CN107994134A - 一种柔性基板及其制备方法 - Google Patents

一种柔性基板及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN107994134A
CN107994134A CN201711125895.1A CN201711125895A CN107994134A CN 107994134 A CN107994134 A CN 107994134A CN 201711125895 A CN201711125895 A CN 201711125895A CN 107994134 A CN107994134 A CN 107994134A
Authority
CN
China
Prior art keywords
substrate material
flexible substrate
flexible
wet film
vacuum drying
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201711125895.1A
Other languages
English (en)
Other versions
CN107994134B (zh
Inventor
王选芸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
Original Assignee
Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd filed Critical Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
Priority to CN201711125895.1A priority Critical patent/CN107994134B/zh
Priority to PCT/CN2017/117361 priority patent/WO2019090915A1/zh
Publication of CN107994134A publication Critical patent/CN107994134A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN107994134B publication Critical patent/CN107994134B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K77/00Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
    • H10K77/10Substrates, e.g. flexible substrates
    • H10K77/111Flexible substrates
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • H10K2102/301Details of OLEDs
    • H10K2102/311Flexible OLED
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549Organic PV cells

Landscapes

  • Moulding By Coating Moulds (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

本发明公开了一种柔性基板及其制备方法,其中所述制备方法包括:将涂布有柔性衬底材料湿膜的玻璃基板进行真空干燥,以去除所述柔性衬底材料湿膜中的部分溶剂;将真空干燥后的柔性衬底材料进行固化成型,其中,所述进行固化成型的温度与所述进行真空干燥的温度相匹配。通过上述方式,本发明能够有效避免玻璃基板出现弯曲、翘曲等现象。

