である。
【００３９】図３の基板１１ａは、上記の製造方法で形
成した柱状スぺーサ５ｂ付アレイ基板であり、画素電極
８および画素電極８を駆動するスイッチング能動素子３
を有する。また、１ａのカラーフィルタ基板は、ガラス
基板２ａ上に設けられる遮光膜４、ＲＧＢの着色膜６
Ｒ，６Ｇおよび６Ｂからなるカラーフィルタとその上の
透明電極１０から構成されている。
成した柱状スぺーサ５ｂ付アレイ基板であり、画素電極
８および画素電極８を駆動するスイッチング能動素子３
を有する。また、１ａのカラーフィルタ基板は、ガラス
基板２ａ上に設けられる遮光膜４、ＲＧＢの着色膜６
Ｒ，６Ｇおよび６Ｂからなるカラーフィルタとその上の
透明電極１０から構成されている。
【００４０】また、アレイ基板１１ａのスイッチング能
動素子３の上に平坦化膜５ａを形成し、この平坦化膜５
ａの上面に画素電極８を形成し、スイッチング能動素子
３と画素電極８を電気的に導通するためのコンタクトホ
ール７を平坦化膜５ａに形成するとともに、柱状スペー
サ５ｂを平坦化膜５ａと一体に形成している。
動素子３の上に平坦化膜５ａを形成し、この平坦化膜５
ａの上面に画素電極８を形成し、スイッチング能動素子
３と画素電極８を電気的に導通するためのコンタクトホ
ール７を平坦化膜５ａに形成するとともに、柱状スペー
サ５ｂを平坦化膜５ａと一体に形成している。
【００４１】次に、基板１ａおよびアレイ基板１１ａの
相対向する面には、それぞれ配向膜９ａおよび９ｂを形
成し、基板１ａおよび１１ａの柱状スぺーサ５ｂを挟ん
でできている間隙には、液晶１４が充填されており、そ
の周辺部は、シール材１３で固着し、さらに、液晶パネ
ル３１ａの用途に応じてパネル表裏面に偏光板を貼り付
ける。
相対向する面には、それぞれ配向膜９ａおよび９ｂを形
成し、基板１ａおよび１１ａの柱状スぺーサ５ｂを挟ん
でできている間隙には、液晶１４が充填されており、そ
の周辺部は、シール材１３で固着し、さらに、液晶パネ
ル３１ａの用途に応じてパネル表裏面に偏光板を貼り付
ける。
【００４２】この発明の第２の実施の形態を図４および
図５に基づいて説明する。図４はこの発明の第２の実施
の形態の液晶表示装置に用いる柱状スぺーサが形成さ
れ、され、さらにコンタクトホールによりスイッチング
能動素子と画素電極が導通されたカラーフィルタオンア
レイ基板の製造方法の工程毎の断面図である。
図５に基づいて説明する。図４はこの発明の第２の実施
の形態の液晶表示装置に用いる柱状スぺーサが形成さ
れ、され、さらにコンタクトホールによりスイッチング
能動素子と画素電極が導通されたカラーフィルタオンア
レイ基板の製造方法の工程毎の断面図である。
【００４３】この液晶示装置の製造方法は、画素電極お
よび画素電極を駆動するスイッチング能動素子を有する
カラーフィルタオンアレイ基板を作製する工程と、画素
電極の対向電極を有する対向基板を作製する工程と、カ
ラーフィルタオンアレイ基板に柱状スペーサを形成する
工程と、カラーフィルタオンアレイ基板と対向基板との
間隙に液晶を封入する工程とを含む。カラーフィルタが
形成されたアレイ基板の形成に際しては、まず、図４
（ａ）に示すように、ガラス基板２ａ上に、スイッチン
グ能動素子３を、一般的な半導体薄膜成膜と、絶縁膜成
膜と、フォトリソ法によるエッチングとを繰り返すこと
により形成する。この後、スイッチング能動素子３の上
に着色膜６を形成する。着色膜６にはコンタクトホール
を形成しておく。
よび画素電極を駆動するスイッチング能動素子を有する
カラーフィルタオンアレイ基板を作製する工程と、画素
電極の対向電極を有する対向基板を作製する工程と、カ
ラーフィルタオンアレイ基板に柱状スペーサを形成する
工程と、カラーフィルタオンアレイ基板と対向基板との
間隙に液晶を封入する工程とを含む。カラーフィルタが
形成されたアレイ基板の形成に際しては、まず、図４
（ａ）に示すように、ガラス基板２ａ上に、スイッチン
