WO2014198112A1 - 有机镀膜装置及镀膜方法 - Google Patents

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沈武林
姜春生
代青
陈海晶
袁广才
方金钢
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京东方科技集团股份有限公司
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    • H10K71/166—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask

Definitions

  • Embodiments of the present invention relate to the field of active matrix organic light emitting diode (LED) process, and more particularly to an organic device and an I3 ⁇ 4 method.
  • LED active matrix organic light emitting diode
  • OLED displays are gradually becoming more and more vectorized, especially large-size AMOLED (Active Matrix Organic Light Emitting Diode) displays are attracting attention, and EL (electroluminescent) organic electric fields are formed.
  • Light-emitting (also called electroluminescence) components have also become the main research object.
  • the conventional process for forming an organic thin film of an EL component light-emitting layer is vapor deposition film formation.
  • the conventional vapor deposition method uses a single and dot-shaped vapor deposition source as a vapor deposition source, and there is no certain molecularity due to vaporization or sublimation.
  • a device capable of coating a large-area substrate comprising: a container portion 24, an evaporation airflow adjusting portion 25, and an evaporation top plate 26, as shown in FIG. 1, in addition to the heating device. (Not shown in Figure 1).
  • the evaporating airflow adjusting portion 25 has a porous layer structure between the container portion 24 and the vapor-deposited top plate 26, controls the adjustment and direction of the evaporating airflow, enlarges the distribution area of the airflow, and finally uniformly ejects the airflow onto the substrate to form a multi-point.
  • the vapor deposition effect of the surface adjusts the size of the deposition area where the respective ejection openings overlap by adjusting the distribution and diameter of the ejection openings 261.
  • the devices and processes in this solution cannot improve the accuracy of the organic film in the process of Mo, and there are still large organic materials. The problem of the fee, and the film formation speed has not been improved.
  • the uniform organic gas is uniformly charged to obtain a charged organic gas; and the charged organic gas accelerates toward the substrate by an electric field and forms an organic film on the substrate.
  • FIG. 1 is a schematic structural view of an organic material evaporation device in the prior art
  • 2 is a schematic structural view of an organic device according to Embodiment 1 of the present invention
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a method for depositing charged organic gas from a shower cavity to a surface of a substrate according to Embodiment 1 of the present invention
  • An embodiment of the present invention provides an organic device.
  • the structure is shown in FIG. 2, and includes: an evaporation device 91, an electron emission device 5, and a shower device 92.
  • the evaporation apparatus includes an evaporation vessel 3 which is a linear evaporation vessel which generates a uniform organic gas from the evaporation vessel 3.
  • the so-called linearity is that the evaporation container can generate linear organic gas in the container under the condition that the linear heating source provides thermal energy, and realizes linear evaporation of the organic material.
  • the evaporation container 3 is generally made of stainless steel material, and contains organic material 2 inside.
  • the evaporation vessel 3 is a linear evaporation vessel because the top of the evaporation vessel 3 has a slit-like evaporation port 15.
  • a cooling pipe (not shown in FIG. 2) may be disposed around the evaporation vessel 3, and the inside of the cooling pipe is provided with a circulating refrigerant (such as a gas) so that the evaporation vessel 3 maintains a constant temperature and is reduced.
  • a circulating refrigerant such as a gas
  • the electron-emitting device 5 is horizontally disposed above the evaporation container 3, and the electron-emitting device 5 is a linear electron gun, or a plurality of small electron guns arranged uniformly and uniformly, and emits electrons uniformly outward.
  • the electrons are attached to the organic gas, and the organic gas is sufficiently uniformly charged.
  • the electron energy emitted by the electron gun should not be too large to avoid damaging the organic material.
  • the type of electron gun can be a thermal electron emission tungsten electron gun or a cold field emission electron gun.
  • the method of charging the organic gas is not limited to the above embodiment, and the organic gas may be positively charged.
  • the electron-emitting device 5 uniformly charges the organic gas evaporated from the evaporation vessel 3 to obtain a charged organic gas Q.
  • An organic film is formed on the substrate 13, and the shower apparatus includes, for example, an electrode plate 7, a shower chamber 8, and a shower port 11.
  • the magnitude of the bias voltage supplied from the external power source to the electrode plate 7 can be adjusted in accordance with the film formation of the organic film.