Description

一种柔性基板及其制备方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种柔性基板及其制备方法。
背景技术
柔性显示方法是一种在柔性材料构成的柔性基板的表面上制备器件的方法。随着科技的发展和进步,采用柔性基板制成的可弯曲的柔性器件将成为下一代光电子器件的主流设备。如显示器、芯片、电路、电源、传感器等柔性器件可以实现传统光电子器件所不能实现的功能,具有低成本或用户体验佳等优势。
以柔性AMOLED为例,需要在硬质基板表面先制备或吸附柔性基板,在制备器件后需将柔性基板从硬质基板上剥离。柔性聚酰亚胺基板的厚度只有十几微米,不可能直接在柔性聚酰亚胺基板上完成所有制程,因此选用玻璃作为柔性聚酰亚胺基板的衬底。
本申请的发明人在长期的研究过程中发现,柔性聚酰亚胺基板所使用的聚酰亚胺材料为液体材料,需进行高温固化成型,在高温和低压环境下玻璃容易受热膨胀,应用至柔性基板时,易出现弯曲、翘曲等现象。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种柔性基板及其制备方法,能够有效避免玻璃基板出现弯曲、翘曲等现象。
为解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是:提供一种柔性基板的制备方法,所述方法包括:
将涂布有柔性衬底材料湿膜的玻璃基板进行真空干燥,以去除所述柔性衬底材料湿膜中的部分溶剂;
将真空干燥后的柔性衬底材料进行固化成型,其中,所述进行固化成型的温度与所述进行真空干燥的温度相匹配。
为解决上述技术问题,本发明采用的另一个技术方案是:提供一种柔性基板,所述柔性基板是通过如上任意一项方法获得的。
本发明的有益效果是:区别于现有技术的情况,本发明提供的柔性基板的制备方法包括:将涂布有柔性衬底材料湿膜的玻璃基板进行真空干燥,以去除所述柔性衬底材料湿膜中的部分溶剂;将真空干燥后的柔性衬底材料进行固化成型,其中,所述进行固化成型的温度与所述进行真空干燥的温度相匹配。通过将固化成型的温度与真空干燥的温度相匹配,从而避免柔性衬底材料快速固化,且在反应过程中,能使得柔性衬底材料湿膜减薄的速度均匀,进而避免玻璃基板出现弯曲、翘曲等现象。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。其中:
图1是本发明柔性基板的制备方法一实施方式的流程示意图;
图2是本发明柔性基板的制备方法另一实施方式的流程示意图;
图3是本发明柔性基板一实施方式的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性的劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
参阅图1,图1是本发明柔性基板的制备方法一实施方式的流程示意图。本发明实施方式提供的柔性基板的制备方法包括:
步骤S101,将涂布有柔性衬底材料湿膜的玻璃基板进行真空干燥,以去除柔性衬底材料湿膜中的部分溶剂。
具体的,对涂布有柔性衬底材料湿膜的玻璃基板进行两次抽真空,其中,第一次的抽气速率小于第二次的抽气速率,第一次的时间为20-100s,例如20s、50s或100s,第二次的时间为400-600s,例如400s、500s或600s。
可以理解,进行真空干燥的设备可为但不限于热真空干燥设备(HVCD)。
进行干燥后,去除的柔性衬底材料湿膜中的溶剂的体积分数为50-90%,例如50%、70%或80%。
在进行真空干燥的过程中,柔性衬底材料湿膜中的溶剂通过压力差或浓度差,扩散到柔性衬底材料湿膜的表面,因在真空状态下,溶剂的沸点降低,当真空室内的压力降到一定程度时,溶剂挥发成气体并在抽气的过程中被抽出真空室。可以理解,柔性衬底材料湿膜表面的溶剂浓度较大,而远离柔性衬底材料湿膜表面的浓度较小,从而造成浓度差。
通过真空干燥,溶剂挥发的较多,且通过真空抽气,玻璃基板表面的柔性衬底材料湿膜的厚度减薄,同时通过控制抽气速率以控制减薄速率均匀,从而使得在减薄过程中玻璃基板受到的应力均匀,进而避免玻璃基板出现弯曲、翘曲的现象。
在本实施方式中,柔性衬底材料为聚酰亚胺。
在本实施方式中,进行真空干燥的温度范围为50-120℃,例如50℃、80℃或120℃,压力为小于或等于50pa。
可以理解,第一次的抽气速率小于第二次的抽气速率,即通过先慢抽后快抽的抽气过程,将真空室内的压力控制在小于或等于50pa,以将柔性衬底材料湿膜中的溶剂移出真空室的同时,能有效控制柔性衬底材料的伸缩量,从而避免造成玻璃基板变形。
真空干燥后的柔性衬底材料薄膜的厚度与柔性衬底材料湿膜的厚度之间的比例在预定比例范围内,进一步的,真空干燥后的聚酰亚胺薄膜的厚度与聚酰亚胺湿膜的厚度之间的比例范围为1.5-2:1,例如,1.5:1、1.75:1或2:1等。
聚酰亚胺湿膜的厚度范围为200-300μm,例如200μm、250μm或300μm。
步骤S102,将真空干燥后的柔性衬底材料进行固化成型,其中,进行固化成型的温度与进行真空干燥的温度相匹配。
本实施方式中,真空干燥后的柔性衬底材料在烘烤设备(Oven)中进行烘烤以发生交联化反应,从而固化成型。
在一实施方式中,进行固化成型的温度范围是50-120℃,例如50℃、80℃或120℃,以与进行真空干燥的温度相匹配。
可以理解,进行固化成型的起始温度为50-120℃,后续在烘烤设备中保持一恒温状态,使得进行固化成型的温度与进行真空干燥的温度相匹配后,能够有效防止柔性衬底材料的表面快速固化,且在反应过程中,能使得柔性衬底材料湿膜减薄的速度均匀,从而避免玻璃基板出现弯曲、翘曲等不良现象。
在一实施方式中,请参阅图2,步骤S101,将涂布有柔性衬底材料湿膜的玻璃基板进行真空干燥,还包括:
步骤S103,将玻璃基板进行清洗。
可以理解,清洗的过程至少包括紫外光处理、毛刷清洗、药液清洗以及二流体清洗,在清洗结束后,经风刀干燥系统以进行干燥处理。
步骤S104,将柔性衬底材料涂布至玻璃基板上。
在一实施方式中,将柔性衬底材料涂布在玻璃基板上之前还包括:
对柔性衬底材料进行脱泡处理。
其中,脱泡处理的时间范围为12-24h,例如12h、18h或24h。
选用聚酰亚胺作为柔性衬底材料时,因聚酰亚胺的粘度是5000-7000,即粘度较大,气体在聚酰亚胺材料中不易排出,通过搅拌能快速将气体排出。
区别于现有技术,本实施方式提供的柔性基板制备方法包括:将涂布有柔性衬底材料湿膜的玻璃基板进行真空干燥,以去除柔性衬底材料湿膜中的部分溶剂;将真空干燥后的柔性衬底材料进行固化成型,其中,进行固化成型的温度与进行真空干燥的温度相匹配。本实施方式提供的柔性基板制备方法过程中,通过将固化成型的温度与真空干燥的温度相匹配,从而避免柔性衬底材料快速固化,且在反应过程中,能使得柔性衬底材料湿膜减薄的速度均匀,进而避免玻璃基板出现弯曲、翘曲等现象。
请参阅图3,本发明实施方式还提供一种柔性基板100,该柔性基板100包括玻璃基板10和柔性衬底膜30,该柔性基板100是通过上述方法获得的。
区别于现有技术,本实施方式提供的柔性基板100在制备过程中,固化成型的温度与真空干燥的温度相匹配,从而避免柔性衬底膜30快速固化,进而避免该玻璃基板10出现弯曲、翘曲等现象。
以上所述仅为本发明的实施方式,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种柔性基板的制备方法,其特征在于,所述方法包括:
将涂布有柔性衬底材料湿膜的玻璃基板进行真空干燥,以去除所述柔性衬底材料湿膜中的部分溶剂;
将真空干燥后的柔性衬底材料进行固化成型,其中,所述进行固化成型的温度与所述进行真空干燥的温度相匹配。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述柔性衬底材料为聚酰亚胺。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述进行真空干燥的温度范围为50-120℃,压力为小于或等于50pa。
4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述进行固化成型的温度范围是50-120℃。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,真空干燥后的柔性衬底材料薄膜的厚度与所述柔性衬底材料湿膜的厚度之间的比例在预定比例范围内。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述柔性衬底材料为聚酰亚胺,真空干燥后的聚酰亚胺薄膜的厚度与聚酰亚胺湿膜的厚度之间的比例范围为1.5-2:1。
7.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,聚酰亚胺湿膜的厚度范围为200-300μm。
8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述将涂布有柔性衬底材料湿膜的玻璃基板进行真空干燥的步骤中,包括:
对涂布有柔性衬底材料湿膜的玻璃基板进行两次抽真空,其中,第一次的抽气速率小于第二次的抽气速率,第一次的时间为20-100s,第二次的时间为400-600s。
9.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述进行干燥后,去除的所述柔性衬底材料湿膜中的溶剂的体积分数为50-90%。
10.一种柔性基板,其特征在于,所述柔性基板是通过权利要求1-9任意一项方法获得的。
CN201711125895.1A 2017-11-09 2017-11-09 一种柔性基板及其制备方法 Active CN107994134B (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201711125895.1A CN107994134B (zh) 2017-11-09 2017-11-09 一种柔性基板及其制备方法
PCT/CN2017/117361 WO2019090915A1 (zh) 2017-11-09 2017-12-20 一种柔性基板及其制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201711125895.1A CN107994134B (zh) 2017-11-09 2017-11-09 一种柔性基板及其制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN107994134A true CN107994134A (zh) 2018-05-04
CN107994134B CN107994134B (zh) 2020-01-03

