CN107851354A - 表面处理设备和基站 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种表面处理设备(1)、尤其清洁机器人，具有至少一个设备光学元件(3)和评估装置(5)。为了提供表面处理设备(1)的其它功能，在此建议，设备光学元件(3)为了与外设元件共同作用而设计为，使得从设备光学元件(3)发射的光借助外设元件被至少部分地反射到设备光学元件(3)，其中，评估装置(5)设计为，在设备光学元件(3)与外设元件共同作用时，为了探测在设备光学元件(3)和外设元件之间存在烟雾(7)，对于设备光学元件(3)接收到的测量信号针对信号幅度的时间变化进行评估，并且在越过定义的极限值时触发警报信号。本发明进一步涉及用于连接表面处理设备(1)的基站(2)、由表面处理设备(1)和基站(2)组成的系统、用于运行表面处理设备(1)和/或基站(2)的方法。

Description

表面处理设备和基站
技术领域
本发明首先涉及一种表面处理设备、尤其清洁机器人，具有至少一个设备光学元件和评估装置。
此外，本发明还涉及一种基站，用于连接表面处理设备以便进行维护操作、尤其清洁表面处理设备和/或为表面处理设备的蓄电池充电，其中，所述基站具有至少一个基站光学元件和评估装置。
本发明还涉及一种由表面处理设备和基站组成的系统，所述表面处理设备尤其是清洁机器人，所述基站用于连接表面处理设备以便进行维护操作、尤其清洁表面处理设备和/或为表面处理设备的蓄电池充电，其中所述表面处理设备具有至少一个设备光学元件，并且其中，所述基站具有至少一个设计用于与所述设备光学元件共同作用的基站光学元件。
最后，本发明涉及一种运行这种表面处理设备和/或这种基站的方法，其中，表面处理设备的至少一个设备光学元件和/或基站的至少一个基站光学元件相互间共同作用和/或与外设元件共同作用。
背景技术
上述类型的表面处理设备和基站在现有技术中是已知的。表面处理设备可与基站连接以便例如清空表面处理设备的集尘室、清洁表面处理设备、给表面处理设备的蓄电池充电等。如果表面处理设备例如是清洁机器人，尤其是擦拭机器人和/或吸尘机器人，则其可以按需自动地驶近基站。在其他情况下，用户可以手动地将表面处理设备与基站连接以便执行上述维护操作。
例如表面处理设备和基站具有对应的光学元件，光学元件在最简单的情况下设计成，检测表面处理设备在基站处的存在或者测量表面处理设备相对于基站的距离。例如光学元件之一也可以是表面处理设备的激光三角测量系统的一部分。
例如文献DE 10 2008 014 912 A1公开了具有这种光学三角测量系统的表面处理设备，光学三角测量系统提供了多个光学元件用于识别障碍物。此外，这些光学元件包括光源和用于被测量物体反射的光束的传感器。
发明内容
由此，本发明要解决的技术问题是改进表面处理设备和/或基站，使得表面处理设备和/或基站为用户提供通过其他功能带来的附加价值。
为了解决该技术问题，本发明首先建议一种前述类型的表面处理设备，其中，所述设备光学元件为了与外设元件共同作用而设计为，使得从所述设备光学元件发射的光借助所述外设元件被至少部分地反射到所述设备光学元件，其中，所述评估装置设计为，在所述设备光学元件与所述外设元件共同作用时，为了探测在所述设备光学元件和外设元件之间存在烟雾，对于所述设备光学元件接收到的测量信号针对信号幅度的时间变化进行评估，并且在越过定义的极限值时触发警报信号。
由此，所述表面处理设备的设备光学元件和所述外设元件构成烟雾传感器，其中，所述设备光学元件之一接收到的测量信号在限定的时间段内、尤其持续地被所述评估装置评估，其中，所述评估装置识别信号幅度的变化并且在由极限值认定过度变化的情况下确定所述表面处理设备的设备光学元件与所述外设元件之间存在烟雾，然后触发警报设备以发出警报信号(火警)。此外，所述设备光学元件可以包括至少一个光源和传感器。这些例如还可以连接成共同的发送-接收单元。所述外设元件优选是反光镜，在最简单的情况下是至少部分地反射所发射的光的表面，例如墙壁或家具的表面局部区域。然而，所述外设元件优选地还可以是基站的基站光学元件，例如基站的壳体的部分反射的表面，或者还可以是布置在壳体内的光学反光镜。在此，所述设备光学元件发射的光借助所述外设元件、即借助反射表面或光学反光镜，反射到表面处理设备的另一个设备光学元件。所述设备光学元件在不存在烟雾的情况下优选几乎完全接收到光源的光辐射，反之，在存在烟雾的情况下接收到具有较之降低的信号幅度的测量信号。在此，当前测量的信号幅度总是相对于在不存在烟雾的情况下常见的基准信号幅度进行比较，其中，在低于烟雾存在的极限值时推断为存在烟雾。然后，所述评估装置可基于探测结果向表面处理设备的、基站的或者还有家庭警报设备的警报单元传送信号，然后，警报单元向表面处理设备的用户或紧急呼叫单位等传送光学和/或声音警报信号。
在此建议，所述设备光学元件是光源、优选二极管、尤其优选激光二极管。使用二极管或激光二极管作为光源是适合的，因为其能够容易地集成到电路中，并且是尤其小且成本低廉的。激光二极管还具有空间相干的光辐射优点，使得发射的光甚至在较长的距离上也成束地发射并且在没有变宽的情况下传播，否则会导致传感器测量的信号幅度发生改变，从而会导致对测量信号的误解。
在此建议，所述光源是表面处理设备的测距装置、尤其三角测量装置的元件。因此，为探测烟雾所需的光辐射可以由表面处理设备的光源发射，该光源此外也可用于测量距离和/或识别障碍物。因此，不需要在表面处理设备上布置用于构成烟雾传感器的独立的光源。反而，表面处理设备的光源(其例如在表面处理设备处于静止状态时不需要用于测量距离或探测障碍物)可以用于探测烟雾。备选地，还可以规定以按节拍的、时间交替的方式使用所述光源进行烟雾测量和距离测量/障碍物识别。
还建议，所述设备光学元件是传感器，尤其光电二极管或摄像头芯片。尤其例如光电二极管或摄像头芯片的低成本的大量部件适合作为传感器。这种传感器可以以尤其有利的方式集成在表面处理设备的电子导体结构中。
除了先前建议的表面处理设备之外，本发明还建议一种前述类型的基站，所述基站的基站光学元件为了与外设元件共同作用而设计为，使得从所述基站光学元件发射的光借助所述外设元件被至少部分地反射到基站光学元件，其中，所述评估装置设计为，在所述基站光学元件和所述外设元件共同作用时，为了探测在所述基站光学元件和外设元件之间存在烟雾，对于所述基站光学元件接收到的测量信号针对信号幅度的时间变化进行评估，并且在越过定义的极限值时触发警报信号。
所述基站的基站光学元件和所述外设元件共同构成烟雾传感器，其中，基站光学元件之一接收到的测量信号在限定的时间段内、尤其持续地被所述评估装置评估，其中，所述评估装置识别信号幅度的变化并且在由极限值认定过度变化的情况下确定在基站的基站光学元件与外设元件之间存在烟雾，然后触发警报设备以发出警报信号(火警)。此外，所述基站光学元件尤其可以包括至少一个光源和传感器。它们例如还可以连接成共同的发送-接收单元。所述外设元件优选是反光镜，在最简单的情况下是至少部分地反射所发射的光线的表面，例如墙壁或家具的表面局部区域。然而，所述外设元件优选地也可以是表面处理设备的设备光学元件，例如表面处理设备的壳体的部分反射的表面，或者还可以是布置在壳体内的光学反光镜。在此，由基站光学元件发射的光借助外设元件，即反射表面或光学反光镜，反射到其它的基站光学元件。所述基站光学元件在不存在烟雾的情况下优选几乎完全接收到光源的光辐射，反之，在存在烟雾的情况下接收到具有较之降低的信号幅度的测量信号。在此，当前测量的信号幅度总是相对于在不存在烟雾的情况下常见的基准信号幅度进行比较，其中，在低于烟雾存在的极限值时推断为存在烟雾。然后，所述评估装置可基于探测结果向基站的、表面处理设备的或还有家庭警报设备的警报单元传送信号，然后，警报单元向基站的用户或紧急呼叫单位等传送光学和/或声音警报信号。
