CN107834004A - 一种类陶瓷式盖板及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

本申请公开了一种类陶瓷式盖板及其制作方法，该类陶瓷式盖板包括基板，所述基板的第一表面依次设置有光学膜层和类金刚石膜层，所述基板的第二表面设置有油墨层，所述光学膜层包括由至少两种氧化物膜交替叠加形成的至少三层膜，其中，至少两种所述氧化物膜之间的折射率差值不小于0.3。该类陶瓷式盖板的制作方法包括利用真空镀膜方式在基板的第一表面制作光学膜层和类金刚石膜层，所述光学膜层包括由至少两种氧化物膜交替叠加形成的至少三层膜，其中，至少两种所述氧化物膜之间的折射率差值不小于0.3；在所述基板的第二表面制作油墨层。上述类陶瓷式盖板及其制作方法能够在低成本的基础上，制作出具有类似陶瓷效果的盖板，提升用户体验。

Description

一种类陶瓷式盖板及其制作方法
技术领域
本发明属于消费电子设备技术领域，特别是涉及一种类陶瓷式盖板及其制作方法。
背景技术
目前，陶瓷被广泛的应用到移动终端的盖板领域，同时行业内对陶瓷盖板特性的研究也越来越多。陶瓷材质盖板的机械性能优异，且以陶瓷制作的盖板呈现出亮色，具有良好的外观色泽，深受用户青睐。然而，陶瓷盖板制作工艺和流程控制要求高，其生产成本高。
发明内容
为解决上述问题，本发明提供了一种类陶瓷式盖板及其制作方法，能够在低成本的基础上，制作出具有类似陶瓷效果的盖板，提升用户体验。
本发明提供的一种类陶瓷式盖板，包括基板，所述基板的第一表面依次设置有光学膜层和类金刚石膜层，所述基板的第二表面设置有油墨层，所述光学膜层包括由至少两种氧化物膜交替叠加形成的至少三层膜，其中，至少两种所述氧化物膜之间的折射率差值不小于0.3。
优选的，在上述类陶瓷式盖板中，所述至少两种氧化物膜包括二氧化硅膜、氧化钛膜或氧化铌膜。
优选的，在上述类陶瓷式盖板中，所述光学膜层包括三层至五层膜。
优选的，在上述类陶瓷式盖板中，所述至少两种氧化物膜包括二氧化硅膜和氧化钛膜。
优选的，在上述类陶瓷式盖板中，所述光学膜层包括三层膜，其中第一层为厚度为20nm的二氧化硅膜，第二层为厚度为10nm至80nm的氧化钛膜，第三层为厚度为10nm至80nm的二氧化硅膜。
本发明提供的一种类陶瓷式盖板的制作方法，包括：
利用真空镀膜方式在基板的第一表面制作光学膜层和类金刚石膜层，所述光学膜层包括由至少两种氧化物膜交替叠加形成的至少三层膜，其中，至少两种所述氧化物膜之间的折射率差值不小于0.3；
在所述基板的第二表面制作油墨层。
优选的，在上述类陶瓷式盖板的制作方法中，所述至少两种氧化物膜包括二氧化硅膜、氧化钛膜或氧化铌膜。
优选的，在上述类陶瓷式盖板的制作方法中，所述光学膜层包括三层至五层膜。
优选的，在上述类陶瓷式盖板的制作方法中，所述至少两种氧化物膜包括二氧化硅膜和氧化钛膜。
优选的，在上述类陶瓷式盖板的制作方法中，所述光学膜层包括三层膜，其中第一层为厚度为20nm的二氧化硅膜，第二层为厚度为10nm至80nm的氧化钛膜，第三层为厚度为10nm至80nm的二氧化硅膜。
通过上述描述可知，本发明提供的上述类陶瓷式盖板及其制作方法，由于该类陶瓷式盖板包括基板，所述基板的第一表面依次设置有光学膜层和类金刚石膜层，所述基板的第二表面设置有油墨层，所述光学膜层包括由至少两种氧化物膜交替叠加形成的至少三层膜，其中，至少两种所述氧化物膜之间的折射率差值不小于0.3能够在低成本的基础上，制作出具有类似陶瓷效果的盖板，提升用户体验。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例提供的第一种类陶瓷式盖板的示意图；
图2为本申请实施例提供的第一种类陶瓷式盖板的制作方法的示意图。
