CN107995804A - 一种减少pcb压合异物的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种减少PCB压合异物的方法,包括以下步骤:S1、开料;S2、磨板;S3、辘膜;S4、曝光;S5、显影;S6、蚀刻;S7、褪膜;所述铆合,采用铆钉将芯板与PP片按一定顺序叠合固定在一起,芯板和PP片板边预先制作铆钉孔;其中铆钉机铆合≤5次即使用粘布清洁一次冲针周边及铆钉台面,所述铆钉使用铜铁合金铆钉,在铆钉冲针底座设置吸附磁铁,并且铆钉使用前用酒精清洗10分钟后方可使用。本发明严格把控线路板生产过程中的工艺参数,确保线路板生产的精度,在铆合过程中通过对铆钉机多次进行处理,甚至于对无尘车间地板进行特定地板铺设,防止铆钉屑、铜屑等残留在线路板上,确保线路板不因压合异物原因造成内短报废。
Description
技术领域
本发明涉及线路板加工领域,具体涉及一种减少PCB压合异物的方法。
背景技术
目前印制电路板的设计越来越趋向高密度发展,这给印制电路板的制造带来了诸多挑战,生产难度是越来越大。在PCB多层板生产中报废率居高不下,特别是内短报废在各项报废中占比例颇高,给多层板品质管控带来很大压力,而且多层板的报废成本不可忽视,因此如何降低内层短路报废率是业界普遍关注的问题。我们要实现提升品质降低成本,创造更高的利润,必须首先降低内短报废。而线路板出现内短报废的主要原因之一就是压合异物,如何把控线路板在压合过程中减少异物残留是降低内短报废的重点。
发明内容
本发明目的是提供一种减少PCB压合异物的方法,它能有效地解决背景技术中所存在的问题。
本发明所要解决的技术问题采用以下技术方案来实现 :
一种减少PCB压合异物的方法,包括以下步骤:
S1、开料,将所述覆铜板开料成与所述内层片同样的尺寸;
S2、磨板,按照 1.4~2.2m/min 的速度对开料后的覆铜板进行磨板;
S3、辘膜,对磨板后的覆铜板进行辘膜,所述辘膜的参数为 :感光膜采用 1.0~2.0mil干膜,辘膜压力为 0.2~0.5Mpa,热辘中心温度为 80~130℃,辘膜速度为 1.5~2.5m/min;
S4、曝光,辘膜后停放 15~20 分钟,在 0~24 小时进行曝光,曝光能量110~180毫焦,真空度为450~650mmHg;
S5、显影,采用的显影液为质量百分数为 0.9%~1.3%的 Na2CO3溶液;
S6、蚀刻,蚀刻速度为 2.8~3.2m/min;
S7、褪膜,褪膜采用的溶剂为质量百分数为 4.0%~6.0%的 NaOH 溶液,褪膜后即得到所述图案;
S8、层压,层压步骤依次包括氧化、预排板、排板、层压、拆板、X-RAY、铣板边、磨边;
所述铆合,采用铆钉将芯板与PP片按一定顺序叠合固定在一起,芯板和PP片板边预先制作铆钉孔;铆合预排时,按一定顺序将板边已制作铆钉孔的芯板和PP片套放在铆钉机下模针上,然后按铆钉机气压按钮,铆钉由滑道中滑落套在下模针上,上模针下压冲制铆钉开花铆合固定芯板和PP片;其中铆钉机铆合≤5次即使用粘布清洁一次冲针周边及铆钉台面,所述铆钉使用铜铁合金铆钉,在铆钉冲针底座设置吸附磁铁,并且铆钉使用前用酒精清洗10分钟后方可使用。
所述铆合在铆钉机冲针底座加装吸尘装置,吸走铆钉屑。
所述铆合在无尘室内的铆钉机周边全部铺上地板胶,用来吸附铜屑等异物。
所述氧化采用棕化处理,对已制作图形的芯板表面进行清洁,并对芯板表面铜粗化处理;氧化流程包括:除油、水洗、微蚀、水洗、预浸、氧化、水洗、DI水洗、烘干。
辘膜步骤中所述辘膜压力为0.3~0.4Mpa,所述热辘中心温度为 95~105℃,所述辘膜速度为 1.8~2.2m/min;曝光步骤中所述曝光能量为140豪焦,所述真空度为500~600mmHg;显影步骤中所述显影液为质量百分数为 1.0~1.2%的Na2CO3溶液;所述褪膜采用的溶剂为质量百分数为 4.0~5.0%的 NaOH 溶液。
