CN107881464A - 沉积装置及利用其的有机物沉积方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及沉积装置以及利用该沉积装置的沉积方法，具体地，沉积装置包括掩模单元、第一板和施压单元，掩模单元布置在上述掩模单元上并与上述掩模单元隔开，施压单元与上述第一板独立地布置并且沿着上述第一板的一表面移动并对目标衬底的表面的一部分区域施压，其中上述第一板包括施压固定部，施压固定部布置在上述第一板的一表面上并且供上述施压单元联接。
Description
技术领域
本发明涉及沉积装置以及利用该沉积装置的有机物沉积方法。
背景技术
有机发光显示(organic light emitting display；OLED)装置是能够利用分别由阳极(anode)和阴极(cathode)提供的空穴和电子在位于这些电极之间的有机发光层中结合而生成的光来显示图像、文字等信息的显示装置。
所述有机发光显示装置在上述电极之间形成有机发光层和诸如电子注入层、电子传输层、空穴传输层和空穴注入层等的中间层以获得高效率的发光。
通常，上述有机发光层和上述中间层利用包括精细金属掩模(fine metal maskFMM)的掩模来形成，其中精细金属掩模具有沉积图案。然而，精细金属掩模趋向于大面积化，并且在用于控制这种精细金属掩模的冷板(Cool plate)由金属形成的情况下，由于自重而导致的下垂现象也会发生得较为严重，因此在平坦度上可能随着位置的不同而出现数百um的差异。也就是说，由于气化的有机物沉积在未保持均匀的平坦面的目标衬底表面上，因此难以形成均匀的有机膜。
这种不均匀的沉积可能在实现有机发光显示装置时导致污渍现象，因此可能成为产品缺陷的直接原因。
此外，虽然格(Cell)的布置根据样式而不同，但是沉积装置中的施压(Embo)限定在相同的位置上，而当格不与施压的位置对应时，可能发生沉积缺陷。也就是说，这种沉积缺陷被认为是在不考虑目标衬底的大小的情况下在同一沉积装置内将有机物沉积到各种大小的目标衬底上而导致的。即，对于利用一个沉积装置自由地实现具有各种格大小的目标衬底而言已达到了极限。
如上所述，若考虑目标衬底的大小而准备应对各种目标衬底的大小和格的大小的沉积设备和沉积装置，则准备装置的费用可能增加。
发明内容
本发明要解决的技术问题在于，提供这样一种沉积装置，即，通过在板上布置能够应对各种目标衬底的大小及各种格的大小的施压单元，从而能够对应于目标衬底的弯曲而调节平坦度，由此能够改善目标衬底上的不均匀沉积。
本发明的问题不限于上文中所提及的技术问题，并且本领域技术人员可通过下面的记载明确理解未提及的或其他的技术问题。
为解决上述技术问题的根据本发明一实施方式的沉积装置包括掩模单元、第一板和施压单元，其中第一板布置在所述掩模单元上并且所述掩模单元隔开，施压单元布置成独立于所述第一板并且沿着所述第一板的一表面移动并对目标衬底的表面的一部分区域施压，其中，所述第一板包括施压固定部，施压固定部布置在所述第一板的一表面上并且供所述施压单元联接。
所述施压固定部可包括彼此相邻地并排布置的第一引导部和第二引导部，其中，所述第一引导部可具有位于所述第一板的一表面上的第一引导壁和从所述第一引导壁延伸并且从所述第一引导壁在第一方向上弯曲的第一引导盖，并且所述第二引导部可具有位于所述第一板的一表面上的第二引导壁和从所述第二引导壁延伸并且从所述第二引导壁在与所述第一方向相反的第二方向上弯曲的第二引导盖。
所述第一引导盖与所述第二引导盖可在彼此相对的方向上布置成平行于所述第一板的一表面。
所述施压单元可通过由所述第一引导部和所述第二引导部包围的空间联接至所述施压固定部。
所述第一引导盖与所述第二引导盖可彼此隔开，并且所述第一引导盖与所述第二引导盖之间的距离可小于所述第一引导壁与所述第二引导壁之间的距离。
所述施压固定部可布置成与相邻的施压固定部以8mm至20mm的间隔隔开。
所述施压单元可包括本体部、联接部、平坦控制部、支承台和弹性部，其中，本体部与所述第一板部分地接触，联接部从所述本体部延伸并联接至所述第一引导部和所述第二引导部，平坦控制部与所述目标衬底的一表面接触，并且支承台和弹性部设置在所述本体部与所述平坦控制部之间并且在所述第一板的表面上方使所述平坦控制部朝着所述目标衬底的方向突出。