具体实施方式
本发明的核心思想在于提供一种类陶瓷式盖板及其制作方法，能够在低成本的基础上，制作出具有类似陶瓷效果的盖板，提升用户体验。
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本申请实施例提供的第一种类陶瓷式盖板如图1所示，图1为本申请实施例提供的第一种类陶瓷式盖板的示意图，该盖板包括基板1，所述基板1的第一表面依次设置有光学膜层2和类金刚石膜层3，所述基板1的第二表面设置有油墨层4，所述光学膜层2包括由至少两种氧化物膜201、202交替叠加形成的至少三层膜，其中，至少两种所述氧化物膜201、202之间的折射率差值不小于0.3。
其中，这种由至少两种折射率差值不小于0.3的氧化物膜制成的光学膜层2与类金刚石膜层3相配合，使得光入射到盖板经过折射后形成的反射光表现出的颜色满足以下条件：L*＝45±5，a*＝0±2，b*＝0±2，其中L*、a*、b*分别表示色坐标系中的坐标值，从而使所述盖板表现出陶瓷色泽效果，相比真正的陶瓷盖板而言大大降低了制作成本，而且所述类金刚石膜层3的设置使该盖板具有更强的硬度和更好的耐磨性。
通过上述描述可知，本申请实施例提供的第一种类陶瓷式盖板，由于包括基板，所述基板的第一表面依次设置有光学膜层和类金刚石膜层，所述基板的第二表面设置有油墨层，所述光学膜层包括由至少两种氧化物膜交替叠加形成的至少三层膜，其中，至少两种所述氧化物膜之间的折射率差值不小于0.3能够在低成本的基础上，制作出具有类似陶瓷效果的盖板，提升用户体验。
本申请实施例提供的第二种类陶瓷式盖板，是在上述第一种类陶瓷式盖板的基础上，还包括如下技术特征：
所述至少两种氧化物膜包括二氧化硅膜、氧化钛膜或氧化铌膜。
需要说明的是，这些种类的氧化物膜交替叠加形成在盖板的外表面上，能够表现出陶瓷色泽。
本申请实施例提供的第三种类陶瓷式盖板，是在上述第二种类陶瓷式盖板的基础上，还包括如下技术特征：
所述光学膜层包括三层至五层膜。
需要说明的是，该光学膜层可以根据需要来选择相应的膜的种类以及层数，这里的三层至五层只是优选方案，能够实现较好的陶瓷色效果，但是并不构成限制，还可以采用其他层数。
本申请实施例提供的第四种类陶瓷式盖板，是在上述第一种类陶瓷式盖板的基础上，还包括如下技术特征：
所述至少两种氧化物膜包括二氧化硅膜和氧化钛膜。
需要说明的是，可以在最下面一层设置二氧化硅膜、中间设置氧化钛膜，最上面一层也设置二氧化硅膜，或者在最下面一层设置氧化钛膜，中间设置二氧化硅膜，最上面一层设置氧化钛膜，此处并不限制。
本申请实施例提供的第五种类陶瓷式盖板，是在上述第四种类陶瓷式盖板的基础上，还包括如下技术特征：
所述光学膜层包括三层膜，其中第一层为厚度为20nm的二氧化硅膜，第二层为厚度为10nm至80nm的氧化钛膜，第三层为厚度为10nm至80nm的二氧化硅膜。
当然这只是其中一个优选方案，还可以根据实际需要对各层膜的种类和厚度进行调整，此处并不构成限制。
本申请实施例提供的第一种类陶瓷式盖板的制作方法如图2所示，图2为本申请实施例提供的第一种类陶瓷式盖板的制作方法的示意图，该方法包括如下步骤：
S1：利用真空镀膜方式在基板的第一表面制作光学膜层和类金刚石膜层，所述光学膜层包括由至少两种氧化物膜交替叠加形成的至少三层膜，其中，至少两种所述氧化物膜之间的折射率差值不小于0.3；
S2：在所述基板的第二表面制作油墨层。
其中，这种由至少两种折射率差值不小于0.3的氧化物膜制成的光学膜层与类金刚石膜层相配合，使得光入射到盖板经过折射后形成的反射光表现出的颜色满足以下条件：L*＝45±5，a*＝0±2，b*＝0±2，其中L*、a*、b*分别表示色坐标系中的坐标值，从而使所述盖板表现出陶瓷色泽效果，相比真正的陶瓷盖板而言大大降低了制作成本，而且所述类金刚石膜层3的设置使该盖板具有更强的硬度和更好的耐磨性。
