JP4400541B2 - パターン形成方法及び液滴吐出装置 - Google Patents
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Description
この液滴吐出装置によれば、ノズル形成面に積層した反射防止膜によって、一側面からのレーザ光の反射を防止することができる。従って、基板とノズル形成面との間の距離を拡大することなく、反射抑制部材(反射防止膜)を介在させることができ、液滴の着弾精度を維持して、レーザ光による各種部材の損傷を低減することができる。
この液滴吐出装置によれば、一側面側からのレーザ光を反射抑制部材によって吸収するため、レーザ光による各種部材の損傷を、より確実に低減することができ、液滴によって形成するパターンの形状制御性を向上することできる。
この液滴吐出装置によれば、ノズルの領域を除いた領域に反射抑制部材を備えるため、液滴の吐出動作に制約されること無く、反射抑制部材を設計することができる。従って、反射抑制部材の材料や構造の選択範囲を拡張することができる。
ようにしてもよい。
この液滴吐出装置によれば、液滴に起因した反射抑制部材の汚染や損傷を低減することができ、レーザ光による各種部材の損傷を、より確実に低減することができる。
この液滴吐出装置によれば、反射抑制部材をノズル形成面から取り外すことができるため、ノズルやノズル形成面の洗浄を行うことができる。従って、液滴の吐出動作の安定化を図ることができる。
図1において、液晶表示装置1には、四角形状に形成されたガラス基板(以下単に、「基板」という。)2が備えられて、本実施形態では、その基板2の長手方向をX矢印方向とし、X矢印方向と直交する方向をY矢印方向とする。
次に、前記識別コード10を形成するための液滴吐出装置について説明する。
っている。基板ステージ23の上面には、図示しない吸引式のチャック機構が設けられて、載置される基板2が、表面2a(コード形成領域S)を上側にして位置決め固定されるようになっている。
図3に示すように、吐出ヘッド30の基板2側(図3における上側)には、ノズルプレート31が備えられている。ノズルプレート31は、その下面(図3における上面:ノズル形成面31a)がレーザ光Lを反射する鏡面に研磨されたステンレス等の板部材であって、そのノズル形成面31aが基板2の表面2aと平行に配設されている。
振動させるようになっている。
図5において、制御部41は、CPU、RAM、ROM等を備え、ROM等に格納され
た各種データと各種制御プログラムに従って、基板ステージ23を移動させて、液滴吐出ヘッド30及びレーザヘッド36を駆動させる。
まず、図2に示すように、基板ステージ23上に、表面2aが上側になるように基板2を配置固定する。このとき、基板2のX矢印方向側の辺は、案内部材24より反X矢印方向側に配置されている。
射位置PTと相対向する吐出ヘッド30側では、反射面33a又はノズル形成面31aからのレーザ光Lの反射が抑制されて、照射位置PTの液滴Fbの領域にのみ、レーザ光Lが照射されるようになる。
(1)上記実施形態によれば、吐出ヘッド30の基板2側に、レーザ光Lを反射するノズル形成面31aを設け、そのノズル形成面31aの基板2側に反射防止膜33を設けた。そして、反射防止膜33の反射面33aからの反射光L1とノズル形成面31aからの反射光L2を相殺的に干渉させて、反射面33aやノズル形成面31aからのレーザ光Lの反射を抑制するようにした。
・上記実施形態では、反射防止膜33によって、反射光L1,L2を相殺的に干渉させるようにした。これに限らず、例えば反射防止膜33を、異なる消衰係数の多層膜、光吸収性の薄膜(例えば、レーザ光Lを吸収する色素を含有した薄膜)、多孔質性の薄膜(例えば、ケイ素系樹脂にシリカナノ粒子を含有させた薄膜等)よって構成して、レーザ光Lを、膜中で連続的に吸収するようにしてもよい。これによれば、反射防止可能なレーザ光Lの入射角θ(図4参照)の範囲や波長領域を拡大することができる。
・上記実施形態では、反射防止膜33を、公知の無機材料で構成するようにした。これに限らず、例えば液状体Fに対する撥液性を有した有機材料を含む単層膜や積層膜(例えば、フッ素系樹脂材料やその微粒子を含む金属膜等)によって反射防止膜33を構成してもよい。これによれば、液状体Fを撥液する反射防止膜33を形成することができ、液状体Fによる汚染を低減して、その光学特性の安定化を図ることができる。
・上記実施形態では、ノズル形成面31aを鏡面にして反射防止膜33を積層する構成にした。これに限らず、例えば、図6に示すように、基板2側からのレーザ光Lを多重反射して吸収する多数の閉じ込め凹部51を有した反射抑制部材としての反射防止プレート52を、ノズル形成面31aに機械的あるいは磁気的に着脱可能に取付ける構成にしてもよい。これによれば、反射防止プレート52をノズル形成面31aから取り外すことができるため、ノズルNやノズル形成面31aの洗浄を行うことができ、ひいては液滴Fbの吐出動作の安定化を図ることができる。
・上記実施形態では、ノズルNの周辺にのみ撥液膜32を形成する構成にした。これに限らず、例えばノズルNの周辺と反射防止部材の全体を覆うように、撥液膜32を形成する構成にしてもよい。
・上記実施形態では、各液滴Fbに共通する帯状のビームスポットを形成する構成にした。これに限らず、例えば各ノズルNに対応する半導体レーザLD、コリメータ37及び集光レンズを搭載して、各液滴Fbに対応する円形あるいは楕円形のビームスポットをそれぞれ形成する構成にしてもよい。
・上記実施形態では、液滴Fbの領域に照射するレーザ光Lによって、液滴Fbを乾燥・焼成する構成にした。これに限らず、例えば照射するレーザ光Lのエネルギーによって、液滴Fbを所望の方向に流動させる構成にしてもよく、あるいは液滴Fbの外縁のみに照射して液滴Fbをピニングする構成にしてもよい。すなわち、液滴Fbの領域に照射するレーザ光Lによってパターンを形成する構成であればよい。
・上記実施形態では、基板2の表面2aや液滴Fbの領域から反射光Lrを反射する構成にした。これに限らず、例えば基板2の裏面や基板ステージ23から反射光Lrを反射する構成であってもよい。