在此建议，所述基站光学元件是光源、优选二极管、尤其优选激光二极管。使用二极管或激光二极管作为光源是适合的，因为其能够容易地集成到电路中，并且是尤其小且成本低廉的。激光二极管还具有空间相干的光辐射优点，使得发射的光甚至在较长的距离上也成束地发射并且在没有变宽的情况下传播，否则会导致传感器测量的信号幅度发生改变，从而会导致对测量信号的误解。
还建议，所述基站光学元件是传感器，尤其光电二极管或摄像头芯片。尤其例如光电二极管或摄像头芯片的低成本的大量部件适合作为传感器。这种传感器可以以尤其有利的方式集成在表面处理设备的电子导体结构中。
除了表面处理设备和基站之外，还建议一种由表面处理设备和基站组成的系统，其中，至少一个设备光学元件和/或基站光学元件配有评估装置，所述评估装置设计为，在这些光学元件共同作用时，为了探测所述设备光学元件与所述基站光学元件之间存在烟雾，对于由设备光学元件和/或基站光学元件中的一个接收到的测量信号针对信号幅度的时间变化进行评估，并且在越过定义的极限值时触发警报信号。
表面处理设备的光学元件和基站的光学元件因此构成烟雾传感器，其中，所述光学元件之一接收到的测量信号在限定的时间段、尤其持续地被评估装置评估，其中，评估装置识别信号幅度的变化，并且在由极限值认定过度变化的情况下确定在表面处理设备的设备光学元件和基站的基站光学元件之间存在烟雾并且然后触发警报设备发出警报信号(火警)。此外，这些光学元件可以具有至少一个光源、反光镜和/或传感器。
原则上，为了探测烟雾的存在可考虑不同的光学布置方式。根据第一种布置方式，接收测量信号的传感器例如可以布置在光源的光路中(即在光线的主传播方向上)，使得传感器在不存在烟雾的情况下直接且优选地完全接收光辐射，并且在存在烟雾的情况下接收到具有较之降低的信号幅度的测量信号。根据第二种布置方式，传感器可以布置在从光源发射的辐射光束路径以外，以便测量光束路径以外的散射光。在不存在烟雾(或其他物体)的情况下，信号幅度通常为零，而在存在烟雾的情况下，从光源发射的辐射在烟雾中(或在烟雾颗粒中)散射并且会击中光学传感器。在此，对于第一种布置方式和第二种布置方式都始终将当前测量的信号幅度相对于不存在烟雾的情况常见的基准信号幅度进行比较，其中，在低于(第一种布置方式)或高于(第二种布置方式)定义的极限值时推断为存在烟雾。评估装置然后可以向表面处理设备的、基站的或还有家庭警报设备的警报单元传送信号，紧接着所述警报单元向表面处理设备的用户或紧急呼叫单位等传送光学或声音警报信号。
在此建议，光学元件这样布置在表面处理设备和基站上，使得在共同作用期间，设备光学元件和基站光学元件之间的距离大约为1cm至20cm。该距离这样定尺寸，使得一方面在表面处理设备的光学元件和基站的光学元件之间保留足够大的距离，在火灾时可能形成的烟雾能够侵入该距离中。另一方面，该距离因此处于这样的数量级，该数量级确保了从光源发射的辐射尽可能无损地传输到另一光学元件、例如传感器。为了即使在表面处理设备与基站接触时也能够实现在表面处理设备的光学元件和基站的光学元件之间的这种距离，这些光学元件相应地布置在表面处理设备或基站上。原则上，这些光学元件的共同作用可以要么在表面处理设备和基站之间接触时发生，要么在表面处理设备与基站间隔时发生，所述间隔相当于表面处理设备未布置在基站上的状态。例如表面处理设备可以是自由地，即不与基站接触地位于基站之前，并且由此在表面处理设备的设备光学元件和基站的基站光学元件之间提供约1cm至20cm的距离。然而有利的是，表面处理设备在形成有利的距离的同时与基站接触，使得在作为烟雾传感器的功能的同时还可以执行维护操作，例如对蓄电池充电或清洁表面处理设备的集尘室。
在此建议，所述设备光学元件或基站光学元件是光源、优选二极管、尤其优选激光二极管。使用二极管或激光二极管作为光源是适合的，因为其能够容易地集成到电路中，并且是尤其小且成本低廉的。激光二极管还具有空间相干的光辐射优点，使得发射的光甚至在较长的距离上也成束地发射并且在没有变宽的情况下传播，否则会导致传感器测量的信号幅度发生改变，从而会导致对测量信号的误解。