  • another electrode plate opposite to the electrode plate 7 may be included, and the other electrode plate may be directly grounded, may be disposed near the shower port 11, or may be disposed below the conveyor belt of the base 14.
  • the external power source can provide a positive bias or a negative bias, which is determined by the positive or negative charge of the charged organic gas Q (i.e., the positive and negative of the electron e emitted by the electron-emitting device 7).
  • the charged organic gas Q reaches the shower chamber 8, and the position and size of the shower chamber 8 are not particularly limited. However, in order to ensure that the organic gas can be sufficiently and uniformly charged, the shower chamber 8 needs to be kept at a certain distance from the electron gun 5 and the evaporation port 15.
  • a gas passage 9 may be provided between the evaporation vessel 3 and the shower chamber 8, and the electrons e emitted from the electron emission port uniformly charge the organic gas evaporated from the evaporation port 15, and the charged organic gas Q passes through the gas passage 9.
  • the evaporation port 15 is horizontally moved into the shower chamber 8.
  • an insulating portion 6 may be provided between the electrode plate 7 and the shower chamber 8 to insulate between the electrode plate 7 and the shower chamber 8, and the material of the insulating portion 6 is not particularly limited.
  • the organic gas Q receives a vertical downward electric field force, and under the action of the electric field force, the acceleration starts to accelerate downward, moves to the shower port 15 and ejects.
  • Step S2 The uniform organic gas is uniformly charged to obtain a charged organic gas. This process is carried out at the evaporation port of the evaporation vessel.