本申请实施例提供的第二种类陶瓷式盖板的制作方法，是在上述第一种类陶瓷式盖板的制作方法的基础上，还包括如下技术特征：
所述至少两种氧化物膜包括二氧化硅膜、氧化钛膜或氧化铌膜。
需要说明的是，这些种类的氧化物膜交替叠加形成在盖板的外表面上，能够表现出陶瓷色泽。
本申请实施例提供的第三种类陶瓷式盖板的制作方法，是在上述第二种类陶瓷式盖板的制作方法的基础上，还包括如下技术特征：
所述光学膜层包括三层至五层膜。
需要说明的是，该光学膜层可以根据需要来选择相应的膜的种类以及层数，这里的三层至五层只是优选方案，能够实现较好的陶瓷色效果，但是并不构成限制，还可以采用其他层数。
本申请实施例提供的第四种类陶瓷式盖板的制作方法，是在上述第一种类陶瓷式盖板的制作方法的基础上，还包括如下技术特征：
所述至少两种氧化物膜包括二氧化硅膜和氧化钛膜。
需要说明的是，可以在最下面一层设置二氧化硅膜、中间设置氧化钛膜，最上面一层也设置二氧化硅膜，或者在最下面一层设置氧化钛膜，中间设置二氧化硅膜，最上面一层设置氧化钛膜，此处并不限制。
本申请实施例提供的第五种类陶瓷式盖板的制作方法，是在上述第四种类陶瓷式盖板的制作方法的基础上，还包括如下技术特征：
所述光学膜层包括三层膜，其中第一层为厚度为20nm的二氧化硅膜，第二层为厚度为10nm至80nm的氧化钛膜，第三层为厚度为10nm至80nm的二氧化硅膜。
当然这只是其中一个优选方案，还可以根据实际需要对各层膜的种类和厚度进行调整，此处并不构成限制。
对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (10)

1.一种类陶瓷式盖板，其特征在于，包括基板，所述基板的第一表面依次设置有光学膜层和类金刚石膜层，所述基板的第二表面设置有油墨层，所述光学膜层包括由至少两种氧化物膜交替叠加形成的至少三层膜，其中，至少两种所述氧化物膜之间的折射率差值不小于0.3。
2.根据权利要求1所述的类陶瓷式盖板，其特征在于，所述至少两种氧化物膜包括二氧化硅膜、氧化钛膜或氧化铌膜。
3.根据权利要求2所述的类陶瓷式盖板，其特征在于，所述光学膜层包括三层至五层膜。
4.根据权利要求1所述的类陶瓷式盖板，其特征在于，所述至少两种氧化物膜包括二氧化硅膜和氧化钛膜。
5.根据权利要求4所述的类陶瓷式盖板，其特征在于，所述光学膜层包括三层膜，其中第一层为厚度为20nm的二氧化硅膜，第二层为厚度为10nm至80nm的氧化钛膜，第三层为厚度为10nm至80nm的二氧化硅膜。
6.一种类陶瓷式盖板的制作方法，其特征在于，包括：
利用真空镀膜方式在基板的第一表面制作光学膜层和类金刚石膜层，所述光学膜层包括由至少两种氧化物膜交替叠加形成的至少三层膜，其中，至少两种所述氧化物膜之间的折射率差值不小于0.3；
在所述基板的第二表面制作油墨层。
7.根据权利要求6所述的类陶瓷式盖板的制作方法，其特征在于，所述至少两种氧化物膜包括二氧化硅膜、氧化钛膜或氧化铌膜。
8.根据权利要求7所述的类陶瓷式盖板的制作方法，其特征在于，所述光学膜层包括三层至五层膜。
9.根据权利要求6所述的类陶瓷式盖板的制作方法，其特征在于，所述至少两种氧化物膜包括二氧化硅膜和氧化钛膜。
10.根据权利要求9所述的类陶瓷式盖板的制作方法，其特征在于，所述光学膜层包括三层膜，其中第一层为厚度为20nm的二氧化硅膜，第二层为厚度为10nm至80nm的氧化钛膜，第三层为厚度为10nm至80nm的二氧化硅膜。
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