CN107244889B - 一种全抛釉砖的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明所述一种全抛釉砖的制备方法,其制备的产品具有釉面透感强、亮度高、层次丰富、白度高、防污好等特点,而且增加铝的加入,可获得强度高(强度>35MPa,可稳定在40MPa左右)、釉面透感强、亮度高(亮度>100度)、发色艳丽、层次丰富、防污效果好的产品。
Description
技术领域
本发明涉及釉面砖技术领域,具体地说,涉及一种全抛釉砖的制备方法。
背景技术
全抛釉砖集抛光砖与仿古砖优点于一体的,釉面如抛光砖般光滑亮洁,同时其釉面花色如仿古砖般图案丰富,色彩厚重或绚丽,其特点是透明不遮盖底下的抛釉和各道花釉。全抛釉砖全抛釉是釉下彩,属于釉面砖,它是在施完底釉料后就印花,再施一层透明的抛釉,烧制后把整个抛釉抛去一部分,保留一部分抛釉层、印花层、底釉料。全抛釉仿古砖属于一次烧成,在釉面进行抛光,属于最后一道工序。
但是,现有制备方法在生产过程中釉料损耗大,成本高,而且制备方法稳定性和产品质量较差。
发明内容
本发明克服了现有技术中的缺点,提供了一种全抛釉砖的制备方法,实现了提高工艺的稳定性和产品质量、减少生产过程中釉料损耗、降低成本。
为了解决上述技术问题,本发明是通过以下技术方案实现的:
一种全抛釉砖的制备方法,包括以下步骤:
(1)制备坯体,所述坯体的主要化学成分为:SiO2 65~70%、Al2O3 16~20%、Fe2O32~3%、TiO2 0.2~0.4%、CaO 0.7~0.8%、K2O 2~2.5%、SnO2 2~3%,烧失量IL为4~7%,各成分的百分比为质量百分比;
(2)制备底釉料:称取底釉原料,经球磨、过140~160目筛、除铁、入釉缸,陈腐备用;所述底釉原料的主要化学成分为:SiO265~72%、Al2O3 18~22%、Fe2O3 0.1~0.2%、TiO2 0.03~0.05%、CaO 2~3%、ZrO 2 0.1~0.2%、K2O 1.5~2.0%、SnO2 2.0~2.5%,烧失量IL为2~4%,各成分的百分比为质量百分比;
(3)制备抛釉料:称取抛釉原料,经球磨、过140~160目筛、除铁、入釉缸,陈腐备用;所述抛釉原料的主要化学成分为:SiO2 68~73%、Al2O3 13~17%、Fe2O3 0.1~0.15%、TiO2 0.02~0.04%、CaO 3~5%、K2O 0.4~0.5%、SnO2 2.0~2.5%,烧失量IL为8~10%,各成分的百分比为质量百分比;
(4)在步骤(1)的坯体表面淋底釉料形成底釉层、在底釉层上表面丝网印刷形成花釉层、之后在花釉层上表面淋抛釉料形成抛釉层;
(5)在步骤(4)后入窑烧成、水冷、抛光、打高洁亮液、打蜡、贴膜,入窑烧成的温度为1150~1200℃。
进一步,步骤(1)中所述坯体的主要化学成分为:步骤(1)中所述坯体的主要化学成分为:SiO2 69%、Al2O3 18%、Fe2O3 2.5%、TiO2 0.3%、CaO 0.75%、K2O 2.2%、SnO22.25%,烧失量IL为5%,各成分的百分比为质量百分比。
进一步,步骤(2)中的底釉原料的主要化学成分为:SiO2 70%、Al2O3 20%、Fe2O30.15%、TiO2 0.04%、CaO 2.56%、ZrO 2 0.15%、K2O 1.8%、SnO2 2.3%,烧失量IL为3%,各成分的百分比为质量百分比。
进一步,所述抛釉原料的主要化学成分为:SiO2 69.2%、Al2O3 15%、Fe2O30.12%、TiO2 0.03%、CaO 4%、K2O 0.45%、SnO2 2.2%,烧失量IL为9%,各成分的百分比为质量百分比。
进一步,步骤(4)中的丝网印刷,包括用100目全通网和100目效果网,在通过基础色网以后,采用三道全通网和一道效果网。
进一步,步骤(1)中制备坯体的原料由软质原料和硬质原料组成,制备坯体时将制备坯体用的硬质原料进行破碎、破碎后与制备坯体用的软质原料一起球磨、过80~100目筛、除铁、入浆池、喷雾塔造粒、入粉箱陈腐备用;
其中,所述软质原料为高铝泥2~3%、水洗泥7.2~7.8%、博罗泥1.7~2.2%、惠东精选泥2.8~3.2%、膨润土1.2~1.7%、65#水洗泥6.2~6.8%;硬质原料为中山石粉15~18%、盛发石粉12~15%、高铝钾砂4~6%、氧化锆1~1.5%、氧化锡4~5%、东平砂28~32%、新丰石粉2.5~3.0%、滑石粒2.5~3.0%,各成分的百分比为质量百分比。
进一步,所述软质原料为高铝泥2.5%、水洗泥7.5%、博罗泥2%、惠东精选泥3%、膨润土1.5%、65#水洗泥6.5%;硬质原料为中山石粉17%、盛发石粉14%、高铝钾砂5%、氧化锆1.2%、氧化锡4.5%、东平砂30%、新丰石粉2.7%、滑石粒2.6%,各成分的百分比为质量百分比。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:
本发明所述一种全抛釉砖的制备方法,其制备的产品具有釉面透感强、亮度高、层次丰富、白度高、防污好等特点,而且增加铝的加入,可获得强度高(强度>35MPa,可稳定在40MPa左右)、釉面透感强、亮度高(亮度>100度)、发色艳丽、层次丰富、防污效果好的产品。