所述施压单元还可包括布置于所述支承台与所述平坦控制部之间的施压支承部，并且所述支承台可连接所述本体部与所述施压支承部，并且形成为在所述第一板的表面上方使所述平坦控制部朝着所述目标衬底的一表面方向突出。
所述施压单元的高度可形成为100um至300um的范围。
为解决上述技术问题的根据本发明另一实施方式的沉积装置包括掩模单元、第一板、施压单元和施压固定部，其中，第一板布置在所述掩模单元上并且与所述掩模单元隔开，施压单元布置成独立于所述第一板并且沿着所述第一板的一表面移动并对目标衬底的表面的一部分区域施压，并且施压固定部布置在所述第一板的一表面上并且供所述施压单元联接，其中，所述施压固定部具有第一引导槽、第二引导槽和联接槽，第一引导槽在所述第一板上沿着一个方向布置，第二引导槽在所述第一引导槽的侧面上布置成朝着至少任意一个方向上延伸，并且联接槽与所述第二引导槽部分地连接并且布置在相对于所述第二引导槽的延伸方向不同的方向上。
所述第一引导槽与所述联接槽的形成宽度可形成为相同的宽度。
所述第二引导槽与所述第一引导槽的形成宽度可形成为不同的宽度。
所述施压单元可具有联接至所述施压固定部的联接部，其中所述联接部可具有形成为不同长度的第一侧面和第二侧面。
为解决上述技术问题的根据本发明又一实施方式的有机物沉积方法包括以下步骤：在掩模单元上相邻地布置目标衬底；在第一板的第一位置处布置施压单元并且通过所述施压单元对所述目标衬底施压；通过所述掩模单元在所述目标衬底上沉积有机物；确认所述有机物沉积的均匀度；以及在所述第一板的与所述第一位置不同的第二位置处布置所述施压单元并且通过所述施压单元对所述目标衬底施压。
其他实施方式的具体内容包含在详细的说明及附图中。
根据本发明实施方式，至少具有如下有益效果。
根据本发明实施方式，通过在一个沉积装置中在板上布置能够应对各种目标衬底的大小和各种格的大小的施压单元，从而能够对应于目标衬底的弯曲而调整平坦度，由此能够改善目标衬底上的不均匀沉积。
根据本发明的效果不限于上文中所例示的内容，并且更加多样的效果包括在本说明书中。
附图说明
图1是示例性地示出根据本发明一实施方式的沉积装置的剖视图。
图2是根据本发明一实施方式的沉积装置的平面图。
图3是图2的A区域的放大立体图。
图4是示出根据本发明一实施方式的沉积装置的施压单元的立体图。
图5是示出根据本发明一实施方式的施压单元与施压固定部的联接状态的剖视图。
图6是示出根据本发明一实施方式的施压单元在施压固定部中的移动状态的剖视图。
图7是示出根据本发明一实施方式的施压单元与目标衬底的接触的示意性剖视图。
图8是示出根据本发明一实施方式的施压单元与格的对应关系的平面图。
图9是示出根据本发明另一实施方式的施压单元与格的对应关系的平面图。
图10是示出根据本发明又一实施方式的施压单元与格的对应关系的平面图。
图11至图13是示出本发明的比较例的平面图。
图14是示出根据本发明实施方式的施压单元与格根据目标衬底的多种大小的对应关系的平面图。
图15和图16是根据本发明其他实施方式的沉积装置的施压单元和施压固定部的剖视图。
图17是根据本发明的又一实施方式的施压固定部的平面图。
图18a至图18d是示出根据本发明的又一实施方式的施压单元联接至施压固定部的过程的立体图。
图19是示出利用根据本发明实施方式的沉积装置的有机物沉积方法的流程图。
具体实施方式
参照下文中结合附图详细描述的实施方式，本发明的优点和特征以及实现所述优点和特征的方法将变得明确。但是，本发明不限定于下文中所公开的实施方式，而是可实现为彼此不同的多种形态。这些实施方式只是为了使本发明的公开完整并且为了将发明的范围完整地告知给本发明所属技术领域的技术人员而提供的，并且本发明仅由权利要求书的范围来定义。
出于说明的便利，附图中示出的各结构的大小和厚度被任意地示出，因此本发明并不一定限定于附图所示的范围。“和/或”包括所提及的项目中的每个及一个以上的所有组合。
以下，将参照附图说明本发明的实施方式。
图1是示意性地示出根据本发明一实施方式的沉积装置的剖视图，图2是根据本发明一实施方式的沉积装置的平面图，图3是图2的A区域的放大立体图，并且图4是示出根据本发明一实施方式的沉积装置的施压单元的立体图。