有利地，光源是表面处理设备的测距装置、尤其三角测量装置的元件。用于表面处理设备的测距装置、尤其三角测量装置通常使用激光二极管，由此可以实现上述优点。为探测烟雾存在所需的光辐射基本上可以要么由表面处理设备的光学元件提供，要么由基站的光学元件提供。然而，尤其有利的是使用表面处理设备的光源，所述光源此外也可以用于测量距离和/或探测障碍物。因此，不需要在表面处理设备或基站上设置用于形成烟雾传感器装置的单独的光源。相反，表面处理设备的光源(该光源暂时地、例如当表面处理设备在基站中或基站上时不需要用于测量距离或识别障碍物)可用于烟雾检测。
然而备选地，光源也可以是基站的光学元件，即基站光学元件，其对应于表面处理设备的光学元件。光辐射在这种情况下不是来自表面处理设备，而是来自基站。这是尤其有利的，因为基站通常是连接在建筑物的电源上的静态设备，并且无需通过蓄电池运行。
在此建议，基站光学元件或设备光学元件是传感器、尤其光电二极管或摄像头芯片。因此根据本发明，基站或表面处理设备可以具有用于探测信号幅度的传感器。例如可以规定，表面处理设备具有光源并且基站具有传感器，或者相反地，表面处理设备具有传感器并且基站具有与其相对应的光源。尤其例如光电二极管或摄像头芯片的低成本的大量部件适合作为传感器。另外，这些可以尤其有利地集成在表面处理设备或基站的电子导体结构中。
还建议，基站光学元件或设备光学元件是用于至少部分地反射从设备光学元件或基站光学元件发射的光的反光镜。在该情况下，表面处理设备或者备选地基站既具有光源又具有传感器。从光源发射的光辐射在此仅在基站或表面处理设备的反光镜处反射，使得光学元件在该情况下可以完全无源地设计并且不需要电力供应。例如，这在蓄电池不应额外地被有源光学部件(光源，传感器)负载的情况下是有利的。用于反射辐射的反光镜可以是表面处理设备或基站的单独的光学元件。然而备选地，基站或表面处理设备的表面也可以具有反射表面，尤其是涂有反射层。在此不言而喻的是，镜面的反射率对应于发射的辐射的波长。
此外，本发明还建议一种运行表面处理设备和/或基站的方法，其中，其中，表面处理设备的至少一个设备光学元件和/或基站的至少一个基站光学元件相互间共同作用和/或与外设元件共同作用，其中，这些光学元件为了共同作用而彼此相隔一个距离，其中，所述设备光学元件或所述基站光学元件发射光，所述光被所述基站光学元件或所述设备光学元件接收或者被所述基站光学元件或所述设备光学元件或所述外设元件反射到所述设备光学元件或所述基站光学元件，其中，为了探测所述设备光学元件和所述基站光学元件之间或者所述外设元件和所述设备光学元件或所述基站光学元件之间存在烟雾，所述表面处理设备的评估装置或所述基站的评估装置对于借助所述设备光学元件或所述基站光学元件接收到的测量信号针对信号幅度的时间变化进行评估，并且在越过定义的极限值时触发警报信号。
因此，根据本发明的方法(以及上述系统)可以被设置成基本上两种工作方式。根据第一工作方式，表面处理设备的光学元件发射光，所述光被基站的光学元件检测到，反之亦然。根据第二种工作方式，两个光学元件要么均布置在表面处理设备上，要么均布置在基站上，这两个光学元件承担了光信号的发射和光信号的探测二者，而基站/表面处理设备的相应光学元件或另一外设元件仅用作反光镜，所述反光镜将从表面处理设备或基站的光学元件发射的光反射回表面处理设备或基站的光学元件上。在此，传感器有利地布置在光源附近，使得方向彼此相反的光信号在空间上彼此接近。
最后，建议根据本发明的表面处理设备，根据本发明的基站或根据本发明的由表面处理设备和基站组成的系统作为烟雾传感器的应用。
附图说明
以下结合实施例更详细地阐述本发明。在附图中：
图1示出处于房间情形中的由表面处理设备和基站组成的系统，
图2示出具有由火造成的冒烟的根据图1的房间情形，
图3示出根据本发明的系统的俯视图，
图4示出在不存在烟雾的情况下根据第一实施方式的系统的示意图，
图5示出在存在烟雾的情况下根据图4的系统，
图6示出在不存在烟雾的情况下根据第二实施方式的系统，
图7示出在存在烟雾的情况下根据图6的系统，
图8示出在不存在烟雾的情况下根据第三实施方式的系统，
图9示出在存在烟雾的情况下根据图8的系统，
图10示出在不存在烟雾的情况下根据第四实施方式的系统，
图11示出在存在烟雾的情况下根据图10的系统。
具体实施方式
图1示出处于常见的房间情形中的由表面处理设备1和基站2组成的系统。表面处理设备1在此仅示例性地设计为能自动运行的清洁机器人。基站2不能自动运行，但是能够由系统的用户自由地放置在房间内。
表面处理设备1具有布置在表面处理设备1的上侧上的设备光学元件3以及包括微处理器和数据存储器的评估装置5。基站2具有基站光学元件4和评估装置5以及必要时其它未示出的构件，这些构件例如用于给表面处理设备1的蓄电池充电或清洁表面处理设备1的集尘室等。
在所示的图示中，表面处理设备1布置为与基站2直接接触，即与基站2连接。表面处理设备1和基站2具有形状对应的壳体局部区域，使得表面处理设备1可以驶入基站2的局部区域。在该位置中，光学元件3，4彼此间具有距离x。当表面处理设备1布置在基站2上时，表面处理设备1没有表面处理任务。而是必要时通过基站2在表面处理设备1上进行维护操作。
如下文所述，表面处理设备1和基站2在该情况下还共同用作烟雾传感器(然而，不排除该系统也可以在表面处理设备1和基站2分开的状态下用作烟雾传感器)。
在作为烟雾传感器的功能下，为了检测设备光学元件3与基站光学元件4之间的烟雾存在，从一个光学元件3,4发射的光信号被另一个光学元件3,4接收，并且通过表面处理设备1的和/或基站2的评估装置5针对信号幅度(或光强度)的时间变化进行评估。当高于或低于定义的极限值时触发警报信号，该警报信号表示存在烟雾，即尤其是发生房屋火灾。用作传感器的光学元件3,4持续地接收测量信号并且持续地将该测量信号与存储在数据存储器中的极限值进行比较，从而可以无明显时间延迟地确定烟雾的存在。在此，其中一个房间中另外还设置了警报设备6，该警报设备6设计成与表面处理设备1的或基站2的评估装置5通信并且将警报信号传递到外部的紧急呼叫单位或用户的移动设备或类似设备上。
图2示出前述的在房间内爆发火灾时的房间情形。在此，这导致了烟雾7的扩散，即导致房间内存在烟雾。烟雾7也到达了根据本发明的由表面处理设备1和基站2组成的系统所安置的地点。烟雾7至少部分地侵入到表面处理设备1的设备光学元件3和基站2的基站光学元件4之间，这些光学元件在此以约20cm的距离x相间隔。
图3以俯视图示出由表面处理设备1和基站2组成的系统。可识别的是，表面处理设备1的壳体局部区域和基站2的壳体局部区域的形状对应的设计。
接下来介绍对由表面处理设备1和基站2组成的系统的三种不同的变型方案。
图4和5示出本发明的第一实施方式，其中表面处理设备1具有两个设备光学元件3，即光源和光学传感器。基站2具有设备光学元件4，该设备光学元件在此是光学反光镜。按照该实施方式的工作方式是，表面处理设备1的光源不断地发射光信号，该光信号对准基站2的反光镜。光线被反光镜反射回来，并且击中表面处理设备1的传感器。该图中示意性地示出由传感器接收的信号的信号幅度。图5示出处于如下情形中的图4的系统，其中在表面处理设备1的设备光学元件3与基站2的基站光学元件4之间的光路中存在烟雾7。在该情形中，表面处理设备1的光源发射的光至少部分地被烟雾7散射，使得相应的部分光线不再能到达基站2的基站光学元件4。因此，与不存在烟雾7的情形相比，具有较低信号幅度的光线部分被反光镜反射。被反射的光线部分还再次击中烟雾7并且被第二次散射，使得由表面处理设备1的传感器测量的信号幅度总体上低于在根据图4的情形中测量的信号幅度。在测量过程期间，表面处理设备1的传感器持续地将关于信号幅度的信息传送给表面处理设备1的评估装置5。评估装置5将该信号幅度与基本上对应于从光源发射的光信号的信号幅度相比较。如果当前由传感器测量的信号幅度低于相对于基准信号幅度的确定百分比(极限值)，则推断出存在烟雾7。定义的极限值例如可以比在不存在烟雾7的情况下可测得的基准信号幅度小10％。当低于该定义的极限值时，评估装置5向警报设备6发送信息，所述警报设备随后发出警报信号。该警报信号可以是光学信号和/或声音信号。有利地，还可以针对火灾通知紧急呼叫单位。
图6和7示出本发明的第二实施方式，其中表面处理设备1仅具有单一一个设备光学元件3，并且其中基站2具有两个基站光学元件4。两个基站光学元件4是光源和光敏传感器。设备光学元件3是配属于表面处理设备1的反光镜。此外，本发明根据该第二实施方式类似于根据图4和5的实施方式地工作。
即使没有明确地作为进一步的实施方式示出，但不言而喻的是，还可以类似于图4至图7中所示的实施方式地使用外设元件，例如墙壁、家具或类似物的反射的表面局部区域来作为反光镜或反射表面。然后，表面处理设备1的设备光学元件3或者基站2的基站光学元件4可以与该表面局部区域共同作用，使得根据图4和5的表面处理设备1可以在没有基站2的情况下作为烟雾传感器工作，或者根据图6和7的基站2也可以在没有表面处理设备1的情况下作为烟雾传感器工作。
图8和9示出本发明的第三实施方式，其中表面处理设备1具有设备光学元件3，即光源，而基站2具有基站光学元件4，即传感器。因此，表面处理设备1的光源发射的光被基站2的传感器探测。在光源和传感器之间不存在烟雾7的情况下，传感器的测量信号具有图8中所示的信号幅度。图9显示了在光源和传感器之间存在烟雾7的情形。在此，光源发射的光在烟雾7中被散射并且尚且只能以低比例到达基站2的传感器。测量信号的信号幅度因此低于在不存在烟雾7的情况下的基准信号幅度。减小的信号幅度在图9中示出。基站2的配属于传感器的评估装置5将当前的信号幅度与存储的基准信号幅度进行比较，并且当低于定义的极限值时可以推断出存在烟雾7。此外还触发警报信号。
最后，图10和图11示出本发明的第四实施方式，其中基站2仅具有一个基站光学元件4，即传感器，所述传感器由于其位置而仅可以在表面处理设备1的光源和传感器之间存在烟雾7的情况下才检测到信号。根据该实施方式，传感器布置在光源所发射的光线的光轴之外，使得传感器在不存在烟雾7的情况下不能接收部分光线(图10)，并且在存在烟雾7的情况下接收到信号幅度不等于零的散射光线部分(图11)。当然，光线在此不是沿传感器方向散射，而是相反地以漫射方式辐射。所述工作方式在此基于以下事实，即由于传感器位于光轴之外的位置，只有当光源的光从光源出发、在烟雾上散射并且进而朝向传感器的方向到达时，传感器才能接收到光源的光。通常情况下，即在不存在烟雾7的情况下，测量信号的信号幅度因此为零，而在存在烟雾7的情况下，信号幅度具有不等于零的值，当该值超过定义的极限值时，该值被识别为存在烟雾7，随后如前所述地进行触发警报。
附图标记清单
1 表面处理设备
2 基站
3 设备光学元件
4 基站光学元件
5 评估装置
6 警报设备
7 烟雾
x 距离

Claims (13)

1.一种表面处理设备(1)、尤其清洁机器人，具有至少一个设备光学元件(3)和评估装置(5)，其特征在于，所述设备光学元件(3)为了与外设元件共同作用而设计为，使得从所述设备光学元件(3)发射的光借助所述外设元件被至少部分地反射到所述设备光学元件(3)，其中，所述评估装置(5)设计为，在所述设备光学元件(3)与所述外设元件共同作用时，为了探测在所述设备光学元件(3)和外设元件之间存在烟雾(7)，对于所述设备光学元件(3)接收到的测量信号针对信号幅度的时间变化进行评估，并且在越过定义的极限值时触发警报信号。
2.根据权利要求1所述的表面处理设备(1)，其特征在于，所述设备光学元件(3)是光源、优选二极管、尤其优选激光二极管。
3.根据权利要求2所述的表面处理设备(1)，其特征在于，所述光源是表面处理设备(1)的测距装置、尤其是三角测量装置的元件。
4.根据前述权利要求中任一项所述的表面处理设备(1)，其特征在于，所述设备光学元件(3)是传感器、尤其光电二极管或摄像头芯片。
5.一种基站(2)，用于连接表面处理设备(1)以便进行维护操作、尤其清洁表面处理设备(1)和/或为表面处理设备(1)的蓄电池充电，其中，所述基站(2)具有至少一个基站光学元件(4)和评估装置(5)，其特征在于，所述基站光学元件(4)为了与外设元件共同作用而设计为，使得从所述基站光学元件(4)发射的光借助所述外设元件被至少部分地反射到基站光学元件(4)，其中，所述评估装置(5)设计为，在所述基站光学元件(4)和所述外设元件共同作用时，为了探测在所述基站光学元件(4)和外设元件之间存在烟雾(7)，对于所述基站光学元件(4)接收到的测量信号针对信号幅度的时间变化进行评估，并且在越过定义的极限值时触发警报信号。
6.根据权利要求5所述的基站(2)，其特征在于，所述基站光学元件(4)是光源、优选二极管、尤其优选激光二极管。
7.根据权利要求5或6所述的基站，其特征在于，所述基站光学元件(4)是传感器、尤其光电二极管或摄像头芯片。
8.一种由表面处理设备(1)和基站(2)组成的系统，所述表面处理设备(1)尤其是清洁机器人，所述基站(2)用于连接表面处理设备(1)以便进行维护操作、尤其清洁表面处理设备(1)和/或为表面处理设备(1)的蓄电池充电，其中所述表面处理设备(1)具有至少一个设备光学元件(3)，并且其中，所述基站(2)具有至少一个设计用于与所述设备光学元件(3)共同作用的基站光学元件(4)，其特征在于，至少一个光学元件(3,4)配有评估装置(5)，所述评估装置(5)设计为，在这些光学元件(3,4)共同作用时，为了探测所述设备光学元件(3)与所述基站光学元件(4)之间存在烟雾(7)，对于由这些光学元件(3,4)之一接收到的测量信号针对信号幅度的时间变化进行评估，并且在越过定义的极限值时触发警报信号。
9.根据权利要求8所述的系统，其特征在于，所述光学元件(3,4)布置在所述表面处理设备(1)和所述基站(2)上，使得所述设备光学元件(3)和所述基站光学元件(4)之间的距离(x)在共同作用期间约为1cm至20cm。
10.根据权利要求8或9所述的系统，其特征在于，所述设备光学元件(3)或所述基站光学元件(4)是光源、优选二极管、尤其优选激光二极管。
11.根据权利要求8至10中任一项所述的系统，其特征在于，所述基站光学元件(4)或所述设备光学元件(3)是传感器、尤其光电二极管或摄像头芯片。
12.根据权利要求8至11中任一项所述的系统，其特征在于，所述基站光学元件(4)或所述设备光学元件(3)是反光镜，用于至少部分地反射从设备光学元件或基站光学元件发射的光。
13.一种运行按照权利要求1至4中任一项所述的表面处理设备(1)和/或按照权利要求5至7中任一项所述的基站(2)的方法，其中，表面处理设备(1)的至少一个设备光学元件(3)和/或基站(2)的至少一个基站光学元件(4)相互间共同作用和/或与外设元件共同作用，其特征在于，这些光学元件(3,4)为了共同作用而彼此相隔一个距离(x)，其中，所述设备光学元件(3)或所述基站光学元件(4)发射光，所述光被所述基站光学元件(4)或所述设备光学元件(3)接收或者被所述基站光学元件(4)或所述设备光学元件(3)或所述外设元件反射到所述设备光学元件(3)或所述基站光学元件(4)，其中，为了探测所述设备光学元件(3)和所述基站光学元件(4)之间或者所述外设元件和所述设备光学元件或所述基站光学元件之间存在烟雾(7)，所述表面处理设备(1)的评估装置(5)或所述基站(2)的评估装置(5)对于借助所述设备光学元件(3)或所述基站光学元件(4)接收到的测量信号针对信号幅度的时间变化进行评估，并且在越过定义的极限值时触发警报信号。
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