TW201717834A - 面加工設備及基座 - Google Patents

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Abstract

本發明係有關於一種面加工設備(1)，特別是清潔機器人，具有至少一光學設備元件(3)及一分析裝置(5)。為使該面加工設備(1)具有其他功能，本發明提出，該光學設備元件(3)為了與外部元件配合作用而被如此構建，使得該光學設備元件(3)所發射之光被該外部元件至少部分反射至一光學設備元件(3)，其中該分析裝置(5)經構建而在該光學設備元件(3)與該外部元件配合作用以偵測該光學設備元件(3)與該外部元件之間是否存在煙霧(7)期間，在信號振幅之時間性變化方面對該光學設備元件(3)所接收到之測量信號進行分析，並且在越過一明確極限值時觸發警報信號。此外，本發明亦有關於一種可連接面加工設備(1)之基座(2)、一種由面加工設備(1)組成之系統以及一種操作面加工設備(1)及/或基座(2)之方法。

Description

面加工設備及基座
本發明首先係有關於一種面加工設備，特別是清潔機器人，具有至少一光學設備元件及一分析裝置。
此外，本發明亦有關於一種基座，該基座可連接面加工設備以實施服務行為，特別是清潔該面加工設備及/或為該面加工設備之蓄電池充電，其中該基座具有至少一光學基座元件及一分析裝置。
此外，本發明更有關於一種由面加工設備及基座組成之系統，該面加工設備特別是清潔機器人，該基座可連接該面加工設備以實施服務行為，特別是清潔該面加工設備及/或為該面加工設備之蓄電池充電，其中該面加工設備具有至少一光學設備元件，且其中該基座具有至少一經構建而與該光學設備元件配合作用之光學基座元件。
最後，本發明係有關於一種操作上述面加工設備及/或上述基座之方法，其中該面加工設備之至少一光學設備元件及/或該基座之至少一光學基座元件相互配合作用及/或與外部元件配合作用。
在先前技術中，上述類型之面加工設備及基座已為吾人所熟知。面加工設備可連接基座以例如清空、清潔面加工設備之 集塵腔、為面加工設備之蓄電池充電等等。若面加工設備例如為清潔機器人，特別是擦拭機器人及/或吸塵機器人，則其可按需要自動移向基座。在其他情況下，使用者可手動連接面加工設備與基座以實施前述服務行為。
面加工設備及基座例如具有相對應之光學元件，在最簡單之情況下，該等光學元件經構建而用於偵測基座上是否存在面加工設備或用於測量面加工設備相對於基座之距離。舉例而言，其中一光學元件亦可為面加工設備之雷射三角測量系統的一部分。
公開案DE 10 2008 014 912 A1例如揭露一種具有上述光學三角測量系統之面加工設備，該光學三角測量系統提供數個光學元件以識別障礙物。該等光學元件主要包含光源以及用於由被測物體所反射之光束的感測器。
基於此，本發明之目的在於改良該面加工設備及/或該基座，使其透過其他功能而為使用者提供附加價值。
為達成上述目的，本發明首先提出一種前述類型之面加工設備，其中該光學設備元件為了與外部元件配合作用而被如此構建，使得該光學設備元件所發射之光被該外部元件至少部分反射至一光學設備元件，其中該分析裝置經構建而在該光學設備元件與該外部元件配合作用以偵測該光學設備元件與該外部元件之間是否存在煙霧期間，在信號振幅之時間性變化方面對該光學設備元件所接收到之測量信號進行分析，並且在越過一明確極限值時觸發警報信號。