参照图1至图4，根据本发明一实施方式的沉积装置1可包括沉积源10、掩模单元20、第一板50和第二板60。
沉积源10可通过将有机物放入坩埚等中并加热上述有机物使其气化而将源气体提供至目标衬底30上。掩模单元20可布置在被气化的有机物的行进方向上，例如可布置在沉积源10的上方。目标衬底30可邻近地布置在掩模单元20上。
目标衬底30可使用玻璃目标衬底等，但是并不限于此，并且也可由透明的塑料材料形成。塑料材料可以是选自由作为绝缘性有机物的聚醚砜(PES，polyethersulphone)、聚丙烯酸酯(PAR，polyacrylate)、聚醚酰亚胺(PEI，polyetherimide)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN，polyethyelenen napthalate)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET，polyethyeleneterepthalate)、聚苯硫醚(polyphenylene sulfide；PPS)、聚芳酯(polyallylate)、聚酰亚胺(polyimide)、聚碳酸酯(PC)、三乙酸纤维素(TAC)和醋酸丙酸纤维素(cellulose acetate propionate；CAP)组成的群组中的有机物。
掩模单元20可使从沉积源10产生的有机物选择性地通过。例如，掩模单元20可包括能够使气化的有机物通过的开放区域和阻挡上述气化的有机物的阻挡区域。因此，通过上述开放区域的气化的有机物可沉积在目标衬底30的表面上。掩模单元20可由精细金属掩模等形成。
掩模单元20的上方可布置有第一板50。在目标衬底30邻近地布置于或联接至掩模单元20的上方的情况下，第一板50布置在目标衬底30的上方。
第一板50上可设置有第二板60，第二板60能够产生磁力并向掩模单元20和第一板50提供磁力。这里，第一板50可以是冷板(cool plate)，并且第二板60可以是轭板(yokeplate)。
沉积装置1还包括与第一板50独立地形成的施压单元40。
如图2中所示，第一板50可具有施压固定部500。另外，沉积装置1可具有联接至施压固定部500的施压单元40。
施压固定部500作为固定/结合施压单元40的结构物，其可在第一板50的表面上布置成导轨形状。这里，第一板50可由金属形成，并且布置于上述第一板50上的施压固定部500也可由金属材料形成，但是并不限于此，它们也可由不同的材料形成。
施压固定部500可布置成格子形状，并且在交叉区域中去除了导轨形状的施压固定部500，因此能够在第一板50的表面上方使施压单元40在上下/左右方向上的移动变得容易。另外，一个施压固定部500与相邻的施压固定部500的间隔，即在上下/左右方向上相邻的施压固定部500的间隔可以是8mm至20mm。
这里，在施压固定部500的间隔不足8mm的情况下，随着间隔变窄可能难以控制施压单元40，并且由于变窄的间隔而可能导致不容易形成施压固定部500。此外，在形成施压固定部500的间隔时，可能存在难以维持上述间隔的问题。
另外，在施压固定部500的间隔超过20mm的情况下，由于施压单元40应布置成与格对应，因此在施压固定部500的间隔形成为大于一个格的大小的情况下不止格被支承，而且格以外的区域还可能被支承。由此，在对齐形成为大于一个格的施压单元40时可能存在困难，进而导致在自由地布置施压单元40时存在着困难。
参照图3，施压固定部500包括彼此相邻地并排布置的第一引导部510和第二引导部560。
第一引导部510包括第一引导壁516和第一引导盖513，其中，第一引导壁516在相对于第一板50的一表面的朝上方向上形成，并且第一引导盖513从第一引导壁516延伸并从第一引导壁516在第一方向上弯曲而形成。
在此，例如，第一引导壁516可在相对于第一板50的一表面垂直的方向上形成，并且第一引导盖513可布置成相对于第一板50的一表面平行。
第二引导部560包括第二引导壁566和第二引导盖563，其中，第二引导壁566在相对于第一板50的一表面的朝上方向上形成，并且第二引导盖563从第二引导壁566延伸并从第二引导壁566在第二方向上弯曲而形成。
在此，例如，第二引导壁566可在相对于第一板50的一表面垂直的方向上形成，并且第二引导盖563可布置成相对于第一板50的一表面平行。
因此，第二方向可形成为与第一方向相反的方向。由此，第一引导盖513和第二引导盖563在彼此相对的方向上延伸。另外，第一引导盖513与第二引导盖563彼此隔开，并且它们之间的距离小于第一引导壁516与第二引导壁566之间的距离。
如上所述，第一引导部510的第一引导壁516和第一引导盖513以及相邻的第二引导部560的第二引导壁566和第二引导盖563一同限定出被包围的空间550。施压单元40可通过上述被包围的空间550联接至施压固定部500。具体例如，施压单元40可联接至第一板50。
另外，由于被包围的空间550沿着导轨方向是开放的，因此即使施压单元40联接在被包围的空间550内，也能够沿着开放的空间在上下或左右方向上移动。
参照图4，施压单元40包括本体部412、联接部414、平坦控制部432、支承台422和弹性部424，其中，本体部412与第一板50部分接触，联接部414从本体部412延伸并联接至第一引导部510和第二引导部560，平坦控制部432与目标衬底30的一表面接触，并且支承台422和弹性部424使平坦控制部432朝着目标衬底30的方向突出。
此外，施压单元40还包括布置于支承台422与平坦控制部432之间的施压支承部434，并且支承台422形成为连接本体部412与施压支承部434并在第一板50的表面上方使上述平坦控制部432朝着目标衬底30的一表面方向突出。
具体地，本体部412布置成与第一板50的一表面接触。支承台422和弹性部424在第一板50的一表面上方使平坦控制部432和施压支承部434朝着目标衬底30的方向突出。平坦控制部432和施压支承部434与目标衬底30的一表面接触并起到对目标衬底30的凹凸面施压以使其变平坦的作用。
更具体地，本体部412的一部分可布置成与第一板50的一表面接触。联接部414从本体部412延伸，并且联接至第一引导部510和第二引导部560。联接部414的一部分可布置成与第一引导部510和第二引导部560接触。
如上所述，随着联接部414布置成与第一引导部510和第二引导部560接触，施压单元40可固定至/被支承至施压固定部500上。
本体部412和联接部414上可布置有平坦控制部432和施压支承部434。平坦控制部432或施压支承部434与目标衬底30的一表面接触，并且可对目标衬底30的凹凸面施压以使其变平坦。
具体地，平坦控制部432可使目标衬底30的凹凸面平坦化，并且在过多的压力提供至平坦控制部432上时，施压支承部434可通过与目标衬底30接触而支承上述压力，从而防止压力传递至与施压支承部434连接的支承台422。
本体部412和联接部414与平坦控制部432和施压支承部434之间可布置有支承台422和弹性部424。支承台422和弹性部424可在第一板50的表面上连接在本体部412和联接部414与平坦控制部432和施压支承部434之间，以使得平坦控制部432和施压支承部434朝着目标衬底30的方向突出。
支承台422可连接本体部412与施压支承部434，从而在第一板50的表面上方使施压单元40朝着目标衬底30的一表面方向突出。
弹性部424可传递能够对目标衬底30的凹凸面施压的弹性力。例如，在弹性部424连接至施压支承部434或平坦控制部432并且对目标衬底30的凹凸面施压时，可从施压支承部434或平坦控制部432接收压力来维持目标衬底30的平坦度。虽然弹性部424可由弹簧结构等形成，但是并不限于此，而且能够利用如橡胶材料的具有弹力的材料。
另外，施压单元40的高度可形成为100um至300um的范围。在施压单元40不足100um的情况下，可能难以形成施压单元40，并且在施压单元40超过300um的情况下，则可能超出目标衬底30的弯曲形成的范围，即，可能是超出施压单元40的可使用范围的数值。
因此，独立的施压单元40可布置在第一板50上并与目标衬底30的弯曲对应地调节平坦度，因此能够防止目标衬底30上的不均匀沉积。
图5是示出根据本发明一实施方式的施压单元与施压固定部的联接状态的剖视图，并且图6是示出根据本发明一实施方式的施压单元在施压固定部中的移动状态的剖视图。
这里，为便于说明将引用图1至图4。
参照图5和图6，施压单元40的本体部412和联接部414可联接至施压固定部500。具体地，从本体部412延伸的联接部414可布置在由第一引导部510和第二引导部560形成的被包围的空间550中。
由此，联接部414可固定至第一引导部510和第二引导部560，并且施压单元40可在第一板50的一表面的某一处被固定/支承。
另外，由于联接部414固定/支承于第一引导部510和第二引导部560，因此施压单元40可能不容易移动。因此，联接部414可被引入到本体部412的内部以弱化联接部414与第一引导部510及第二引导部560的联接力。具体例如，当平坦控制部432被施压时，能够使联接部414被引入到本体部412的内部。
如上所述，联接部414与第一引导部510和第二引导部560的联接力能够通过将联接部414引入到本体部412的内部来弱化。因此，施压单元40的移动性能够通过降低联接部414与第一引导部510和第二引导部560的联接力来增加，从而能够使得施压单元40沿着第一板50的一表面上的第一引导部510和第二引导部560在上下/左右方向上移动。
因此，通过在第一板50上将独立的施压单元40自由地布置在某一区域处，从而能够使独立的施压单元40自由地对应至目标衬底30的形成有凹凸面的区域以维持目标衬底30的平坦度。即，能够容易地实施沉积，而与格的大小和目标衬底30的大小无关。
图7是示出根据本发明一实施方式的施压单元与目标衬底的接触的示意性剖视图，图8是示出根据本发明一实施方式的施压单元与格的对应关系的平面图，图9是示出根据本发明另一实施方式的施压单元与格的对应关系的平面图，图10是示出根据本发明又一实施方式的施压单元与格的对应关系的平面图，图11至图13是示出本发明的比较例的平面图，并且图14是示出根据本发明实施方式的施压单元与格根据目标衬底的多种大小的对应关系的平面图。
这里，为便于说明，将引用图1至图6来说明根据本发明一实施方式的沉积装置。
参照图7，掩模单元20上可布置有目标衬底30。掩模单元20可布置有开放区域和阻挡区域。上述开放区域可暴露目标衬底30的一表面以使得有机物等沉积在目标衬底30的一表面上。上述阻挡区域可阻挡有机物以防止有机物的沉积。
由于在上述开放区域中有机物等沉积在目标衬底30的一表面上，因此目标衬底30的平坦度是重要的。若目标衬底30未保持平坦，则沉积至目标衬底30的有机物等可能以不同的沉积厚度或沉积量等被沉积。在沉积厚度或沉积量等形成为不同的区域中可能出现污渍区域等缺陷。
因此，为使有机物均匀地沉积在目标衬底30的一表面上，重要的是保持目标衬底30的平坦度。
有机物等可被沉积在目标衬底30的一表面上以形成格区域。即，上述开放区域可以以与形成于目标衬底30的格区域的大小相同的大小形成。
目标衬底30的弯曲面上可布置有提供压力的施压单元40以使目标衬底30平坦地形成。施压单元40可与第一板50独立地布置。施压单元40可布置在与目标衬底30的沉积面相对的另一面上以使目标衬底30的弯曲面形成为平坦面。
参照图8和图9，施压单元40与格800可布置成一对一地对应，也可布置成多个施压单元40对应于格800。
这里，参照图11至图13，根据比较例，由于施压单元40固定在一定的区域处，因此根据格800的大小和格800的布置，在沉积装置中对多种形状的目标衬底30实施沉积工艺。
然而，在根据比较例的沉积装置中，由于施压单元40被固定布置，因此可能难以将施压单元40与格800布置成相对应。
由此，在对应于施压单元40的格800中，虽然能够保持目标衬底30的平坦度而实现均匀的沉积，但是在预定的区域中，可能因格800与施压单元40对齐误差而出现难以维持目标衬底30的平坦度的区域。
例如，如图12中所示，在目标衬底30的边缘区域中，有机物可能因目标衬底30的平坦度降低而被沉积得不均匀。因此，在目标衬底30的平坦度降低的区域中可能出现污渍区域1200。
虽然为改善这种情况而进行将格800对应至固定的施压单元40的工艺，但是由于固定的施压单元40而导致在使格800与施压单元40对应时存在局限性。