  • the electron-emitting device uniformly emits electrons (both positive and negative charges), and since the emission port of the electron-emitting device is above the evaporation port of the evaporation container, electrons uniformly emitted by the electron-emitting device are attached to the uniform organic gas, so that uniform The organic gas is uniformly charged to obtain a charged organic gas.
  • the method provided by the present embodiment is to charge the organic material after being evaporated into a gas, and the advantage is that the charging is more uniform, so that the organic film formed by the charged organic gas sprayed on the substrate is more uniform.
  • the electric field is realized by only one electrode plate, and the potential difference is formed by providing a positive or negative bias on the electrode plate, thereby saving space in the shower device and saving the manufacturing cost of the device;

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Abstract

一种有机镀膜装置及镀膜方法，所述有机镀膜装置包括：蒸镀设备、电子发射装置和喷淋设备；其中蒸镀设备包括蒸发容器，蒸发容器为线性蒸发容器，从蒸发容器中产生均匀的有机气体；电子发射装置水平设置在蒸发容器的上方，使得从蒸发容器蒸发出的有机气体均匀带电，得到带电的有机气体；喷淋设备通过电场的作用使得带电的有机气体向基板运动，以在基板上形成有机膜。

Description

有机镀膜装置及! ¾ 方法 技术领域
本发明实施例涉及有源矩阵有机发光二极管制程领域， 尤其涉及一种有 机! ¾ 装置及 I¾ 方法。 背景技术
OLED ( Organic Light Emitting Diode, 有机发光二极管）显示器具有自 发光的特性， 采用非常薄的有机材料涂层和玻璃基板， 当电流通过时， 有机 材料就会发光， 而且 OLED显示屏幕可视角度大， 还具有显著的节省电能、 筒单的结构、 优质的动态画面等优点， 已被得到业内的广泛关注。
目前， OLED显示器正逐渐向量产化迈进， 特别是大尺寸的 AMOLED ( Active Matrix Organic Light Emitting Diode, 有源矩阵有机发光二极管）显 示器正深受瞩目， 而形成该显示器的 EL ( electroluminescent , 有机电场发光 也称电致发光）组件也成为主要研究的对象。 形成 EL组件发光层的有机薄 膜的常规工艺是蒸镀成膜， 传统的蒸镀方式是利用单一且为点状的蒸镀源作 为蒸镀源， 由于气化或升华出的分子并无一定的方向性， 有非常多的有机材 料是附着在腔体上， 真正蒸镀到基板的有机材料比率非常低。 对于单一点状 蒸镀源而言， 由于从蒸镀源到有机膜形成的位置之间的距离会因为基板位置 的不同而不同， 故难以形成均匀的薄膜。
由于有机薄膜的均匀性对发光亮度及发光色造成的影响极大， 所以在制 造有机薄膜时， 要求蒸镀装置能形成大面积且精密度极佳的蒸镀层。 现有技 术中存在一种能对大面积基板进行镀膜的装置， 包括： 容器部 24、 蒸发气流 调节部 25和蒸镀顶板 26三部分，如图 1所示，除此之外还包括加热装置（图 1中未显示）。 蒸发气流调节部 25具有多孔层状结构， 位于容器部 24与蒸镀 顶板 26之间，控制蒸发气流的调节和方向， 扩大气流的分布面积， 最终气流 均匀地喷射到基板上， 形成多点成面的蒸镀效果， 通过调节喷射口 261的分 布和直径， 调节各个喷射口重叠的沉积区域的大小。 但是该方案中的装置及 工艺还无法提高有机膜在 莫过程中的精确度， 仍然存在较大的有机材料浪 费的问题， 而且成膜速度没有得到提高。
