CN108610307A - 一维新型宽带隙半导体硫基锌配合物的合成方法 - Google Patents
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Abstract
本发明属于半导体技术领域,具体涉及一种一维新型宽带隙半导体硫基锌配合物的合成方法,步骤1,将5‑甲硫基‑1,3,4‑噻二唑‑2‑硫醇加入至DMF中,机械搅拌至完全溶解,得到5‑甲硫基‑1,3,4‑噻二唑‑2‑硫醇有机液;步骤2,将六水合硝酸锌加入至5‑甲硫基‑1,3,4‑噻二唑‑2‑硫醇有机液中,匀速搅拌至完全溶解,得到混合有机液;步骤3,将三乙胺加入至混合有机液中直至沉淀不再产生,抽滤后得到白色滤饼;步骤4,将白色沉淀恒温干燥24h得到白色晶体沉淀‑硫基锌配合物。本发明解决了一维硫基锌配合物的方法空白,具有制备简单,产率稳定的特点,且制备的硫基锌配合物纯度高。
Description
技术领域
本发明属于半导体技术领域,具体涉及一种一维新型宽带隙半导体硫基锌配合物的合成方法。
背景技术
ZnS是最早被发现的半导体材料之一,因其多功能性已被广泛应用于发光二极管,激光器,红外窗口,光催化和传感器等领域。随着纳米技术研究的兴起,ZnS半导体纳米材料的合成与应用引起了科学家的关注。由于ZnS半导体纳米材料在诸多领域的广泛应用,因此目前,关于合成ZnS半导体纳米材料的报道很多。ChenZ G等利用化学气相沉积法成功制备了一维ZnS纳米线。Yu等使用溶剂热合成法在水和二亚乙基三胺(DETA)混合溶剂里制备了硫化锌/DETA纳米带。但是水(溶剂)热法通常需要高温、高压、密闭反应体系,制备工艺比较复杂。Wang等以ZnO纳米带为模板,通过与硫源在水溶液中发生化学反应制备了一维ZnS纳米电缆和纳米管。此外,其他制备方法如电化学沉积法、微乳液法、溶胶-凝胶法等也被使用制备一维ZnS纳米材料。
目前ZnS为直接宽带隙半导体材料,禁带宽度约为3.66eV,其制备过程包括物理和化学两种方法。其中近年来对化学方法的研究尤为引人注目。其原因是同物理方法比较而言,化学方法具有成本低、收率高和产业化前景好等优势。然而,同样作为宽带隙半导体结构,且同样具有良好半导体性能的硫基锌配合物还未相关报道。
发明内容
针对现有技术中的问题,本发明提供一维新型宽带隙半导体硫基锌配合物的合成方法,解决了一维硫基锌配合物的方法空白,具有制备简单,产率稳定,制备的硫基锌纯度高。
为实现以上技术目的,本发明的技术方案是:
一维新型宽带隙半导体硫基锌配合物的合成方法,所述合成方法按照如下步骤:
步骤1,将5-甲硫基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇加入至DMF中,机械搅拌至完全溶解,得到5-甲硫基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇有机液;
步骤2,将六水合硝酸锌加入至5-甲硫基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇有机液中,匀速搅拌至完全溶解,得到混合有机液;
步骤3,将三乙胺加入至混合有机液中直至沉淀不再产生,抽滤后得到白色滤饼;
步骤4,将白色沉淀恒温干燥24h得到白色晶体沉淀-硫基锌配合物。
所述步骤1中的5-甲硫基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇在DMF中的浓度为0.01mol/L,所述机械搅拌的搅拌速度为1000-2000r/min。
所述步骤2中的六水合硝酸锌的加入量与5-甲硫基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇的物质的量的比值为0.5,所述匀速搅拌的搅拌速度为2000-3000r/min。
所述步骤3中三乙胺的加入量是DMF体积的20%。
所述步骤3中的三乙胺采用缓慢滴加的方式加入,所述滴加速度为1-4mL/min。
所述步骤3中的抽滤过程中的压力为大气压的3-5倍。
所述步骤4中的恒温干燥的干燥温度为60-80℃。
从以上描述可以看出,本发明具备以下优点:
1.本发明解决了一维硫基锌配合物的方法空白,具有制备简单,产率稳定,制备的硫基锌纯度高。
2.本发明以5-甲硫基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇和六水合硝酸锌为原材料,形成稳定的硫源和锌源,并且具有良好的活性,保证形成稳定的配合。
3.本发明采用三乙胺作为沉淀剂,给予硫基锌特殊的环境,形成宽带隙结构,同时从DMF中析出。
附图说明
图1是本发明实施例1制备的硫基锌配合物的红外光谱图;
图2是本发明实施例1制备的硫基锌配合物的固体紫外可见漫反射图。
具体实施方式
结合图1和图2,详细说明本发明的一个具体实施例,但不对本发明的权利要求做任何限定。
实施例1
5-甲硫基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇0.164g与六水合硝酸锌0.148g分别溶解在5mLDMF中,将两溶液混合后加入1mL三乙胺,得到白色沉淀,抽滤,滤饼60摄氏度下干燥24小时,得到白色产品-硫基锌配合物。
采用溴化钾压片法进行差值傅里叶红外变换光谱测试,在红外光谱图上峰位置在2924,1670,1425,1407,1370,1357,1309,1163,1098,1085,1071,1058,1034,1022,972,770,709,671,549cm-1。固体紫外漫反射测试,通过对其K-M方程线性部分进行拟合,得到其带隙。
实施例2
