CN107540344B - 一种12°柔光瓷质釉面砖 - Google Patents
一种12°柔光瓷质釉面砖 Download PDFInfo
- Publication number
- CN107540344B CN107540344B CN201710913299.3A CN201710913299A CN107540344B CN 107540344 B CN107540344 B CN 107540344B CN 201710913299 A CN201710913299 A CN 201710913299A CN 107540344 B CN107540344 B CN 107540344B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- calcined
- kaolin
- mud
- raw materials
- glaze
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Finishing Walls (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Abstract
本发明属于柔光砖的制备领域,具体涉及一种12°柔光瓷质釉面砖。包括坯体、底釉、面釉;所述的面釉由钾长石、烧滑石、碳酸钡、煅烧氧化铝、煅烧氧化锌、煅烧高岭土、高岭土、哑光熔块、透明熔块和锻光粒子组成。本发明柔光瓷质釉面砖的坯体吸水率低(0.05~0.1%);断裂模数大(40~45MPa),砖坯强度高,不易断裂;边弯曲度(‑0.03~+0.05mm)和中心弯曲度(‑0.04~+0.06mm)都很小,砖面平整铺贴起来工整美观。柔光砖,推崇无光污染的健康氛围,依照空间光学折射规律,将瓷砖反光控制在12°柔光水平,使空间光感明暗适中,为眼睛创造最舒适的感光状态,规避疲劳隐患。
Description
技术领域
本发明属于柔光砖的制备领域,具体涉及一种12°柔光瓷质釉面砖。
背景技术
柔光瓷质釉面砖是砖面反射介于强光与弱光之间的一类瓷砖,其结合亮光类瓷砖的高调明艳装饰和哑光类瓷砖的低调内敛搭配效果,降低产品反光率,使釉面光泽度控制在12°,从而达到人体舒适的视觉感受以及无光污染的空间装饰效果,是一种新型环保建材。
现有市面上的柔光砖主要以29°和55°光泽度为主,此类柔光需要通过抛光机柔抛来达到光泽度。其缺点是,其一:釉面需要抛光来达到光泽度,抛光会破坏釉面结晶晶体,釉层中间的微小气泡呈现于表面,使釉面容易藏污吸污,这样抛光的柔光就必须依靠抛后打蜡来弥补釉面吸污的缺陷。其二:当釉层中间微小气泡偏多时,打蜡会产生明显的蜡痕,蜡痕会让釉面的光泽度不均匀,从而影响釉面的整体美观。其三:抛光时容易造成砖面不平整,出现“水波纹”现象,影响铺贴效果。
而12°柔光瓷质釉面砖无需抛光,其独特的锻光粒子釉面,高温烧制后形成硬度为莫氏6级的保护层,使产品耐磨性极佳、抗污力强,釉层更为清透,使得瓷砖再繁复精细的设计纹饰也能逼真呈现于砖面表层,令产品纹理更清晰细腻、色泽更艳丽逼真、层次更立体丰富,高度迎合了高品质生活的极致追求。
发明内容
亮光瓷砖易产生过度视觉刺激而造成感官压抑,哑光瓷砖反光少易造成空间光线暗沉,难以达到装饰搭配效果。柔光瓷质釉面砖汲取两者之长,适合更多的装饰效果。本发明的目的在于针对现有技术的不足,提供一种无需抛光的12°柔光瓷质釉面砖。本发明柔光瓷质釉面砖的坯体吸水率低,断裂模数大砖坯强度高,不易破损;边弯曲度和中心弯曲度都很小,砖面平整铺贴起来工整美观;面釉独特的锻光粒子在产品表面上形成硬度为莫氏6级的保护层,使产品耐磨性极佳、抗污力强,使釉面如玉石般润泽、平整光洁;12°光泽度使产品的质感更柔和、光感细腻润泽,让视觉更加舒适,从而解决了亮光瓷砖产品的光污染问题。
为达到上述发明目的,本发明采用如下技术方案:
一种12°柔光瓷质釉面砖,包括坯体、底釉、面釉;
(1)所述的坯体由以下原料组成:长石25-30 wt %、叶腊石18-20 wt %、高岭土18-22 wt %、白泥10-12 wt %、黑泥7-9 wt %、泥条10-12 wt %、海泥1-3 wt %、镁质泥1-3 wt%,以上各原料质量分数之和为100%;本发明12°柔光瓷质釉面砖的坯体,吸水率0.05~0.1%,断裂模数:40~45MPa,边弯曲度:-0.03~+0.05mm,中心弯曲度-0.04~+0.06mm。