因此选择适当有机材料和设计良好的蒸镀机组， 提高有机材料的利用率 和精确度， 将是厂商研究发展与未来竟争重点所在。 目前在有机材料的蒸镀 方面， 由于遮挡掩模存在尺寸和精准度问题， 通常会出现沉积出的图案误差 很大且不均匀的缺点， 从而造成像素相互干扰和短路的机会， 莫的精准度 降低， 进一步使得成品率降低。 发明内容
本发明提供了一种有机镀膜装置和镀膜方法， 使得有机材料均匀地附着 在基板上， 提高镀膜的精确度和成膜速率， 保证膜厚的均匀性， 提高有机材 料的利用率， 防止有机材料的浪费。
根据本发明第一方面， 提供了一种有机 莫装置， 包括蒸镀设备、 电子 发射装置和喷淋设备；
其中所述蒸镀设备包括蒸发容器， 所述蒸发容器为线性蒸发容器， 从所 述蒸发容器中产生均匀的有机气体；
所述电子发射装置水平设置在所述蒸发容器的上方， 使得从所述蒸发容 器蒸发出的有机气体均匀带电， 得到带电的有机气体； 以在所述基板上形成有机膜。
根据本发明第二方面， 提供了一种有机 莫方法， 包括：
对有机材料进行加热以蒸发出均匀的有机气体；
所述均匀的有机气体被均匀地带电， 得到带电的有机气体； 以及 所述带电的有机气体在电场的作用下向基板加速运动并在基板上形成有 机膜。 附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案， 下面将对实施例的附图作 筒单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本发明的一些实施例， 而非对本发明的限制。
图 1为现有技术中的有机材料蒸镀装置结构示意图； 图 2为本发明实施例一中的有机 莫装置的结构示意图； 图 3为本发明实施例一中带电有机气体从喷淋腔沉积到基板表面的截面 示意图；
图 4为本发明实施例一中有机! ¾莫装置和可移动基板的立体示意图； 图 5为本发明实施例二中的有机 莫方法的步骤流程图；
图 6为本发明实施例二中的有机 莫方法中步骤 S1的流程图； 图 7为本发明实施例二中的有机 莫方法中步骤 S3的流程图。
附图标记列表：
1、 加热源， 2、 有机材料， 3、 蒸发容器， 4、 挡板， 5、 电子发射装置， 6、 绝缘部， 7、 电极板， 8、 喷淋腔， 9、 气体通道， 10、 喷淋腔壁， 11、 喷 淋口， 12、 掩模， 13、 基板， 14、 基台， 15、 蒸发口， 24、 容器部， 25、 蒸 发气流调节部， 26、 蒸镀顶板， 261、 喷射口， 91、 蒸镀设备， 92、 喷淋设备。 具体实施方式
为使本发明实施例的目的、 技术方案和优点更加清楚， 下面将结合本发 明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、 完整地描述。显然， 所描述的实施例是本发明的一部分实施例， 而不是全部的实施例。 基于所描 述的本发明的实施例， 本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获 得的所有其他实施例， 都属于本发明保护的范围。
实施例一
本发明实施例一中提供了一种有机 莫装置， 结构示意图如图 2所示， 包括： 蒸镀设备 91、 电子发射装置 5和喷淋设备 92。
蒸镀设备包括蒸发容器 3 , 蒸发容器 3为线性蒸发容器， 从蒸发容器 3 中产生均匀的有机气体。 所谓线性就是蒸发容器在线性加热源提供热能的情 况下能够在容器中产生线性的有机气体， 实现有机材料的线性蒸发， 蒸发容 器 3—般由不锈钢材料制作， 在其内部容纳有有机材料 2。
在蒸镀设备中还包括： 加热源 1 , 加热源 1例如为线性加热源或多个并 列设置的加热源， 设置在蒸发容器 3的底部， 对蒸发容器 3内的有机材料 2 进行加热， 为有机材料 2的蒸发提供热量。 加热源 1例如由线圏组成， 利用 设置在蒸发容器 3外部的交流电源对该线圏施加既定频率的交流电压， 可以 准确地控制加热温度， 从而保证有机材料能够均匀受热。
蒸发容器 3为线性蒸发容器， 因为蒸发容器 3的顶部具有狭缝状的蒸发 口 15。 在一个示例中， 还可以在蒸发容器 3的四周设置冷却管（图 2中未显 示）， 冷却管的内部装有循环的制冷剂 （如气体）， 使得蒸发容器 3保持恒定 的温度， 减小有机材料热裂解或产生化学反应的可能性。
