CN107247299A - 一种盖板及电子设备 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种盖板，包括基板和镀膜层；镀膜层覆盖在基板一侧表面，镀膜层由至少两种氧化物材料膜层叠加形成，所述至少两种氧化物材料膜层具有不同的折射率；镀膜层使入射光入射到所述盖板，经过各膜层折射后形成的反射光呈现的色度区域在CIE LAB表色系统中满足：40≤L坐标值≤50，‑2≤a坐标值≤2，‑2≤b坐标值≤2。基于多层介质膜层对入射光的干涉作用，通过采用折射率满足要求的介质膜层，并调整膜层厚度和膜层数，使入射光经过镀膜层折射后形成的反射光表现出陶瓷色泽，从而使所述盖板表现出陶瓷色泽效果。与陶瓷盖板相比，本发明盖板能够达到陶瓷盖板的外观色泽效果，且相比可降低成本。本发明还公开一种包括上述盖板的电子设备。

Description

一种盖板及电子设备

技术领域

本发明涉及盖板技术领域，特别是涉及一种盖板。本发明还涉及一种电子设备。

背景技术

目前，陶瓷被广泛的应用到盖板行业，同时行业内对陶瓷盖板特性的研究也越来越多。以陶瓷制作的盖板呈现出亮色，具有良好的外观色泽效果，因而深受用户青睐。然而，陶瓷盖板制作工艺和流程控制要求高，其生产成本高。

发明内容

鉴于此，本发明的目的是提供一种盖板，能够达到陶瓷盖板的外观色泽效果，且相比陶瓷盖板可降低成本。本发明还提供一种电子设备。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种盖板，包括基板和镀膜层；

所述镀膜层覆盖在所述基板一侧表面，所述镀膜层由至少两种氧化物材料膜层叠加形成，所述至少两种氧化物材料膜层具有不同的折射率；

所述镀膜层使入射光入射到所述盖板，经过各膜层折射后形成的反射光呈现的色度区域在CIE LAB表色系统中满足：40≤L坐标值≤50，-2≤a坐标值≤2，-2≤b坐标值≤2。

可选地，所述镀膜层覆盖在所述基板背向观察一侧的表面上。

可选地，所述镀膜层覆盖在所述基板朝向观察一侧的表面上。

可选地，所述氧化物材料包括氧化硅、氧化钛、氧化铝、氧化铌或者氧化钽。

可选地，所述镀膜层包括按层依次覆盖在所述基板表面上的氧化钛膜层、氧化硅膜层、氧化钛膜层、氧化硅膜层、氧化钛膜层和氧化硅膜层。

可选地，各膜层的厚度依次为3nm-16nm、64nm-86nm、28nm-48nm、5nm-17nm、18nm-37nm和120nm-140nm。

可选地，所述镀膜层包括按层依次覆盖在所述基板表面上的氧化钛膜层、氧化硅膜层和氧化钛膜层。

可选地，各膜层的厚度依次为3nm-16nm、32nm-51nm和16nm-34nm。

可选地，还包括覆盖在所述盖板朝向观察一侧表面上的防指纹膜。

一种电子设备，包括以上所述的盖板。

由上述技术方案可知，本发明所提供的盖板及电子设备，盖板包括基板和镀膜层，所述镀膜层覆盖在基板一侧表面，所述镀膜层由至少两种氧化物材料膜层叠加形成，并且所述至少两种氧化物材料膜层各自具有不同的折射率。基于多层介质膜层对入射光的干涉作用，通过采用折射率满足要求的介质膜层，并调整膜层厚度和膜层数，使入射光入射到盖板，经过镀膜层折射后形成的反射光呈现的色度区域在CIE LAB表色系统中满足：40≤L坐标值≤50，-2≤a坐标值≤2，-2≤b坐标值≤2，从而使所述盖板表现出陶瓷色泽效果。与陶瓷盖板相比，本发明盖板能够达到陶瓷盖板的外观色泽效果，且相比可降低成本。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的一种盖板的示意图；

图2为本发明又一实施例提供的一种盖板的示意图。

具体实施方式

本发明提供一种盖板，能够达到陶瓷盖板的外观色泽效果，且相比陶瓷盖板可降低成本。

本发明所提供的一种盖板，包括基板和镀膜层；

所述镀膜层覆盖在所述基板一侧表面，所述镀膜层由至少两种氧化物材料膜层叠加形成，所述至少两种氧化物材料膜层具有不同的折射率；

所述镀膜层使入射光入射到所述盖板，经过各膜层折射后形成的反射光呈现的色度区域在CIE LAB表色系统中满足：40≤L坐标值≤50，-2≤a坐标值≤2，-2≤b坐标值≤2。

