JP6782743B2 - 蒸着装置、蒸着方法及び有機el表示装置の製造方法 - Google Patents
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Description
ここでL1={d0 2+(L0/2)2}1/2・・・・・・(1)
である。すなわち、図2Aに示されるように、単純に蒸着マスク1が蒸着マスク1の周縁部を支点とする撓みだけの場合は、蒸着マスク1の撓み量d0だけ被蒸着基板2を押し込むことにより、蒸着マスク1の撓み後の蒸着マスク1の長さと被蒸着基板2の押し込み後の長さとがほぼ等しくなる。なお、図1Aでは撓みを誇張して示されているが、実際の撓みd0は、例えば700mm×450mmの蒸着マスクで、100μm程度である。
r/(L1/2)=L1/d0 ∴r=L1 2/(2d0)・・・・・・(2)
となる。なお、L1は式(1)より求まる。しかし、後述される熱膨張による伸びや、アクティブ領域14(図3A参照)による影響を考慮する場合は、L1やd0が変る。一般的には撓みの深さはdとなる。従って、後述される図1Bに示される撓みがdのときは、L1も後述されるように異なるが、押圧具30の被蒸着基板2と当接する面は、このdと、そのときのL1とにより求まる曲率半径rの球面にすることが好ましい。
L2=L1+αtL1={d0 2+(L0/2)2}1/2+αtL1・・・(3)
となる。従って、そのときの撓み量d2は、
d2=[{L1+αtL1}2−(L0/2)2]1/2
となる。すなわち、このd2分だけ押し込めば、将来の熱膨張による蒸着マスク1の伸びに対しても、補償することができる。この場合、蒸着マスク1の温度が上昇する前にこのd2の押し込みをすることにより、蒸着マスク1が押されて変形する(伸ばされる)が、その分蒸着マスク1が歪みを持っているため、その後に温度上昇して蒸着マスク1が伸びると、その熱膨張による伸びで、蒸着マスク1の歪みが解消し、丁度熱膨張による蒸着マスク1の伸びと、被蒸着基板2のd2の押し込み量とが整合し、被蒸着基板2と蒸着マスク1とが密着する。この熱膨張率による伸びも、蒸着マスク1の蒸着中の温度上昇が1℃程度であれば、1μmにも満たないが、温度が上昇する場合を考えると、このd2の効果も顕著になる。d2の押し込み量と蒸着マスク1の熱膨張による伸びとが整合し、被蒸着基板2と蒸着マスク1とが密着する。
s1={h0 2+(s0/2)2}1/2
となる。従って、アクティブ領域14の長さの変化量Δsは、
Δs=2(s1−s0/2)=2{h0 2+(s0/2)2}1/2−s0・・・(4)
となる。このアクティブ領域14の長さの変化を相殺するために被蒸着基板をどのように押すかについては、2通りの方法が考えられる。
L3=L1+(n/2)Δs・・・・・・(5)
となる。なお、L1は式(1)により求まる。従って、図3Eより被蒸着基板2の押し込み量d1は、
d1={L3 2−(L0/2)2}1/2
となる。逆に言えば、蒸着マスク1の周縁部を支点とする撓みの中心部の鉛直線上の被蒸着基板2の上面で、d1の寸法だけ被蒸着基板2を押し込むことにより、被蒸着基板2と蒸着マスク1とが密着する。以上の説明では、熱膨張の影響を考慮していないが、熱膨張を考慮する場合は、前述の式(5)でL1に代えて式(3)のL2を用いればよい。
d3(x)=2d0x/L0+h0
で押し込むことによっても、被蒸着基板2と蒸着マスク1とを密着させることができる。
本発明の一態様に係る蒸着方法は、蒸着マスクを周縁部で保持して水平方向に配置し、前記蒸着マスクの上面側に蒸着膜を形成する被蒸着基板を重ねて配置し、前記蒸着マスクの下方に蒸着源を配置し、前記蒸着源から蒸着材料を気化させて前記被蒸着基板に蒸着膜を形成する場合に、前記蒸着マスクの撓みの中心部の鉛直方向で、前記被蒸着基板の上面の位置から、前記蒸着マスクの周縁部を支点とする撓みの深さ、又はそれを超える量の前記被蒸着基板の押し込みを行い、前記被蒸着基板と前記蒸着マスクとを密着させながら蒸着することを特徴とする。
2 被蒸着基板
3 押圧装置
5 蒸着源
12 フレーム
13 金属層
14 アクティブ領域
15 マスクホルダー
21 装置基板
22 第1電極
23 絶縁バンク
25 積層膜
26 第2電極
27 保護膜
29 基板ホルダー
30 押圧具
31 球体
32 球欠体
32a 脚部
33 凸部付き球欠体
33a 脚部
33b 球欠部
33c 凸部
41 タッチプレート
42 支持フレーム
Claims (10)
- 蒸着マスクを周縁部で保持して水平方向に配置し、前記蒸着マスクの上面側に蒸着膜を形成する被蒸着基板を重ねて配置し、前記被蒸着基板に蒸着膜を形成する蒸着方法であって、
前記蒸着マスクの撓みの中心部の鉛直方向で、前記被蒸着基板の上面の位置から、前記蒸着マスクの周縁部を支点とする撓みの深さを超える量であって、蒸着時の温度上昇に伴う熱膨張による伸びに起因する撓みを加えた量を超える量だけ前記被蒸着基板の押し込みを行い、
その後、前記押し込みをした状態で蒸着する、
蒸着方法。 - 前記押し込み量を、前記蒸着マスクの周縁部を支点とする撓みの2倍以上であって、10倍以下の量とする、請求項1記載の蒸着方法。
- 蒸着マスクを載置するマスクホルダーと、被蒸着基板を保持できるように設けられる基板ホルダーと、前記基板ホルダーにより保持される被蒸着基板上に接して設けられるタッチプレートと、前記被蒸着基板の上面を押圧する押圧装置とを有し、