参照图10和图14，根据本发明实施方式的沉积装置也可对多种大小的目标衬底提升应对力。
能够沿着施压固定部500的第一引导部510和第二引导部560移动的施压单元40也可应对目标衬底30的大小或格800的大小的变化。也就是说，因为能够在第一板50上自由地移动施压单元40，所以能够将施压单元40定位至格800中，而与格800的大小和目标衬底30的大小无关。
因此，在根据本发明实施方式的沉积装置中，施压单元40能够对应至格800，而与目标衬底30的大小和格800的大小无关，因此能够保持目标衬底30的平坦度，进而能够最大限度地减少不均匀区域1200的出现。
图15和图16是根据本发明其他实施方式的沉积装置的施压单元和施压固定部的剖视图。
这里，为便于说明，将引用图1至图6来说明根据本发明一实施方式的沉积装置。
参照图15，施压固定部500-1可布置在第一板50上。这里，施压固定部500-1可布置成“T”形状。
施压固定部500-1可包括第一引导部510-1和第二引导部560-1，第一引导部510-1和第二引导部560-1在相对于第一板50的表面的朝上方向上布置。
第一引导部510-1包括第一引导壁516-1和第一引导盖513-1，其中，第一引导壁516-1在相对于第一板50的一表面垂直的方向上形成，并且第一引导盖513-1布置成从第一引导壁516-1延伸并从第一引导壁516-1在第一方向和第二方向上弯曲成相对于第一板50的一表面平行。
第二引导部560-1包括第二引导壁566-1和第二引导盖563-1，其中，第二引导壁566-1在相对于第一板50的一表面垂直的方向上形成，并且第二引导盖563-1布置成从第二引导壁566-1延伸并从第二引导壁566-1在第一方向和第二方向上弯曲成相对于第一板50的一表面平行。
这里，第一引导盖513-1和第二引导盖563-1分别在上述第一方向和第二方向上弯曲，从而使得第一引导盖513-1和第二引导盖563-1相对于上述第一引导壁516-1和上述第二引导壁566-1构成的形状被布置成“T”形状。
如上所述，通过使施压固定部500-1布置成“T”形状，能够由相邻的施压固定部500-1连续地形成被包围的空间550。也就是说，不同于图2所示的由一对施压固定部500形成的被包围的空间550均匀地设置，在本实施方式中，通过使被包围的空间550连续地形成，能够在不受任何区域限制的情况下自由地选择期望的位置。即，不同于第一引导部510和第二引导部560以一定的间隔布置的情况，本实施方式具有能够任意地选择一定间隔的优点。
参照图16，施压固定部500-2的第一引导盖513-2和第二引导盖563-2的端部可形成为倒圆角的形状。随着沿着施压固定部500-2移动施压单元40，施压单元40与施压固定部500-2之间可能发生摩擦。可能因摩擦而导致附随物脱离，并且也可能引发因摩擦而导致的施压固定部500-2的损坏。
对此，施压单元40与施压固定部500-2的摩擦能够通过对施压固定部500-2的第一引导盖513-2和第二引导盖563-2的端部进行倒圆角处理而被最大限度地减少，从而能够防止施压单元40和施压固定部500-2的磨损。
图17是根据本发明的又一实施方式的施压固定部的平面图，并且图18a至图18d是示出根据本发明的又一实施方式的施压单元联接至施压固定部的过程的立体图。
这里，为避免重复说明并出于说明的便利，将引用图1至图6进行说明。
参照图17，第一板50上可设置有施压固定部501。施压固定部501可包括第一引导槽515、第二引导槽525和联接槽535。
第一引导槽515可在第一板50的表面上沿着横方向形成槽，但是并不限于此，也可在纵方向的表面上形成槽。
第二引导槽525可在与第一引导槽515的延伸方向垂直的方向上形成槽。第二引导槽525可形成为其宽度比第一引导槽515的宽度小。
联接槽535可在与第一引导槽515的方向平行的方向上形成。联接槽535可形成为其宽度与第一引导槽515的宽度厚度相同，并可以以一定的间隔布置。