本发明所述盖板，在基板一侧表面覆盖有镀膜层，所述镀膜层由至少两种氧化物材料膜层交替叠加形成，并且至少两种氧化物材料膜层各自具有不同的折射率。基于多层介质膜层对入射光的干涉作用，通过采用折射率满足要求的介质膜层，并调整膜层厚度和膜层数，使入射光入射到盖板，经过镀膜层折射后形成的反射光呈现的色度区域在CIE LAB表色系统中满足：40≤L坐标值≤50，-2≤a坐标值≤2，-2≤b坐标值≤2，从而使所述盖板表现出陶瓷色泽效果。与陶瓷盖板相比，本发明盖板能够达到陶瓷盖板的外观色泽效果，且相比可降低成本。

为了使本技术领域的人员更好地理解本发明中的技术方案，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本发明保护的范围。

其次，本发明结合示意图进行详细描述，在详述本发明实施例时，为便于说明，表示结构的剖面图会不依一般比例作局部放大，而且所述示意图只是示例，其在此不应限制本发明保护的范围。此外，在实际制作中应包含长度、宽度及深度的三维空间尺寸。

在本发明盖板的一种实施例中，请参考图1，所述盖板包括基板10和镀膜层11。

其中，所述基板10可以是玻璃基板、塑胶基板或者金属基板，可以理解的是，也可以是其它种类的基板，均在本发明保护范围内。优选的，基板10采用高硬度基板，可提高盖板硬度。

本实施例中，所述镀膜层11覆盖在所述基板10背向观察一侧的表面上，即在将所述盖板安装到电子设备时所称的背面。

所述镀膜层11由至少两种氧化物材料膜层叠加形成，所述至少两种氧化物材料膜层具有不同的折射率。入射光照射到盖板上，通过基板后入射至镀膜层，入射光经过各介质膜层折射，发生多膜层光干涉，通过调节膜层厚度和层数，使出射的反射光表现出陶瓷色泽，即使形成的反射光呈现的色度区域在CIE LAB表色系统中满足：40≤L坐标值≤50，-2≤a坐标值≤2，-2≤b坐标值≤2。

所述氧化物材料膜层可以是金属氧化物材料膜层或者非金属氧化物材料膜层。可选的，所述氧化物材料包括氧化硅、氧化钛、氧化铝、氧化铌或者氧化钽，或者也可以采用其它种类的氧化物介质材料，也均在本发明保护范围内。

本镀膜层11中可采用两种折射率不同的氧化物材料膜层，或者也可采用三种或者更多种类的具有不同折射率的氧化物材料膜层。

所述盖板还设置有油墨层12，所述油墨层12覆盖在所述盖板10背向观察一侧表面，用于达到遮光效果。可选的，所述油墨层12可以是黑色油墨层或者白色油墨层。通过镀膜层11与油墨层12色泽搭配，可以更加凸显出陶瓷般的优雅色泽效果。

在实际制作过程中，可先测量出陶瓷固有的颜色参数L*a*b*值，例如，黑陶瓷L*44.2，a*0，b*-1；白陶瓷L*87.8，a*-0.2，b*-1.1。然后，通过镀膜工艺在基板表面镀制膜层，根据陶瓷颜色参数值，调节镀制膜层厚度和层数，使盖板表现出陶瓷色泽。再进一步镀制油墨层。

可选的，所述镀膜层11的厚度范围为100～300nm，层数在2～5之间。在一种具体实例中，所述镀膜层11包括按层依次覆盖在所述基板10表面上的氧化钛膜层、氧化硅膜层、氧化钛膜层、氧化硅膜层、氧化钛膜层和氧化硅膜层。其中，各膜层的厚度依次为3nm-16nm、64nm-86nm、28nm-48nm、5nm-17nm、18nm-37nm、120nm-140nm。经过颜色效果测试，本实施例盖板从不同角度观察，可达到与陶瓷盖板颜色一致。

在本发明盖板的又一种实施例中，请参考图2，所述盖板包括基板20和镀膜层21。

其中，镀膜层21覆盖在所述基板20朝向观察一侧的表面上，即在将所述盖板安装到电子设备时所称的正面。

所述镀膜层21由至少两种氧化物材料膜层叠加形成，所述至少两种氧化物材料膜层具有不同的折射率。入射光入射到镀膜层21，入射光经过各介质膜层折射，发生多膜层光干涉，通过调节膜层厚度和层数，使出射的反射光表现出陶瓷色泽，具体使形成的反射光呈现的色度区域在CIE LAB表色系统中满足：40≤L坐标值≤50，-2≤a坐标值≤2，-2≤b坐标值≤2。

所述氧化物材料膜层可以是金属氧化物材料膜层或者非金属氧化物材料膜层。可选的，所述氧化物材料包括氧化硅、氧化钛、氧化铝、氧化铌或者氧化钽，或者也可以采用其它种类的氧化物介质材料，也均在本发明保护范围内。

本镀膜层21中可采用两种折射率不同的氧化物材料膜层，或者采用三种或者更多种类的具有不同折射率的氧化物材料膜层。

本实施例盖板，还设置油墨层22，油墨层22覆盖在盖板20背向观察一侧表面，用于达到遮光效果。

本实施例中，所述基板20、所述油墨层22的材料及具体设置方式可参考上一实施例所述，在此不再赘述。

可选的，所述镀膜层21的厚度范围为100～300nm，层数在2～5之间。在一种具体实例中，所述镀膜层21包括按层依次覆盖在所述基板20表面上的氧化钛膜层、氧化硅膜层和氧化钛膜层。其中，各膜层的厚度依次为3nm-16nm、32nm-51nm和16nm-34nm。经过颜色效果测试，本实施例盖板从不同角度观察，可达到与陶瓷盖板颜色一致。

优选的，在上述各实施例中，所述盖板还包括覆盖在所述盖板朝向观察一侧表面上的防指纹膜。防指纹膜AF通过化学反应与基板或者镀膜层反应并完美结合，从而获得顺滑的触摸感和防指纹效果，指纹更容易去除。

本发明盖板能够达到陶瓷盖板的外观色泽效果，满足用户使用需要，并且极大限度地降低了生产成本，相对陶瓷盖板性价比更高。

相应的，本发明实施例还提供一种电子设备，包括以上所述的盖板。

本实施例电子设备，其盖板包括基板和镀膜层，所述镀膜层覆盖在基板一侧表面，所述镀膜层由至少两种氧化物材料膜层叠加形成，并且所述至少两种氧化物材料膜层各自具有不同的折射率，基于多层介质膜层对入射光的干涉作用，通过采用折射率满足要求的介质膜层，并调整膜层厚度和膜层数，使入射光入射到盖板，经过镀膜层折射后形成的反射光呈现的色度区域在CIE LAB表色系统中满足：40≤L坐标值≤50，-2≤a坐标值≤2，-2≤b坐标值≤2，从而使盖板表现出陶瓷色泽效果。因此本电子设备盖板能够达到陶瓷盖板的外观色泽效果，并且降低了成本。

以上对本发明所提供的一种盖板及电子设备进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以对本发明进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。

Claims (10)

1.一种盖板，其特征在于，包括基板和镀膜层；

所述镀膜层覆盖在所述基板一侧表面，所述镀膜层由至少两种氧化物材料膜层叠加形成，所述至少两种氧化物材料膜层具有不同的折射率；

所述镀膜层使入射光入射到所述盖板，经过各膜层折射后形成的反射光呈现的色度区域在CIE LAB表色系统中满足：40≤L坐标值≤50，-2≤a坐标值≤2，-2≤b坐标值≤2。

2.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述镀膜层覆盖在所述基板背向观察一侧的表面上。

3.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述镀膜层覆盖在所述基板朝向观察一侧的表面上。

4.根据权利要求1-3任一项所述的盖板，其特征在于，所述氧化物材料包括氧化硅、氧化钛、氧化铝、氧化铌或者氧化钽。

5.根据权利要求2所述的盖板，其特征在于，所述镀膜层包括按层依次覆盖在所述基板表面上的氧化钛膜层、氧化硅膜层、氧化钛膜层、氧化硅膜层、氧化钛膜层和氧化硅膜层。

6.根据权利要求5所述的盖板，其特征在于，各膜层的厚度依次为3nm-16nm、64nm-86nm、28nm-48nm、5nm-17nm、18nm-37nm和120nm-140nm。

7.根据权利要求3所述的盖板，其特征在于，所述镀膜层包括按层依次覆盖在所述基板表面上的氧化钛膜层、氧化硅膜层和氧化钛膜层。

8.根据权利要求7所述的盖板，其特征在于，各膜层的厚度依次为3nm-16nm、32nm-51nm和16nm-34nm。

9.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，还包括覆盖在所述盖板朝向观察一侧表面上的防指纹膜。

10.一种电子设备，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的盖板。