电子发射装置 5水平设置在蒸发容器 3的上方并且发射电子 e, 电子发 射装置 5的电子发射口位于蒸发口 15的上方， 使得从蒸发口 15蒸发出的有 机气体均匀带电， 得到带电的有机气体（图 2中用 Q表示）。 蒸发口 15的一 侧设置可以自由滑动的挡板 4 (如设置成推拉式的挡板 ), 通过对挡板 4的调 节能控制蒸发口 15的打开与关闭， 实现调节蒸发容器 3中有机气体的输出。 当不需要镀膜时就可以将挡板 4关闭。 因为有机材料在加热源的余温作用下 还会继续蒸发出一部分气体， 会造成有机材料的浪费， 因此为了节省材料， 设置挡板可以及时将蒸发容器的蒸发口 15关闭，节约成本，也提高材料的使 用效率。
电子发射装置 5水平设置在蒸发容器 3的上方， 电子发射装置 5为线性 的电子枪， 或多个排列均匀整齐的小型电子枪， 均匀地向外发射电子。 电子 附着在有机气体上， 有机气体被充分地均匀地带电。 电子枪发射的电子能量 不能过大， 以免损坏有机材料。 电子枪的类型可以是热电子发射钨丝电子枪， 也可以是冷场发射电子枪。 然而， 使有机气体带电的方法不限于上述实施方 式， 而且还可以使有机气体带正电荷。
电子发射装置 5使得从蒸发容器 3蒸发出的有机气体均匀带电， 得到带 电的有机气体 Q。 在基板 13上形成有机膜， 喷淋设备例如包括： 电极板 7、 喷淋腔 8和喷淋口 11。
电极板 7设置在喷淋腔 8的顶部，喷淋口 11位于喷淋腔 8的底部， 电极 板 7在外部电源提供偏压时产生电场， 通过电场的作用力使得带电的有机气 体从喷淋设备 92的喷淋口 11喷出， 在基板 13上形成有机膜。 例如， 在本实 施例中带电的有机气体 Q受到竖直向下的电场力作用， 由喷淋腔 8的上部运 动到下部， 直到从喷淋口 11喷出， 喷淋在基板 13上， 在基板 13上形成有机 膜， 如图 3所示。
外部电源为电极板 7提供的偏压大小可根据所述有机膜的成膜情况进行 调节。 在一个示例中， 还可包括与电极板 7相对的另一电极板， 该另一电极 板可以直接接地， 也可以设置在喷淋口 11附近， 还可以设置在基台 14传送 带的下方。 外部电源可以提供正偏压或负偏压， 而这需要根据带电的有机气 体 Q所带电荷的正负 （也就是电子发射装置 7发射的电子 e的正负） 决定。 如果电子发生装置 7发射的是正电子， 则有机气体 Q也是带正电的， 则需要 给电极板 7提供正偏压， 产生垂直向下的电场， 带正电的有机气体 Q就受到 垂直向下的作用力， 向下运动； 如果电子发生装置 7发射的是负电子， 则有 机气体 Q也是带负电的， 则需要给电极板 7提供负偏压， 产生垂直向上的电 场， 带负电的有机气体 Q就受到垂直向下的作用力， 向下运动。
在本实施方式中， 电极板 7例如采用不锈钢材料制作， 但并不限于此材 料， 电极板 7的大小可根据喷淋腔 8上部的空间进行设计。 为了使有机气体 获得足够的速度， 喷淋腔 8在竖直方向的高度需要保持一定距离， 为了提高 成膜均勾性，水平方向也需要保持一定宽度。喷淋腔壁 10例如采用不锈钢材 质， 但并不限于此材料。
本实施例不限于上述实施方式， 可以进行种种变更。 例如， 上述实施方 式所示的蒸发容器的数量、 配置， 蒸发口的形状、 配置、 大小， 喷淋口的大 小。
带电有机气体 Q到达喷淋腔 8, 喷淋腔 8的位置和大小没有特别限定。 但是为了确保有机气体能被充分地、 均匀地带电， 喷淋腔 8与电子枪 5以及 蒸发口 15需要保持一定的距离。 在一个示例中， 在蒸发容器 3与喷淋腔 8 之间可设置气体通道 9, 电子发射口发射的电子 e将蒸发口 15蒸发出的有机 气体均匀带电， 带电的有机气体 Q通过气体通道 9由蒸发口 15水平运动到 喷淋腔 8内。
在一个示例中，可在电极板 7与喷淋腔 8之间设置绝缘部 6,使电极板 7 与喷淋腔 8之间绝缘， 绝缘部 6的材料没有特别限定。 有机气体 Q受到竖直 向下的电场力， 并在电场力的作用下获得加速度开始向下加速运动， 运动到 喷淋口 15处并喷出。
图 3为有机气体从喷淋腔 8沉积到基板 13表面的截面示意图。 喷淋口 11与基板 13之间可设置有掩模， 带电有机气体被加速后， 通过掩模 12, 再 沉积到基板 13上形成有机膜。 由于掩模 12位于基板 13上方，可以缩短掩模 与基台 14的距离，避免了大面积的金属掩模由于热胀冷缩的关系产生的弹性 疲劳或下垂， 从而避免了对位不准的问题， 提高 莫的准确度。 为了实现大 面积有机材料的沉积， 喷淋腔 8的横向长度没有特别限定。
本实施例所述的有机 莫装置与基板 13 之间在水平方向需要保持匀速 的相对运动，如图 4所示的有机材料蒸镀系统运行示意图，基台 14保持一定 速度 V在喷淋口 11下方移动， 使整个基板 13都能被均匀地涂上有机材料。 但是本发明并不限于移动基台， 还可以是喷淋装置带着喷淋腔 8一起保持一 定的速度移动。 为了达到所需要的有机膜厚度， 喷淋腔也可以采用来回扫描 式进行移动， 从而能更加适用于大面积基板和器件的大批量生产， 并且能够 提高有机材料的利用效率， 也能够提高成膜速度。
实施例一提供的有机 莫装置在蒸发有机材料时采用了线性蒸发， 提高 了有机材料的利用率。利用电场来加速有机气体，提高有机气体的成膜速度， 缩短! ¾ 的生产周期， 同时保证有机气体的运动方向一致， 保持成膜的均匀 性。 最后在有机气体喷淋时， 采用自上而下的蒸镀方式， 在基板上设置掩模， 避免由于热胀冷缩产生的弹性疲劳或者下垂造成对位不准， 提高镀膜的准确 度。 进一步地， 通过在蒸发口设置挡板， 停止蒸发时能用挡板封住蒸发口， 防止有机气体继续从容器内挥发， 减少有机材料的浪费， 节约成本。
实施例二
本发明实施例二中提供了一种有机镀膜方法， 流程示意图如图 5所示， 包括：
步骤 Sl、 对有机材料进行加热， 蒸发出均匀的有机气体。 这个过程是在 蒸发容器内进行的， 有机材料均匀地分布在蒸发容器的底部， 由容器壁下方 的加热源加热进行蒸发。
在一个示例中， 步骤 S1的步骤流程如图 6所示， 包括：
步骤 Sll、 对有机材料均匀地进行加热， 产生有机气体。 其中对有机材 料的加热采用线性加热源或多个并列排列的加热源， 对有机材料进行均匀地 力口热。
步骤 S12、 有机气体经过线性蒸发， 输出均匀的有机气体。 蒸发时采用 的蒸发容器为线性蒸发容器， 例如在其顶部可具有狭缝状的蒸发口， 使得有 机气体能够被均匀地从蒸发口排出。
步骤 S2、 均匀的有机气体被均匀地带电， 得到带电的有机气体。 这个过 程是在蒸发容器的蒸发口处进行的。
例如， 电子发射装置均匀地发射电子（正负电荷均可）， 由于电子发射装 置的发射口在蒸发容器的蒸发口上方， 电子发射装置均匀发射的电子附着在 均匀的有机气体上，使得均匀的有机气体被均匀带电，得到带电的有机气体。 本实施提供的方法是在有机材料被蒸发成气体后再带电， 好处就是带电更加 均匀， 从而带电后的有机气体喷淋在基板上形成的有机膜也会更加均匀。
在一个示例中，带电的有机气体通过蒸发容器与喷淋腔之间的气体通道， 由蒸发口运动到喷淋腔中。
步骤 S3、带电的有机气体在电场的作用下向基板加速运动并在基板上形 成有机膜。
在一个示例中， 步骤 S3的步骤流程如图 7所示， 包括：
S31、 在外部电源提供偏压时， 喷淋腔顶部的电极板与喷淋腔的底部之 间的电势差形成电场。 本实施例提供的方法就需要一块电极板就可以根据电 势差形成电场差， 不同于两块电极板产生电势差的设计， 可以节约电极板材 料， 节省成本。
532、 带电的有机气体运动到喷淋腔后， 受到向下的电场力， 并在电场 力作用向下加速运动。
533、 带电的有机气体运动到喷淋腔底部的喷淋口， 从喷淋口喷出。 带 电的有机气体受到电场力的作用， 在喷淋腔中由上向下运动， 由于有机气体 被均匀带电， 受均匀的电场力作用才会从喷淋口均匀地喷出。
534、 喷出的有机气体通过掩模沉积在基板上， 形成有机膜。 由于掩模 位于基板上方， 可以缩短掩模与基台的距离， 避免了大面积的金属掩模由于 热胀冷缩的关系产生的弹性疲劳或下垂， 从而避免了对位不准的问题， 提高 ^莫的准确度。
实施例二提供的镀膜方法， 对有机材料进行线性蒸发， 提高了有机材料 的利用率， 利用电场来加速有机气体， 提高有机气体的成膜速度， 缩短镀膜 的生产周期， 同时保证有机气体的运动方向一致， 保持成膜的均匀性。 最后 在有机气体喷淋时， 采用自上而下的蒸镀方式， 在基板上设置掩模， 避免由 于热胀冷缩产生的弹性疲劳或者下垂造成对位不准， 提高镀膜的准确度。
综上， 本发明实施例提出了的有机镀膜装置及! ¾ 方法， 通过对传统的 蒸镀装置进行改进， 在蒸发容器内对有机材料进行线性蒸发， 蒸发后被电子 发射装置发射出的电子均匀带电， 带电的有机气体运动到喷淋腔内， 在电极 板产生的电场力的作用下向下运动， 并从喷淋腔下部的喷淋口喷出， 最后通 过掩模沉积在基板上完成! ¾ 。 与现有技术的蒸镀方式相比， 本发明的优点 ：¾口下：
( 1 )在有机材料蒸发成有机气体后再带电，并结合使用电子枪等电子发 射设^吏蒸发的有机气体带电， 使得有机气体带电更加均匀；
( 2 ) 只用一个电极板实现电场， 通过在电极板上提供正偏压或负偏压 形成电势差， 能够节省喷淋设备内的空间， 节约设备的制造成本；
( 3 ) 设置蒸发容器和喷淋腔两部分独立的结构， 完成有机材料的 保证有机气体的均匀性和喷淋形成的有机膜的均匀性。
以上所述仅是本发明的示范性实施方式， 而非用于限制本发明的保护范 围， 本发明的保护范围由所附的权利要求限定。

Claims

权利要求书
1、 一种有机! ¾ 装置， 包括蒸镀设备、 电子发射装置和喷淋设备； 其中所述蒸镀设备包括蒸发容器， 所述蒸发容器为线性蒸发容器， 从所 述蒸发容器中产生均匀的有机气体；
所述电子发射装置水平设置在所述蒸发容器的上方， 使得从所述蒸发容 器蒸发出的有机气体均匀带电， 得到带电的有机气体； 在所述基板上形成有机膜。
2、 如权利要求 1所述的装置， 其中所述蒸镀设备还包括： 加热源， 所述 加热源为线性加热源或多个并列设置的加热源，设置在所述蒸发容器的底部， 用于为所述有机材料的蒸发提供均匀的热量。
3、如权利要求 1或 2所述的装置，其中所述蒸发容器包括设置在其顶部 的狭缝状蒸发口，所述电子发射装置包括位于所述蒸发口上方的电子发射口。
4、如权利要求 3所述的装置，还包括设置在所述蒸发口附近的可滑动挡 板用于打开与关闭所述蒸发口。
5、如权利要求 1至 4任一项所述的装置，其中所述蒸发容器还包括设置 在其四周的冷却管， 使得所述蒸发容器保持恒定的温度。
6、如权利要求 1至 5任一项所述的装置，其中所述电子发射装置为线性 的电子枪或多个排列均匀整齐的小型电子枪， 均匀地发射电子。
7、如权利要求 1至 6任一项所述的装置， 其中所述喷淋设备包括： 电极 板、 喷淋腔和喷淋口；
其中所述电极板设置在所述喷淋腔的顶部， 所述喷淋口位于所述喷淋腔 的底部， 所述电极板在外部电源提供偏压时产生电场， 所述带电的有机气体 受到竖直向下的电场的作用由所述喷淋腔的上部运动到下部， 直到从所述喷 淋口喷出。
8、如权利要求 7所述的装置， 其特征在于， 所述外部电源提供的偏压大 小可根据所述有机膜的成膜情况进行调节。
9、如权利要求 7所述的装置，其中所述蒸发容器与所述喷淋腔之间设置 气体通道， 所述带电的有机气体通过所述气体通道由所述蒸发容器水平运动 到所述喷淋腔内。
10、 如权利要求 7所述的装置， 其中所述电极板与所述喷淋腔之间设置 绝缘部。
11、 如权利要求 7所述的装置， 其中所述喷淋口与所述基板之间设置掩 模。
12、如权利要求 1至 11任一项所述的装置，其中所述装置与所述基板之 间在水平方向保持匀速的相对运动。
13、如权利要求 1至 12任一项所述的装置，其中所述带电的有机气体从 上向下地从所述喷淋设备喷出。
14、 一种有机! ¾ 方法， 包括：
对有机材料进行加热以蒸发出均匀的有机气体；
所述均匀的有机气体被均匀地带电， 得到带电的有机气体； 以及 所述带电的有机气体在电场的作用下向基板加速运动并在基板上形成有 机膜。
15、如权利要求 14所述的方法，其中所述对有机材料进行加热以蒸发出 均匀的有机气体包括：
对所述有机材料均匀地进行加热， 产生有机气体；
所述有机气体经过线性蒸发， 输出所述均匀的有机气体。
16、 如权利要求 14或 15所述的方法， 其中所述均匀的有机气体被均匀 地带电， 得到带电的有机气体包括： 均匀发射电子并使电子附着在所述均匀 的有机气体上， 使得所述均匀的有机气体被均匀带电， 得到所述带电的有机 气体。
17、 如权利要求 14至 16任一项所述的方法， 其特征在于， 所述带电的 有机气体在电场的作用下向基板加速运动并在基板上形成有机膜， 包括： 在外部电源提供偏压时， 所述喷淋腔顶部的电极板与所述喷淋腔的底部 之间的电势差形成电场；
所述带电的有机气体运动到所述喷淋腔后， 受到向下的电场力， 并在所 述电场力作用向下加速运动；
所述带电的有机气体运动到所述喷淋腔底部的喷淋口， 从所述喷淋口喷 出； 喷出的有机气体通过所述掩模沉积在所述基板上， 形成有机膜。
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