参照图18a，可将施压单元40-1引入到施压固定部501的端部处。首先，施压单元40-1可包括联接部410-1、支承台420-1和平坦控制部430-1。联接部410-1布置成与第一板50的一表面接触。支承台420-1在第一板50的一表面上方使平坦控制部430-1朝着目标衬底30的方向突出。平坦控制部430-1与目标衬底30的一表面接触从而起到对目标衬底30的凹凸面施压以使其变平坦的作用。
联接部410-1是被引入到施压固定部501中的区域，并且平坦控制部430-1是与目标衬底30接触以提升目标衬底30的平坦度的区域。支承台420-1可起到在第一板50的一表面上方支承平坦控制部430-1以使得平坦控制部430-1朝着目标衬底30的一表面的方向突出的作用。
这里，被引入到第一引导槽515中的联接部410-1可具有第一侧面415和第二侧面417，并且第一侧面415的长度与第二侧面417的长度可形成为不同。例如，第二侧面417可形成为其长度大于第一侧面415的长度。
当将第一侧面415引入到第一引导槽515中时，施压单元40-1可沿着第一引导槽515移动。因为沿着第一引导槽515布置有多个第二引导槽525，因此能够选择性地将施压单元40-1引入到第二引导槽525中的任何一个中。
第二引导槽525与第一引导槽515的形成宽度可形成为不同的宽度。例如，第二引导槽525形成为其宽度比第一引导槽515的宽度小。即，第二侧面417可形成为其长度与第一引导槽515的宽度相同，并且第二引导槽525可形成为其宽度与第一侧面415的长度相同。
参照图18b，可沿着第一引导槽515移动施压单元40-1，并且将其定位于所选择的第二引导槽525处。从多个第二引导槽525中选择的第二引导槽525可以是目标衬底30的出现弯曲的区域。
参照图18c，可在所选择的第二引导槽525的方向上引入施压单元40-1。施压单元40-1的第一侧面415形成为其长度与第二引导槽525的宽度相同，使得施压单元40-1的第一侧面415的一侧可引入联接槽535。
参照图18d，当施压单元40-1的一部分被引入到联接槽535中时，旋转施压单元40-1以使得联接部410-1安置于联接槽535中。
这里，在旋转施压单元40-1的情况下，联接槽535的宽度可通过根据联接部410-1的长度计算旋转公差来确定。如上所述，当联接部410-1安置于联接槽535时，施压单元40-1可被联接槽535和联接部410-1固定/支承。虽然未示出，但是施压单元40-1可通过附加的固定部件稳固地固定至联接槽535的内部。
因此，通过在第一板50上将独立的施压单元40-1自由地布置在某一区域处，从而能够使独立的施压单元40-1自由地对应至目标衬底30的形成有凹凸面的区域以维持目标衬底30的平坦度，由此能够容易地实施沉积，而与格的大小和目标衬底30的大小无关。
图19是示出利用根据本发明实施方式的沉积装置的有机物沉积方法的流程图。
这里，为避免重复的说明并出于说明的便利，将引用图1至图6来说明图19。
参照图19，通过如下步骤任意地实施沉积，即，在掩模单元20上相邻地布置目标衬底30的步骤、在第一板50的第一位置处布置施压单元40并通过施压单元40对目标衬底30进行施压的步骤，以及通过上述掩模单元在上述目标衬底上沉积有机物的步骤。
这里，在通过施压单元40对目标衬底30进行施压的步骤中，上述第一位置可处于不确定是否为沉积均匀度降低的区域的状态。因此，上述第一位置可视为任意区域。
然后，确认沉积在目标衬底的表面上的有机物图案的信息。上述确认沉积的有机物图案的信息的步骤可以是确认上述有机物沉积的均匀度的步骤。这里，可辨别上述有机物沉积的均匀度降低的区域。
然后，可在第一板50的与上述第一位置不同的第二位置处布置施压单元40。上述第二位置可以是上述有机物沉积的均匀度降低的区域。
然后，可使施压单元40移动至上述第二位置处，并实施对上述目标衬底施压的步骤。
如上所述，根据利用本实施方式的沉积装置1的沉积方法能够通过一个沉积装置实现与目标衬底的大小及格的大小无关的自由度，从而能够改善由目标衬底和格的大小带来的限制，并且能够防止沉积缺陷。
此外，通过控制根据目标衬底和格的大小变化的施压单元的布置自由度能够实现稳定的有机物沉积。