所述层压步骤中,采用的压板程式为:
设置压板温度为 155℃并保持 20 分钟,在 7 分钟内升温至 190℃,并保持 3 分钟,在这30 分钟内,保持压合的压力为 0.52Mpa,然后在 2 分钟内,温度升至 195℃,压力升至 2.4Mpa,均保持 10 分钟,然后在 2分钟内,温度升至 200℃,并维持 91分钟,在这 93分钟内,保持压力为 2.4Mpa,然后在 2 分钟内,压力降至 0.34Mpa,保持 18 分钟,在这20 分钟内,保持温度为 200℃,最后在 20 分钟内,温度降至 150℃,保持 5 分钟,在这25 分钟内,保持压力为 0.34Mpa ;当压合的压力为 0.52-2.4Mpa 时,维持压板机内的真空度小于等于 45mmHg,当压力为0.34Mpa,压板机内的真空度为 0。
本发明的有益效果是 :
本发明严格把控线路板生产过程中的工艺参数,确保线路板生产的精度,在铆合过程中通过对铆钉机多次进行处理,甚至于对无尘车间地板进行特定地板铺设,防止铆钉屑、铜屑等残留在线路板上,确保线路板不因压合异物原因造成内短报废。
具体实施方式
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,进一步阐述本发明。
实施例1
一种减少PCB压合异物的方法,包括以下步骤:
S1、开料,将所述覆铜板开料成与所述内层片同样的尺寸;
S2、磨板,按照 1.4~2.2m/min 的速度对开料后的覆铜板进行磨板;
S3、辘膜,对磨板后的覆铜板进行辘膜,所述辘膜的参数为 :感光膜采用 1.0~2.0mil干膜,辘膜压力为 0.2~0.5Mpa,热辘中心温度为 80~130℃,辘膜速度为 1.5~2.5m/min;
S4、曝光,辘膜后停放 15~20 分钟,在 0~24 小时进行曝光,曝光能量110~180毫焦,真空度为450~650mmHg;
S5、显影,采用的显影液为质量百分数为 0.9%~1.3%的 Na2CO3溶液;
S6、蚀刻,蚀刻速度为 2.8~3.2m/min;
S7、褪膜,褪膜采用的溶剂为质量百分数为 4.0%~6.0%的 NaOH 溶液,褪膜后即得到所述图案;
S8、层压,层压步骤依次包括氧化、预排板、排板、层压、拆板、X-RAY、铣板边、磨边;
所述铆合,采用铆钉将芯板与PP片按一定顺序叠合固定在一起,芯板和PP片板边预先制作铆钉孔;铆合预排时,按一定顺序将板边已制作铆钉孔的芯板和PP片套放在铆钉机下模针上,然后按铆钉机气压按钮,铆钉由滑道中滑落套在下模针上,上模针下压冲制铆钉开花铆合固定芯板和PP片;其中铆钉机铆合≤5次即使用粘布清洁一次冲针周边及铆钉台面,所述铆钉使用铜铁合金铆钉,在铆钉冲针底座设置吸附磁铁,并且铆钉使用前用酒精清洗10分钟后方可使用。
所述铆合在铆钉机冲针底座加装吸尘装置,吸走铆钉屑。
所述铆合在无尘室内的铆钉机周边全部铺上地板胶,用来吸附铜屑等异物。
所述氧化采用棕化处理,对已制作图形的芯板表面进行清洁,并对芯板表面铜粗化处理;氧化流程包括:除油、水洗、微蚀、水洗、预浸、氧化、水洗、DI水洗、烘干。