グ能動素子３を、一般的な半導体薄膜成膜と、絶縁膜成
膜と、フォトリソ法によるエッチングとを繰り返すこと
により形成する。この後、スイッチング能動素子３の上
に着色膜６を形成する。着色膜６にはコンタクトホール
を形成しておく。
【００４４】次に、図４（ｂ）に示すように、上記基板
上にネガ型の感光性樹脂膜５を形成する。この時の感光
性樹脂膜５の膜厚は、液晶パネルのギャップ厚とカラー
フィルタ膜上に残す平坦化膜の膜厚を予め設計し決定す
る。
上にネガ型の感光性樹脂膜５を形成する。この時の感光
性樹脂膜５の膜厚は、液晶パネルのギャップ厚とカラー
フィルタ膜上に残す平坦化膜の膜厚を予め設計し決定す
る。
【００４５】この後、図４（ｃ）に示すように、フォト
マスク２０を用いて紫外線１８により露光する。この時
に用いるフォトマスク２０は、柱状スペーサ５ｂを形成
する部分は、全透過２０ａにし、コンタクトホール７を
形成する部分は、遮光２０ｃにし、それ以外のパネル表
示領域は、ハーフトーン２０ｂとする。
マスク２０を用いて紫外線１８により露光する。この時
に用いるフォトマスク２０は、柱状スペーサ５ｂを形成
する部分は、全透過２０ａにし、コンタクトホール７を
形成する部分は、遮光２０ｃにし、それ以外のパネル表
示領域は、ハーフトーン２０ｂとする。
【００４６】このハーフトーンの領域２０ｂのパターン
形状は、第１の実施の形態の図２（ａ）〜（ｆ）と同様
に、０．３から１μｍ程度のスリットまたはホールの形
状を用いる。また、密度は所望露光量から決定する。ま
た、この時の露光量は、柱状スぺーサ５ｂの高さ、感光
性樹脂膜５の感度より決定する。
形状は、第１の実施の形態の図２（ａ）〜（ｆ）と同様
に、０．３から１μｍ程度のスリットまたはホールの形
状を用いる。また、密度は所望露光量から決定する。ま
た、この時の露光量は、柱状スぺーサ５ｂの高さ、感光
性樹脂膜５の感度より決定する。
【００４７】この後、現像を行うことにより、所望の高
さの柱状スぺーサ５ｂを形成することができるだけでな
く、着色膜６のコンタクトホールの位置にコンタクトホ
ール７を形成することができる。
さの柱状スぺーサ５ｂを形成することができるだけでな
く、着色膜６のコンタクトホールの位置にコンタクトホ
ール７を形成することができる。
【００４８】この後、図４（ｅ）の表面にＩＴＯを、ス
パッタ法により形成し、再度に、従来のフォトリソ法に
より、画素電極８を形成する。また、ＩＴＯの膜厚は、
５００×１０-10 ｍから１５００×１０-10 ｍとする。
この工程により、スイッチング能動素子３と画素電極８
とを、電気的に導通できる。
パッタ法により形成し、再度に、従来のフォトリソ法に
より、画素電極８を形成する。また、ＩＴＯの膜厚は、
５００×１０-10 ｍから１５００×１０-10 ｍとする。
この工程により、スイッチング能動素子３と画素電極８
とを、電気的に導通できる。
【００４９】以上の工程により、平坦化膜５ａと柱状ス
ぺーサ５ｂの形成を一括に形成できるため、工数を増や
すことなく、柱状スぺーサを形成できる。
ぺーサ５ｂの形成を一括に形成できるため、工数を増や
すことなく、柱状スぺーサを形成できる。
【００５０】以下、この発明の第２の実施の形態に基づ
くアレイ基板および液晶表示装置について図５を用いて
説明する。図５はこの発明の第２の実施の形態の液晶表
示装置の断面図である。
くアレイ基板および液晶表示装置について図５を用いて
説明する。図５はこの発明の第２の実施の形態の液晶表
示装置の断面図である。
【００５１】図５の基板１１ｂは、上記の製造方法で形
成した柱状スぺーサ５ｂ付カラーフィルタオンアレイ基
板であり、画素電極８および画素電極８を駆動するスイ
ッチング能動素子３を有し、その上に遮光膜４、ＲＧＢ
の着色膜６Ｒ，６Ｇおよび６Ｂからなるカラーフィルタ
を有する。また、１ｂの対向基板は、ガラス基板２ａ上
に設けられる透明電極１０から構成されている。