一维新型宽带隙半导体硫基锌配合物的合成方法,所述合成方法按照如下步骤:
步骤1,将5-甲硫基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇加入至DMF中,机械搅拌至完全溶解,得到5-甲硫基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇有机液;
步骤2,将六水合硝酸锌加入至5-甲硫基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇有机液中,匀速搅拌至完全溶解,得到混合有机液;
步骤3,将三乙胺加入至混合有机液中直至沉淀不再产生,抽滤后得到白色滤饼;
步骤4,将白色沉淀恒温干燥24h得到白色晶体沉淀-硫基锌配合物。
所述步骤1中的5-甲硫基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇在DMF中的浓度为0.01mol/L,所述机械搅拌的搅拌速度为1000r/min。
所述步骤2中的六水合硝酸锌的加入量与5-甲硫基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇的物质的量的比值为0.5,所述匀速搅拌的搅拌速度为2000r/min。
所述步骤3中三乙胺的加入量是DMF体积的20%。
所述步骤3中的三乙胺采用缓慢滴加的方式加入,所述滴加速度为1mL/min。
所述步骤3中的抽滤过程中的压力为大气压的3倍。
所述步骤4中的恒温干燥的干燥温度为60℃。
实施例3
一维新型宽带隙半导体硫基锌配合物的合成方法,所述合成方法按照如下步骤:
步骤1,将5-甲硫基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇加入至DMF中,机械搅拌至完全溶解,得到5-甲硫基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇有机液;
步骤2,将六水合硝酸锌加入至5-甲硫基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇有机液中,匀速搅拌至完全溶解,得到混合有机液;
步骤3,将三乙胺加入至混合有机液中直至沉淀不再产生,抽滤后得到白色滤饼;
步骤4,将白色沉淀恒温干燥24h得到白色晶体沉淀-硫基锌配合物。
所述步骤1中的5-甲硫基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇在DMF中的浓度为0.01mol/L,所述机械搅拌的搅拌速度为2000r/min。
所述步骤2中的六水合硝酸锌的加入量与5-甲硫基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇的物质的量的比值为0.5,所述匀速搅拌的搅拌速度为3000r/min。
所述步骤3中三乙胺的加入量是DMF体积的20%。
所述步骤3中的三乙胺采用缓慢滴加的方式加入,所述滴加速度为4mL/min。
所述步骤3中的抽滤过程中的压力为大气压的5倍。
所述步骤4中的恒温干燥的干燥温度为80℃。
实施例4
一维新型宽带隙半导体硫基锌配合物的合成方法,所述合成方法按照如下步骤:
步骤1,将5-甲硫基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇加入至DMF中,机械搅拌至完全溶解,得到5-甲硫基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇有机液;
步骤2,将六水合硝酸锌加入至5-甲硫基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇有机液中,匀速搅拌至完全溶解,得到混合有机液;
步骤3,将三乙胺加入至混合有机液中直至沉淀不再产生,抽滤后得到白色滤饼;
步骤4,将白色沉淀恒温干燥24h得到白色晶体沉淀-硫基锌配合物。
所述步骤1中的5-甲硫基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇在DMF中的浓度为0.01mol/L,所述机械搅拌的搅拌速度为1500r/min。
所述步骤2中的六水合硝酸锌的加入量与5-甲硫基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇的物质的量的比值为0.5,所述匀速搅拌的搅拌速度为2500r/min。
所述步骤3中三乙胺的加入量是DMF体积的20%。
所述步骤3中的三乙胺采用缓慢滴加的方式加入,所述滴加速度为3mL/min。
所述步骤3中的抽滤过程中的压力为大气压的4倍。
所述步骤4中的恒温干燥的干燥温度为70℃。
经检测,产率与带隙能量如下表
产率 | 带隙能量 | |
实施例1 | 64.3% | 3.44eV |
实施例2 | 72.4% | 3.44eV |
实施例3 | 67.5% | 3.44eV |
实施例4 | 71.1% | 3.44eV |
性能测试
将实施例1中过滤的滤液室温下静置挥发得到单晶样品。
将单晶置于Bruker Apex 2单晶衍射仪上,收集单晶衍射数据。应用Apex 2程序对衍射数据进行还原及吸收校正。在Olex2软件界面下,应用XT子程序对结构进行初解,应用XL子程序对结构进行精修。所有非氢原子进行各项异性精修,氢原子通过理论计算得到其理想位置并应用骑式模型精修。其结构解析参数如下:
部分键长值如下:
n(4)-N(4) | 2.036(4) |
Zn(3)-S(4) | 2.3551(13) |
Zn(2)-N(2) | 2.004(4) |
Zn(1)-S(1) | 2.3442(13) |
n(4)-N(4) | 2.036(4) |
结构上化合物属于四方晶系,I-4空间群。非对称单元中,有4个晶体学上独立的锌离子,2个晶体学上独立的有机配体MTT-。四个金属锌离子占位均为0.25,合计含有1个锌离子,两个MTT-占位均为1,共有两个MTT-离子。金属锌离子有两种配位模式,一种同来自4个配体上的4个硫原子配位形成四面体,另一种是同来自4个配体的四个氮原子配位形成四面体,两种配位模式下,锌离子处于四面体体心,硫原子、氮原子位于四面体顶点。Zn-S键长值为2.3551(13)、2.3442(13),Zn-N键长值为2.004(4)、2.036(4)。两种四面体通过有机配体链接形成一维链状结构,再进行空间堆积形成三维结构。
样品的粉末X射线衍射同基于单晶结构的理论粉末X射线衍射花样峰位置吻合的非常完美,说明样品是纯度较高。
如图1和图2所示,将实施例1的样品采用溴化钾压片法进行差值傅里叶红外变换光谱测试,在红外光谱图上峰位置在2924,1670,1425,1407,1370,1357,1309,1163,1098,1085,1071,1058,1034,1022,972,770,709,671,549cm-1。固体紫外漫反射测试,通过对其K-M方程线性部分进行拟合,得到其带隙为3.44eV,为宽带隙半导体材料。
综上所述,本发明具有以下优点:
1.本发明解决了一维硫基锌配合物的方法空白,具有制备简单,产率稳定,制备的硫基锌纯度高。
2.本发明以5-甲硫基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇和六水合硝酸锌为原材料,形成稳定的硫源和锌源,并且具有良好的活性,保证形成稳定的配合。
3.本发明采用三乙胺作为沉淀剂,给予硫基锌特殊的环境,形成宽带隙结构,同时从DMF中析出。
可以理解的是,以上关于本发明的具体描述,仅用于说明本发明而并非受限于本发明实施例所描述的技术方案。本领域的普通技术人员应当理解,仍然可以对本发明进行修改或等同替换,以达到相同的技术效果;只要满足使用需要,都在本发明的保护范围之内。
Claims (7)
1.一维新型宽带隙半导体硫基锌配合物的合成方法,其特征在于:所述合成方法按照如下步骤:
步骤1,将5-甲硫基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇加入至DMF中,机械搅拌至完全溶解,得到5-甲硫基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇有机液;
步骤2,将六水合硝酸锌加入至5-甲硫基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇有机液中,匀速搅拌至完全溶解,得到混合有机液;
步骤3,将三乙胺加入至混合有机液中直至沉淀不再产生,抽滤后得到白色滤饼;
步骤4,将白色沉淀恒温干燥24h得到白色晶体沉淀-硫基锌配合物。
2.根据权利要求1所述的一维新型宽带隙半导体硫基锌配合物的合成方法,其特征在于:所述步骤1中的5-甲硫基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇在DMF中的浓度为0.02mol/L,所述机械搅拌的搅拌速度为1000-2000r/min。
3.根据权利要求1所述的一维新型宽带隙半导体硫基锌配合物的合成方法,其特征在于:所述步骤2中的六水合硝酸锌的加入量与5-甲硫基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇的物质的量的比值为0.5,所述匀速搅拌的搅拌速度为2000-3000r/min。
4.根据权利要求1所述的一维新型宽带隙半导体硫基锌配合物的合成方法,其特征在于:所述步骤3中三乙胺的加入量是DMF体积的20%。
5.根据权利要求1所述的一维新型宽带隙半导体硫基锌配合物的合成方法,其特征在于:所述步骤3中的三乙胺采用缓慢滴加的方式加入,所述滴加速度为1-4mL/min。
6.根据权利要求1所述的一维新型宽带隙半导体硫基锌配合物的合成方法,其特征在于:所述步骤3中的抽滤过程中的压力为大气压的3-5倍。
7.根据权利要求1所述的一维新型宽带隙半导体硫基锌配合物的合成方法,其特征在于:所述步骤4中的恒温干燥的干燥温度为60-80℃。
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Cited By (1)
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CN115989222A (zh) * | 2020-08-26 | 2023-04-18 | 路博润公司 | 2,5-二巯基-1,3,4-噻二唑(“dmtd”)锌盐衍生物 |
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CN101127308A (zh) * | 2007-09-14 | 2008-02-20 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 一种室温条件下沉积非晶硫化锌薄膜的方法 |
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Patent Citations (2)
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