CN108358602B - 一种影青瓷陶瓷制品及其制造工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种影青瓷陶瓷制品,包括坯体和施于坯体表面的釉层,所述坯体包括以下重量份的原料:高岭土20~30份、石英15~23份、膨润土15~20份、骨粉10~12份、助熔料8~15份、水镁石5~10份、绢云母5~10份;所述釉层包括以下重量份的原料:高岭土15~20份、三硅酸镁10~15份、硅酸钠8~10份、珍珠岩3~5份、海泡石3~5份、氧化钠1~3份、氧化钾0~3份、氧化铁0.5~2份。采用本发明提供的原料与工艺烧成的影青瓷陶瓷制品,其釉色青白淡雅,釉面明澈丽洁,胎质坚致腻白,色泽温润如玉,其整体无裂纹,且具备一定的抗水性与热稳定性。
Description
技术领域
本发明属于日用陶瓷技术领域,具体涉及一种影青瓷陶瓷制品及其制造工艺。
背景技术
影青瓷又称映青瓷,是汉族传统制瓷工艺中的珍品,其前身是青白瓷,被称作“色白花青”的影青瓷是北宋中期景德镇所独创,其釉色青白淡雅,釉面明澈丽洁,胎质坚致腻白,色泽温润如玉,所以历史上有“假玉器”之称。南宋李清照在《醉花阴》中有“玉枕纱窗”之句,玉枕指的就是青白瓷枕。元代的青白瓷产品有的还印有“玉出昆山”和“玉出昆冈”铭款。南宋时大量生产,而且“著行海内”,是市场上的抢手货,当时的影青瓷绝大部分为薄剔而成的透明飞凤等花纹,这些花纹由技艺高超的陶瓷艺人在坯体上刻制之后,以透明青釉,以高温烧制而成。
影青瓷色泽细腻、富有美感,因历史悠久,古时的高品质影青瓷的原料与烧制工艺手法多已失传,因此提供一种采用现代化的高品质影青瓷的原料配方与烧制工艺很有意义。
发明内容
基于以上现有技术,本发明的目的在于提供一种影青瓷陶瓷制品及其制造工艺,其釉色青白淡雅,釉面明澈丽洁,胎质坚致腻白,色泽温润如玉,其整体无裂纹,且具备一定的抗水性与热稳定性。
为了实现以上目的,本发明采用的技术方案为:一种影青瓷陶瓷制品,包括坯体和施于坯体表面的釉层,所述坯体包括以下重量份的原料:高岭土20~30份、石英15~23份、膨润土15~20份、骨粉10~12份、助熔料8~15份、水镁石5~10份、绢云母5~10份;所述釉层包括以下重量份的原料:高岭土15~20份、三硅酸镁10~15份、硅酸钠8~10份、珍珠岩3~5份、海泡石3~5份、氧化钠1~3份、氧化钾0~3份、氧化铁0.5~2份。
作为优选,所述坯体包括以下重量份的原料:高岭土25份、石英19份、膨润土17份、骨粉11份、助熔料11份、水镁石8份、绢云母7份;所述釉层包括以下重量份的原料:高岭土18份、三硅酸镁12份、硅酸钠9份、珍珠岩4份、海泡石4份、氧化钠2份、氧化钾1份、氧化铁1份。
作为优化,所述助熔料为重量比为1~5:1~10:1~3的烧滑石、硅灰石、氧化钠的混合物。
作为进一步优化,助熔料为重量比为3:6:2的烧滑石、硅灰石、氧化钠的混合物。
本发明还提供一种制造影青瓷陶瓷制品的工艺,其特征在于,包括以下步骤:
步骤1、按照重量比分别称取各原料,备用;
步骤2、将坯体原料混合后以氧化铝球为球磨介质、以水作为助磨剂进行球磨,其中,原料:球:水的重量比为1:0.5~3:2~4,球磨后得到粗泥,将坯体泥料置于温度为25~28℃、湿度为80%以上的环境中静置3天以上得到泥块,取泥块加水后磨细至过100目以上筛得到坯体泥料,调节坯体泥料的含水率为30~35%,然后定型得到粗坯体,将粗坯体晾干后进行利坯并雕刻花纹得到坯体;