成した柱状スぺーサ５ｂ付カラーフィルタオンアレイ基
板であり、画素電極８および画素電極８を駆動するスイ
ッチング能動素子３を有し、その上に遮光膜４、ＲＧＢ
の着色膜６Ｒ，６Ｇおよび６Ｂからなるカラーフィルタ
を有する。また、１ｂの対向基板は、ガラス基板２ａ上
に設けられる透明電極１０から構成されている。
【００５２】また、カラーフィルタオンアレイ基板１１
ｂのスイッチング能動素子３の上に上記の着色膜６を含
む平坦化膜層を形成し、この平坦化膜層の上面に画素電
極８を形成し、スイッチング能動素子３と画素電極８を
電気的に導通するためのコンタクトホール７を平坦化膜
層に形成するとともに、柱状スペーサ５ｂを平坦化膜層
と一体に形成している。この場合、平坦化膜層は着色膜
６と平坦化膜５ａとからなる。
ｂのスイッチング能動素子３の上に上記の着色膜６を含
む平坦化膜層を形成し、この平坦化膜層の上面に画素電
極８を形成し、スイッチング能動素子３と画素電極８を
電気的に導通するためのコンタクトホール７を平坦化膜
層に形成するとともに、柱状スペーサ５ｂを平坦化膜層
と一体に形成している。この場合、平坦化膜層は着色膜
６と平坦化膜５ａとからなる。
【００５３】次に、基板１ｂおよびアレイ基板１１ｂの
相対向する面には、それぞれ配向膜９ａおよび９ｂを形
成し、基板１ｂおよび１１ｂの柱状スペーサ５ｂを挟ん
でできている間隙には、液晶１４が充填されており、そ
の周辺部は、シール材１３で固着し、さらに、液晶パネ
ル３１ｂの用途に応じてパネル表裏面に偏光板を貼り付
ける。
相対向する面には、それぞれ配向膜９ａおよび９ｂを形
成し、基板１ｂおよび１１ｂの柱状スペーサ５ｂを挟ん
でできている間隙には、液晶１４が充填されており、そ
の周辺部は、シール材１３で固着し、さらに、液晶パネ
ル３１ｂの用途に応じてパネル表裏面に偏光板を貼り付
ける。
【００５４】なお、平坦化膜層は着色膜６だけで構成す
ることも可能である。また、フォトマスクは、上記のよ
うに柱状スペーサ用パターンとコンタクトホール用パタ
ーンとそれ以外のパネル表示領域用パターンとを有し各
々のパターンの透過率が異なるが、ポジ型の感光性樹脂
膜を用いた場合はフォトマスクの全透過の位置と遮光の
位置を逆にすることで同様の効果が得られる。
ることも可能である。また、フォトマスクは、上記のよ
うに柱状スペーサ用パターンとコンタクトホール用パタ
ーンとそれ以外のパネル表示領域用パターンとを有し各
々のパターンの透過率が異なるが、ポジ型の感光性樹脂
膜を用いた場合はフォトマスクの全透過の位置と遮光の
位置を逆にすることで同様の効果が得られる。
【００５５】
【発明の効果】この発明の請求項１記載の液晶表示装置
の製造方法によれば、平坦化膜を形成する際に、アレイ
基板上に感光性樹脂を形成する工程と、透過率が異なる
柱状スペーサ用パターンと、画素電極とスイッチング能
動素子とを導通させるために形成するコンタクトホール
用パターンと、柱状スペーサとコンタクトホール以外の
パネル表示領域用パターンとを有し各々のパターンの透
過率が異なるフォトマスクを用いて感光性樹脂を露光現
像する工程とを含むので、１回の露光現像により、所要
高さの柱状スペーサとコンタクトホールをアレイ基板に
一括形成できる。このため、従来の平坦化膜付基板と同
様のプロセスでコストの上昇を招くことなく実現でき
る。
の製造方法によれば、平坦化膜を形成する際に、アレイ
基板上に感光性樹脂を形成する工程と、透過率が異なる
柱状スペーサ用パターンと、画素電極とスイッチング能
動素子とを導通させるために形成するコンタクトホール
用パターンと、柱状スペーサとコンタクトホール以外の
パネル表示領域用パターンとを有し各々のパターンの透
過率が異なるフォトマスクを用いて感光性樹脂を露光現
像する工程とを含むので、１回の露光現像により、所要
高さの柱状スペーサとコンタクトホールをアレイ基板に
一括形成できる。このため、従来の平坦化膜付基板と同
様のプロセスでコストの上昇を招くことなく実現でき
る。
【００５６】この発明の請求項２記載の液晶表示装置の
製造方法によれば、平坦化膜層を形成する際に、アレイ
基板上に感光性樹脂を形成する工程と、透過率が異なる
柱状スペーサ用パターンと、画素電極とスイッチング能
動素子とを導通させるために形成するコンタクトホール
用パターンと、柱状スペーサとコンタクトホール以外の
パネル表示領域用パターンとを有し各々のパターンの透
過率が異なるフォトマスクを用いて感光性樹脂を露光現
像する工程とを含むので、１回の露光現像により、所要
高さの柱状スペーサとコンタクトホールをカラーフィル
タオンアレイ基板に一括形成できる。このため、従来の
平坦化膜付基板と同様のプロセスでコストの上昇を招く
ことなく実現できる。
製造方法によれば、平坦化膜層を形成する際に、アレイ
基板上に感光性樹脂を形成する工程と、透過率が異なる
柱状スペーサ用パターンと、画素電極とスイッチング能
動素子とを導通させるために形成するコンタクトホール
用パターンと、柱状スペーサとコンタクトホール以外の
パネル表示領域用パターンとを有し各々のパターンの透
過率が異なるフォトマスクを用いて感光性樹脂を露光現
像する工程とを含むので、１回の露光現像により、所要
高さの柱状スペーサとコンタクトホールをカラーフィル
タオンアレイ基板に一括形成できる。このため、従来の
平坦化膜付基板と同様のプロセスでコストの上昇を招く
ことなく実現できる。
【００５７】この発明の請求項３記載のアレイ基板によ
れば、スイッチング能動素子の上に平坦化膜を形成し、
この平坦化膜の上面に画素電極を形成し、スイッチング
能動素子と画素電極を電気的に導通するためのコンタク
トホールを平坦化膜に形成するとともに、セルギャップ
を形成する柱状スペーサを平坦化膜と一体に形成したの
で、柱状スペーサ用パターンと、コンタクトホール用パ
ターンと、それ以外のパネル表示領域用パターンとを有
するフォトマスクを用いて平坦化膜となる感光性樹脂を
露光現像することにより、同一工程で柱状スペーサとコ
ンタクトホールを形成できる。
れば、スイッチング能動素子の上に平坦化膜を形成し、
この平坦化膜の上面に画素電極を形成し、スイッチング
能動素子と画素電極を電気的に導通するためのコンタク
トホールを平坦化膜に形成するとともに、セルギャップ
を形成する柱状スペーサを平坦化膜と一体に形成したの
で、柱状スペーサ用パターンと、コンタクトホール用パ
ターンと、それ以外のパネル表示領域用パターンとを有
するフォトマスクを用いて平坦化膜となる感光性樹脂を
露光現像することにより、同一工程で柱状スペーサとコ
ンタクトホールを形成できる。
【００５８】この発明の請求項４記載のアレイ基板によ
れば、スイッチング能動素子の上に着色膜を含む平坦化
膜層を形成し、この平坦化膜層の上面に画素電極を形成
し、スイッチング能動素子と画素電極を電気的に導通す
るためのコンタクトホールを平坦化膜層に形成するとと
もに、セルギャップを形成する柱状スペーサを平坦化膜
層と一体に形成したので、柱状スペーサ用パターンと、
コンタクトホール用パターンと、それ以外のパネル表示
領域用パターンとを有するフォトマスクを用いて平坦化
膜層となる感光性樹脂を露光現像することにより、同一
工程で柱状スペーサとコンタクトホールを形成できる。
れば、スイッチング能動素子の上に着色膜を含む平坦化
膜層を形成し、この平坦化膜層の上面に画素電極を形成
し、スイッチング能動素子と画素電極を電気的に導通す
るためのコンタクトホールを平坦化膜層に形成するとと
もに、セルギャップを形成する柱状スペーサを平坦化膜
層と一体に形成したので、柱状スペーサ用パターンと、
コンタクトホール用パターンと、それ以外のパネル表示
領域用パターンとを有するフォトマスクを用いて平坦化
膜層となる感光性樹脂を露光現像することにより、同一
工程で柱状スペーサとコンタクトホールを形成できる。
【００５９】この発明の請求項５記載の液晶表示装置に