虽然在上文中着重说明了本发明的实施方式，但是这些实施方式仅为示例性的，而不是限制本发明，并且本发明所属领域的技术人员将理解，能够在不脱离本发明实施方式的本质特征的范围内实施未在上文中例示的各种变型和应用。例如，在本发明的实施方式中具体示出的各构成要素可实施为变型。另外，与这些变型和应用有关的区别点应解释为包含在所附权利要求书中限定的本发明的范围中。
附图标记的说明
1：沉积装置
10：沉积源 20：掩模单元
30：目标衬底 40：施压单元
50：第一板 60：第二板
500：施压固定部
Claims (14)
1.沉积装置，包括：
掩模单元；
第一板，布置在所述掩模单元上并且与所述掩模单元隔开；以及
施压单元，布置成独立于所述第一板，并且沿着所述第一板的一表面移动并对目标衬底的表面的一部分区域施压，
其中，所述第一板包括施压固定部，所述施压固定部布置在所述第一板的一表面上并且供所述施压单元联接。
2.如权利要求1所述的沉积装置，其中，
所述施压固定部包括彼此相邻地并排布置的第一引导部和第二引导部，
其中，所述第一引导部包括：
第一引导壁，位于所述第一板的一表面上；以及
第一引导盖，从所述第一引导壁延伸，并且从所述第一引导壁在第一方向上弯曲；
所述第二引导部包括：
第二引导壁，位于所述第一板的一表面上；以及
第二引导盖，从所述第二引导壁延伸，并且从所述第二引导壁在与所述第一方向相反的第二方向上弯曲。
3.如权利要求2所述的沉积装置，其中，
所述第一引导盖与所述第二引导盖在彼此相对的方向上布置成平行于所述第一板的一表面。
4.如权利要求2所述的沉积装置，其中，
所述施压单元通过由所述第一引导部和所述第二引导部包围的空间联接至所述施压固定部。
5.如权利要求2所述的沉积装置，其中，
所述第一引导盖与所述第二引导盖彼此隔开，并且所述第一引导盖与所述第二引导盖之间的距离小于所述第一引导壁与所述第二引导壁之间的距离。
6.如权利要求1所述的沉积装置，其中，
所述施压固定部布置成与相邻的施压固定部以8mm至20mm的间隔隔开。
7.如权利要求2所述的沉积装置，其中，所述施压单元包括：
本体部，与所述第一板部分地接触；
联接部，从所述本体部延伸并联接至所述第一引导部和所述第二引导部；
平坦控制部，与所述目标衬底的一表面接触；以及
支承台和弹性部，设置在所述本体部与所述平坦控制部之间，并且在所述第一板的表面上方使所述平坦控制部朝着所述目标衬底的方向突出。
8.如权利要求7所述的沉积装置，其中，所述施压单元还包括：
施压支承部，布置于所述支承台与所述平坦控制部之间，
其中，所述支承台连接所述本体部与所述施压支承部，并且形成为在所述第一板的表面上方使所述平坦控制部朝着所述目标衬底的一表面的方向突出。
9.如权利要求1所述的沉积装置，其中，
所述施压单元的高度形成为100um至300um的范围。
10.沉积装置，包括：
掩模单元；
第一板，布置在所述掩模单元上并且与所述掩模单元隔开；
施压单元，布置成独立于所述第一板，并且沿着所述第一板的一表面移动并对目标衬底的表面的一部分区域施压；以及
施压固定部，布置在所述第一板的一表面上并且供所述施压单元联接，
其中，所述施压固定部包括：
第一引导槽，在所述第一板上沿着一个方向布置；
第二引导槽，布置成从所述第一引导槽的侧面朝着至少任意一个方向延伸；以及
联接槽，与所述第二引导槽部分地连接，并且布置在相对于所述第二引导槽的延伸方向不同的方向上。
11.如权利要求10所述的沉积装置，其中，
所述第一引导槽与所述联接槽的形成宽度形成为相同的宽度。
12.如权利要求10所述的沉积装置，其中，
所述第二引导槽与所述第一引导槽的形成宽度形成为不同的宽度。
13.如权利要求10所述的沉积装置，其中，
所述施压单元具有联接至所述施压固定部的联接部，
其中，所述联接部具有形成为不同长度的第一侧面和第二侧面。
14.有机物沉积方法，包括以下步骤：
在掩模单元上相邻地布置目标衬底；
在第一板的第一位置处布置施压单元并且通过所述施压单元对所述目标衬底施压；
通过所述掩模单元在所述目标衬底上沉积有机物；
确认所述有机物沉积的均匀度；以及
在所述第一板的与所述第一位置不同的第二位置处布置所述施压单元并且通过所述施压单元对所述目标衬底施压。
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