Family

ID=62031586

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201711125895.1A Active CN107994134B (zh) 2017-11-09 2017-11-09 一种柔性基板及其制备方法

Country Status (2)

Country Link
CN (1) CN107994134B (zh)
WO (1) WO2019090915A1 (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109360901A (zh) * 2018-09-30 2019-02-19 云谷(固安)科技有限公司 一种显示装置、柔性oled显示面板及其制作方法
CN112346273A (zh) * 2019-08-08 2021-02-09 旭化成株式会社 柔性液晶显示装置

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115818976A (zh) * 2022-11-17 2023-03-21 宁波博雅聚力新材料科技有限公司 一种柔性盖板及其制备方法和应用

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003055676A1 (de) * 2002-01-04 2003-07-10 Basf Aktiengesellschaft Biegeelastische glas-/polymerverbunde
CN104851892A (zh) * 2015-05-12 2015-08-19 深圳市华星光电技术有限公司 窄边框柔性显示装置及其制作方法
CN105789440A (zh) * 2014-12-23 2016-07-20 深圳Tcl工业研究院有限公司 用于制造柔性显示的复合基板及制备方法和amoled的制造方法
CN107068861A (zh) * 2016-07-15 2017-08-18 广东聚华印刷显示技术有限公司 电致发光器件及其制备方法和应用
CN107263892A (zh) * 2016-03-31 2017-10-20 新日铁住金化学株式会社 柔性基板的制造方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101387031B1 (ko) * 2013-02-28 2014-04-18 한국과학기술원 유리섬유직물이 매립된 플렉시블 디스플레이용 무색투명 폴리이미드 필름 제조방법
CN106893125A (zh) * 2017-03-23 2017-06-27 武汉华星光电技术有限公司 一种改性聚酰亚胺薄膜及其制备方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003055676A1 (de) * 2002-01-04 2003-07-10 Basf Aktiengesellschaft Biegeelastische glas-/polymerverbunde
CN105789440A (zh) * 2014-12-23 2016-07-20 深圳Tcl工业研究院有限公司 用于制造柔性显示的复合基板及制备方法和amoled的制造方法
CN104851892A (zh) * 2015-05-12 2015-08-19 深圳市华星光电技术有限公司 窄边框柔性显示装置及其制作方法
CN107263892A (zh) * 2016-03-31 2017-10-20 新日铁住金化学株式会社 柔性基板的制造方法
CN107068861A (zh) * 2016-07-15 2017-08-18 广东聚华印刷显示技术有限公司 电致发光器件及其制备方法和应用

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109360901A (zh) * 2018-09-30 2019-02-19 云谷(固安)科技有限公司 一种显示装置、柔性oled显示面板及其制作方法
CN112346273A (zh) * 2019-08-08 2021-02-09 旭化成株式会社 柔性液晶显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN107994134B (zh) 2020-01-03
WO2019090915A1 (zh) 2019-05-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107994134A (zh) 一种柔性基板及其制备方法
CN102637584B (zh) 一种图形化石墨烯的转移制备方法
CN102592964A (zh) 一种石墨烯薄膜的衬底转移方法
US20190282931A1 (en) Bubble removing device and coating apparatus
CN103182359A (zh) 微波匀胶设备及其方法
CN103682176A (zh) 刚性衬底基板及柔性显示器件的制作方法、刚性衬底基板
CN207257129U (zh) 冷凝结构及减压干燥装置
CN103730331A (zh) 干燥方法及干燥装置
CN104916576A (zh) 铝互连层的工艺方法、清洗腔室及等离子体加工设备
CN107910443B (zh) 一种碳电极钙钛矿太阳能电池及其制备方法
CN104925865A (zh) 一种利用超临界流体辅助剥离制备二硫化钼纳米片层的新方法
CN105842992B (zh) 一种新型的光刻涂布软烘系统
CN102629552A (zh) 应用于非制冷红外焦平面的硅锗薄膜平行转移方法
CN203697341U (zh) 一种基板真空干燥装置
CN106587040B (zh) 石墨烯薄膜的衬底转移方法
CN104726851B (zh) 一种溶胶凝胶法制备p型氧化锡薄膜材料的方法
CN105140155B (zh) 一种用于GaAs MMIC减薄工艺的粘片方法
CN102637746B (zh) 一种高介电栅介质场效应透明薄膜晶体管及其制备方法
CN105087009B (zh) 一种用于ito膜刻蚀的工艺
WO2020029465A1 (zh) 一种柔性透明电极及其制作方法
CN110391307A (zh) 一种InGaAs探测器与OLED结合的上转换器件的制备方法
CN104086090A (zh) 一种粘附载玻片的处理工艺
CN103456607A (zh) 一种碳基半导体器件制备工艺中对衬底进行预处理的方法
US9334421B2 (en) Method and device for coating with polyimide solution
TWI566342B (zh) 半導體元件封裝的熱處理方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant