CN109371367A - 蒸镀装置 - Google Patents

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Abstract

一种蒸镀装置包括：蒸发器、气体容室、输送管、加热单元及控制器。其中，蒸发器用于容置并蒸发待蒸镀材料。气体容室用于收集待蒸镀材料的蒸发气体，在气体容室的一端面上设有多个间隔设置的喷嘴。多个输送管设于蒸发器及气体容室之间，且各输送管的二端分别连通于蒸发器及气体容室。加热单元设于蒸发器、气体容室及多个输送管的外围，用于加热蒸发器、气体容室及多个输送管。控制器电性连接于加热单元，用于控制加热单元的温度，使得气体容室内的温度和气压分别维持在一预定数值。

Description

蒸镀装置
技术领域
本发明涉及蒸镀领域，尤其涉及一种蒸镀装置。
背景技术
在有机发光二极体面板(OLED)的生产中，需将有机材料置于蒸镀设备的蒸发源中进行蒸发，所形成的蒸发气体通过蒸发源的喷嘴喷射到上方的基板后，冷凝于基板表面，便完成蒸镀作业。
如图1所示，为现有的蒸镀装置的结构示意图，蒸镀装置1包括用于容置并蒸发有机材料的蒸发器20，蒸发器20的顶部设置有若干喷嘴12。当正常蒸镀作业时，所述蒸发器20被加热器(图中未示出)加热，蒸发器20内的待蒸镀材料受热蒸发成气体，再经过喷嘴12喷向基板(图中未示出)并冷凝成薄膜。对于现有的蒸镀装置，由于蒸发器20呈长条形，蒸发器20腔室内蒸气的压力不平衡，使得从不同位置喷嘴12喷出有机分子的蒸镀速率不一致，从而造成基板上的镀膜厚度不均匀，此缺陷在制作大尺寸OLED时尤其明显。
因此，有必要提供一种蒸镀装置，以解决上述镀膜厚度不均匀之问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种蒸镀装置，可以控制有机分子的蒸镀速率，有效提升镀膜厚度的均匀性。
为实现上述目的，本发明提供一种蒸镀装置，其特征在于，包括:一蒸发器，用于容置并蒸发待蒸镀材料；一气体容室，用于收集所述待蒸镀材料的蒸发气体，在所述气体容室的一端面上设有多个间隔设置的喷嘴；多个输送管，设于所述蒸发器及所述气体容室之间，且各所述输送管的二端分别连通于所述蒸发器及所述气体容室；一加热单元，设于所述蒸发器、所述气体容室及所述多个输送管的外围，用于加热所述蒸发器、所述气体容室及所述多个输送管；以及一控制器，电性连接于所述加热单元，用于控制所述加热单元的温度，使得所述气体容室内的温度和气压分别维持在一预定数值。
在一些实施方式中，所述加热单元包括一第一加热元件，设于所述蒸发器的外围，所述第一加热元件电性连接于所述控制器。
在一些实施方式中，所述加热单元还包括至少一个第二加热元件，设于所述多个输送管的外围，所述至少一个第二加热元件电性连接于所述控制器。
在一些实施方式中，所述加热单元还包括一第三加热元件，设于所述气体容室的外围，所述第三加热元件电性连接于所述控制器。
在一些实施方式中，所述蒸发器为坩埚。
在一些实施方式中，所述多个输送管间隔设置于所述蒸发器及所述气体容室之间。
在一些实施方式中，所述气体容室为长条箱体。
在一些实施方式中，所述加热单元为加热丝、加热片的其中一种。
在一些实施方式中，所述多个喷嘴线性均匀等距地排列于所述气体容室的端面上。
为让本发明的特征以及技术内容能更明显易懂，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考用，并非用来对本发明加以限制。
附图说明
图1为现有的蒸镀装置的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的一种蒸镀装置的结构示意图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术手段及其效果更加清楚明确，以下将结合附图对本发明作进一步地阐述。应当理解，此处所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例，并不用于限定本发明。
请参考图2，其示出本发明实施例提供的一种蒸镀装置的结构示意图，蒸镀装置2包括:蒸发器20、气体容室22、输送管24、加热单元26及控制器28。其中，蒸发器20用于容置并蒸发待蒸镀材料。在一些实施方式中，蒸发器20可以为坩埚，且待蒸镀材料为一种有机材料。
气体容室22用于收集所述待蒸镀材料的蒸发气体，在气体容室22的一端面上设有多个间隔设置的喷嘴220。在一些实施方式中，气体容室22为长条箱体。另外，多个喷嘴220线性均匀等距地排列于气体容室22的端面上，用于喷射所述蒸发气体。
多个输送管24设于蒸发器20及气体容室22之间，且各输送管24的二端分别连通于蒸发器20及气体容室22。在本发明实施方式中，多个输送管24间隔设置于蒸发器20及气体容室22之间。
加热单元26设于蒸发器20、气体容室22及多个输送管24的外围，用于加热蒸发器2020、气体容室22及多个输送管24。在一些实施方式中，加热单元26为加热丝、加热片的其中一种。
控制器28电性连接于加热单元26，用于控制加热单元26的温度，使得气体容室22内的温度和气压分别维持在一预定数值。在一些实施方式中，所述预定数值视需求的镀膜厚度而定。
继续参考图2，在本发明实施方式中，加热单元26包括第一加热元件261，第一加热元件261设于蒸发器20的外围且电性连接于控制器28。加热单元26还包括至少一个第二加热元件262，第二加热元件262设于多个输送管24的外围且电性连接于控制器28。进一步地，加热单元26还包括第三加热元件263，第三加热元件263设于气体容室22的外围且电性连接于控制器28。在图2所示的实施例中，第一加热元件261、第二加热元件262及第三加热元件263具体地为加热丝，但本发明的应用不限于上述的举例，第一加热元件261、第二加热元件262及第三加热元件263亦可为加热片或其他种类的加热元件。
当第一加热元件261加热蒸发器20内的待蒸镀材料时，蒸发器20内不同位置产生的蒸发气体的温度不尽相同，因此当蒸发气体通过多个输送管24时，控制器28会控制不同的第二加热元件262的温度，使得每一个输送管24释放出来的蒸发气体的温度趋于一致，例如：控制位于蒸发器20两端的输送管24上的第二加热元件262的温度高于位于蒸发器20中央的输送管24上的第二加热元件262的温度。此外，当蒸发气体通过多个输送管24后，会在气体容室22内混合以进行气压平衡，而且控制器28会控制第三加热元件263的温度，使得蒸发气体维持于气体分子状态，且使得气体容室22内的气压维持在一预定数值。
根据理想气体方程序(PV＝nRT)可知，当气压(P)、温度(T)维持不变，则气体分子数目(n)或气体体积(V)将为恒定值。由于本发明中气体容室22内的温度和气压始终维持不变，使得多个喷嘴220喷出蒸发气体的速率或有机分子数目相同，从而使得镀膜的厚度均匀相同，达到均匀蒸镀的目的。
综上所述，本发明提供的一种蒸镀装置,主要通过控制器来控制加热单元的温度，从而控制有机分子的蒸镀速率，达到提升镀膜厚度的均匀性的目的。
应当理解的是，本发明的应用不限于上述的举例，对本领域普通技术人员来说，可以根据上述说明加以改进或变换，所有这些改进和变换都应属于本发明所附权利要求的保护范围。

Claims (9)

1.一种蒸镀装置,其特征在于,包括:
一蒸发器，用于容置并蒸发待蒸镀材料；
一气体容室，用于收集所述待蒸镀材料的蒸发气体，在所述气体容室的一端面上设有多个间隔设置的喷嘴；
多个输送管，设于所述蒸发器及所述气体容室之间，且各所述输送管的二端分别连通于所述蒸发器及所述气体容室；
一加热单元，设于所述蒸发器、所述气体容室及所述多个输送管的外围，用于加热所述蒸发器、所述气体容室及所述多个输送管；以及
一控制器，电性连接于所述加热单元，用于控制所述加热单元的温度，使得所述气体容室内的温度和气压分别维持在一预定数值。
2.如权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于：所述加热单元包括一第一加热元件，设于所述蒸发器的外围，所述第一加热元件电性连接于所述控制器。
3.如权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于：所述加热单元还包括至少一个第二加热元件，设于所述多个输送管的外围，所述至少一个第二加热元件电性连接于所述控制器。
4.如权利要求3所述的蒸镀装置，其特征在于：所述加热单元还包括一第三加热元件，设于所述气体容室的外围，所述第三加热元件电性连接于所述控制器。
5.如权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于：所述蒸发器为坩埚。
6.如权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于：所述多个输送管间隔设置于所述蒸发器及所述气体容室之间。
7.如权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于：所述气体容室为长条箱体。
8.如权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于：所述加热单元为加热丝或加热片。
9.如权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于：所述多个喷嘴线性均匀等距地排列于所述气体容室的端面上。
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