步骤3、将釉层原料混合后以氧化铝球为球磨介质、以水作为助磨剂进行球磨,其中,原料:球:水的重量比为1:1~2:2~4,球磨后得到釉水,调节釉水的含水率为60~72%;
步骤4、采用步骤3中得到的釉水对步骤2中得到的坯体进行上釉,晾干后釉层厚度为0.1~1mm,之后将上釉后的坯体进行高温还原烧制后得到影青瓷陶瓷制品。
作为优化,所述步骤2,步骤3中进行球磨的时间为1~6小时,其中,所述步骤2中的球磨速率为180~360r/min,所述步骤3中的球磨速率为450~600r/min。
作为优化,将步骤2得到坯体在800~1050℃下烧制1~10小时后再采用步骤3中得到的釉水进行上釉。
作为优化,所述步骤4中进行高温还原烧制的具体工艺为:将上釉晾干后的坯体置于高温炉中,然后抽真空至压力为0.2~0.4MPa,接着填充还原性气体,最后进行高温烧制。
作为优化,所述还原性气体为一氧化碳、氢气、甲烷中的一种以上。
作为优化,所述步骤4中进行高温烧制的条件为1200~1300℃,烧制时间为0.5~10小时。
有益效果
本发明的有益效果如下:
(1)、本发明提供的影青瓷陶瓷制品,采用高岭土、石英、膨润土、骨粉、助熔料、水镁石、绢云母作为坯体原料,高岭土为主要成坯原料,其白度高、粘性大、可塑性强;石英的加入使坯体原料更易定型,还使定型后的坯体具备一定的干燥强度且不易受外力影响而变形、开裂;膨润土提升坯体原料的可塑性,使定型后的坯体致密度高、粘性高,与石英结合后可使定型后厚度为0.3~0.5mm的坯体不变形、开裂、掉角;骨粉提升坯体的白度与致密度,烧成陶瓷制品后,轻击其表面的声音清脆;助熔料降低陶瓷制品的烧成温度;水镁石使烧成陶瓷具备细腻的质感,当坯体定型后的厚度小时,可使烧成的陶瓷制品具备一定的透明度,从而提升烧成陶瓷制品的品质,其与骨粉结合后提升坯体的疏水性,使坯体在干燥和烧成过程中产生的水分不滞留在坯体表面,快速扩散到对流空间中去,还能进一步提升坯体的白度;绢云母可缓解在高温烧制陶瓷制品过程中坯体原料中的石英因晶形发生转变时而产生风惊、炸坯现象,从而提高烧成率,上述原料结合后制备出可塑性强、疏水性好、烧成率高、质地均匀、胎质细腻的陶瓷坯体;本发明提供的影青瓷陶瓷制品,高岭土、三硅酸镁、硅酸钠、珍珠岩、海泡石、氧化钠、氧化钾、氧化铁作为釉层原料,各原料结合后使烧成的陶瓷制品具备青白淡雅的釉色与细腻明丽的釉面,从而制得高品质影青瓷陶瓷制品。
(2)、本发明提供的影青瓷陶瓷制品,其坯体原料与釉层原料采用不同的原料与配比,将坯体原料混合磨细后加水制成坯体泥料,再经定型得到坯体,刻花后采用釉层原料配制的釉水进行上釉,通过调节坯体与釉层原料的配比,可使高温烧制过程中坯体与釉层具备相对同步的热膨胀性,从而使烧成的陶瓷制品釉层无裂纹,还使烧成的陶瓷制品抗水耐热、强度高,通过采用还原性高温烧制条件烧成影青瓷陶瓷制品,其釉色或闪淡青色、或淡青闪黄、整体如玉石般莹润精细,晶亮透彻。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明作进一步详细说明。
实施例1