按照 1.4-2.2m/min 速度进行磨板,磨板的作用主要是粗化铜面,便于感光膜附着在铜面上,然后将感光膜辘在粗化的铜面上,其中感光膜上有预设的图案,图案的形状可以根据需要设计成不同形状,在本实施例中,图案是需要分布于白板的边缘,并可以保证这些图案在后续的锣板工序中可以方便除去。感光膜的材质一般有干菲林,感光膜一般有1.0mil、1.2mil、1.5mil、1.8mil、2.0mil 几种不同的厚度,根据不同的需要可以选择不同厚度的感光膜,辘膜步骤中,辘膜压力为 0.2~0.5Mpa,热辘中心温度为 80~130℃,辘膜速度为1.5~2.5m/min ;辘膜后停放 15~20 分钟,在 0~24 小时进行曝光,曝光能量为110~180毫焦,真空度为 450~650mmHg ;显影步骤中采用的显影液为质量百分数为 0.9%~1.3% 的Na2CO3溶液 ;蚀刻时蚀刻速度为 2.5~3.5m/min ;褪膜采用的溶剂为质量百分数为 4.0%~6.0% 的 NaOH 溶液,褪膜后即得到所述图案。当辘膜压力为 0.3~0.4Mpa,热辘中心温度为 95~105℃,辘膜速度为 1.8~2.2m/min,曝光能量为140豪焦,真空度为500~600mmHg,显影液中Na2CO3的质量百分数为 1.0~1.2%,褪膜采用质量百分数为 4.0~5.0% 的 NaOH 溶液时,制作白板的效果较好。在本实施例中,感光膜为 1.2mil 的干膜,辘膜压力为 0.35Mpa,热辘中心温度为 100℃,辘膜速度为 2.0m/min。辘膜后停放 15 分钟,在 4 小时进行曝光,曝光能量为140毫焦,真空度为 550mmHg,曝光的作用是使感光膜上的图案感光,从而使图案转移到铜板上,当真空度为 450~650mmHg 时,可以使图案在转移过程中不失真。然后显影,将未曝光部分的感光膜去掉,留下感光的部分,在本实施例中,采用的显影液为质量百分数为 1.1% 的 Na2CO3溶液,接着将未曝光部分的铜面蚀刻掉,蚀刻完毕后采用质量百分数为 4.6% 的 NaOH 溶液将图案上的感光膜去掉。
半固化片又称 PP(Pre-pregnant)片,主要由树脂和增强材料制成,半固化片的分类可以按照玻璃化温度(Tg)玻璃布的型号进行区分,其中,按 Tg 的不同分为普通 Tg 和高 Tg,普通 Tg ≥ 130℃,高 Tg ≥ 170℃ ;按玻璃布的型号区分,最常见的型号分别有7628、1506、2116、1080、106,不同型号的半固化片厚度也不同,在制作时,可以根据客户的要求和制作的需要选择不同型号的半固化片。在实施例 1 中,采用的半固化片的型号有2116 和1080。
层压时通过融合进行层压,熔合温度为 285-295℃,时间为 33 秒,冷却时间为 5秒。
将熔合后的预排片覆上铜箔后即可进行压合,压板的程式为 :
设置压板温度为 155℃并保持 20 分钟,在 7 分钟内升温至 190℃,并保持 3 分钟,在这 30 分钟内,保持压合的压力为 0.52Mpa,
然后在 2 分钟内,温度升至 195℃,压力升至 2.4Mpa,均保持 10 分钟,
然后在 2 分钟内,温度升至 200℃,并维持 91 分钟,在这 93 分钟内,保持压力为2.4Mpa,
然后在 2 分钟内,压力降至 0.34Mpa,保持 18 分钟,在这 20 分钟内,保持温度为200℃,
最后在 20 分钟内,温度降至 150℃,保持 5 分钟,在这 25 分钟内,保持压力为0.34Mpa ;
当压合的压力为 0.52-2.4Mpa 时,维持压板机内的真空度小于等于 45mmHg,当压力为 0.34Mpa,压板机内的真空度为 0。
具体见表 1 所示:
表 1 为实施例 1 的线路板压板程式
表 1 的压合程式主要用于 Tg ≥ 150℃的高 Tg 物料,在压合过程中要求温度变化在设定值的基础上保持在 -10℃ -+10℃之间,真空度小于等于 45mmHg。选择表 1 的压合程式能够压合出缺陷更少的产品,并且压板中途不易产生滑板等问题。
以上为本发明的其中具体实现方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些显而易见的替换形式均属于本发明的保护范围。
Claims (6)
