CN103215559B - 用于沉积薄膜的设备和方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种薄膜沉积设备和一种薄膜沉积方法。薄膜沉积设备包括：基底支撑单元，支撑基底；沉积源，使沉积材料蒸发以将沉积材料的蒸汽供应到基底；沉积源移动单元，使沉积源运动，从而沉积源相对于基底支撑单元相对地移动。

Description

用于沉积薄膜的设备和方法
本申请参照于2012年1月20日在韩国知识产权局在先提交的并被适时分配的序号为10-2012-0006547的申请，将该申请包含于此，并要求获得该申请的所有权益。
技术领域
在此描述的发明构思涉及一种基底处理设备，更具体地讲，涉及一种能够进行薄膜的沉积的设备。
背景技术
在显示装置中，有机发光显示装置可以使用有机发光元件，并且可以具有诸如宽视角、良好的对比度、快速的响应速度等之类的优点。由于该原因，所以有机发光显示装置作为下一代显示装置而能够备受瞩目。
发明内容
本发明提供了一种改进的薄膜沉积设备。
发明构思的示例性实施例提供了一种薄膜沉积设备，所述薄膜沉积设备包括：基底支撑单元，支撑基底；沉积源，使沉积材料蒸发以将沉积材料的蒸汽供应到基底的表面上；沉积源移动单元，使沉积源运动，从而沉积源相对于基底支撑单元移动。
在示例性实施例中，沉积源包括：蒸发间(即，蒸发室)，在蒸发间内使沉积材料蒸发以产生沉积材料的蒸汽；喷嘴单元，具有沉积材料的蒸汽被释放到基底所经过的输出孔；蒸汽供应单元，连接蒸发间和喷嘴单元，并向喷嘴单元供应沉积材料的蒸汽；光辐射单元，放置在喷嘴单元的一侧，并辐射光以使基底的沉积有沉积材料的区域硬化。
在示例性实施例中，基底支撑单元在基底直立于上下方向的状态下支撑基底。沉积源移动单元使沉积源在基底的上部和下部之间沿上下方向移动。光辐射单元放置在喷嘴单元的上侧和下侧中的至少一侧。
在示例性实施例中，基底支撑单元以在其上将要被沉积有沉积材料的表面面向下的方式来支撑基底。喷嘴单元将沉积材料的蒸汽供应到设置在基底支撑单元的下侧处的基底。光辐射单元沿着沉积源的移动方向放置在喷嘴单元的前面和后面中的至少一面。
在示例性实施例中，光辐射单元辐射紫外线。
在示例性实施例中，蒸发间包括：容器，具有内部空间；喷射喷嘴，与容器接合，并将液化的沉积材料雾化到容器的内部空间中；第一加热器，围绕着容器并加热容器的内部空间。
在示例性实施例中，蒸发间还包括连接容器和蒸汽供应单元的传输喷嘴，并且具有比容器的内部直径小的第一内部直径。蒸汽供应单元包括具有第一区域、第二区域和第三区域的供应喷嘴。第一区域接合到传输喷嘴，并且具有比第一内部直径小的第二内部直径。第二区域具有比第二内部直径大且比容器的内部直径小的第三内部直径，并且接合到喷嘴单元。第三区域连接第一区域和第二区域并且具有内部直径。第三区域的内部直径随着第三区域变得靠近于第二区域而逐渐增大。
在示例性实施例中，蒸汽供应单元还包括：第二加热器，围绕着供应喷嘴，以加热供应喷嘴；冷却块，围绕着第二加热器，以冷却第二加热器的外围区域。
在示例性实施例中，沉积源还包括使蒸发间相对于蒸汽供应单元进行相对移动的蒸发间移动单元。蒸汽供应单元包括连接容器和喷嘴单元且具有折皱区域的供应喷嘴，折皱区域的形状根据蒸发间的移动而变化。
在示例性实施例中，蒸发间还包括：沉积材料供应单元，将液化的沉积材料供应到喷射喷嘴；气体供应单元，将载气供应到喷射喷嘴。
发明构思的示例性实施例还提供了一种薄膜沉积方法，所述薄膜沉积方法包括：使沉积材料蒸发，以产生沉积材料的蒸汽并经由在喷嘴单元处形成的输出孔将沉积材料的蒸汽输出到基底的一个表面。基底是固定的，并且喷嘴单元相对于基底相对地移动以输出沉积材料的蒸汽。
在示例性实施例中，喷嘴单元沿直线从基底的一端移动到基底的另一端。
在示例性实施例中，以基底直立于上下方向的状态来支撑基底，喷嘴单元在基底的下部和上部之间移动。
在示例性实施例中，将基底设置成使得基底的沉积有沉积材料的表面面向下，并且喷嘴单元在基底的下面移动。
在示例性实施例中，沿着喷嘴单元的移动方向在喷嘴单元的前面和后面中的至少一面准备光辐射单元，光辐射单元与喷嘴单元一起移动，使得光辐射在基底的沉积有沉积材料的区域上。
在示例性实施例中，光辐射单元辐射紫外线。
在示例性实施例中，通过利用具有比容器的内部直径小的内部直径的喷射喷嘴使液化的沉积材料雾化到容器中并加热容器的内部空间来使沉积材料蒸发。
在示例性实施例中，液化的沉积材料与载气一起被喷射到容器的内部空间中。
在示例性实施例中，载气包括不活泼气体。
附图说明
通过参照以下结合附图考虑时的详细描述，对本发明的更完整的理解及其许多附带的优点将容易明白，同时变得更好理解，在附图中同样的标号指示相同或相似的组件，其中：
图1是示出了构造为根据本发明的原理的实施例的薄膜沉积设备的斜视图；
图2是图1中的薄膜沉积设备的剖视图；
图3是图2中的区域A的放大视图；
图4是描述作为根据本发明的原理的实施例的薄膜沉积设备的薄膜沉积方法的示图；
图5是构造为根据本发明的原理的另一实施例的薄膜沉积设备的斜视图；
图6是构造为根据本发明的原理的又一实施例的薄膜沉积设备的斜视图；以及
图7是表示图6中的薄膜沉积设备的剖视图。
具体实施方式
在传统的有机发光显示装置中，可以通过在有机发光层处分别注入到阳极和阴极的空穴和电子的复合来产生可见光线。可以通过在阳极和阴极之间与有机发光层一起选择性地插入诸如电子注入层、电子传输层、空穴传输层、空穴注入层等有机层来改善发光特性。
可以通过各种方法形成有机发光显示装置的电极、有机发光层和有机层。这些方法之一可以是沉积方法。使用沉积方法，可以向基底供应沉积材料的蒸汽，并且可以通过将光照射到基底的其上沉积有沉积材料的表面上来使沉积材料硬化。薄膜沉积设备可以包括沉积沉积材料的沉积单元和使沉积的材料硬化的硬化单元。沉积单元和硬化单元可以通过单独的室来实现。这会使得设备的总长度增加。具体地讲，在薄膜沉积设备处理大型基底的情况下，占用空间(foot print)和生产节拍时间会增加。
在下文中参照附图更充分地描述发明构思，在附图中示出了发明构思的实施例。然而，本发明构思可以以许多不同的形式实施，并且不应被解释为局限于在此阐述的实施例。相反，提供这些实施例使得本公开将是彻底的和完整的，并且这些实施例将向本领域技术人员充分地传达发明构思的范围。在附图中，为了清晰起见，会夸大层和区域的尺寸和相对尺寸。同样的标号始终表示同样的元件。
将理解的是，尽管在这里可使用术语第一、第二、第三等来描述不同的元件、组件、区域、层和/或部分，但是这些元件、组件、区域、层和/或部分不应受这些术语的限制。这些术语仅被用来将一个元件、组件、区域、层或部分与另一个区域、层或部分区分开来。因此，在不脱离发明构思的教导的情况下，下面讨论的第一元件、组件、区域、层或部分可被命名为第二元件、组件、区域、层或部分。
为了便于描述，在这里可使用空间相对术语，如“在…之下”、“在…下方”、“下”、“在…下面”、“在…上方”、“上”等来描述如在附图中所示的一个元件或特征与其它元件或特征的关系。将理解的是，空间相对术语意在包含除了在附图中描述的方位之外的装置在使用或操作中的不同方位。例如，如果附图中的装置被翻转，则被描述为“在”其它元件或特征“下方”或“之下”或“下面”的元件随后将被定位为“在”其它元件或特征“上方”。因此，示例性术语“在…下方”和“在…下面”可包括“在…上方”和“在…下方”两种方位。所述装置可被另外定位(旋转90度或者处于其它方位)，并且相应地解释这里使用的空间相对描述符。另外，还将理解的是，当层被称作“在”两个层“之间”时，该层可以是这两个层之间唯一的层，或者，也可以存在一个或多个中间层。
这里使用的术语仅为了描述特定实施例的目的，而不意图限制发明构思。如这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式的“一个(种)”和“所述(该)”也意图包括复数形式。还将理解的是，当在本说明书中使用术语“包括”和/或“包含”时，说明存在所陈述的特征、整体、步骤、操作、元件和/或组件，但不排除存在或附加一个或多个其它特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。如这里所使用的，术语“和/或”包括一个或多个相关所列项目的任意组合和所有组合。
将理解的是，当元件或层被称作“在”另一元件或层“上”、“连接到”、“结合到”或“相邻于”另一元件或层时，该元件或层可以直接在所述另一元件或层上、直接连接到、直接结合到或直接相邻于所述另一元件或层，或者，可以存在中间元件或中间层。相反，当元件被称作“直接在”另一元件或层“上”、“直接连接到”、“直接结合到”或“直接相邻于”另一元件或层时，不存在中间元件或中间层。
除非另有定义，否则这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本发明构思所属领域的普通技术人员所通常理解的含义相同的含义。进一步将理解的是，除非这里明确定义，否则术语(例如，在通用的字典中定义的术语)应该被解释为具有与相关领域和/或本说明书的背景下它们的含义一致的含义，而不是将以理想的或者过于正式的意义来解释它们的含义。
图1是示出了构造为根据本发明的原理的实施例的薄膜沉积设备的斜视图。图2是图1中的薄膜沉积设备的剖视图。
参照图1和图2，薄膜沉积设备1000可以向基底P供应沉积材料的蒸汽，以在基底P的一个表面上形成薄膜。薄膜沉积设备1000可以包括基底支撑单元100、沉积源200和沉积源移动单元300。基底P可以包括用于平板显示装置的基底、能够形成多个平板显示装置的母玻璃。沉积源200可以使沉积材料蒸发，以向基底P供应沉积材料的蒸汽。沉积材料可以包括用于有机发光元件的有机薄膜材料。可以通过将电荷传输材料、电荷产生材料和发光材料相混合来提供沉积材料。沉积源移动单元300可以使沉积源200相对于基底支撑单元100进行相对移动。在本说明书和权利要求书中，术语“蒸汽”是指气体中的液滴的胶体悬浮物。
基底支撑单元100可以是固定的，并且可以支撑基底P。基底支撑单元100可以包括矩形支撑板110，矩形支撑板110具有比基底P的面积宽的面积。基底P可以被固定在支撑板110的一个表面处以被支撑板110支撑。支撑板110可以利用静电力或机械地支撑基底P。支撑板110的一个表面可以沿上下方向设置以支撑基底P。在基底P沿上下方向直立的条件下，可以由支撑板110来支撑基底P。在本说明书和权利要求书中，“上下方向”是指与重力场的梯度对齐的竖直方向。
沉积源200可以位于基底支撑单元100的一侧处。沉积源200可以被定位成与支撑板110的支撑基底P的一个表面相邻。沉积源200可以包括基座210、蒸发间220、蒸汽供应单元240、喷嘴单元260、光辐射单元280和蒸发间移动单元290。基座210可以支撑沉积源200的元件。构成元件220、240、260、280和290可以安装在基座210处。蒸发间220可以使沉积材料蒸发。蒸汽供应单元240可以向喷嘴单元260供应沉积材料的蒸汽。喷嘴单元260可以将沉积材料的蒸汽输出到基底P。光辐射单元280可以将光辐射到基底P的将要被沉积有沉积材料的区域。蒸发间移动单元290可以使蒸发间220相对于蒸汽供应单元240进行相对移动。
蒸发间220可以由沿着一定的方向设置成一行的多个蒸发间形成。每个蒸发间220可以使沉积材料蒸发，以将沉积材料的蒸汽供应给蒸汽供应单元240。在下文中，布置多个蒸发间220的方向可以被称作第一方向X。从顶部观看时垂直于第一方向X的方向可以被称作第二方向Y。垂直于第一方向X和第二方向Y的方向可以被称作第三方向Z。第二方向Y可以与布置蒸发间220、蒸汽供应单元240和喷嘴单元260的方向平行。第三方向Z可以平行于上下方向。每个蒸发间220可以被构造成具有相同的结构。