由此，面加工設備之光學設備元件與外部元件形成一 煙霧感測器，其中被其中一光學設備元件接收到的測量信號在一明確之時間跨度內被分析裝置分析，尤其是連續分析，其中分析裝置識別信號振幅之變化並且在發生透過極限值所定義之過度變化時，確定面加工設備之光學設備元件與外部元件之間存在煙霧並觸發警報系統以輸出警報信號(火災警報)。該等光學設備元件特定言之可具有至少一光源及一感測器。該等光學設備元件例如亦可連接成一共用的發送-接收單元。該外部元件較佳為反射鏡，在最簡單之情況下為一至少部分反射發射光之表面，例如牆壁或傢俱之表面分區。該外部元件較佳亦可為基座之光學基座元件，例如該基座之殼體的部分反射性表面或設於殼體內部之光學反射鏡。其中，光學設備元件所發射之光被外部元件(即反射性表面或光學反射鏡)反射至面加工設備之另一光學設備元件。無煙霧存在時，光源之光輻射較佳幾乎全部被光學設備元件接收，存在煙霧時，接收到的測量信號則具有相對減小之信號振幅。其中，總是將目前所測得之信號振幅與無煙霧存在時通常所具有之參考信號振幅進行比較，其中當低於一明確極限值時，得出存在煙霧之結論。接著，分析裝置可基於偵測結果而向面加工設備、基座或家用警報系統之警報單元傳輸信號，該警報單元遂向面加工設備之使用者、急呼中心等等傳輸光學及/或聲學警報信號。
本發明提出，該光學設備元件為一光源，較佳為二極體，尤佳為雷射二極體。二極體或雷射二極體適合用作光源，因為二極體或雷射二極體便於整合到電路中，特別小且便宜。此外，雷射二極體更具有空間同調光發射之優點，使得發射光在較長距離上亦能聚束且無擴束傳播，否則會導致感測器所測得之信號振幅發生 變化，進而出現測量信號被誤釋之結果。
本發明提出，該光源為該面加工設備之測距裝置的元件，該測距裝置特別是三角測量裝置。藉此，偵測煙霧所需要的光輻射可由面加工設備之光源發射，該光源此外亦用於距離測量及/或障礙物識別。如此便不必在面加工設備上設置單獨光源以形成煙霧感測器。確切而言，面加工設備之光源例如在面加工設備處於不工作狀態期間不需要進行距離測量或障礙物偵測，但可被用來偵測煙霧。作為替代方案，亦可將該光源時間上循環交替地用於煙霧測量及距離測量/障礙物識別。
本發明進一步提出，該光學設備元件為一感測器，特別是光電二極體或攝影機晶片。如光電二極體或攝影機晶片等便宜的量產組件特別適合用作感測器。量產組件可特別方便地整合到面加工設備之電子導體結構中。
除上述面加工設備外，本發明亦提出一種前述類型之基座，其光學基座元件為了與外部元件配合作用而被如此構建，使得該光學基座元件所發射之光被該外部元件至少部分反射至一光學基座元件，其中該分析裝置經構建而在該光學基座元件與該外部元件配合作用以偵測該光學基座元件與該外部元件之間是否存在煙霧期間，在信號振幅之時間性變化方面對該光學基座元件所接收到之測量信號進行分析，並且在越過一明確極限值時觸發警報信號。
基座之光學基座元件與外部元件共同形成一煙霧感測器，其中被其中一光學基座元件接收到的測量信號在一明確之時間跨度內被分析裝置分析，尤其是連續分析，其中分析裝置識別信 號振幅之變化並且在發生透過極限值所定義之過度變化時，確定基座之光學基座元件與外部元件之間存在煙霧並觸發警報系統以輸出警報信號(火災警報)。該等光學基座元件特定言之可具有至少一光源及一感測器。該等光學基座元件可連接成一共用的發送-接收單元。該外部元件較佳為反射鏡，在最簡單之情況下為一至少部分反射發射光之表面，例如牆壁或傢俱之表面分區。該外部元件較佳亦可為面加工設備之光學設備元件，例如該面加工設備之殼體的部分反射性表面或設於殼體內部之光學反射鏡。其中，光學基座元件所發射之光被外部元件(即反射性表面或光學反射鏡)反射至另一光學基座元件。無煙霧存在時，光源之光輻射較佳幾乎全部被光學基座元件接收，存在煙霧時，接收到的測量信號則具有相對減小之信號振幅。其中，總是將目前所測得之信號振幅與無煙霧存在時通常所具有之參考信號振幅進行比較，其中當低於一明確極限值時，得出存在煙霧之結論。接著，分析裝置可基於偵測結果而向基座、面加工設備或家用警報系統之警報單元傳輸信號，該警報單元遂向基座之使用者、急呼中心等等傳輸光學及/或聲學警報信號。