前記押圧装置が、前記蒸着マスクの撓みの中心部の鉛直線上で前記基板ホルダーにより保持される被蒸着基板の上面の位置で、前記蒸着マスクの周縁部を支点とする撓みの深さを超える量であって、蒸着時の温度上昇に伴う熱膨張による前記蒸着マスクの伸びに起因する撓みを加えた量を超える量だけ押圧し得るように設けられてなる蒸着装置。 - 前記押圧装置が、前記タッチプレートと前記被蒸着基板との間が所定の寸法となる押圧具と、前記タッチプレートを押圧する手段とからなる請求項3記載の蒸着装置。
- 前記押圧具は、少なくとも前記被蒸着基板側が曲面であり、前記タッチプレート側が前記タッチプレート内に一部嵌め込まれる構造である請求項4記載の蒸着装置。
- 前記押圧具の前記被蒸着基板と当接する面が、前記蒸着マスクの撓みの曲率半径を半径とする球面に形成されてなる請求項4または5記載の蒸着装置。
- 前記押圧具が、前記押圧具の前記被蒸着基板と当接する面が前記蒸着マスクの撓んだ曲面の曲率半径の球面に形成された球体の一部を切欠した球欠体である、請求項6記載の蒸着装置。
- 前記押圧具が剛性を有する球体からなる請求項4または5記載の蒸着装置。
- 前記押圧装置が、前記タッチプレートに形成される貫通孔を通して前記被蒸着基板を直接押し付けるプランジャーと前記プランジャーを押し込む押圧手段とからなる請求項3に記載の蒸着装置。
- 装置基板上に有機層を積層して有機EL表示装置を製造する方法であって、
支持基板上にTFTおよび第1電極を少なくとも形成した前記装置基板上に請求項1または2記載の蒸着方法を用いて前記第1電極上に有機材料を蒸着することで有機層の積層膜を形成し、前記積層膜上に第2電極を形成することを含む有機EL表示装置の製造方法。
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TWI249821B (en) | 2003-12-26 | 2006-02-21 | Seiko Epson Corp | Thin film formation method, thin film formation equipment, method of manufacturing organic electroluminescence device, organic electroluminescence device, and electronic apparatus |
JP4418262B2 (ja) * | 2004-03-12 | 2010-02-17 | 三井造船株式会社 | 基板・マスク固定装置 |
JP2005281746A (ja) | 2004-03-29 | 2005-10-13 | Seiko Epson Corp | 蒸着装置、蒸着方法、電気光学装置、および電子機器 |
JP4773834B2 (ja) | 2006-02-03 | 2011-09-14 | キヤノン株式会社 | マスク成膜方法およびマスク成膜装置 |
JP4971723B2 (ja) * | 2006-08-29 | 2012-07-11 | キヤノン株式会社 | 有機発光表示装置の製造方法 |
JP2008108596A (ja) * | 2006-10-26 | 2008-05-08 | Seiko Epson Corp | マスク蒸着法、およびマスク蒸着装置 |
US8633052B2 (en) * | 2008-04-18 | 2014-01-21 | 1366 Technologies Inc. | Wedge imprint patterning of irregular surface |
KR101517020B1 (ko) | 2008-05-15 | 2015-05-04 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기전계발광표시장치의 제조장치 및 제조방법 |
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JP2010180438A (ja) * | 2009-02-04 | 2010-08-19 | Mitsubishi Electric Corp | マスクユニットおよびマスクユニットを有する蒸着装置 |
RU2011142784A (ru) * | 2009-03-23 | 2013-04-27 | Конинклейке Филипс Электроникс Н.В. | Манипуляция магнитными частицами в биологическом образце |
GB2468870B (en) * | 2009-03-25 | 2016-08-03 | Peratech Holdco Ltd | Sensor |
JP2011233510A (ja) * | 2010-04-05 | 2011-11-17 | Canon Inc | 蒸着装置 |
JP2012052155A (ja) * | 2010-08-31 | 2012-03-15 | Canon Inc | 真空成膜用マスクユニット及びこれを備えた真空成膜装置 |
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