1.一种减少PCB压合异物的方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、开料,将所述覆铜板开料成与所述内层片同样的尺寸;
S2、磨板,按照 1.4~2.2m/min 的速度对开料后的覆铜板进行磨板;
S3、辘膜,对磨板后的覆铜板进行辘膜,所述辘膜的参数为 :感光膜采用 1.0~2.0mil干膜,辘膜压力为 0.2~0.5Mpa,热辘中心温度为 80~130℃,辘膜速度为 1.5~2.5m/min;
S4、曝光,辘膜后停放 15~20 分钟,在 0~24 小时进行曝光,曝光能量110~180毫焦,真空度为450~650mmHg;
S5、显影,采用的显影液为质量百分数为 0.9%~1.3%的 Na2CO3溶液;
S6、蚀刻,蚀刻速度为 2.8~3.2m/min;
S7、褪膜,褪膜采用的溶剂为质量百分数为 4.0%~6.0%的 NaOH 溶液,褪膜后即得到所述图案;
S8、层压,层压步骤依次包括氧化、预排板、排板、层压、拆板、X-RAY、铣板边、磨边;
所述铆合,采用铆钉将芯板与PP片按一定顺序叠合固定在一起,芯板和PP片板边预先制作铆钉孔;铆合预排时,按一定顺序将板边已制作铆钉孔的芯板和PP片套放在铆钉机下模针上,然后按铆钉机气压按钮,铆钉由滑道中滑落套在下模针上,上模针下压冲制铆钉开花铆合固定芯板和PP片;其中铆钉机铆合≤5次即使用粘布清洁一次冲针周边及铆钉台面,所述铆钉使用铜铁合金铆钉,在铆钉冲针底座设置吸附磁铁,并且铆钉使用前用酒精清洗10分钟后方可使用。
2.根据权利要求1所述的一种减少PCB压合异物的方法,其特征在于,所述铆合在铆钉机冲针底座加装吸尘装置,吸走铆钉屑。
3.根据权利要求1所述的一种减少PCB压合异物的方法,其特征在于,所述铆合在无尘室内的铆钉机周边全部铺上地板胶,用来吸附铜屑等异物。
4.根据权利要求1所述的一种减少PCB压合异物的方法,其特征在于,所述氧化采用棕化处理,对已制作图形的芯板表面进行清洁,并对芯板表面铜粗化处理;氧化流程包括:除油、水洗、微蚀、水洗、预浸、氧化、水洗、DI水洗、烘干。
5.根据权利要求1所述的一种减少PCB压合异物的方法,其特征在于,辘膜步骤中所述辘膜压力为0.3~0.4Mpa,所述热辘中心温度为 95~105℃,所述辘膜速度为 1.8~2.2m/min;曝光步骤中所述曝光能量为140豪焦,所述真空度为500~600mmHg;显影步骤中所述显影液为质量百分数为 1.0~1.2%的Na2CO3溶液;所述褪膜采用的溶剂为质量百分数为 4.0~5.0%的 NaOH 溶液。
6.根据权利要求1所述的一种减少PCB压合异物的方法,其特征在于,所述层压步骤中,采用的压板程式为:
设置压板温度为 155℃并保持 20 分钟,在 7 分钟内升温至 190℃,并保持 3 分钟,在这30 分钟内,保持压合的压力为 0.52Mpa,
然后在 2 分钟内,温度升至 195℃,压力升至 2.4Mpa,均保持 10 分钟,
然后在 2分钟内,温度升至 200℃,并维持 91分钟,在这 93分钟内,保持压力为2.4Mpa,
然后在 2 分钟内,压力降至 0.34Mpa,保持 18 分钟,在这 20 分钟内,保持温度为200℃,
最后在 20 分钟内,温度降至 150℃,保持 5 分钟,在这 25 分钟内,保持压力为0.34Mpa ;
当压合的压力为 0.52-2.4Mpa 时,维持压板机内的真空度小于等于 45mmHg,当压力为0.34Mpa,压板机内的真空度为 0。
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20180504 |
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