本發明提出，該光學基座元件為一光源，較佳為二極體，尤佳為雷射二極體。二極體或雷射二極體適合用作光源，因為二極體或雷射二極體便於整合到電路中，特別小且便宜。此外，雷射二極體更具有空間同調光發射之優點，使得發射光在較長距離上亦能聚束且無擴束傳播，否則會導致感測器所測得之信號振幅發生變化，進而出現測量信號被誤釋之結果。
本發明進一步提出，該光學基座元件為一感測器，特別是光電二極體或攝影機晶片。如光電二極體或攝影機晶片等便宜 的量產組件特別適合用作感測器。此外，量產組件可特別方便地整合到基座之電子導體結構中。
除該面加工設備及該基座外，本發明更提出一種由面加工設備及基座組成之系統，其中至少一光學設備元件及/或一光學基座元件被分配一分析裝置，該分析裝置經構建而在該等光學元件配合作用以偵測該光學設備元件與該光學基座元件之間是否存在煙霧期間，在信號振幅之時間性變化方面對光學設備元件及/或光學基座元件所接收到之測量信號進行分析，並且在越過一明確極限值時觸發警報信號。
由此，面加工設備及基座之光學元件形成一煙霧感測器，其中被其中一光學元件接收到的測量信號在一明確之時間跨度內被分析裝置分析，尤其是連續分析，其中分析裝置識別信號振幅之變化並且在發生透過極限值所定義之過度變化時，確定面加工設備之光學設備元件與基座之光學基座元件間存在煙霧並觸發警報系統以輸出警報信號(火災警報)。該等光學元件特定言之可具有至少一光源、一反射鏡及/或一感測器。
原則上可採用不同之光學佈置方案來偵測煙霧之存在。根據第一佈置方案，可將接收測量信號之感測器例如佈置於光源之光路中(即沿光的主傳播方向佈置)，使得該感測器在無煙霧存在時直接且較佳全部接收到光源之光輻射，並且在存在煙霧時接收到信號振幅相對減小之測量信號。根據第二佈置方案，可將感測器佈置於光源所發射之輻射的光路以外，以便測量光路以外之散射光。當無煙霧(或其他物體)存在時，信號振幅一般為零，而當存在煙霧時，光源所發射之輻射在煙霧(或者說煙霧粒子)上發生散射且 可射中該或該等光學感測器。其中，第一及第二佈置方案皆總是將目前所測得之信號振幅與無煙霧存在時通常所具有之參考信號振幅進行比較，其中當低於(第一佈置方案)或超過(第二佈置方案)一明確極限值時，得出存在煙霧之結論。接著，分析裝置可向面加工設備、基座或家用警報系統之警報單元傳輸信號，該警報單元遂向面加工設備之使用者、急呼中心等等傳輸光學或聲學警報信號。
本發明提出，該等光學元件如此佈置在該面加工設備及該基座上，使得該光學設備元件與該光學基座元件間之距離在配合作用期間約為1cm至20cm。如此確定此距離之大小，使得一方面在面加工設備之光學元件與基座之光學元件間留下足夠大的距離以供發生火災時所形成之煙霧進入。另一方面使該距離達到一量級，此量級能確保光源所發射之輻射被儘可能無損地傳輸至另一光學元件，例如感測器。為能在面加工設備與基座接觸期間亦使得面加工設備及基座之光學元件間存在此種距離，該等光學元件以相應方式佈置在面加工設備及基座上。原則上，該等光學元件可在面加工設備與基座接觸時或者在面加工設備與基座分開時(相當於面加工設備未設於基座上)配合作用。舉例而言，面加工設備可自由(即不接觸基座)位於基座前面，從而在面加工設備之光學元件與基座之光學基座元件間提供約1cm至20cm之距離。但有益的是，面加工設備在形成該有益距離之情況下接觸基座，使得在煙霧感測器作用的同時亦能實施服務行為，例如為蓄電池充電或者清潔面加工設備之集塵腔。
本發明提出，該光學設備元件或該光學基座元件為一光源，較佳為二極體，尤佳為雷射二極體。二極體或雷射二極體適 合用作光源，因為二極體或雷射二極體便於整合到電路中，特別小且便宜。此外，雷射二極體更具有空間同調光發射之優點，使得發射光在較長距離上亦能聚束且無擴束傳播，否則會導致感測器所測得之信號振幅發生變化，進而出現測量信號被誤釋之結果。
有益地，該光源為該面加工設備之測距裝置的元件，該測距裝置特別是三角測量裝置。面加工設備所用之測距裝置(尤其是三角測量裝置)通常已使用雷射二極體，因而能取得上述優點。偵測煙霧存在所需要之光輻射原則上可由面加工設備之光學元件或基座之光學元件提供。但特別有益的是，對面加工設備之光源加以利用，該光源此外亦可用於距離測量及/或障礙物識別。如此便不必在面加工設備或基座上設置單獨光源以形成煙霧感測器裝置。確切而言，面加工設備之光源偶爾(例如在基座中或基座上存在面加工設備期間)不需要進行距離測量或障礙物識別，但可被用來偵測煙霧。
作為替代方案，該光源亦可為該基座之光學元件，即光學基座元件，其與該面加工設備之光學元件相對應。在此情況下，光輻射係自基座而非面加工設備出發。此點特別有益，因為基座通常為一連接至建築電源且不必依賴蓄電池運行之固定式設備。
本發明提出，該光學基座元件或該光學設備元件為一感測器，特別是光電二極體或攝影機晶片。因此根據本發明，基座或面加工設備可具有該用於偵測信號振幅之感測器。例如可設置如下：面加工設備具有光源且基座具有感測器，或者反過來，面加工設備具有感測器且基座具有相對應之光源。如光電二極體或攝影機晶片等便宜的量產組件特別適合用作感測器。此外，量產組件可特 別方便地整合到面加工設備或基座之電子導體結構中。
本發明進一步提出，該光學基座元件或該光學設備元件為一用於至少部分反射該光學設備元件或該光學基座元件所發射之光的反射鏡。在此情況下，面加工設備或基座既具有光源亦具有感測器。其中，光源所發射之光輻射僅在基座或面加工設備之反射鏡上被反射，因而在此情況下，光學元件可完全採用無源設計，不需要供電。舉例而言，此點在蓄電池無需進一步為主動光學組件(光源、感測器)供電之情形下是有益的。該用於反射輻射之反射鏡可為面加工設備或基座之獨立光學元件。作為替代方案，基座或面加工設備之表面亦可具有反射性表面，尤其可塗佈反射層。當然，該反射面之反射率與發射輻射之波長相對應。
此外，本發明提出一種操作面加工設備及/或基座之方法，其中該面加工設備之至少一光學設備元件及/或該基座之至少一光學基座元件相互配合作用及/或與外部元件配合作用，其中將該等光學元件彼此隔開一距離以實現配合作用，其中該光學設備元件或該光學基座元件發射光，該光被該光學基座元件或該光學設備元件接收或者被該光學基座元件或該光學設備元件或該外部元件反射至該光學設備元件或該光學基座元件，其中該面加工設備或該基座之分析裝置在信號振幅之時間性變化方面對該光學設備元件或該光學基座元件所接收到之測量信號進行分析，以偵測該光學設備元件與該光學基座元件之間或者該外部元件與該光學設備元件或該光學基座元件之間是否存在煙霧，並且在越過一明確極限值時觸發警報信號。
由此，本發明之方法(及前述系統)大致可設置兩種工 作方式。根據第一工作方式，面加工設備之光學元件發射光，該光被基座之光學元件偵測，或者反過來。根據第二工作方式，兩個皆設於面加工設備上或皆設於基座上之光學元件既承擔發射光信號亦承擔偵測光信號之任務，基座/面加工設備之對應光學元件或另一外部元件則僅用作反射鏡，該反射鏡將面加工設備或基座之光學元件所發射的光反射至面加工設備或基座之光學元件。其中，感測器有益地鄰近光源佈置，使得相向光信號在空間上彼此緊鄰。
最後提出，本發明之面加工設備、本發明之基座或者本發明由面加工設備及基座組成之系統可用作煙霧感測器。
1‧‧‧面加工設備
2‧‧‧基座
3‧‧‧光學設備元件
4‧‧‧光學基座元件
5‧‧‧分析裝置
6‧‧‧警報系統
7‧‧‧煙霧
x‧‧‧距離