よれば、請求項３記載のアレイ基板と、画素電極の対向
電極を有するカラーフィルタ基板とを備えたので、請求
項３と同様に同一工程で柱状スペーサとコンタクトホー
ルを形成できる。
よれば、請求項３記載のアレイ基板と、画素電極の対向
電極を有するカラーフィルタ基板とを備えたので、請求
項３と同様に同一工程で柱状スペーサとコンタクトホー
ルを形成できる。
【００６０】この発明の請求項６記載の液晶表示装置に
よれば、請求項４記載のアレイ基板と、画素電極の対向
電極を有する対向基板とを備えたので、請求項４と同様
に同一工程で柱状スペーサとコンタクトホールを形成で
きる。
よれば、請求項４記載のアレイ基板と、画素電極の対向
電極を有する対向基板とを備えたので、請求項４と同様
に同一工程で柱状スペーサとコンタクトホールを形成で
きる。
【図１】この発明の第１の実施の形態の液晶表示装置の
製造方法の工程毎の断面図
製造方法の工程毎の断面図
【図２】この発明の実施の形態に用いるフォトマスクの
種類を示す平面図
種類を示す平面図
【図３】この発明の第１の実施の形態の液晶表示装置の
断面図
断面図
【図４】この発明の第２の実施の形態の液晶表示装置の
製造方法の工程毎の断面図
製造方法の工程毎の断面図
【図５】この発明の第２の実施の形態の液晶表示装置の
断面図
断面図
【図６】従来例の液晶表示装置の断面図
【図７】別の従来例の液晶表示装置の断面図
１ａ カラーフィルタ基板 １ｂ 対向基板 ２ａ，２ｂ ガラス基板 ３ スイッチング能動素子 ４ 遮光膜 ５ 感光性樹脂膜 ５ａ 平坦化膜 ５ｂ 柱状スペーサ ６ 着色膜 ７ コンタクトホール ８ 画素電極 ９ａ，９ｂ 配向膜 １０ 透明電極 １１ａ アレイ基板 １１ｂ カラーフィルタオンアレイ基板 １３ シール材 １４ 液晶 １５ 球状スぺーサ １８ 紫外線 ２０ フォトマスク ２０ａ マスク全透過部 ２０ｂ マスクハーフトーン部 ２０ｃ マスク遮光部 ３１ａ，３１ｂ 液晶表示素子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 1/08 Ｇ０３Ｆ 1/08 Ｄ ２Ｈ０９５ 7/20 ５０１ 7/20 ５０１ ２Ｈ０９７ Ｈ０１Ｌ 21/336 Ｈ０１Ｌ 29/78 ６１２Ｄ ５Ｆ１１０ 29/786 ６２７Ａ ６１９Ａ Ｆターム(参考） 2H048 BA48 BB08 BB28 BB42 2H089 LA07 LA09 LA41 QA12 QA16 TA01 TA09 TA12 TA16 2H090 JD14 LA02 LA04 LA09 LA15 2H091 FA02Y FA08X FA08Z FB04 GA08 GA13 LA12 LA30 2H092 GA29 JA24 JA46 JB58 MA05 MA14 NA01 NA27 NA29 PA01 PA03 PA08 PA11 2H095 BA03 BA12 BC09 2H097 GA45 LA12 5F110 AA16 BB01 CC07 DD02 HL07 HL14 NN02 NN05 NN27 NN72 QQ19
Claims (6)
- 【請求項１】 画素電極および前記画素電極を駆動する
スイッチング能動素子を有するアレイ基板を作製する工
程と、前記画素電極の対向電極を有するカラーフィルタ
基板を作製する工程と、前記アレイ基板に柱状スペーサ
を形成する工程と、前記アレイ基板と前記カラーフィル
タ基板との間隙に液晶を封入する工程とを含み、前記ア
レイ基板の前記スイッチング能動素子の上に平坦化膜を
形成し、この平坦化膜の上面に前記画素電極を形成する
液晶表示装置の製造方法であって、前記平坦化膜を形成
する際に、前記アレイ基板上に感光性樹脂を形成する工
程と、前記柱状スペーサ用パターンと、前記画素電極と
前記スイッチング能動素子とを導通させるために形成す
るコンタクトホール用パターンと、前記柱状スペーサと
前記コンタクトホール以外のパネル表示領域用パターン