本实施例提供一种影青瓷陶瓷制品,包括坯体和施于坯体表面的釉层,所述坯体包括以下重量份的原料:高岭土20份、石英15份、膨润土15份、骨粉10份、助熔料8份、水镁石5份、绢云母5份;所述釉层包括以下重量份的原料:高岭土15份、三硅酸镁10份、硅酸钠8份、珍珠岩3份、海泡石3份、氧化钠1份、氧化铁0.5~2份,其中,所述助熔料为重量比为1~5:1~10:1~3的烧滑石、硅灰石、氧化钠的混合物。
本实施例还提供一种制造影青瓷陶瓷制品的工艺,其特征在于,包括以下步骤:
步骤1、按照重量比分别称取各原料,备用;
步骤2、将坯体原料混合后以氧化铝球为球磨介质、以水作为助磨剂进行球磨,其中,原料:球:水的重量比为1:0.5:2,球磨速率为180r/min,球磨的时间为6小时,球磨后得到粗泥,将坯体泥料置于温度为25℃、湿度为80%以上的环境中静置3天以上得到泥块,取泥块加水后磨细至过100目以上筛得到坯体泥料,调节坯体泥料的含水率为30%,然后定型得到粗坯体,将粗坯体晾干后进行利坯并雕刻花纹得到坯体;
步骤3、将釉层原料混合后以氧化铝球为球磨介质、以水作为助磨剂进行球磨,其中,原料:球:水的重量比为1:1:2,球磨速率为450r/min,球磨的时间为6小时,球磨后得到釉水,调节步骤3中釉水的含水率为60%;
步骤4、将步骤2得到坯体在800℃下烧制10小时,再采用步骤3中得到的釉水进行上釉,晾干后釉层厚度为0.1mm,之后将上釉后的坯体进行高温还原烧制后得到影青瓷陶瓷制品,其中,高温还原烧制的具体工艺为:将上釉晾干后的坯体置于高温炉中,然后抽真空至压力为0.4MPa,接着填充还原性气体,所述还原性气体为一氧化碳,高温烧制的条件为1200℃,烧制时间为10小时。
实施例2
本实施例提供一种影青瓷陶瓷制品,包括坯体和施于坯体表面的釉层,所述坯体包括以下重量份的原料:高岭土22份、石英17、膨润土16份、骨粉10份、助熔料9份、水镁石7份、绢云母6份;所述釉层包括以下重量份的原料:高岭土17份、三硅酸镁11份、硅酸钠8份、珍珠岩3份、海泡石4份、氧化钠1份、氧化钾1份、氧化铁0.5份,其中,所述助熔料为重量比为2:3:1的烧滑石、硅灰石、氧化钠的混合物。
本实施例还提供一种制造影青瓷陶瓷制品的工艺,其特征在于,包括以下步骤:
步骤1、按照重量比分别称取各原料,备用;
步骤2、将坯体原料混合后以氧化铝球为球磨介质、以水作为助磨剂进行球磨,其中,原料:球:水的重量比为1:1:2.5,球磨速率为220r/min,球磨的时间为5小时,球磨后得到粗泥,将坯体泥料置于温度为26℃、湿度为80%以上的环境中静置3天以上得到泥块,取泥块加水后磨细至过100目以上筛得到坯体泥料,调节坯体泥料的含水率为31%,然后定型得到粗坯体,将粗坯体晾干后进行利坯并雕刻花纹得到坯体;
步骤3、将釉层原料混合后以氧化铝球为球磨介质、以水作为助磨剂进行球磨,其中,原料:球:水的重量比为1:1.2:1.5,球磨速率为500r/min,球磨的时间为4小时,球磨后得到釉水,调节步骤3中釉水的含水率为63%;
步骤4、将步骤2得到坯体在900℃下烧制8小时,再采用步骤3中得到的釉水进行上釉,晾干后釉层厚度为0.3mm,之后将上釉后的坯体进行高温还原烧制后得到影青瓷陶瓷制品,其中,高温还原烧制的具体工艺为:将上釉晾干后的坯体置于高温炉中,然后抽真空至压力为0.3MPa,接着填充还原性气体,所述还原性气体为一氧化碳、氢气按照摩尔比为1:1的混合物,高温烧制的条件为1250℃,烧制时间为7小时。
实施例3
本实施例提供一种影青瓷陶瓷制品,包括坯体和施于坯体表面的釉层,所述坯体包括以下重量份的原料:高岭土25份、石英19份、膨润土17份、骨粉11份、助熔料11份、水镁石8份、绢云母7份;所述釉层包括以下重量份的原料:高岭土18份、三硅酸镁12份、硅酸钠9份、珍珠岩4份、海泡石4份、氧化钠2份、氧化钾1份、氧化铁1份,其中,所述助熔料为重量比为3:6:2的烧滑石、硅灰石、氧化钠的混合物。
本实施例还提供一种制造影青瓷陶瓷制品的工艺,其特征在于,包括以下步骤:
步骤1、按照重量比分别称取各原料,备用;
步骤2、将坯体原料混合后以氧化铝球为球磨介质、以水作为助磨剂进行球磨,其中,原料:球:水的重量比为1:1.7:3,球磨速率为250r/min,球磨的时间为3小时,球磨后得到粗泥,将坯体泥料置于温度为26℃、湿度为80%以上的环境中静置3天以上得到泥块,取泥块加水后磨细至过100目以上筛得到坯体泥料,调节坯体泥料的含水率为33%,然后定型得到粗坯体,将粗坯体晾干后进行利坯并雕刻花纹得到坯体;
步骤3、将釉层原料混合后以氧化铝球为球磨介质、以水作为助磨剂进行球磨,其中,原料:球:水的重量比为1:1.5:3,球磨速率为520r/min,球磨的时间为3小时,球磨后得到釉水,调节步骤3中釉水的含水率为65%;
步骤4、将步骤2得到坯体在950℃下烧制5小时,再采用步骤3中得到的釉水进行上釉,晾干后釉层厚度为0.2mm,之后将上釉后的坯体进行高温还原烧制后得到影青瓷陶瓷制品,其中,高温还原烧制的具体工艺为:将上釉晾干后的坯体置于高温炉中,然后抽真空至压力为0.2MPa,接着填充还原性气体,所述还原性气体为一氧化碳、甲烷按照摩尔比为2:1的混合气体,高温烧制的条件为1250℃,烧制时间为6小时。
实施例4
本实施例提供一种影青瓷陶瓷制品,包括坯体和施于坯体表面的釉层,所述坯体包括以下重量份的原料:高岭土28份、石英21份、膨润土18份、骨粉12份、助熔料13份、水镁石9份、绢云母9份;所述釉层包括以下重量份的原料:高岭土19份、三硅酸镁13份、硅酸钠9份、珍珠岩5份、海泡石5份、氧化钠3份、氧化钾2份、氧化铁1.5份,其中,所述助熔料为重量比为4:8:2的烧滑石、硅灰石、氧化钠的混合物。
本实施例还提供一种制造影青瓷陶瓷制品的工艺,其特征在于,包括以下步骤:
步骤1、按照重量比分别称取各原料,备用;
步骤2、将坯体原料混合后以氧化铝球为球磨介质、以水作为助磨剂进行球磨,其中,原料:球:水的重量比为1:2.2:3.2,球磨速率为300r/min,球磨的时间为3小时,球磨后得到粗泥,将坯体泥料置于温度为27℃、湿度为80%以上的环境中静置3天以上得到泥块,取泥块加水后磨细至过100目以上筛得到坯体泥料,调节坯体泥料的含水率为34%,然后定型得到粗坯体,将粗坯体晾干后进行利坯并雕刻花纹得到坯体;
步骤3、将釉层原料混合后以氧化铝球为球磨介质、以水作为助磨剂进行球磨,其中,原料:球:水的重量比为1:1.8:3.2,球磨速率为520r/min,球磨的时间为4小时,球磨后得到釉水,调节步骤3中釉水的含水率为70%;
步骤4、将步骤2得到坯体在1000℃下烧制3小时,再采用步骤3中得到的釉水进行上釉,晾干后釉层厚度为0.3mm,之后将上釉后的坯体进行高温还原烧制后得到影青瓷陶瓷制品,其中,高温还原烧制的具体工艺为:将上釉晾干后的坯体置于高温炉中,然后抽真空至压力为0.3MPa,接着填充还原性气体,所述还原性气体为氢气、甲烷按照摩尔比为3~2的混合气体,高温烧制的条件为1250℃,烧制时间为3小时。
实施例5
本实施例提供一种影青瓷陶瓷制品,包括坯体和施于坯体表面的釉层,所述坯体包括以下重量份的原料:高岭土30份、石英23份、膨润土20份、骨粉12份、助熔料15份、水镁石10份、绢云母10份;所述釉层包括以下重量份的原料:高岭土20份、三硅酸镁10~15份、硅酸钠10份、珍珠岩5份、海泡石5份、氧化钠1份、氧化钾3份、氧化铁2份,其中,所述助熔料为重量比为5:10:3的烧滑石、硅灰石、氧化钠的混合物。
本实施例还提供一种制造影青瓷陶瓷制品的工艺,其特征在于,包括以下步骤:
步骤1、按照重量比分别称取各原料,备用;
步骤2、将坯体原料混合后以氧化铝球为球磨介质、以水作为助磨剂进行球磨,其中,原料:球:水的重量比为1:3:4,球磨速率为360r/min,球磨的时间为1小时,球磨后得到粗泥,将坯体泥料置于温度为28℃、湿度为80%以上的环境中静置3天以上得到泥块,取泥块加水后磨细至过100目以上筛得到坯体泥料,调节坯体泥料的含水率为35%,然后定型得到粗坯体,将粗坯体晾干后进行利坯并雕刻花纹得到坯体;
步骤3、将釉层原料混合后以氧化铝球为球磨介质、以水作为助磨剂进行球磨,其中,原料:球:水的重量比为1:2:4,球磨速率为600r/min,球磨的时间为2小时,球磨后得到釉水,调节步骤3中釉水的含水率为72%;
步骤4、将步骤2得到坯体在1050℃下烧制2小时,再采用步骤3中得到的釉水进行上釉,晾干后釉层厚度为0.2mm,之后将上釉后的坯体进行高温还原烧制后得到影青瓷陶瓷制品,其中,高温还原烧制的具体工艺为:将上釉晾干后的坯体置于高温炉中,然后抽真空至压力为0.2MPa,接着填充还原性气体,所述还原性气体为氢气,高温烧制的条件为1300℃,烧制时间为2小时。
上述实施例1至5中提供的影青瓷陶瓷制品所采用的原料如下表1所示:
表1原料与重量份
对上述实施例1至5中制得的影青瓷陶瓷制品进行热稳定性、抗水性测试,测试方法如下:
热稳定性测试:取5片影青瓷陶瓷制品碎片作为试样,置于280℃条件下保温300分钟,保温结束后取出试样并进行核算,在15s内急速投入温度为20℃的水中,浸泡10分钟,其中,水的重量与试样重量之比为8:1,水面高出试样25mm,取出试样用布揩干,涂上红色墨水,检查有无裂纹,24h后再复查一次,产生裂纹越少,试样的热稳定性越好。
吸水率测试:取5片影青瓷陶瓷制品碎片作为试样,洗净后烘干,分别称其重量,之后将试样分隔后置于蒸馏水中,煮沸3小时,期间水面保持高于试样10mm以上,之后将试样捞出,用已吸水饱和的布揩去试样表面附着的水,迅速分别称量其重量,之后通过公式计算出各试样的吸水率,计算5片试样的平均吸水率即得影青瓷陶瓷制品的吸水率,其吸水率越低,试样的抗水性越好。
对上述实施例1至5中制得的影青瓷陶瓷制品与作为对照例的普通影青瓷制品进行热稳定性、抗水性测试结果如下表2所示:
表2测试结果
上述实施例1至5中烧成的影青瓷陶瓷制品,其热稳定性测试无裂纹、抗水性强于普通影青瓷制品,其中以实施例3中烧成的影青瓷陶瓷制品的各项性能最佳,为最佳实施例。
最后应说明的是:以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种影青瓷日用陶瓷制品,包括坯体和施于坯体表面的釉层,其特征在于,所述坯体包括以下重量份的原料:高岭土20~30份、石英15~23份、膨润土15~20份、骨粉10~12份、助熔料8~15份、水镁石5~10份、绢云母5~10份,所述助熔料为重量比为1~5:1~10:1~3的烧滑石、硅灰石、氧化钠的混合物;所述釉层包括以下重量份的原料:高岭土15~20份、三硅酸镁10~15份、硅酸钠8~10份、珍珠岩3~5份、海泡石3~5份、氧化钠1~3份、氧化钾0~3份、氧化铁0.5~2份。
2.根据权利要求1所述的影青瓷日用陶瓷制品,其特征在于,所述坯体包括以下重量份的原料:高岭土25份、石英19份、膨润土17份、骨粉11份、助熔料11份、水镁石8份、绢云母7份,所述助熔料为重量比为1~5:1~10:1~3的烧滑石、硅灰石、氧化钠的混合物;所述釉层包括以下重量份的原料:高岭土18份、三硅酸镁12份、硅酸钠9份、珍珠岩4份、海泡石4份、氧化钠2份、氧化钾1份、氧化铁1份。
3.根据权利要求1或2所述的影青瓷日用陶瓷制品,其特征在于,助熔料为重量比为3:6:2的烧滑石、硅灰石、氧化钠的混合物。
4.一种制造权利要求1或2所述影青瓷日用陶瓷制品的工艺,其特征在于,包括以下步骤:
步骤1、按照重量比分别称取各原料,备用;
步骤2、将坯体原料混合后以氧化铝球为球磨介质、以水作为助磨剂进行球磨,其中,原料:球:水的重量比为1:0.5~3:2~4,球磨后得到粗泥,将坯体泥料置于温度为25~28℃、湿度为80%以上的环境中静置3天以上得到泥块,取泥块加水后磨细至过100目以上筛得到坯体泥料,调节坯体泥料的含水率为30~35%,然后定型得到粗坯体,将粗坯体晾干后进行利坯并雕刻花纹得到坯体;
步骤3、将釉层原料混合后以氧化铝球为球磨介质、以水作为助磨剂进行球磨,其中,原料:球:水的重量比为1:1~2:2~4,球磨后得到釉水,调节釉水的含水率为60~72%;
步骤4、采用步骤3中得到的釉水对步骤2中得到的坯体进行上釉,晾干后釉层厚度为0.1~1mm,之后将上釉后的坯体进行高温还原烧制后得到影青瓷日用陶瓷制品。
5.根据权利要求4所述的制造影青瓷日用陶瓷制品的工艺,其特征在于,所述步骤2,步骤3中进行球磨的时间为1~6小时,其中,所述步骤2中的球磨速率为180~360r/min,所述步骤3中的球磨速率为450~600r/min。
6.根据权利要求4所述的制造影青瓷日用陶瓷制品的工艺,其特征在于,将步骤2得到坯体在800~1050℃下烧制1~10小时后再采用步骤3中得到的釉水进行上釉。
7.根据权利要求4所述的制造影青瓷日用陶瓷制品的工艺,其特征在于,所述步骤4中进行高温还原烧制的具体工艺为:将上釉晾干后的坯体置于高温炉中,然后抽真空至压力为0.2~0.4MPa,接着填充还原性气体,最后进行高温烧制。
8.根据权利要求7所述的制造影青瓷日用陶瓷制品的工艺,其特征在于,所述还原性气体为一氧化碳、氢气、甲烷中的一种以上。
9.根据权利要求7所述的制造影青瓷日用陶瓷制品的工艺,其特征在于,所述步骤4中进行高温烧制的条件为1200~1300℃,烧制时间为0.5~10小时。
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