下面結合實施例詳細闡述本發明。其中：圖1為面加工設備與基座所組成之系統在一房間狀況下；圖2為起火形成煙霧時如圖1之房間狀況；圖3為本發明系統之俯視圖；圖4為根據第一實施方式之系統在無煙霧存在時之示意圖；圖5為存在煙霧時如圖4之系統；圖6為根據第二實施方式之系統在無煙霧存在時之視圖；圖7為存在煙霧時如圖6之系統；圖8為根據第三實施方式之系統在無煙霧存在時之視圖；圖9為存在煙霧時如圖8之系統；圖10為根據第四實施方式之系統在無煙霧存在時之視圖；圖11為存在煙霧時如圖10之系統。
圖1示出由面加工設備1及基座2組成之系統，該系 統處於普通的房間狀況下。面加工設備1在此僅示例性地構建為可自動移行之清潔機器人。基座2不可自動移行，但可被系統使用者隨意放置於房間內部。
面加工設備1具有光學設備元件3，該光學設備元件設於面加工設備1之頂面上，以及分析裝置5，該分析裝置包含微處理器及資料記憶體。基座2具有光學基座元件4及分析裝置5，且視情況具有其他未示出之組件，該等組件例如用於為面加工設備1之蓄電池充電、清潔面加工設備1之集塵腔等等。
在圖示視圖中，面加工設備1直接接觸基座2，即連接基座2。面加工設備1及基座2具有形狀對應之殼體分區，使得面加工設備1可移入基座2之分區。在此位置上，光學元件3、4之間隔開一距離x。在面加工設備1設於基座2上期間，面加工設備1不承擔面加工任務。確切而言，視情況藉由基座2在面加工設備1上實施服務行為。
如下文所述，面加工設備1及基座2在此位置上亦共同為煙霧感測器作用(但不排除該系統在面加工設備1與基座2分離之狀態下亦可為煙霧感測器作用)。
為煙霧感測器作用時，為達到偵測光學設備元件3與光學基座元件4間是否存在煙霧之目的，其中一光學元件3、4所發射之光信號被另一光學元件3、4接收並且被面加工設備1及/或基座2之分析裝置5在信號振幅(或光強度)之時間性變化方面加以分析。超過或低於一明確極限值時觸發警報信號，該警報信號指出煙霧之存在，即尤指住所火災之發生。用作感測器之光學組件3、4連續接收測量信號並將此測量信號連續與保存於資料記憶體中之 極限值進行比較，從而能在無明顯時間延遲之情況下確定煙霧之存在。在其中一房間內進一步設有警報系統6，該警報系統經構建而用於與面加工設備1或基座2之分析裝置5通訊並且可將警報信號轉發至外部急呼中心、使用者之行動設備或類似之物。
圖2示出房間內部起火時之前述房間狀況。其間形成煙霧7，即房間內部存在煙霧。煙霧7亦蔓延至本發明由面加工設備1及基座2組成之系統所在的位置。煙霧7至少部分蔓延到面加工設備1之光學設備元件3與基座2之光學基座元件4間，兩光學元件在此相互隔開20cm左右之距離x。
圖3示出由面加工設備1及基座2組成之系統的俯視圖。從圖中可看到面加工設備1之殼體分區及基座2之殼體分區的形狀對應設計。
下面將介紹由面加工設備1及基座2組成之系統的三種不同實施變型。
圖4及圖5示出本發明之第一實施方式，其中面加工設備1具有兩個光學設備元件3，即光源及光學感測器。基座2具有光學基座元件4，該光學基座元件在此為一光學反射鏡。此實施變型之工作方式如下：面加工設備1之光源連續發射光信號，該光信號對準基座2之反射鏡。光被反射鏡反射並射中面加工設備1之感測器。感測器所接收到之信號的信號振幅在圖式中被示意性示出。圖5示出圖4之系統處於以下情形中：在面加工設備1之光學設備元件3與基座2之光學基座元件4間的光路中存在煙霧7。在此情形下，面加工設備1之光源所發射的光至少部分被煙霧7散射，使得相應之光分量無法再到達基座2之光學基座元件4。因此 與不存在煙霧7之情形相比，被反射鏡反射之光分量具有相對較小之信號振幅。另外，此反射光分量亦再度射中煙霧7並被二次散射，使得面加工設備1之感測器所測得的信號振幅總體上小於在如圖4之情形下所測得的信號振幅。在測量過程中，面加工設備1之感測器連續向面加工設備1之分析裝置5傳輸關於信號振幅之資訊。分析裝置5將此信號振幅與參考信號振幅進行比較，該參考信號振幅與光源所發射之光信號的信號振幅大致一致。若感測器目前所測得之信號振幅比參考信號振幅低一定百分比(極限值)，則得出存在煙霧7之結論。該明確極限值例如可比在無煙霧7存在時可測得之參考信號振幅低10%。當低於此明確極限值時，分析裝置5向警報系統6發送一資訊，該警報系統遂發出警報信號。此警報信號可為光信號及/或聲信號。有益地，亦可向急呼中心報告火災。