(2)所述的底釉由以下原材料组成:钾长石38-42wt %、钠长石15-18wt %、石英8-12wt %、煅烧高岭土11-13wt %、高岭土8-12wt %、硅酸锆9-12wt %,以上各原料质量分数之和为100%;此底釉因为长石的熔融效果,釉面比较平滑,为柔光面釉的平滑细腻感提供了底面基础,其放射性核素限量符合GB 6566-2010标准中A类装饰装修材料的要求。
(3)所述的面釉由以下原材料组成:钾长石33-36wt %、烧滑石8-11wt %、碳酸钡11-13wt %、煅烧氧化铝4-6wt %、煅烧氧化锌3-5wt %、煅烧高岭土4-6wt %、高岭土8-12wt%、哑光熔块6-10wt %、透明熔块2-5wt %、锻光粒子8-10wt %,以上各原料质量分数之和为100%;此面釉所用原料50%以上都经过煅烧,烧失量小,解决了釉层厚容易出现釉面针孔的问题;釉面烧结程度高,其独特的锻光粒子釉面,高温烧制后形成硬度为莫氏6级的保护层,使产品耐磨性极佳,釉层更为清透,手感细润质感细腻;耐污染性达5级,耐酸碱性达GA级,耐摩擦系数0.65~0.66;12°的光泽度,让釉面有柔和的感官,还原自然的视觉光感和柔润的细腻触感。
优选的,所述的坯体由以下原料制成:长石28 wt %、叶腊石19wt %、高岭土20 wt%、白泥10wt %、黑泥8wt %、泥条10 wt %、海泥3wt %、镁质泥2 wt %。
优选的,所述的底釉由以下原料组成:钾长石40wt %、钠长石17wt %、石英10wt %、煅烧高岭土12wt %、高岭土10wt %、硅酸锆11wt %.
优选的,所述的面釉由以下原料组成:钾长石34wt %、烧滑石10wt %、碳酸钡12wt%、煅烧氧化铝5wt %、煅烧氧化锌4wt %、煅烧高岭土5wt %、高岭土10wt %、哑光熔块8wt %、透明熔块4wt %、锻光粒子8wt %。
上述锻光粒子的制备方法为:将蜡质干粒(陶莹实业有限公司提供)、刚玉、锆石按65:20:15的质量比混合研磨成粉,全过325目筛得到锻光粒子。
本发明的有益效果在于:
1)本发明的瓷质砖坯体配方,坯体致密度好,强度高,不易破碎不易断裂;
2)本发明的底釉与砖坯和面釉的结合性好,使瓷砖的平整度好;瓷砖的图案花纹是喷墨机打印上色在底釉和面釉之间,使瓷砖的表面色泽不会掉色;
3)本发明在面釉中加入锻光粒子,在产品表面上形成硬度为莫氏6级的保护层,使产品耐磨性极佳、抗污力强,使釉面如玉石般润泽、平整光洁;12°光泽度使产品的质感更柔和、光感细腻润泽,秉承人性化的环保理念,推崇无光污染的健康和谐氛围,结合亮光类瓷砖的明艳装饰效果和哑光类瓷砖的柔和视觉效果,让视觉更加舒适,将光反射系数控制在理想的人体生理适应范围内,营造出视觉舒适且极具艺术情调的温暖空间。
具体实施方式
以下结合具体实施例对本发明做进一步说明,但本发明不仅仅限于这些实施例。
实施例1
一种12°柔光瓷质釉面砖,包括坯体、底釉、面釉;
所述的坯体由以下原料制成:长石28 wt %、叶腊石19wt %、高岭土20 wt %、白泥10wt %、黑泥8wt %、泥条10 wt %、海泥3wt %、镁质泥2 wt %。
所述的底釉由以下原料组成:钾长石40wt %、钠长石17wt %、石英10wt %、煅烧高岭土12wt %、高岭土10wt %、硅酸锆11wt %。
所述的面釉由以下原料组成:钾长石34wt %、烧滑石10wt %、碳酸钡12wt %、煅烧氧化铝5wt %、煅烧氧化锌4wt %、煅烧高岭土5wt %、高岭土10wt %、哑光熔块8wt %、透明熔块4wt %、锻光粒子8wt %;所述锻光粒子的制备方法为:将蜡质干粒(陶莹实业有限公司提供)、刚玉、锆石按65:20:15的质量比混合研磨成粉,全过325目筛得到锻光粒子。
柔光砖的施釉工艺按照常规淋釉工艺进行。
实施例2
一种12°柔光瓷质釉面砖,包括坯体、底釉、面釉;
所述的坯体由以下原料制成:长石26wt %、叶腊石19wt %、高岭土20 wt %、白泥11wt %、黑泥8wt %、泥条11 wt %、海泥3wt %、镁质泥2 wt %。
所述的底釉由以下原料组成:钾长石38wt %、钠长石17wt %、石英12wt %、煅烧高岭土12wt %、高岭土10wt %、硅酸锆11wt %。
所述的面釉由以下原料组成:钾长石33wt %、烧滑石10wt %、碳酸钡11wt %、煅烧氧化铝5wt %、煅烧氧化锌4wt %、煅烧高岭土5wt %、高岭土10wt %、哑光熔块8wt %、透明熔块4wt %、锻光粒子10wt %;所述锻光粒子的制备方法为:将蜡质干粒(陶莹实业有限公司提供)、刚玉、锆石按65:20:15的质量比混合研磨成粉,全过325目筛得到锻光粒子。
柔光砖的施釉工艺按照常规淋釉工艺进行。
实施例3
一种12°柔光瓷质釉面砖,包括坯体、底釉、面釉;
所述的坯体由以下原料制成:长石28 wt %、叶腊石19wt %、高岭土18 wt %、白泥10wt %、黑泥8wt %、泥条12 wt %、海泥3wt %、镁质泥2 wt %。
所述的底釉由以下原料组成:钾长石40wt %、钠长石15wt %、石英12wt %、煅烧高岭土12wt %、高岭土10wt %、硅酸锆11wt %。
所述的面釉由以下原料组成:钾长石33wt %、烧滑石8wt %、碳酸钡12wt %、煅烧氧化铝5wt %、煅烧氧化锌5wt %、煅烧高岭土5wt %、高岭土10wt %、哑光熔块10wt %、透明熔块4wt %、锻光粒子8wt %;所述锻光粒子的制备方法为:将蜡质干粒(陶莹实业有限公司提供)、刚玉、锆石按65:20:15的质量比混合研磨成粉,全过325目筛得到锻光粒子。
柔光砖的施釉工艺按照常规淋釉工艺进行。
本釉面光泽度检测工具,是泉州科仕佳光电仪器有限公司生产的WGG60-E4型光泽度计,此光度计测量范围是0-150Gu,投射角度60°,应用范围是建筑装饰材料:大理石、花岗岩、抛光砖、陶瓷砖等表面光泽测量。此光泽仪检测本釉面的检测数据为12±1(Gu)。
本瓷砖吸水率检测,使用的是TXY-320型真空陶瓷吸水率测定仪(湘潭湘仪仪器有限公司),检测结果为0.05~0.1%。断裂模数检测,使用的是SKZ-10000A型数显陶瓷砖断裂模数检测仪(湘潭湘仪仪器有限公司),检测结果为40~45MPa。表面平整度检测,使用的是科能达陶瓷检测设备公司的1000型平整度检测尺,测量范围60~800mm,精确度0.01mm。耐污染性能5级、耐酸碱性能GA级、耐摩擦系数0.65~00.66等检测数据,由“国家陶瓷及水暖卫浴产品质量监督检验中心”对本产品检测之后提供。符合GB/T 4100-2015(附录G) 《陶瓷砖 附录G 干压陶瓷砖(E≤0.5%BIa类)》。
以上所述仅为本发明的较佳实施例,凡依本发明申请专利范围所做的均等变化与修饰,皆应属本发明的涵盖范围。
Claims (4)
1.一种12°柔光瓷质釉面砖,其特征在于:包括坯体、底釉、面釉;所述的坯体由以下原料组成:长石25-30 wt %、叶腊石18-20 wt %、高岭土18-22 wt %、白泥10-12 wt %、黑泥7-9 wt %、泥条10-12 wt %、海泥1-3 wt %和镁质泥1-3 wt %,以上各原料质量分数之和为100%;所述的底釉由以下原料组成:钾长石38-42wt %、钠长石15-18wt %、石英8-12wt %、煅烧高岭土11-13wt %、高岭土8-12wt %和硅酸锆9-12wt %,以上各原料质量分数之和为100%;所述的面釉由以下原料组成:钾长石33-36wt %、烧滑石8-11wt %、碳酸钡11-13wt %、煅烧氧化铝4-6wt %、煅烧氧化锌3-5wt %、煅烧高岭土4-6wt %、高岭土8-12wt %、哑光熔块6-10wt %、透明熔块2-5wt %和锻光粒子8-10wt %,以上各原料质量分数之和为100%;所述锻光粒子的制备方法为:将蜡质干粒、刚玉和锆石按65:20:15的质量比混合研磨成粉,全过325目筛得到锻光粒子。
2.根据权利要求1所述的12°柔光瓷质釉面砖,其特征在于:所述的坯体由以下原料制成:长石28 wt %、叶腊石19wt %、高岭土20 wt %、白泥10wt %、黑泥8wt %、泥条10 wt %、海泥3wt %和镁质泥2 wt %。
3.根据权利要求1所述的12°柔光瓷质釉面砖,其特征在于:所述的底釉由以下原料组成:钾长石40wt %、钠长石17wt %、石英10wt %、煅烧高岭土12wt %、高岭土10wt %、硅酸锆11wt %。
4.根据权利要求1所述的12°柔光瓷质釉面砖,其特征在于:所述的面釉由以下原料组成:钾长石34wt %、烧滑石10wt %、碳酸钡12wt %、煅烧氧化铝5wt %、煅烧氧化锌4wt %、煅烧高岭土5wt %、高岭土10wt %、哑光熔块8wt %、透明熔块4wt %和锻光粒子8wt %。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201710913299.3A CN107540344B (zh) | 2017-09-30 | 2017-09-30 | 一种12°柔光瓷质釉面砖 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201710913299.3A CN107540344B (zh) | 2017-09-30 | 2017-09-30 | 一种12°柔光瓷质釉面砖 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN107540344A CN107540344A (zh) | 2018-01-05 |
CN107540344B true CN107540344B (zh) | 2020-01-10 |
Family
ID=60964744
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201710913299.3A Active CN107540344B (zh) | 2017-09-30 | 2017-09-30 | 一种12°柔光瓷质釉面砖 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN107540344B (zh) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109369220A (zh) * | 2018-05-30 | 2019-02-22 | 佛山唯思创意产品策划股份有限公司 | 一种干粒柔抛瓷砖生产工艺 |
CN109279920A (zh) * | 2018-10-09 | 2019-01-29 | 肇庆乐华陶瓷洁具有限公司 | 一种耐磨防滑砖及其制备方法 |
CN109775985A (zh) * | 2019-02-01 | 2019-05-21 | 美艺陶(福建)高新建材有限公司 | 柔光釉、柔光釉瓷砖及其制备方法 |
CN109834809B (zh) * | 2019-03-01 | 2020-08-04 | 江西和美陶瓷有限公司 | 一种立体感强的干粒装饰陶瓷砖及其制造方法 |
CN109796224B (zh) | 2019-03-01 | 2021-03-02 | 江西和美陶瓷有限公司 | 一种喷墨干粒装饰陶瓷砖及其制造方法 |
CN110204306B (zh) * | 2019-04-08 | 2022-03-25 | 江西和美陶瓷有限公司 | 绢质细腻亚光陶瓷砖及其制备方法 |
CN111792846B (zh) * | 2020-07-08 | 2021-11-02 | 佛山市东鹏陶瓷有限公司 | 一种抗氧化瓷质釉面砖及其制备方法 |
CN111875415B (zh) * | 2020-08-11 | 2022-11-11 | 佛山市三水新明珠建陶工业有限公司 | 一种柔光釉面瓷片的制造方法 |
CN112340991A (zh) * | 2020-11-25 | 2021-02-09 | 珠海市白兔陶瓷有限公司 | 一种喷墨砖及其生产工艺 |
CN112321158B (zh) * | 2021-01-07 | 2021-04-13 | 佛山市品为先陶瓷有限公司 | 一种带水迹效果的陶瓷装饰大板及其制备方法 |
CN113968675B (zh) * | 2021-11-11 | 2022-09-27 | 广东翠贝卡建材科技有限公司 | 一种布艺质感无光釉及哑光熔块、瓷砖、用途和制备方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101786844A (zh) * | 2010-01-25 | 2010-07-28 | 厦门三荣陶瓷开发有限公司 | 一种轻质保温砖及其制造方法 |
CN104529553A (zh) * | 2014-12-08 | 2015-04-22 | 广东宏陶陶瓷有限公司 | 用陶瓷废物制造的表面如碎钻砂闪烁星光的釉面砖及制备 |
CN105130394A (zh) * | 2015-08-19 | 2015-12-09 | 深圳市正源清环境科技有限公司 | 釉面瓷砖及其制备方法 |
CN105712701A (zh) * | 2016-04-14 | 2016-06-29 | 江西赣鑫工艺陶瓷有限公司 | 一种单层釉面窑变砖及其制备方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150075927A (ko) * | 2013-12-26 | 2015-07-06 | (주)엔케이씨 | 염판 및 그 염판 제조방법 |
-
2017
- 2017-09-30 CN CN201710913299.3A patent/CN107540344B/zh active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101786844A (zh) * | 2010-01-25 | 2010-07-28 | 厦门三荣陶瓷开发有限公司 | 一种轻质保温砖及其制造方法 |
CN104529553A (zh) * | 2014-12-08 | 2015-04-22 | 广东宏陶陶瓷有限公司 | 用陶瓷废物制造的表面如碎钻砂闪烁星光的釉面砖及制备 |
CN105130394A (zh) * | 2015-08-19 | 2015-12-09 | 深圳市正源清环境科技有限公司 | 釉面瓷砖及其制备方法 |
CN105712701A (zh) * | 2016-04-14 | 2016-06-29 | 江西赣鑫工艺陶瓷有限公司 | 一种单层釉面窑变砖及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN107540344A (zh) | 2018-01-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN107540344B (zh) | 一种12°柔光瓷质釉面砖 | |
CN103467103B (zh) | 一种一次烧成超晶石陶瓷砖的生产方法及瓷砖 | |
CN113666772B (zh) | 一种具有深刻凹凸纹理的陶瓷岩板及其制备方法 | |
CN105948503B (zh) | 一种耐磨透明釉料及使用其制备抛釉砖的方法 | |
CN111875415B (zh) | 一种柔光釉面瓷片的制造方法 | |
CN105016787B (zh) | 用抛光废渣制造的柔光镜花釉面砖及其制备方法 | |
CN101898887B (zh) | 半透明陶瓷材料、仿玉质陶瓷薄板及其制备方法 | |
CN107555790B (zh) | 一种16度哑光大理石瓷砖的生产工艺 | |
CN108752057B (zh) | 一种表面光泽度为4-8度的柔面耐磨易洁复古砖 | |
CN107915480B (zh) | 一种喷墨渗透透光砖及其制备方法 | |
CN112142328B (zh) | 一种具有精细模具纹理瓷片的制造方法 | |
CN110482859A (zh) | 一种星光釉陶瓷砖及其制备方法 | |
CN104140297A (zh) | 浮雕幻影釉面砖的釉及制备 | |
CN107344814B (zh) | 一种柔光砖面釉及柔光砖 | |
CN113979783B (zh) | 一种仿玉石大理石瓷砖及其制备方法 | |
CN111943727B (zh) | 一种微光大理石抛光瓷片的制造方法 | |
CN101898891A (zh) | 半透光性陶瓷材料、陶瓷薄板及其制备方法 | |
CN112608029A (zh) | 炫光仿古砖及其制备方法 | |
CN108164139A (zh) | 仿大理石柔光砖面釉、仿大理石柔光砖及其制备方法 | |
CN107324655A (zh) | 一种防污柔光大理石瓷砖的面釉釉料 | |
CN113968728A (zh) | 一种高硬度超耐磨全抛大理石瓷砖及其制备方法 | |
CN110577415A (zh) | 一种具有仿古面石材肌理效果的瓷砖及其制作工艺 | |
CN110526744A (zh) | 一种斑点仿古砖及其制备方法 | |
CN116253583B (zh) | 一种具有粗细凹陷纹理的全抛光釉面砖及其制备工艺 | |
CN115893840A (zh) | 一种玉质釉的釉料、陶瓷砖及其制备方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |