CN107304337A - 带粘合剂层的分离膜、带分离膜的光学构件及它们的制造方法 - Google Patents

带粘合剂层的分离膜、带分离膜的光学构件及它们的制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供具有用于与光学构件贴合的粘合剂层、并且即使对光学构件的弯曲处也显示良好的贴合性的带粘合剂层的分离膜。本发明的带粘合剂层的分离膜，其具有分离膜和形成于上述分离膜上的粘合剂层，上述粘合剂层的与上述分离膜相反侧的表面具有凹部，上述粘合剂层用于贴合构成柔性显示器的两个光学构件。

Description

带粘合剂层的分离膜、带分离膜的光学构件及它们的制造 方法
技术领域
本发明涉及带粘合剂层的分离膜、将该带粘合剂层的分离膜贴合于光学构件而成的带分离膜的光学构件及它们的制造方法。
背景技术
以偏振板等为代表的各种光学构件有时经由粘合剂层贴合于其他光学构件、例如图像显示单元来使用(例如专利文献1、专利文献2)。因此，光学构件有时以在其一面预先设有粘合剂层的带粘合剂层的光学构件的形态在市场流通。另外，这样使用的粘合剂层通常形成在能够剥离的分离膜(也称作“剥离膜”。)上(例如专利文献2)。
作为具备如上述那样的光学构件和图像显示单元的显示器，具有挠性的柔性显示器可以设置在非平面的面或折弯面上，并且因不易破损而可以在携带时以折叠的卷物形状来提高携带性等，因此主要被期待用于向携带用设备的搭载用途中。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2008-275722号公报
专利文献2：日本特开2008-302580号公报
专利文献3：日本特开2004-361774号公报
发明内容
发明要解决的课题
在柔性显示器中所使用的粘合剂层中，要求即使使柔性显示器弯曲(折曲、弯曲等)或反复弯曲也不会剥离的贴合力。在贴合两个光学构件的粘合剂层因弯曲而剥离的情况下，柔性显示器的耐久性降低。
本发明的目的在于提供具备即使对弯曲也显示良好的贴合性的用于贴合构成柔性显示器的两个光学构件的粘合剂层的带粘合剂层的分离膜、及其制造方法。本发明的另一目的在于提供即使对柔性显示器的弯曲处也显示良好的贴合性的作为该带粘合剂层的分离膜与光学构件的层叠体的带分离膜的光学构件、及其制造方法。
用于解决课题的手段
本发明提供以下所示的带粘合剂层的分离膜、带分离膜的光学构件及它们的制造方法。
[1]一种带粘合剂层的分离膜，其具有分离膜和形成于上述分离膜上的粘合剂层，
上述粘合剂层的与上述分离膜相反侧的表面具有凹部，
上述粘合剂层用于贴合构成柔性显示器的两个光学构件。
[2]根据[1]所述的带粘合剂层的分离膜，其中，上述粘合剂层通过对上述表面挤压凹凸铸模而形成上述凹部。
[3]一种带分离膜的光学构件，其具有光学构件和贴合于上述光学构件的[1]或[2]所述的带粘合剂层的分离膜，
上述带粘合剂层的分离膜以上述粘合剂层的上述表面贴合于上述光学构件。
[4]一种带粘合剂层的分离膜的制造方法，其中，所述带粘合剂层的分离膜具有分离膜和形成于上述分离膜上的粘合剂层，
该制造方法依次包括：
涂敷工序，在上述分离膜上涂敷粘合剂组合物而形成涂敷层；
干燥工序，使上述涂敷层干燥而得到具有粘合剂层的上述分离膜；以及
凹部形成工序，对上述粘合剂层的与上述分离膜相反侧的表面挤压凹凸铸模而形成凹部，
上述粘合剂层用于贴合构成柔性显示器的两个光学构件。
[5]根据[4]所述的带粘合剂层的分离膜的制造方法，其中，上述凹凸铸模为压花辊。
[6]一种带分离膜的光学构件的制造方法，其中，所述带分离膜的光学构件具有光学构件和贴合于上述光学构件的带粘合剂层的分离膜，
该制造方法依次包括：
利用[4]或[5]所述的制造方法制造上述带粘合剂层的分离膜的工序；以及
将上述带粘合剂层的分离膜以上述粘合剂层的上述表面贴合于上述光学构件的贴合工序。
发明效果
根据本发明，可以提供在用于贴合构成柔性显示器的两个光学构件时即使对弯曲处也显示良好的贴合性的带粘合剂层的分离膜及带分离膜的光学构件。
附图说明
图1为表示带粘合剂层的分离膜的一例的示意性剖面图。
图2为表示柔性显示器的弯曲形态的一例的图(a)和表示适合于该弯曲形态的粘合剂层中的凹部的图案的一例的俯视图(b)。
图3为表示柔性显示器的弯曲形态的一例的图(a)和表示适合于该弯曲形态的粘合剂层中的凹部的图案的一例的俯视图(b)。
图4为表示带分离膜的光学构件的一例的示意性剖面图。
图5为表示本发明的带粘合剂层的分离膜及带分离膜的光学构件的制造方法以及该制造方法中所使用的制造装置的一例的示意图。
图6为表示具有涂敷层(干燥前)的分离膜的一例的示意性剖面图。
图7为表示具有粘合剂层(凹部形成前)的分离膜的一例的示意性剖面图。
具体实施方式
＜带粘合剂层的树脂膜＞
图1为表示本发明的带粘合剂层的树脂膜的一例的示意性剖面图。带粘合剂层的树脂膜25具有树脂膜10和形成于树脂膜10上的粘合剂层13。粘合剂层13的与树脂膜相反侧的表面(以下称为“第1表面”)13a具有多个凹部14，所述凹部14为挤压凹凸铸模而形成的凹凸铸模的转印结构。通过具有凹部14，从而可以在弯曲状态下松弛产生于粘合剂层13的应力。因此，在粘合剂层13用于贴合构成柔性显示器的两个光学构件时，粘合剂层13即使对弯曲处也显示良好的贴合性。以下，对各构成要素详细地进行说明。
[分离膜]
分离膜10通常为热塑性树脂膜，优选为具有透光性的(更优选在光学上透明的)热塑性树脂膜。热塑性树脂的具体例包括：链状聚烯烃系树脂(聚乙烯系树脂、聚丙烯系树脂等)、环状聚烯烃系树脂(降冰片烯系树脂等)之类的聚烯烃系树脂；聚氟乙烯(ポリフツ化ビニル)、聚偏氟乙烯、聚氟乙烯(ポリフツ化エチレン)之类的氟代聚烯烃系树脂；聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂、聚萘二甲酸乙二醇酯系树脂之类的聚酯系树脂；甲基丙烯酸甲酯系树脂之类的(甲基)丙烯酸系树脂；三乙酰基纤维素〔TAC〕、二乙酰基纤维素之类的乙酸纤维素系树脂等纤维素系树脂；聚碳酸酯系树脂；聚乙烯醇系树脂；聚乙酸乙烯酯系树脂；聚芳酯系树脂；聚酰亚胺系树脂；聚苯乙烯系树脂；聚酰胺系树脂；聚醚砜系树脂；聚砜系树脂；以及它们的混合物、共聚物。予以说明，本说明书中，“(甲基)丙烯酸”是指丙烯酸和/或甲基丙烯酸，提及(甲基)丙烯酸酯等时的“(甲基)”也为同样的含义。
分离膜10的厚度例如为5～200μm左右、优选为10～150μm、更优选为15～100μm。
首先，带粘合剂层的分离膜25以第1表面13a贴合于光学构件(以下称为“第1光学构件”)。在将第1光学构件贴合于其他光学构件(以下称为“第2光学构件”)的情况下，将粘合剂层13的分离膜侧的表面(以下称为“第2表面”)与分离膜10的边界分离，并剥离分离膜10而露出粘合剂层13的第2表面，将第2表面贴合于第2光学构件。予以说明，带粘合剂层的分离膜25可以为以在第1表面13a也贴合有分离膜的形态、即、在粘合剂层13的双面贴合有分离膜的形态流通的分离膜。此种带粘合剂层的分离膜25例如可以剥离一方的分离膜而将其贴合于第1光学构件，之后再剥离另一方的分离膜而将其贴合于第2光学构件来使用。
作为分离膜10，可以使用对层叠有粘合剂层13的一侧的表面实施了脱模处理后的分离膜。脱模处理的例子为硅酮处理、长链烷基处理、氟处理等。
[粘合剂层]
在本实施方式中，在分离膜10上涂敷粘合剂组合物而形成涂敷层，并将涂敷层干燥，从而形成粘合剂层13。粘合剂层13的第1表面13a通过挤压凹凸铸模而形成多个凹部14。粘合剂层13的厚度例如为1～200μm、优选为5～35μm。从生产效率、作为显示器的薄型轻质的观点出发，粘合剂层13的厚度为200μm以下时较为有利。另外，若该厚度为5μm以上，则在柔性显示器被弯曲时，有利于应力的松弛，与邻接的光学构件的密合性良好。在该厚度为45μm以下时，对于与光学构件的密合性较为有利。另外，若该厚度为10μm以上，则粘合剂层13对光学构件的尺寸变化的追随性良好。
(1)粘合剂组合物
作为粘合剂组合物，可列举例如(甲基)丙烯酸系粘合剂组合物、氨基甲酸酯系粘合剂组合物、硅酮系粘合剂组合物、聚酯系粘合剂组合物、聚酰胺系粘合剂组合物、聚醚系粘合剂组合物、氟系粘合剂组合物、橡胶系粘合剂组合物等。其中，从透明性、粘合力、可靠性、再加工性等观点出发，优选使用以(甲基)丙烯酸系树脂为基础聚合物的(甲基)丙烯酸系粘合剂。
(1-1)基础聚合物
可以适合作为(甲基)丙烯酸系粘合剂组合物的基础聚合物来使用的(甲基)丙烯酸系树脂的具体例为将来自下述式(I)所示的(甲基)丙烯酸酯的结构单元作为主成分(含有50重量％以上)的聚合物，即(甲基)丙烯酸系树脂(A-1)。
[化1]
上述式(I)中，R1表示氢原子或甲基，R2表示可以被碳数1～10的烷氧基取代的碳数1～14的烷基或可以被碳数1～10的烷氧基取代的碳数7～21的芳烷基。R2优选为可以被碳数1～10的烷氧基取代的碳数1～14的烷基。
式(I)所示的(甲基)丙烯酸酯的具体例包括：丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸正辛酯、丙烯酸月桂酯之类的直链状的丙烯酸烷基酯；丙烯酸异丁酯、丙烯酸-2-乙基己酯、丙烯酸异辛酯之类的支链状的丙烯酸烷基酯；甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸正辛酯、甲基丙烯酸月桂酯之类的直链状的甲基丙烯酸烷基酯；甲基丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸异辛酯之类的支链状的甲基丙烯酸烷基酯等。
R2为被烷氧基取代的烷基时、即、R2为烷氧基烷基时的式(I)所示的(甲基)丙烯酸酯的具体例包括丙烯酸2-甲氧基乙酯、丙烯酸乙氧基甲酯、甲基丙烯酸2-甲氧基乙酯、甲基丙烯酸乙氧基甲酯等。R2为碳数7～21的芳烷基时的式(I)所示的(甲基)丙烯酸酯的具体例包括丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸苄酯等。
式(I)所示的(甲基)丙烯酸酯可以仅单独使用1种，也可以并用2种以上。其中，(甲基)丙烯酸酯优选包含丙烯酸正丁酯。(甲基)丙烯酸系树脂(A-1)优选在构成其的全部单体中包含50重量％以上的丙烯酸正丁酯。当然，除丙烯酸正丁酯外，还可以并用除丙烯酸正丁酯以外的式(I)所示的(甲基)丙烯酸酯。
(甲基)丙烯酸系树脂(A-1)通常为上述式(I)的(甲基)丙烯酸酯与以具有极性官能团的单体为代表的至少1种其他单体的共聚物。具有极性官能团的单体优选为具有极性官能团的(甲基)丙烯酸系化合物。作为极性官能团，可列举以游离羧基、羟基、氨基、环氧基为代表的杂环基等。
具有极性官能团的单体的具体例包括：(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸β-羧基乙酯之类的具有游离羧基的单体；(甲基)丙烯酸-2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸3-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸-4-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸2-(2-羟基乙氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-或3-氯-2-羟基丙酯、二乙二醇单(甲基)丙烯酸酯之类的具有羟基的单体；丙烯酰基吗啉、乙烯基己内酰胺、N-乙烯基-2-吡咯烷酮、乙烯基吡啶、(甲基)丙烯酸四氢糠酯、己内酯改性丙烯酸四氢糠酯、(甲基)丙烯酸3，4-环氧环己基甲酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、2，5-二氢呋喃之类的具有杂环基的单体；(甲基)丙烯酸氨基乙酯、(甲基)丙烯酸N，N-二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲基氨基丙酯之类的具有与杂环不同的氨基的单体等。具有极性官能团的单体可以仅单独使用1种，也可以并用2种以上。
在上述中，从(甲基)丙烯酸系树脂(A-1)的反应性的观点出发，优选使用具有羟基的单体作为构成(甲基)丙烯酸系树脂(A-1)的含极性官能团的单体之一。除具有羟基的单体以外还并用其他具有极性官能团的单体、例如具有游离羧基的单体也是有效的。
(甲基)丙烯酸系树脂(A-1)可以进一步包含来自在分子内具有1个烯属双键和至少1个芳香环的单体(其中，与上述式(I)所示的单体及上述具有极性官能团的单体相当的单体除外。)的结构单元。作为适合例，可列举具有芳香环的(甲基)丙烯酸系化合物。具有芳香环的(甲基)丙烯酸系化合物的适合例为下述式(II)所示的含苯氧基乙基的(甲基)丙烯酸酯之类的具有芳氧基烷基的(甲基)丙烯酸酯。
[化2]
上述式(II)中，R3表示氢原子或甲基，n表示1～8的整数，R4表示氢原子、烷基、芳烷基或芳基。在R4为烷基的情况下，其碳数可以为1～9左右，在R4为芳烷基的情况下，其碳数可以为7～11左右，另外，在R4为芳基的情况下，其碳数可以为6～10左右。
作为式(II)中的构成R4的碳数1～9的烷基，可列举甲基、丁基、壬基等，作为碳数7～11的芳烷基，可列举苄基、苯乙基、萘甲基等，作为碳数6～10的芳基，可列举苯基、甲苯基、萘基等。
式(II)所示的含苯氧基乙基的(甲基)丙烯酸酯的具体例包括(甲基)丙烯酸2-苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-(2-苯氧基乙氧基)乙酯、环氧乙烷改性壬基苯酚的(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-(邻苯基苯氧基)乙酯等。含苯氧基乙基的(甲基)丙烯酸酯可以仅单独使用1种，也可以并用2种以上。其中，含苯氧基乙基的(甲基)丙烯酸酯优选包含(甲基)丙烯酸2-苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-(邻苯基苯氧基)乙酯和/或(甲基)丙烯酸2-(2-苯氧基乙氧基)乙酯。
(甲基)丙烯酸系树脂(A-1)，以其固体成分整体量为基准来计，以优选60～99.9重量％、更优选80～99.6重量％的比例含有来自上述式(I)所示的(甲基)丙烯酸酯的结构单元，以优选0.1～20重量％、更优选0.4～10重量％的比例含有来自具有极性官能团的单体的结构单元，并且以优选0～40重量％、更优选6～12重量％的比例含有来自在分子内具有1个烯属双键和至少1个芳香环的单体的结构单元。
(甲基)丙烯酸系树脂(A-1)可以包含来自除式(I)所示的(甲基)丙烯酸酯、具有极性官能团的单体及在分子内具有1个烯属双键和至少1个芳香环的单体以外的单体(以下也称为“其他单体”。)的结构单元。其他单体的具体例包括：来自在分子内具有脂环式结构的(甲基)丙烯酸酯的结构单元、来自苯乙烯系单体的结构单元、来自乙烯基系单体的结构单元、来自在分子内具有多个(甲基)丙烯酰基的单体的结构单元、来自(甲基)丙烯酰胺单体的结构单元等。其他单体可以仅单独使用1种，也可以并用2种以上。
脂环式结构的碳数通常为5以上、优选为5～7左右。具有脂环式结构的(甲基)丙烯酸酯的具体例包括：(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸二环戊酯、(甲基)丙烯酸环十二烷酯、(甲基)丙烯酸甲基环己酯、(甲基)丙烯酸三甲基环己酯、(甲基)丙烯酸叔丁基环己酯、(甲基)丙烯酸环己基苯酯、α-乙氧基丙烯酸环己酯等。
苯乙烯系单体的具体例包括：苯乙烯；甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、三乙基苯乙烯、丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、庚基苯乙烯、辛基苯乙烯之类的烷基苯乙烯；氟苯乙烯、氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯之类的卤代苯乙烯；硝基苯乙烯、乙酰基苯乙烯、甲氧基苯乙烯、二乙烯基苯等。
乙烯基系单体的具体例包括：乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、2-乙基己酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯之类的脂肪酸乙烯酯；氯乙烯、溴乙烯之类的卤代乙烯；偏氯乙烯之类的偏卤乙烯；乙烯基吡啶、乙烯基吡咯烷酮、乙烯基咔唑之类的含氮芳香族乙烯；丁二烯、异戊二烯、氯丁二烯之类的共轭二烯单体；丙烯腈、甲基丙烯腈等。
在分子内具有多个(甲基)丙烯酰基的单体的具体例包括：1，4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯之类的分子内具有2个(甲基)丙烯酰基的单体；三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯之类的分子内具有3个(甲基)丙烯酰基的单体等。
(甲基)丙烯酰胺化合物的具体例包括：N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺、N-(2-羟基乙基)(甲基)丙烯酰胺、N-(3-羟基丙基)(甲基)丙烯酰胺、N-(4-羟基丁基)(甲基)丙烯酰胺、N-(5-羟基戊基)(甲基)丙烯酰胺、N-(6-羟基己基)(甲基)丙烯酰胺、N，N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、N，N-二乙基(甲基)丙烯酰胺、N-异丙基(甲基)丙烯酰胺、N-(3-二甲基氨基丙基)(甲基)丙烯酰胺、N-(1，1-二甲基-3-氧丁基)(甲基)丙烯酰胺、N-〔2-(2-氧代-1-咪唑烷基)乙基〕(甲基)丙烯酰胺、2-丙烯酰基氨基-2-甲基-1-丙烷磺酸、N-(甲氧基甲基)丙烯酰胺、N-(乙氧基甲基)(甲基)丙烯酰胺、N-(丙氧基甲基)(甲基)丙烯酰胺、N-(1-甲基乙氧基甲基)(甲基)丙烯酰胺、N-(1-甲基丙氧基甲基)(甲基)丙烯酰胺、N-(2-甲基丙氧基甲基)(甲基)丙烯酰胺〔别名：N-(异丁氧基甲基)(甲基)丙烯酰胺〕、N-(丁氧基甲基)(甲基)丙烯酰胺、N-(1，1-二甲基乙氧基甲基)(甲基)丙烯酰胺、N-(2-甲氧基乙基)(甲基)丙烯酰胺、N-(2-乙氧基乙基)(甲基)丙烯酰胺、N-(2-丙氧基乙基)(甲基)丙烯酰胺、N-〔2-(1-甲基乙氧基)乙基〕(甲基)丙烯酰胺、N-〔2-(1-甲基丙氧基)乙基〕(甲基)丙烯酰胺、N-〔2-(2-甲基丙氧基)乙基〕(甲基)丙烯酰胺〔别名：N-(2-异丁氧基乙基)(甲基)丙烯酰胺〕、N-(2-丁氧基乙基)(甲基)丙烯酰胺、N-〔2-(1，1-二甲基乙氧基)乙基〕(甲基)丙烯酰胺等。
(甲基)丙烯酸系树脂(A-1)，以其固体成分整体的量为基准来计，以通常0～20重量％、优选0～10重量％的比例含有其他单体。
从粘合剂层与光学构件的密合性的观点出发，(甲基)丙烯酸系树脂(A-1)基于凝胶渗透色谱(GPC)而得到的标准聚苯乙烯换算的重均分子量(Mw)优选为50万以上、更优选为60万以上。(甲基)丙烯酸系树脂(A-1)的Mw通常为170万以下。
(甲基)丙烯酸系粘合剂组合物的基础聚合物可以包含2种以上的(甲基)丙烯酸系树脂(A-1)。另外，该基础聚合物除(甲基)丙烯酸系树脂(A-1)外还可以包含与(甲基)丙烯酸系树脂(A-1)不同的(甲基)丙烯酸系树脂，例如具有来自式(I)的(甲基)丙烯酸酯的结构单元且不具有极性官能团的(甲基)丙烯酸系树脂(A-2)、以来自上述式(I)所示的(甲基)丙烯酸酯的结构单元为主成分且Mw处于0.5万～12万的范围的(甲基)丙烯酸系树脂(A一3)等。
(1-2)交联剂
粘合剂组合物可以进一步包含交联剂(B)。交联剂为与(甲基)丙烯酸系树脂之类的基础聚合物中的尤其是来自含极性官能团的单体的结构单元反应而使基础聚合物交联的化合物。具体而言，可例示异氰酸酯系化合物、环氧系化合物、氮丙啶系化合物、金属螯合物系化合物等。其中，异氰酸酯系化合物、环氧系化合物及氮丙啶系化合物在分子内具有至少2个能够与基础聚合物中的极性官能团反应的官能团。交联剂(B)可以仅单独使用1种，也可以并用2种以上。
异氰酸酯系化合物是在分子内具有至少2个异氰酸根合基(-NCO)的化合物。异氰酸酯系化合物的具体例包括甲苯二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、苯二亚甲基二异氰酸酯、氢化苯二亚甲基二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯、氢化二苯基甲烷二异氰酸酯、萘二异氰酸酯、三苯基甲烷三异氰酸酯等。另外，使这些异氰酸酯化合物与甘油、三羟甲基丙烷之类的多元醇反应而得到的加合物、使异氰酸酯化合物成为二聚物、三聚物等的聚合物也能够成为交联剂(B)。
环氧系化合物是在分子内具有至少2个环氧基的化合物。环氧系化合物的具体例包括：双酚A型的环氧树脂、乙二醇二缩水甘油醚、聚乙二醇二缩水甘油醚、甘油二缩水甘油醚、甘油三缩水甘油醚、1，6-己二醇二缩水甘油醚、三羟甲基丙烷三缩水甘油醚、N，N-二缩水甘油基苯胺、N，N，N’，N’-四缩水甘油基间苯二甲胺、1，3-双(N，N’-二缩水甘油基氨基甲基)环己烷等。
氮丙啶系化合物是在分子内具有至少2个被称作吖丙啶的、由1个氮原子和2个碳原子形成的三元环的骨架的化合物。氮丙啶系化合物的具体例包括二苯基甲烷-4，4’-双(1-氮丙啶甲酰胺)、甲苯-2，4-双(1-氮丙啶甲酰胺)、三亚乙基三聚氰胺、间苯二甲酰基双-1-(2-甲基氮丙啶)、三-1-氮丙啶基氧化膦、六亚甲基-1，6-双(1-氮丙啶甲酰胺)、三羟甲基丙烷-三-B-氮丙啶基丙酸酯、四羟甲基甲烷-三-β-氮丙啶基丙酸酯等。
金属螯合物化合物的具体例包括在铝、铁、铜、锌、锡、钛、镍、锑、镁、钒、铬和锆等多价金属上配位了乙酰丙酮或乙酰乙酸乙酯而得的化合物等。
以相对于基础聚合物(在使用2种以上的情况下为它们的合计)的固体成分100重量份通常为0.05～5重量份、优选为0.1～5重量份的比例含有交联剂(B)。若交联剂(B)的含量为0.05重量份以上，则存在粘合剂层的耐久性提高的倾向。
(1-3)离子性化合物
粘合剂组合物可以进一步含有离子性化合物(C)作为抗静电剂。离子性化合物(C)例如为具有无机阳离子或有机阳离子与无机阴离子或有机阴离子的化合物。
作为无机阳离子，可列举例如：锂阳离子〔Li+〕、钠阳离子〔Na+〕、钾阳离子〔K+〕之类的碱金属离子；铍阳离子〔Be2+〕、镁阳离子〔Mg2+〕、钙阳离子〔Ca2+〕之类的碱土金属离子等。
作为有机阳离子，可列举例如咪唑鎓阳离子、吡啶鎓阳离子、吡咯烷鎓阳离子、铵阳离子、锍阳离子、鏻阳离子等。
在上述的阳离子成分中，有机阳离子成分在粘合剂组合物中的相容性优异。在有机阳离子成分中，吡啶鎓阳离子及咪唑鎓阳离子在抗静电性的方面较为有利。
作为无机阴离子，可列举例如氯阴离子〔Cl-〕、溴阴离子〔Br-〕、碘阴离子〔I-〕、四氯铝酸根阴离子〔AlCl4 -〕、七氯二铝酸根阴离子〔Al2Cl7 -〕、四氟硼酸根阴离子〔BF4 -〕、六氟磷酸根阴离子〔PF6 -〕、高氯酸根阴离子〔ClO4 -〕、硝酸根阴离子〔NO3 -〕、六氟砷酸根阴离子〔AsF6 -〕、六氟锑酸根阴离子〔SbF6 -〕、六氟铌酸根阴离子〔NbF6 -〕、六氟钽酸根阴离子〔TaF6 -〕、二氰胺阴离子〔(CN)2N-〕等。
作为有机阴离子，可列举例如乙酸根阴离子〔CH3COO-〕、三氟乙酸根阴离子〔CF3COO-〕、甲烷磺酸根阴离子〔CH3SO3 -〕、三氟甲烷磺酸根阴离子〔CF3SO3 -〕、对甲苯磺酸根阴离子〔p-CH3C6H4SO3 -)、双(氟磺酰基)酰亚胺阴离子〔(FSO2)2N-〕、双(三氟甲烷磺酰基)酰亚胺阴离子〔(CF3SO2)2N-〕、三(三氟甲烷磺酰基)甲烷化物阴离子〔(CF3SO2)3C-〕、二甲基次膦酸根阴离子〔(CH3)2POO-〕、(聚)氢氟氟酸根阴离子〔F(HF)n -〕(n为1～3左右)、硫氰酸根阴离子〔SCN-〕、全氟丁烷磺酸根阴离子〔C4F9SO3 -〕、双(五氟乙烷磺酰基)酰亚胺阴离子〔(C2F5SO2)2N-〕、全氟丁酸根阴离子〔C3F7COO-〕、(三氟甲烷磺酰基)(三氟甲烷羰基)酰亚胺阴离子〔(CF3SO2)(CF3CO)N-〕、全氟丙烷-1，3-二磺酸根阴离子〔-O3S(CF2)3SO3 -〕、碳酸根阴离子〔CO3 2-〕等。在上述的阴离子成分中，包含氟原子的阴离子成分在抗静电性方面较为有利。
离子性化合物(C)的具体例可以从上述阳离子成分与阴离子成分的组合中进行适当选择。若按照有机阳离子的结构分类而列举具有有机阳离子的离子性化合物(C)的例子，则可列举以下所示的例子。
吡啶鎓盐：
N-己基吡啶鎓 六氟磷酸盐、
N-辛基吡啶鎓 六氟磷酸盐、
N-辛基-4-甲基吡啶鎓 六氟磷酸盐、
N-丁基-4-甲基吡啶鎓 六氟磷酸盐、
四丁基铵 六氟磷酸盐、
N-癸基吡啶鎓 双(氟磺酰基)酰亚胺、
N-十二烷基吡啶鎓 双(氟磺酰基)酰亚胺、
N-十四烷基吡啶鎓 双(氟磺酰基)酰亚胺、
N-十六烷基吡啶鎓 双(氟磺酰基)酰亚胺、
N-十二烷基-4-甲基吡啶鎓 双(氟磺酰基)酰亚胺、
N-十四烷基-4-甲基吡啶鎓 双(氟磺酰基)酰亚胺、
N-十六烷基-4-甲基吡啶鎓 双(氟磺酰基)酰亚胺、
N-苄基-2-甲基吡啶鎓 双(氟磺酰基)酰亚胺、
N-苄基-4-甲基吡啶鎓 双(氟磺酰基)酰亚胺、
N-己基吡啶鎓 双(三氟甲烷磺酰基)酰亚胺、
N-辛基吡啶鎓 双(三氟甲烷磺酰基)酰亚胺、
N-辛基-4-甲基吡啶鎓 双(三氟甲烷磺酰基)酰亚胺、
N-丁基-4-甲基吡啶鎓 双(三氟甲烷磺酰基)酰亚胺。
咪唑鎓盐：
1-乙基-3-甲基咪唑鎓 六氟磷酸盐、
1-乙基-3-甲基咪唑鎓 对甲苯磺酸盐、
1-乙基-3-甲基咪唑鎓 双(氟磺酰基)酰亚胺、
1-乙基-3-甲基咪唑鎓 双(三氟甲烷磺酰基)酰亚胺、
1-丁基-3-甲基咪唑鎓 甲烷磺酸盐、
1-丁基-3-甲基咪唑鎓 双(氟磺酰基)酰亚胺。
吡咯烷鎓盐：
N-丁基-N-甲基吡咯烷鎓 六氟磷酸盐、
N-丁基-N-甲基吡咯烷鎓 双(氟磺酰基)酰亚胺、
N-丁基-N-甲基吡咯烷鎓 双(三氟甲烷磺酰基)酰亚胺。
季铵盐：
四丁基铵 对甲苯磺酸盐、
(2-羟基乙基)三甲基铵 双(三氟甲烷磺酰基)酰亚胺、
(2-羟基乙基)三甲基铵 二甲基次膦酸盐。
另外，若列举具有无机阳离子的离子性化合物(C)的例子，则有以下例子。
溴化锂、
碘化锂、
四氟硼酸锂盐、
六氟磷酸锂盐、
硫氰酸锂盐、
高氯酸锂盐、
三氟甲烷磺酸锂盐、
双(氟磺酰基)酰亚胺锂盐、
双(三氟甲烷磺酰基)酰亚胺锂盐、
双(五氟乙烷磺酰基)酰亚胺锂盐、
三(三氟甲烷磺酰基)甲烷化物锂盐、
对甲苯磺酸锂盐、
六氟磷酸钠盐、
双(氟磺酰基)酰亚胺钠盐、
双(三氟甲烷磺酰基)酰亚胺钠盐、
对甲苯磺酸钠盐、
六氟磷酸钾盐、
双(氟磺酰基)酰亚胺钾盐、
双(三氟甲烷磺酰基)酰亚胺钾盐、
对甲苯磺酸钾盐。
从抗静电性的持续性的观点出发，离子性化合物(C)优选具有30℃以上、进一步具有35℃以上的熔点。另一方面，从与基础聚合物的相容性的观点出发，离子性化合物(C)具有优选90℃以下、更优选70℃以下、进一步优选不足50℃的熔点。
以相对于基础聚合物(使用2种以上情况下为它们的合计)的固体成分100重量份优选为0.2～8重量份、更优选为0.2～5重量份的比例配合离子性化合物(C)。离子性化合物(C)的含量为0.2重量份以上时，对抗静电性的提高有利，离子性化合物(C)的含量为8重量份以下时，对粘合剂层的耐久性提高有利。
(1-4)硅烷化合物
就粘合剂组合物而言，在粘合剂层贴合于玻璃的情况下，为了提高粘合剂层与玻璃的密合性，可以进一步含有硅烷化合物(D)。
作为硅烷化合物(D)，可列举例如乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、2-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-氯丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基二甲氧基甲基硅烷、3-环氧丙氧基丙基乙氧基二甲基硅烷等。也可以使用两种以上的硅烷化合物。
硅烷化合物(D)可以是硅酮低聚物类型的化合物。作为硅酮低聚物，可列举例如以下的聚合物。
3-巯基丙基三甲氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、
3-巯基丙基三甲氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物、
3-巯基丙基三乙氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、
3-巯基丙基三乙氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物
等含巯基丙基的共聚物；
巯基甲基三甲氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、
巯基甲基三甲氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物、
巯基甲基三乙氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、
巯基甲基三乙氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物
等含巯基甲基的共聚物；
3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、
3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物、
3-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、
3-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物、
3-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、
3-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物、
3-环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、
3-环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物等含3-环氧丙氧基丙基的共聚物；
3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、
3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物、
3-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、
3-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物、
3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、
3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物、
3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、
3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物
等含甲基丙烯酰氧基丙基的共聚物；
3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、
3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物、
3-丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、
3-丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物、
3-丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、
3-丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物、
3-丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、
3-丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物
等含丙烯酰氧基丙基的共聚物；
乙烯基三甲氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、
乙烯基三甲氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物、
乙烯基三乙氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、
乙烯基三乙氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物、
乙烯基甲基二甲氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、
乙烯基甲基二甲氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物、
乙烯基甲基二乙氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、
乙烯基甲基二乙氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物
等含乙烯基的共聚物；
3-氨基丙基三甲氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、
3-氨基丙基三甲氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物、
3-氨基丙基三乙氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、
3-氨基丙基三乙氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物、
3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、
3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物、
3-氨基丙基甲基二乙氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、
3-氨基丙基甲基二乙氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物
等含氨基的共聚物等。
以相对于基础聚合物(在使用2种以上的情况下为它们的合计)的固体成分100重量份通常为0.01～10重量份、优选为0.05～5重量份的比例含有硅烷化合物(D)。若硅烷化合物(D)的含量为0.01重量份以上，则容易得到粘合剂层与玻璃的密合性提高效果。另外，若含量为10重量份以下，则可以抑制硅烷化合物(D)从粘合剂层渗出。
(1-5)其他成分
粘合剂组合物可以含有交联催化剂、耐候稳定剂、粘合剂、增塑剂、软化剂、染料、颜料、无机填料、光散射性微粒、增粘剂等添加剂。
此外，在粘合剂组合物中配合紫外线固化性化合物，并在形成粘合剂层后照射紫外线而使其固化，也可以制成更硬的粘合剂层。
粘合剂组合物通常通过含有有机溶剂而制备成溶解或分散有配合成分的粘合剂液。有机溶剂优选根据基础聚合物的种类进行选择。有机溶剂的具体例包括：甲苯、二甲苯之类的芳香族系烃；己烷、庚烷、戊烷之类的脂肪族系烃；甲乙酮、甲基异丁基酮等酮类；乙酸乙酯、乙酸丁酯之类的酯类。粘合剂液中的基础聚合物的浓度通常为3～20重量％。
[凹部]
在粘合剂层13的第1表面13a所形成的凹部14可以松弛在粘合剂层13弯曲的状态下产生的应力。因此，在粘合剂层13用于贴合构成柔性显示器的两个光学构件时，粘合剂层13即使对弯曲处也显示出良好的贴合性。
凹部14的上表面形状优选按照使通过根据所应用的柔性显示器的弯曲形态而被弯曲所产生的应力容易松弛的方式进行适当设计。
其形状并无特别限定，可以采用直线状、曲线状、点图案、格子图案等。凹部14的深度例如可以为粘合层的厚度的一部分，也可以为全部，但优选为粘合层的厚度的5％～25％。另外，凹部14的深度例如为0.01～5μm，优选为0.05～0.5μm。就深度而言，从应力松弛的观点出发，优选为粘合层的5％以上或0.05μm以上，从确保密合性、外观品质的观点出发，优选为25％以下或0.5μm以下。
在图1中示出凹部14的剖面形状为矩形的情况，但是，凹部14的剖面形状并不限定于矩形，作为其他剖面形状，可列举V字状、U字状等。
图2(a)为表示柔性显示器的弯曲形态的一例(卷绕)的图，图2(b)为表示适合于图2(a)所示的柔性显示器的弯曲形态的、粘合剂层13的凹部14的图案的图。如图2(a)所示，在柔性显示器100卷绕的形态中，如图2(b)所示那样，在与卷绕方向大致垂直的方向所设置的多个凹部14对于卷绕时的应力松弛是有效的。
图3(a)为表示柔性显示器的弯曲形态的一例(折曲)的图，图3(b)为表示适合于图3(a)所示的柔性显示器的弯曲形态的、粘合剂层13的凹部14的图案的图。如图3(a)所示，在柔性显示器100在折曲部100a折曲的形态中，在与该折曲部100a对应的位置所设置的凹部14对于折曲时的应力松弛是有效的。
[凹凸铸模]
就凹凸铸模而言，只要表面形状包含能够对粘合剂层13的第1表面13a赋予所需的凹部的图案的凹凸，则凹凸铸模的形状并无特别限定，可以为平板状，也可以为圆柱状或圆筒状的辊。从连续生产性的方面出发，优选作为圆柱状或圆筒状的铸模的压花辊。压花辊优选为能够利用辊内部的制冷剂控制表面温度的带冷却机构的辊。
凹凸铸模的基材的材质并无特别限制，可以从金属、玻璃、碳、树脂或它们的复合体中进行适当选择。从加工性等方面出发，优选使用金属。作为适合使用的金属材料，从成本的观点出发，可列举铝、铁、或者以铝或铁为主体的合金等。从与粘合剂层的脱模性的方面出发，优选使用氟系树脂。
为了容易从粘合剂层分离，也可以对凹凸铸模的表面实施脱模处理。脱模处理的例子为氟处理等。凹凸铸模对粘合剂层13的第1表面13a的挤压强度只要是能够在第1表面13a转印凹凸铸模的表面形状的强度，则并无特别限定。
作为得到凹凸铸模的方法，可列举例如：将基材研磨，并实施喷砂加工后，实施无电解镀镍而制成辊模具的方法(日本特开2006-53371号公报)；对基材实施镀铜或镀镍后，进行研磨并实施喷砂加工，之后实施镀铬的方法(日本特开2007-187952号公报)；实施镀铜或镀镍后，进行研磨并实施喷砂加工，之后实施蚀刻工序或镀铜工序，接着实施镀铬的方法(日本特开2007-237541号公报)；对模具用基材的表面实施镀铜或镀镍后，进行研磨，在经过研磨的面涂布形成感光性树脂膜，在该感光性树脂膜上曝光图案后进行显影，使用被显影后的感光性树脂膜作为掩模而进行蚀刻处理，剥离感光性树脂膜，进一步进行蚀刻处理，使凹凸面钝化后，对所形成的凹凸面实施镀铬的方法；以及使用车床等工作机械，利用切削工具切削成为铸模的基材的方法(国际公开第2007/077892号小册子)等。
＜带分离膜的光学构件＞
图4为表示本发明的带分离膜的光学构件的一例的示意性剖面图。
带分离膜的光学构件40为具有第1光学构件30和贴合于第1光学构件30的带粘合剂层的分离膜25的构成。带粘合剂层的分离膜25以粘合剂层13的第1表面13a贴合于第1光学构件30。带分离膜的光学构件40以通过分离膜10的剥离而露出的粘合剂层13的第2表面贴合于第2光学构件。
带分离膜的光学构件40在粘合剂层13的第1表面13a挤压凹凸铸模而形成多个凹部14。凹部14可以松弛在弯曲状态下产生于粘合剂层13的应力。因此，在粘合剂层13用于贴合构成柔性显示器的两个光学构件(第1光学构件和第2光学构件)时，粘合剂层13即使对弯曲处也显示良好的贴合性。以下，对各构成要素详细地进行说明。带粘合剂层的分离膜25如上述的说明所示。
[第1光学构件]
第1光学构件30为柔性显示器中所使用的光学构件，可以为单层或多层结构的光学膜等。光学膜的具体例包括：偏振膜；光学补偿膜(相位差膜等)、防反射膜、光扩散膜(片)、反射膜(片)等光学功能性膜；偏振膜用保护膜；偏振板；玻璃膜(包含玻璃片、玻璃基板。)等。光学构件30优选为偏振板。
偏振板可以为在偏振膜的至少一面借助粘接剂层而贴合有保护膜的偏振板。该保护膜可以兼具作为如相位差膜那样的光学补偿膜的功能。另外，可以在偏振膜上或保护膜上借助粘接剂层或粘合剂层而层叠例如相位差膜、增亮膜之类的其他光学功能性膜。
偏振膜为具有从入射的自然光中取出直线偏振光的功能的膜，适合的例子为在经单轴拉伸后的聚乙烯醇系树脂膜上吸附取向有碘、二色性染料等二色性色素的偏振膜。偏振膜的厚度并无特别限制，但是通常为2～35μm。
保护膜可以是具有透光性的(优选光学上透明的)热塑性树脂膜。热塑性树脂的具体例包括：链状聚烯烃系树脂(聚丙烯系树脂等)、环状聚烯烃系树脂(降冰片烯系树脂等)之类的聚烯烃系树脂；聚酯系树脂(聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂等)；(甲基)丙烯酸系树脂(甲基丙烯酸甲酯系树脂等)；纤维素系树脂(三乙酰基纤维素、二乙酰基纤维素之类的乙酸纤维素系树脂等)；聚碳酸酯系树脂；聚乙烯基醇系树脂；聚乙酸乙烯酯系树脂；聚芳酯系树脂；聚苯乙烯系树脂；聚醚砜系树脂；聚砜系树脂；聚酰胺系树脂；聚酰亚胺系树脂；及它们的混合物、共聚物。保护膜的厚度例如为5～200μm左右、优选为10～150μm、更优选为15～100μm。
在偏振膜的两面贴合保护膜的情况下，这些保护膜既可以由同种的热塑性树脂构成，也可以由不同种的热塑性树脂构成。另外，厚度可以相同，也可以不同。保护膜可以具有硬涂层、防眩层、防反射层、光扩散层、抗静电层、防污层、导电层之类的表面处理层(涂层)。
相位差膜为显示光学各向异性的光学膜，可以为：由可以用于上述保护膜的树脂等构成的热塑性树脂膜的单轴或双轴拉伸膜；通过使液晶性化合物涂布、取向于热塑性树脂膜而体现出光学各向异性的膜；通过使无机层状化合物涂布于热塑性树脂膜而体现出光学各向异性的膜等。
保护膜(或相位差膜等)可以借助粘接剂层而贴合于偏振膜。作为形成粘接剂层的粘接剂，可以使用水系粘接剂、活性能量射线固化性粘接剂、或热固化性粘接剂，优选为水系粘接剂、活性能量射线固化性粘接剂。
作为水系粘接剂，可列举由聚乙烯基醇系树脂水溶液形成的粘接剂、水系双组分型氨基甲酸酯系乳液粘接剂等。其中，优选使用由聚乙烯基醇系树脂水溶液形成的水系粘接剂。作为聚乙烯基醇系树脂，除了将乙酸乙烯酯的均聚物即聚乙酸乙烯酯皂化处理而得的乙烯基醇均聚物以外，还可以使用将乙酸乙烯酯与能够与之共聚的其他单体的共聚物皂化处理而得的聚乙烯基醇系共聚物、或将它们的羟基部分改性而得到的改性聚乙烯基醇系聚合物等。水系粘接剂可以包含醛化合物(乙二醛等)、环氧化合物、三聚氰胺系化合物、羟甲基化合物、异氰酸酯化合物、胺化合物、多价金属盐等交联剂。
在使用水系粘接剂的情况下，优选在将偏振膜与保护膜贴合后实施用于除去水系粘接剂中所含的水的干燥工序。也可以在干燥工序后设置例如在20～45℃左右的温度进行养护的养护工序。
上述活性能量射线固化性粘接剂是指通过照射紫外线、可见光、X射线、电子束之类的活性能量射线而发生固化的粘接剂，可列举例如包含聚合性化合物及光聚合引发剂的固化性组合物、包含光反应性树脂的固化性组合物、包含粘结剂树脂及光反应性交联剂的固化性组合物等。优选为紫外线固化性粘接剂。作为聚合性化合物，可列举光固化性环氧系单体、光固化性(甲基)丙烯酸系单体、光固化性氨基甲酸酯系单体之类的光聚合性单体、来自于光聚合性单体的低聚物。作为光聚合引发剂，可列举包含通过活性能量射线的照射而产生中性自由基、阴离子自由基、阳离子自由基之类的活性中心的物质的光聚合引发剂。作为包含聚合性化合物及光聚合引发剂的活性能量射线固化性粘接剂，可优选使用：包含光固化性环氧系单体及光阳离子聚合引发剂的固化性组合物；包含光固化性(甲基)丙烯酸系单体及光自由基聚合引发剂的固化性组合物；包含光固化性环氧系单体、光固化性(甲基)丙烯酸系单体、光阳离子聚合引发剂及光自由基聚合引发剂的固化性组合物。
在使用活性能量射线固化性粘接剂的情况下，在将偏振膜与保护膜贴合后，根据需要进行干燥工序(其中，活性能量射线固化性粘接剂可以为实质上不包含溶剂成分的无溶剂型粘接剂。)，接着，实施通过照射活性能量射线而使活性能量射线固化性粘接剂固化的固化工序。活性能量射线的光源并无特别限定，优选在波长400nm以下具有发光分布的紫外线，具体而言，可以使用低压汞灯、中压汞灯、高压汞灯、超高压汞灯、化学灯、黑光灯、微波激发汞灯、金属卤化物灯等。
在保护膜的贴合之前，为了提高粘接性，可以对偏振膜及保护膜中的至少任一方的贴合面实施电晕处理、等离子体处理、紫外线照射处理、火焰处理、皂化处理、形成底涂层的处理之类的表面活化处理。
在偏振膜的两面贴合保护膜的情况下，用于贴合这些保护膜的粘接剂既可以是同种的粘接剂，也可以是不同种的粘接剂。
[第2光学构件]
贴合带分离膜的光学构件40的第2光学构件为柔性显示器中所使用的光学构件，可例示出图像显示单元。柔性显示器中所使用的图像显示单元只要具有挠性，则并无限定，可以为包含液晶单元、有机EL等的图像显示单元。在第2光学构件为液晶单元的情况下，需要在该液晶单元的前面及背面配置偏振板，因此可例示出第1光学构件为偏振板的形态。
＜带粘合剂层的分离膜的制造方法＞
本发明的带粘合剂层叠的分离膜的制造方法依次包括下述的工序：
涂敷工序，在分离膜上涂敷粘合剂组合物而形成涂敷层；
干燥工序，使涂敷层干燥而得到具有粘合剂层的分离膜；以及
凹部形成工序，对粘合剂层的第1表面挤压凹凸铸模。
带粘合剂层的分离膜的粘合剂层用于贴合构成柔性显示器的两个光学构件。以下，参照图5～图7对各工序进行说明。
[涂布工序]
本工序为以下工序：利用涂敷装置50在分离膜10上涂敷粘合剂组合物而形成涂敷层11，从而得到具有涂敷层11的分离膜15(参照图5及图6)。作为分离膜10及粘合剂组合物，可以使用上述的分离膜及粘合剂组合物。
使用涂敷装置50对分离膜10涂敷粘合剂组合物的涂敷方法并无特别限制，例如可以使用狭缝式挤压型涂布法(スロットダィ法)、逆向凹版涂布法、微凹版涂布法、浸渍法、旋涂法、刷涂法、辊涂法、柔性印刷法等。由粘合剂组合物形成的涂敷层11的厚度以使带粘合剂层的分离膜25的粘合剂层13的厚度达到上述范围的方式来调整。
如图5所示，更具体而言，涂敷工序可以为在从第1放出辊1连续地卷出的长条的分离膜10的一个面连续涂敷粘合剂组合物的工序。此时，如图5所示，可以边将分离膜10卷绕到涂敷用辊60上边涂敷粘合剂组合物。
在粘合剂组合物的涂敷之前，可以对分离膜10的涂敷面实施电晕处理、等离子体处理、紫外线照射处理、火焰处理、皂化处理、形成底涂层的处理之类的表面处理。
[干燥工序]
本工序为使具有涂敷层11的分离膜15的涂敷层11干燥(溶剂挥发)而得到具有粘合剂层12(干燥后且凹部形成前)的分离膜20的工序(参照图5及图7)。
干燥工序可以参照图5，例如通过继续连续运送具有利用涂敷工序而得到的涂敷层11的长条的分离膜15并将其通入干燥机构70来实施。干燥机构70只要是能够使溶剂挥发的机构，则并无特别限制，例如为干燥炉(加热炉)。干燥炉除加热机构外还可以进一步包含减压机构。干燥温度(例如干燥炉内的温度)通常为50～120℃、优选为60～110℃。
[凹部形成工序]
本工序为对粘合剂层12(干燥后且凹部形成前)的第1表面12a挤压凹凸铸模的工序(参照图7)。作为凹凸铸模，可以使用上述的凹凸铸模。利用该凹部形成工序，可得到具有粘合剂层13(凹部形成后)的分离膜25(参照图1)。通过利用该凹部形成工序所形成的凹部14，可以改善柔性显示器中的粘合剂层13的贴合性。
上述凹部形成工序例如可以通过继续连续运送具有粘合剂层12的长条的分离膜20并将其通入凹部形成用腔室80内来实施。利用凹凸铸模的凹部的形成具体可以为以下方式。
使凹凸铸模与粘合剂层12的第1表面12a接触并挤压。此时，凹凸铸模的表面温度优选被冷却至粘合剂层12的玻璃化转变温度(Tg)以下。通过使凹凸铸模的表面温度为Tg以下，从而在将凹凸铸模从粘合剂层剥离时可以提高脱模性。粘合剂层12的温度可以通过控制凹部形成用腔室80内的气氛温度或凹凸铸模的表面温度来调整。为了防止粘合剂层表面及凹凸铸模表面的结露，优选预先使凹部形成用腔室80内为干燥空气或氮气等不含水分的气氛。凹凸铸模的挤压的强度可以根据粘合剂层12的固化的进行程度来适当调整。
将凹凸铸模的表面形状转印于粘合剂层12的第1表面12a，并从具有粘合剂层13的分离膜25剥离凹凸铸模。作为剥离方法，并无特别限制，例如，在凹凸铸模为凹凸辊的情况下，优选使用在具有粘合剂层13的分离膜25与凹凸铸模的分离点设置夹持辊等压接装置并以该压接装置为支点从凹凸铸模剥离具有粘合剂层13的分离膜25的方法。由此，可以有效且稳定地剥离到达上述支点的分离膜25。
就粘合剂层12而言，固化缓缓地进行，进行该凹部的形成时的粘合剂层12的固化进行程度并无特别限定。另外，为了促进粘合剂层的固化，也可以在凹部形成后进行进一步的干燥处理。
＜带分离膜的光学构件的制造方法＞
本发明的带分离膜的光学构件的制造方法包括下述的工序：
利用上述的制造方法制造带粘合剂层的分离膜的工序；以及
将带粘合剂层的分离膜的第1表面贴合于光学构件的表面的贴合工序。
以下，对贴合工序进行说明。
[贴合工序]
贴合工序可以通过使用一对贴合辊90等对包含在第1光学构件30上使用粘合剂层13层叠而成的带粘合剂层的分离膜25的层叠体进行挤压来实施。作为第1光学构件30，可以使用上述的光学构件。
更具体而言，参照图5，本工序例如从第2放出辊2卷出长条的第1光学构件30，并且将经过凹部形成工序而得到的长条的带粘合剂层的分离膜25以其粘合剂层13的第1表面13a侧重叠在所卷出的第1光学构件30上，使该层叠体通过一对贴合辊90间，由此可以得到带分离膜的光学构件40。所得的带分离膜的光学构件40可以卷取至卷取辊3而制成膜辊。
予以说明，从生产效率的观点出发，优选如图5所示那样将经过凹部形成工序而得到的带粘合剂层的分离膜25直接供给至与第1光学构件30的贴合工序，也可以将带粘合剂层的分离膜25暂时卷取成辊状并在之后的工序中再度卷出而供给至贴合工序。
在带粘合剂层的分离膜25与第1光学构件30贴合之前可以进一步包括对第1光学构件30的贴合面及粘合剂层13中的与光学构件30的贴合面中的至少一者进行能量照射的表面活化工序。例如，可以实施电晕处理、等离子体处理、紫外线照射处理、火焰处理、皂化处理之类的表面处理。表面处理可以分多段地进行。
图5示出在第1光学构件30的单面贴合带粘合剂层的分离膜25的例子，也可以在第1光学构件30的双面贴合带粘合剂层的分离膜25。当在光学构件30的双面贴合带粘合剂层的分离膜25的情况下，双面的带粘合剂层的分离膜25可以同时贴合，也可以分步地贴合。
符号说明
1 第1放出辊、
2 第2放出辊、
3 卷取辊、
10 分离膜、
11 涂敷层(干燥前)、
12 粘合剂层(干燥后、凹部形成前)、
12a 第1表面、
13 粘合剂层(凹部形成后)、
13a 第1表面、
14 凹部、
15 具有涂敷层(干燥前)的分离膜、
20 具有粘合剂层(干燥后且凹部形成前)的分离膜、
25 带粘合剂层的分离膜、
30 光学构件(第1光学构件)、
40 带分离膜的光学构件、
50 涂敷装置、
60 涂敷用辊、
70 干燥机构、
80 凹部形成用腔室、
90 贴合辊、
100 柔性显示器。

Claims (6)

1.一种带粘合剂层的分离膜，其具有分离膜和形成于所述分离膜上的粘合剂层，所述粘合剂层的与所述分离膜相反侧的表面具有凹部，
所述粘合剂层用于贴合构成柔性显示器的两个光学构件。
2.根据权利要求1所述的带粘合剂层的分离膜，其中，所述粘合剂层通过对所述表面挤压凹凸铸模而形成所述凹部。
3.一种带分离膜的光学构件，其具有光学构件和贴合于所述光学构件的权利要求1或2所述的带粘合剂层的分离膜，
所述带粘合剂层的分离膜以所述粘合剂层的所述表面贴合于所述光学构件。
4.一种带粘合剂层的分离膜的制造方法，其中，所述带粘合剂层的分离膜具有分离膜和形成于所述分离膜上的粘合剂层，
该制造方法依次包括：
涂敷工序，在所述分离膜上涂敷粘合剂组合物而形成涂敷层；
干燥工序，使所述涂敷层干燥而得到具有粘合剂层的所述分离膜；以及
凹部形成工序，对所述粘合剂层的与所述分离膜相反侧的表面挤压凹凸铸模而形成凹部，
所述粘合剂层用于贴合构成柔性显示器的两个光学构件。
5.根据权利要求4所述的带粘合剂层的分离膜的制造方法，其中，所述凹凸铸模为压花辊。
6.一种带分离膜的光学构件的制造方法，其中，所述带分离膜的光学构件具有光学构件和贴合于所述光学构件的带粘合剂层的分离膜，
该制造方法依次包括：
利用权利要求4或5所述的制造方法制造所述带粘合剂层的分离膜的工序；以及
将所述带粘合剂层的分离膜以所述粘合剂层的所述表面贴合于所述光学构件的贴合工序。
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