・上記実施形態では、レーザ光源を半導体レーザLDで具体化したが、これに限らず、例えば炭酸ガスレーザやYAGレーザであってもよく、着弾した液滴Fbを乾燥可能な波長のレーザ光Lを出力するレーザであればよい。
・上記実施形態では、液滴Fbによって半円球状のドットDを形成する構成にしたが、これに限らず、例えば、楕円形状のドットや線状のパターンを形成する構成であってもよい。
・上記実施形態では、パターンを識別コード10のドットDに具体化した。これに限らず、例えばパターンを、液晶表示装置1や、平面状の電子放出素子を備えて同素子から放出された電子による蛍光物質の発光を利用した電界効果型装置(FEDやSED等)の絶縁膜や金属配線等、各種パターンに具体化してもよく、着弾した液滴Fbの領域にレーザ光を照射して形成するパターンであればよい。
・上記実施形態では、基板を液晶表示装置1の基板2に具体化したが、これに限らず、例えばシリコン基板やフレキシブル基板、あるいは金属基板等であってもよい。
Claims (7)
- 基板の一側面と対向するノズル形成面のノズルからパターン形成材料を含む液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、前記基板の一側面にレーザ光を照射するレーザ照射手段とに対し、前記基板を移動方向に相対的に移動させるとともに、前記基板の一側面の着弾位置に着弾した前記液滴をその着弾位置の前記移動方向にあるレーザ光の照射位置へ移動させることによって前記液滴を乾燥してパターンを形成するようにしたパターン形成方法において、
前記ノズル形成面に設けられた前記ノズルの前記移動方向に配設された反射抑制部材に向けて前記照射位置からのレーザ光が進行するかたちに、前記基板の一側面の法線方向に対して傾斜した光軸を有する前記レーザ光を前記照射位置の前記移動方向の側から前記照射位置に向けて照射することを特徴とするパターン形成方法。 - 基板の一側面と対向するノズル形成面のノズルから液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、
前記基板の一側面にレーザ光を照射するレーザ照射手段とを備え、
前記液滴吐出ヘッドと前記レーザ照射手段とに対して前記基板を移動方向に相対的に移動させるとともに、前記基板の一側面の着弾位置に着弾した前記液滴をその着弾位置の前記移動方向にあるレーザ光の照射位置へ移動させることによって前記液滴を乾燥する液滴吐出装置において、
前記レーザ光の反射を抑制する反射抑制部材を前記ノズル形成面に備え、
前記レーザ照射手段は、
前記照射位置からのレーザ光が前記ノズルの前記移動方向にある前記反射抑制部材に進行するかたちに、前記基板の一側面の法線方向に対して傾斜した光軸を有する前記レーザ光を前記照射位置の前記移動方向の側から前記照射位置に向けて照射する
ことを特徴とする液滴吐出装置。 - 請求項2に記載の液滴吐出装置において、
前記反射抑制部材は、前記ノズル形成面に積層された反射防止膜であることを特徴とする液滴吐出装置。 - 請求項2又は3に記載の液滴吐出装置において、
前記反射抑制部材は、前記レーザ光を吸収する光吸収性を有したことを特徴とする液滴吐出装置。 - 請求項2〜4のいずれか1つに記載の液滴吐出装置において、
前記反射抑制部材は、前記ノズルの領域を除く前記ノズル形成面の領域に備えられたことを特徴とする液滴吐出装置。 - 請求項2〜5のいずれか1つに記載の液滴吐出装置において、
前記反射抑制部材は、前記液滴を撥液する撥液性を有したことを特徴とする液滴吐出装置。 - 請求項2〜6のいずれか1つに記載の液滴吐出装置において、
前記反射抑制部材は、前記ノズル形成面に着脱可能に取着されたことを特徴とする液滴吐出装置。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Families Citing this family (5)
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Family Cites Families (7)
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JP2003284991A (ja) * | 2002-03-28 | 2003-10-07 | Taiyo Yuden Co Ltd | 塗布装置 |
EP1498274B1 (en) * | 2003-07-15 | 2006-04-05 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc. | Inkjet printer using ultraviolet cure ink |
JP4748503B2 (ja) * | 2004-03-23 | 2011-08-17 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 処理装置 |
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TW200616232A (en) * | 2004-08-09 | 2006-05-16 | Adv Lcd Tech Dev Ct Co Ltd | Semiconductor device including semiconductor thin film, which is subjected to heat treatment to have alignment mark, crystallizing method for the semiconductor thin film, and crystallizing apparatus for the semiconductor thin film |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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