圖6及圖7示出本發明之第二實施方式，其中面加工設備1僅具有一個光學設備元件3，且其中基座2具有兩個光學基座元件4。該二光學基座元件4為光源及光感測器。光學設備元件3為一分配給面加工設備1之反射鏡。除此之外，根據此第二實施方式之本發明的工作方式與圖4及圖5所示之實施方式相似。
儘管未作為其他實施方式被明確示出，但可以理解的是，與圖4至圖7所示之實施方式相似，亦可將外部元件如牆壁、傢俱或類似之物的反射性表面分區用作反射鏡或反射面。在此情況下，面加工設備1之光學設備元件3或基座2之光學基座元件4可與此表面分區配合作用，使得圖4及圖5所示之面加工設備1在無基座2之情況下亦可為煙霧感測器作用，或者如圖6及圖7之基座2在無面加工設備1之情況下亦可用作煙霧感測器。
圖8及圖9示出本發明之第三實施方式，其中面加工設備1具有光學設備元件3，即光源，且基座2具有光學基座元件4，即感測器。因此，面加工設備1之光源所發射的光係由基座2之感測器偵測。當光源與感測器之間不存在煙霧7時，感測器之測量信號具有圖8中所示出之信號振幅。圖9示出光源與感測器間存在煙霧7時之情形。其中，光源所發射之光在煙霧7上發生散射，僅一小部分能到達基座2之感測器。由此，測量信號之信號振幅小於不存在煙霧7時之參考信號振幅。減小之信號振幅由圖9示出。基座2之被分配給該感測器的分析裝置5將目前信號振幅與內儲參考信號振幅進行比較，並且在低於明確極限值時可得出存在煙霧7之結論。此外則同樣為觸發警報信號。
最後，圖10及圖11示出本發明之第四實施方式，其中基座2僅具有一個光學基座元件4，即感測器，該光學基座元件因其位置緣故而僅在面加工設備1之光源與該感測器間存在煙霧7時能偵測信號。根據此實施方式，該感測器設於光源所發射之光的光軸以外，使得該感測器在無煙霧7存在時接收不到光分量(圖10)，並且在存在煙霧7時接收到信號振幅不等於零之散射光分量(圖11)。當然，光並非僅朝感測器方向散射，而是發生漫輻射。其工作方式如下：感測器由於位於光軸以外而僅當光源之光自光源出發在煙霧上發生散射且因而朝感測器方向傳播時方可接收到此部分光。因此在一般情況下，即無煙霧7存在時，測量信號之信號振幅為零，而當存在煙霧7時，信號振幅具有不等於零的值，當超過明確極限值時，該值作為存在煙霧7之依據。接著觸發警報，具體請參閱前文。
1‧‧‧面加工設備
2‧‧‧基座
3‧‧‧光學設備元件
4‧‧‧光學基座元件
5‧‧‧分析裝置
6‧‧‧警報系統
7‧‧‧煙霧

Claims (13)

  1. 一種面加工設備(1)，特別是清潔機器人，具有至少一光學設備元件(3)及一分析裝置(5)，其特徵在於：該光學設備元件(3)為了與外部元件配合作用而被如此構建，使得該光學設備元件(3)所發射之光被該外部元件至少部分反射至一光學設備元件(3)，其中該分析裝置(5)經構建而在該光學設備元件(3)與該外部元件配合作用以偵測該光學設備元件(3)與該外部元件之間是否存在煙霧(7)期間，在信號振幅之時間性變化方面對該光學設備元件(3)所接收到之測量信號進行分析，並且在越過一明確極限值時觸發警報信號。
  2. 如請求項1之面加工設備(1)，其中，該光學設備元件(3)為一光源，較佳為二極體，尤佳為雷射二極體。
  3. 如請求項2之面加工設備(1)，其中，該光源為該面加工設備(1)之測距裝置的元件，該測距裝置特別是三角測量裝置。
  4. 如前述請求項中任一項之面加工設備(1)，其中，該光學設備元件(3)為一感測器，特別是光電二極體或攝影機晶片。
  5. 一種基座(2)，該基座可連接面加工設備(1)以實施服務行為，特別是清潔該面加工設備(1)及/或為該面加工設備(1)之蓄電池充電，其中該基座(2)具有至少一光學基座元件(4)及一分析裝置(5)，其特徵在於：該光學基座元件(4)為了與外部元件配合作用而被如此構建，使得該光學基座元件(4)所發射之光被該外部元件至少部分反射至該光學基座元件(4)，其中該分析裝置(5)經構建而在該光學基座元件(4)與該外部元件配合作用以偵測該光學基座元件(4)與該外部元件之 間是否存在煙霧(7)期間，在信號振幅之時間性變化方面對該光學基座元件(4)所接收到之測量信號進行分析，並且在越過一明確極限值時觸發警報信號。
  6. 如請求項5之基座(2)，其中，該光學基座元件(4)為一光源，較佳為二極體，尤佳為雷射二極體。
  7. 如請求項5或6之基座(2)，其中，該光學基座元件(4)為一感測器，特別是光電二極體或攝影機晶片。
  8. 一種由面加工設備(1)及基座(2)組成之系統，該面加工設備特別是清潔機器人，該基座可連接該面加工設備(1)以實施服務行為，特別是清潔該面加工設備(1)及/或為該面加工設備(1)之蓄電池充電，其中該面加工設備(1)具有至少一光學設備元件(3)，且其中該基座(2)具有至少一經構建而與該光學設備元件(3)配合作用之光學基座元件(4)，其特徵在於：至少一光學元件(3、4)被分配一分析裝置(5)，該分析裝置經構建而在該等光學元件(3、4)配合作用以偵測該光學設備元件(3)與該光學基座元件(4)之間是否存在煙霧(7)期間，在信號振幅之時間性變化方面對其中一光學元件(3、4)所接收到之測量信號進行分析，並且在越過一明確極限值時觸發警報信號。
  9. 如請求項8之系統，其中，該等光學元件(3、4)如此佈置在該面加工設備(1)及該基座(2)上，使得該光學設備元件(3)與該光學基座元件(4)間之距離(x)在配合作用期間約為1cm至20cm。
  10. 如請求項8或9之系統，其中，該光學設備元件(3)或該光學基座元件(4)為一光源，較佳為二極體，尤佳為雷射二極體。
  11. 如請求項8至10中任一項之系統，其中，該光學基座元件(4) 或該光學設備元件(3)為一感測器，特別是光電二極體或攝影機晶片。
  12. 如請求項8至11中任一項之系統，其中，該光學基座元件(4)或該光學設備元件(3)為一用於至少部分反射該光學設備元件或該光學基座元件所發射之光的反射鏡。
  13. 一種操作如前述請求項1至4中任一項之面加工設備(1)及/或如請求項5至7中任一項之基座(2)的方法，其中該面加工設備(1)之至少一光學設備元件(3)及/或該基座(2)之至少一光學基座元件(4)相互配合作用及/或與外部元件配合作用，其特徵在於：將該等光學元件(3、4)彼此隔開一距離(x)以實現配合作用，其中該光學設備元件(3)或該光學基座元件(4)發射光，該光被該光學基座元件(4)或該光學設備元件(3)接收或者被該光學基座元件(4)或該光學設備元件(3)或該外部元件反射至該光學設備元件(3)或該光學基座元件(4)，其中該面加工設備(1)或該基座(2)之分析裝置(5)在信號振幅之時間性變化方面對該光學設備元件(3)或該光學基座元件(4)所接收到之測量信號進行分析，以偵測該光學設備元件(3)與該光學基座元件(4)之間或者該外部元件與該光學設備元件或該光學基座元件之間是否存在煙霧(7)，並且在越過一明確極限值時觸發警報信號。
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