蒸发间220可以包括室221、容器222、喷射喷嘴225、沉积材料供应单元226、载气供应单元231、传输喷嘴235、第一加热器237和冷却块238。
室221可以提供内部空间。各种装置可以设置在室221内。容器222可以位于室221内。可以在容器222内形成空间。容器222的内部空间可以设置成使沉积材料在蒸汽的作用下蒸发的空间。喷射喷嘴225可以结合在容器222的后面，传输喷嘴235可以结合在容器222的前面。喷射喷嘴225的内部直径DS可以小于容器222的内部直径DC。喷射喷嘴225可以使液化的沉积材料雾化(atomize)而被供应给容器222的内部空间。喷射喷嘴225可以包括雾化器。
沉积材料供应单元226和载气供应单元231可以接合到喷射喷嘴225。沉积材料供应单元226可以将液化的沉积材料供应给喷射喷嘴225，载气供应单元231可以向喷射喷嘴225供应载气。载气可以包括不活泼气体。可以将液化的沉积材料和载气一起供应给喷射喷嘴225。
液化的沉积材料和载气在穿过喷射喷嘴225时会被压缩，而当液化的沉积材料和载气被供应到容器222中时，它们的体积会膨胀。因此，液化的沉积材料和载气可以被雾化。可以通过高压来供应载气，以防止喷射喷嘴225被沉积材料阻塞。
第一加热器237可以被设置成围绕容器222。可以通过第一加热器237来加热容器222的内部空间。雾化的沉积材料可以通过第一加热器237来加热，从而以蒸汽态停留在容器222内。
容器222的内部压力可以与停留在容器222内的沉积材料的蒸汽量成比例地增大。随着容器222的内部压力增大，可以将沉积材料的蒸汽供应到传输喷嘴235。
图3是图2中的区域A的放大视图。参照图1至图3，传输喷嘴235可以具有比容器222的内部直径DC小的第一内部直径D1。沉积材料的蒸汽在穿过传输喷嘴235时会被压缩。
冷却块238可以被设置成围绕第一加热器237。冷却块238可以冷却第一加热器237的外围区域。冷却块238可以防止外围装置被第一加热器237加热。
蒸汽供应单元240可以分别连接到蒸发间220。蒸汽供应单元240可以沿着第二方向Y设置在蒸发间220的前面。蒸汽供应单元240可以包括供应喷嘴241、第二加热器251和冷却块252。
供应喷嘴241可以接合到传输喷嘴235。供应喷嘴241可以具有第一区域242、第二区域243和第三区域244。第一区域242可以与传输喷嘴235连接，并且可以具有比传输喷嘴235的第一内部直径D1小的第二内部直径D2。第二区域243可以具有比第一区域242的第二内部直径D2大且比容器222的内部直径DC小的第三内部直径D3。第三区域244可以放置在第一区域242和第二区域243之间，并且可以连接第一区域242和第二区域243。第三区域244的内部直径可以随着第三区域244变得靠近于第二区域243而与第二区域243和第三区域244之间的分离距离成反比地逐渐增大。即，第三区域244可以具有漏斗形状。沉积材料的蒸汽在穿过第一区域242时会被再次压缩。沉积材料的蒸汽的体积在穿过第三区域244和第二区域243时会膨胀。利用上述工艺，沉积材料可以停留在蒸汽态。第二区域243可以具有折皱区域243a。折皱区域243a的形状可以根据蒸发间220的移动而变化。蒸发间220可以在沿着第一方向X移动时与蒸汽供应单元240排列在同一行。此时，折皱区域243a的形状可以根据蒸发间220的移动而变化。
第二加热器251可以设置在供应喷嘴241的周围，以围绕供应喷嘴241。可以通过第二加热器251来加热供应喷嘴241的内部。剩余在供应喷嘴241内的沉积材料的蒸汽可以被第二加热器251再次加热，以保持蒸汽态。
冷却块252可以被设置成围绕第二加热器251。冷却块252可以冷却第二加热器251的外围区域。冷却块252可以防止外围装置被第二加热器251加热。
喷嘴单元260可以放置在蒸汽供应单元240的前面，并且可以与蒸汽供应单元240连接。喷嘴单元260可以包括输出喷嘴261、第三加热器264和冷却块266。
输出喷嘴261可以由沿着第一方向X平行设置的多个输出喷嘴形成。输出喷嘴261可以放置在与基底P的在第一方向X上的宽度对应的范围内。输出喷嘴261可以与供应喷嘴241连接。输出孔262可以形成在输出喷嘴261的前面，以输出沉积材料的蒸汽。可以将沉积材料的蒸汽供应到与基底P的第一方向的宽度对应的区域。
第三加热器264可以设置在输出喷嘴261的周围，以围绕输出喷嘴261。可以通过第三加热器264加热输出喷嘴261的内部。剩余在输出喷嘴261内的沉积材料的蒸汽可以被第三加热器264再次加热，以保持蒸汽态。
冷却块266可以被设置成围绕第三加热器264。冷却块266可以冷却第三加热器264的外围区域。冷却块266可以防止外围装置被第三加热器264加热。
光辐射单元280可以将光辐射到基底P的将要被沉积沉积材料的区域。光辐射单元280可以由在第一方向X上隔开设置的多个光辐射单元形成。光辐射单元280可以设置在与输出喷嘴261的设置在第一方向X上的宽度对应的宽度内。光辐射单元280可以放置在喷嘴单元260的下部，以与喷嘴单元260隔开。光辐射单元280可以辐射紫外线。光辐射单元280可以包括紫外发光二极管(UV LED)。沉积在基底P上的沉积材料可以在由光辐射单元280辐射的光的作用下硬化。
蒸发间移动单元290可以使蒸发间220在第一方向X上移动，使得蒸发间220、蒸汽供应单元240和喷嘴单元260排列在同一行。蒸发间移动单元290可以包括支撑板291和导轨292。支撑板291可以固定在基座210的上表面处。支撑板291可以沿着第一方向X设置。导轨292可以放置在支撑板291处，并且可以被设置成沿着第一方向X可移动。蒸发间220可以通过导轨292的移动而对齐。
沉积源移动单元300可以使沉积源200移动。沉积源移动单元300可以使沉积源200在第三方向Z上进行扫描移动。沉积源移动单元300可以与基座210接合，并且可以使基座210移动。在基座210移动时，蒸发间220、蒸汽供应单元240、喷嘴单元260、光辐射单元280和蒸发间移动单元290可以作为一体而移动。沉积源移动单元300可以使沉积源200在基底P的上部和下部之间的范围内移动。当沉积源200移动时，喷嘴单元260可以将沉积材料的蒸汽输出到基底P。光辐射单元280可以沿着喷嘴单元260移动，使得光辐射到基底P的将要被沉积有沉积材料的区域。由于喷嘴单元260和光辐射单元280一起移动，所以可以同时执行沉积材料的沉积和硬化。例如，沉积源移动单元300可以包括沿着第三方向Z设置的导轨，从而沉积源可以在第三方向Z上沿着导轨能够运动。
下面，将参照附图更充分地描述利用上述薄膜沉积设备的薄膜沉积方法。
图4是描述作为发明构思的实施例的薄膜沉积设备的薄膜沉积方法的示图。
参照图4，可以通过支撑板110来支撑直立于上下方向的基底P。可以由沉积材料供应单元226供应液化的沉积材料L，可以由载气供应单元231供应载气。载气可以是处于高压的气体。液化的沉积材料L和载气在穿过喷射喷嘴225时会被压缩，然后会被供应到容器222中。液化的沉积材料L和载气在被供应到容器222中时会膨胀而被雾化。可以通过第一加热器237来加热容器222的内部空间。由此而被加热的雾化的沉积材料可以以蒸汽态停留在容器222内。
容器222的内部压力可以与在容器222内剩余的沉积材料的蒸汽量的增加而成比例地变高，从而沉积材料的蒸汽S流动到传输喷嘴235中。沉积材料的蒸汽S可以按顺序被供应到传输喷嘴235、供应喷嘴241和输出喷嘴261。沉积材料的蒸汽S在穿过传输喷嘴235和供应喷嘴241时会被再次压缩且再次膨胀。沉积材料的蒸汽S可以被第一加热器237、第二加热器251和第三加热器264加热而保持在蒸汽态。沉积材料的蒸汽S可以经由输出喷嘴261的输出孔262输出以沉积在基底P上。
在输出沉积材料的蒸汽S的同时，沉积源移动单元300可以使沉积源200在第三方向Z上移动。沉积源移动单元300可以使沉积源200沿着第三方向Z从基底P的下部到基底P的上部进行扫描移动。喷嘴单元260可以从基底P的下部到基底P的上部沿直线移动，以输出沉积材料的蒸汽。来自输出喷嘴261的沉积材料的蒸汽可以沿着上下方向沉积在基底P上。光辐射单元280可以与输出喷嘴261一起从输出喷嘴261的下部移动，以将紫外线(UV)辐射到基底P的沉积沉积材料的区域。通过将沉积材料的蒸汽S沉积在基底P上然后向基底P的沉积区域辐射紫外线，可以在一个步骤执行薄膜的形成和硬化工艺。
图5是构造为根据发明构思的另一实施例的薄膜沉积设备1000′的斜视图。
与图1中的薄膜沉积设备不同，参照图5，光辐射单元280a和280b可以设置在喷嘴单元260的上部和下部。在沉积源200从基底P的上方区域下降到下方区域的情况下，放置在喷嘴单元260的上部处的光辐射单元280b可以向基底P的沉积有沉积材料的区域辐射光。在沉积源200从基底P的下方区域上升到上方区域的情况下，放置在喷嘴单元260的下部处的光辐射单元280a可以向基底P的沉积有沉积材料的区域辐射光。由于放置在喷嘴单元260的上部和下部处的光辐射单元280a和280b根据沉积源200的移动方向而选择性地辐射光，所以在对多个基底进行处理时能够减少沉积源200的移动次数。
图6是构造为根据本发明的原理的又一实施例的薄膜沉积设备1000″的斜视图。图7是表示图6中的薄膜沉积设备1000″的剖视图。
参照图6和图7，基底支撑单元100可以沿第三方向Z固定在沉积源200的上部。基底P可以固定在基底支撑单元100的下表面处。可以以在其上沉积有沉积材料的表面面向下的方式来支撑基底P。
沉积源200可以将沉积材料的蒸汽S供应到基底P的下表面。蒸发间220、蒸汽供应单元240和喷嘴单元260可以沿着上下方向顺序地设置。输出喷嘴261的输出孔262可以设置成面向基底P的下表面。沉积源移动单元300可以使沉积源200从基底P的一端向基底P的另一端沿直线移动。可以沿着喷嘴单元260的移动方向在喷嘴单元260的前面和后面中的至少一面上准备光辐射单元280。光辐射单元280可以与输出喷嘴261一起移动，并且可以向基底P的将要被沉积有沉积材料的区域辐射光。
可以根据基底P的尺寸和重量来选择性地使用根据发明构思的实施例的薄膜沉积设备。基底P的尺寸和重量可以按照大型显示装置的需求而增大。在因大型基底的重量而导致难以使用图7中描述的基底支撑方法的情况下，可以以基底按照针对图1至图5描述的直立的状态来支撑基底。在这种情况下，基底支撑单元100可以支撑基底P，而与因基底P的重量而造成的影响无关。此外，能够防止基底P由于自重而翘曲。结果，可以将沉积材料均匀地沉积在基底P的每个区域上。
由于沉积源200可以相对于被固定的基底支撑单元100相对地移动，所以能够将沉积材料有效地沉积在大型基底P上。不同的是，在基底支撑单元100可以相对于被固定的沉积源200相对地移动的情况下，要移动大型基底P并不容易。此外，由于在室内顺序地执行沉积材料的沉积和硬化，所以能够减少设备的占用空间和生产节拍时间。
上面公开的主题要被认为是说明性的而非限制性的，并且权利要求书意图覆盖落在本质的精神和范围内的所有这样的修改、改进和其它实施例。因此，为了在法律允许的最大程度上，范围将由对权利要求及其等同物的允许的最宽解释来确定，而不应受到前述详细的描述的限制或局限。

Claims (18)

1.一种薄膜沉积设备，所述薄膜沉积设备包括：
基底支撑单元，支撑基底；
沉积源，使沉积材料蒸发以将沉积材料的蒸汽供应到基底的表面上；以及
沉积源移动单元，使沉积源运动，从而沉积源相对于基底支撑单元移动，
其中，沉积源包括：蒸发间，在蒸发间内使沉积材料蒸发以产生沉积材料的蒸汽；喷嘴单元，具有沉积材料的蒸汽被输出到基底所经过的输出孔；蒸汽供应单元，连接蒸发间和喷嘴单元，并向喷嘴单元供应沉积材料的蒸汽；光辐射单元，放置在喷嘴单元的一侧，并辐射光以使基底的沉积有沉积材料的区域硬化；以及蒸发间移动单元，使蒸发间相对于蒸汽供应单元进行相对移动，并且使得蒸发间、蒸汽供应单元和喷嘴单元排列在同一行。
2.如权利要求1所述的薄膜沉积设备，其中，基底支撑单元在基底沿上下方向直立的状态下支撑基底，沉积源移动单元使沉积源在基底的上部和下部之间沿上下方向移动，光辐射单元放置在喷嘴单元的上侧和下侧中的至少一侧。
3.如权利要求1所述的薄膜沉积设备，其中，基底支撑单元以将要被沉积沉积材料的表面面向下的方式来支撑基底，喷嘴单元将沉积材料的蒸汽供应到设置在基底支撑单元的下侧处的基底，光辐射单元沿着沉积源的移动方向放置在喷嘴单元的前面和后面中的至少一面。
4.如权利要求1所述的薄膜沉积设备，其中，光辐射单元辐射紫外线。
5.如权利要求1所述的薄膜沉积设备，其中，蒸发间包括：
容器，具有内部空间；
喷射喷嘴，与容器接合，并将液化的沉积材料雾化到容器的内部空间中；以及
第一加热器，围绕容器并加热容器的内部空间。
6.如权利要求5所述的薄膜沉积设备，其中，蒸发间还包括连接容器和蒸汽供应单元的传输喷嘴，并且具有比容器的内部直径小的第一内部直径；
其中，蒸汽供应单元包括具有第一区域、第二区域和第三区域的供应喷嘴，
第一区域接合到传输喷嘴，并且具有比第一内部直径小的第二内部直径，
第二区域具有比第二内部直径大且比容器的内部直径小的第三内部直径，并且接合到喷嘴单元，以及
第三区域连接第一区域和第二区域并且具有内部直径，第三区域的内部直径随着第三区域变得靠近于第二区域而逐渐增大。
7.如权利要求6所述的薄膜沉积设备，其中，蒸汽供应单元还包括：
第二加热器，围绕着供应喷嘴，以加热供应喷嘴；以及
冷却块，围绕着第二加热器，以冷却第二加热器的外围区域。
8.如权利要求5所述的薄膜沉积设备，其中，蒸汽供应单元包括连接容器和喷嘴单元且具有折皱区域的供应喷嘴，折皱区域的形状根据蒸发间的移动而变化。
9.如权利要求5所述的薄膜沉积设备，其中，蒸发间还包括：
沉积材料供应单元，将液化的沉积材料供应到喷射喷嘴；以及
气体供应单元，将载气供应到喷射喷嘴。
10.一种薄膜沉积方法，所述薄膜沉积方法包括：
通过如权利要求1所述的薄膜沉积设备使沉积材料蒸发，以产生沉积材料的蒸汽并经由在喷嘴单元处形成的输出孔将沉积材料的蒸汽输出到基底的一个表面。
11.如权利要求10所述的薄膜沉积方法，其中，喷嘴单元沿直线从基底的一端移动到基底的另一端。
12.如权利要求11所述的薄膜沉积方法，其中，以基底沿上下方向直立的状态来支撑基底，喷嘴单元在基底的下部和上部之间移动。
13.如权利要求11所述的薄膜沉积方法，其中，将基底设置成使得基底的沉积有沉积材料的表面面向下，并且喷嘴单元在基底的下面移动。
14.如权利要求11所述的薄膜沉积方法，其中，沿着喷嘴单元的移动方向在喷嘴单元的前面和后面中的至少一面准备光辐射单元，光辐射单元与喷嘴单元一起移动，使得光辐射在基底的沉积有沉积材料的区域上。
15.如权利要求14所述的薄膜沉积方法，其中，光辐射单元辐射紫外线。
16.如权利要求10所述的薄膜沉积方法，其中，通过利用具有比容器的内部直径小的内部直径的喷射喷嘴使液化的沉积材料雾化到容器中并加热容器的内部空间来使沉积材料蒸发。
17.如权利要求16所述的薄膜沉积方法，其中，液化的沉积材料与载气一起被喷射到容器的内部空间中。
18.如权利要求17所述的薄膜沉积方法，其中，载气包括不活泼气体。
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