とを有し各々のパターンの透過率が異なるフォトマスク
を用いて前記感光性樹脂を露光現像する工程とを含む液
晶表示装置の製造方法。 - 【請求項２】 画素電極および前記画素電極を駆動する
スイッチング能動素子を有するカラーフィルタオンアレ
イ基板を作製する工程と、前記画素電極の対向電極を有
する対向基板を作製する工程と、前記カラーフィルタオ
ンアレイ基板に柱状スペーサを形成する工程と、前記カ
ラーフィルタオンアレイ基板と前記対向基板との間隙に
液晶を封入する工程とを含み、前記カラーフィルタオン
アレイ基板の前記スイッチング能動素子の上に着色膜を
含む平坦化膜層を形成し、この平坦化膜層の上に前記画
素電極を形成する液晶表示装置の製造方法であって、前
記平坦化膜層を形成する際に、前記アレイ基板上に感光
性樹脂を形成する工程と、前記柱状スペーサ用パターン
と、前記画素電極と前記スイッチング能動素子とを導通
させるために形成するコンタクトホール用パターンと、
前記柱状スペーサと前記コンタクトホール以外のパネル
表示領域用パターンとを有し各々のパターンの透過率が
異なるフォトマスクを用いて前記感光性樹脂を露光現像
する工程とを含む液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項３】 画素電極および前記画素電極を駆動する
スイッチング能動素子を有し、スイッチング能動素子の
上に平坦化膜を形成し、この平坦化膜の上面に前記画素
電極を形成し、前記スイッチング能動素子と前記画素電
極を電気的に導通するためのコンタクトホールを前記平
坦化膜に形成するとともに、セルギャップを形成する柱
状スペーサを前記平坦化膜と一体に形成したこと特徴と
するアレイ基板。 - 【請求項４】 画素電極および前記画素電極を駆動する
スイッチング能動素子を有し、スイッチング能動素子の
上に着色膜を含む平坦化膜層を形成し、この平坦化膜層
の上面に前記画素電極を形成し、前記スイッチング能動
素子と前記画素電極を電気的に導通するためのコンタク
トホールを前記平坦化膜層に形成するとともに、セルギ
ャップを形成する柱状スペーサを前記平坦化膜層と一体
に形成したこと特徴とするアレイ基板。 - 【請求項５】 請求項３記載のアレイ基板と、画素電極
の対向電極を有するカラーフィルタ基板とを備えた液晶
表示装置。 - 【請求項６】 請求項４記載のアレイ基板と、画素電極
の対向電極を有する対向基板とを備えた液晶表示装置。
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|---|---|---|---|
| JP2001146645A JP2002341355A (ja) | 2001-05-16 | 2001-05-16 | 液晶表示装置の製造方法およびアレイ基板ならびに液晶表示装置 |
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| JP2001146645A JP2002341355A (ja) | 2001-05-16 | 2001-05-16 | 液晶表示装置の製造方法およびアレイ基板ならびに液晶表示装置 |
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| JP2002341355A true JP2002341355A (ja) | 2002-11-27 |
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|---|---|---|---|
| JP2001146645A Pending JP2002341355A (ja) | 2001-05-16 | 2001-05-16 | 液晶表示装置の製造方法およびアレイ基板ならびに液晶表示装置 |
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