具体实施方式
以下对本发明的优选实施例进行说明,应当理解,此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本发明,并不用于限定本发明。
一种全抛釉砖的制备方法,包括以下步骤:
(1)制备坯体,所述坯体的主要化学成分为:SiO2 69%、Al2O3 18%、Fe2O3 2.5%、TiO2 0.3%、CaO 0.75%、K2O 2.2%、SnO2 2.25%,烧失量IL为5%,各成分的百分比为质量百分比;
(2)制备底釉料:称取底釉原料,经球磨、过140~160目筛、除铁、入釉缸,陈腐备用;所述底釉原料的主要化学成分为:SiO2 70%、Al2O3 20%、Fe2O3 0.15%、TiO2 0.04%、CaO 2.56%、ZrO2 0.15%、K2O 1.8%、SnO2 2.3%,烧失量IL为3%,各成分的百分比为质量百分比;
(3)制备抛釉料:称取抛釉原料,经球磨、过140~160目筛、除铁、入釉缸,陈腐备用;所述抛釉原料的主要化学成分为:SiO2 69.2%、Al2O3 15%、Fe2O3 0.12%、TiO20.03%、CaO 4%、K2O 0.45%、SnO2 2.2%,烧失量IL为9%,各成分的百分比为质量百分比;
(4)在步骤(1)的坯体表面淋底釉料形成底釉层、在底釉层上表面丝网印刷形成花釉层、之后在花釉层上表面淋抛釉料形成抛釉层,其中丝网印刷,包括用100目效果网和100目全通网交叉印刷,包括用100目全通网和100目效果网,在通过基础色网以后,采用三道全通网和一道效果网;
(5)在步骤(4)后入窑烧成、水冷、抛光、打高洁亮液、打蜡、贴膜,入窑烧成的温度为1150~1200℃。
其中,步骤(1)中制备坯体的原料由软质原料和硬质原料组成,制备坯体时将制备坯体用的硬质原料进行破碎、破碎后与制备坯体用的软质原料一起球磨、过80~100目筛、除铁、入浆池、喷雾塔造粒、入粉箱陈腐备用;
其中,软质原料为高铝泥2.5%、水洗泥7.5%、博罗泥2%、惠东精选泥3%、膨润土1.5%、65#水洗泥6.5%;硬质原料为中山石粉17.5%、盛发石粉14.5%、高铝钾砂5%、氧化锡4.5%、东平砂30%、新丰石粉2.7%、滑石粒2.8%,各成分的百分比为质量百分比。
得到的产品具有釉面透感强、亮度高、层次丰富、白度高、防污好等特点,而且增加铝的加入,可获得强度高(强度>35MPa,可稳定在40MPa左右)、釉面透感强、亮度高(亮度>100度)、发色艳丽、层次丰富、防污效果好的产品。
最后应说明的是:以上仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,尽管参照实施例对本发明进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换,但是凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种全抛釉砖的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)制备坯体,所述坯体的主要化学成分为:SiO2 65~70%、Al2O3 16~20%、Fe2O3 2~3%、TiO2 0.2~0.4%、CaO 0.7~0.8%、K2O 2~2.5%、SnO2 2~3%,烧失量IL为4~7%,各成分的百分比为质量百分比;
(2)制备底釉料:称取底釉原料,经球磨、过140~160目筛、除铁、入釉缸,陈腐备用;所述底釉原料的主要化学成分为:SiO265~72%、Al2O3 18~22%、Fe2O3 0.1~0.2%、TiO20.03~0.05%、CaO 2~3%、ZrO 2 0.1~0.2%、K2O 1.5~2.0%、SnO2 2.0~2.5%,烧失量IL为2~4%,各成分的百分比为质量百分比;
(3)制备抛釉料:称取抛釉原料,经球磨、过140~160目筛、除铁、入釉缸,陈腐备用;所述抛釉原料的主要化学成分为:SiO2 68~73%、Al2O3 13~17%、Fe2O3 0.1~0.15%、TiO20.02~0.04%、CaO 3~5%、K2O 0.4~0.5%、SnO2 2.0~2.5%,烧失量IL为8~10%,各成分的百分比为质量百分比;
(4)在步骤(1)的坯体表面淋底釉料形成底釉层、在底釉层上表面丝网印刷形成花釉层、之后在花釉层上表面淋抛釉料形成抛釉层;
(5)在步骤(4)后入窑烧成、水冷、抛光、打高洁亮液、打蜡、贴膜,入窑烧成的温度为1150~1200℃;
步骤(1)中制备坯体的原料由软质原料和硬质原料组成,制备坯体时将制备坯体用的硬质原料进行破碎、破碎后与制备坯体用的软质原料一起球磨、过80~100目筛、除铁、入浆池、喷雾塔造粒、入粉箱陈腐备用;
其中,所述软质原料为高铝泥2.5%、水洗泥7.5%、博罗泥2%、惠东精选泥3%、膨润土1.5%、65#水洗泥6.5%;硬质原料为中山石粉17.5%、盛发石粉14.5%、高铝钾砂5%、氧化锡4.5%、东平砂30%、新丰石粉2.7%、滑石粒2.8%,各成分的百分比为质量百分比。
2.根据权利要求1所述一种全抛釉砖的制备方法,其特征在于,步骤(1)中所述坯体的主要化学成分为:SiO2 69%、Al2O3 18%、Fe2O3 2.5%、TiO2 0.3%、CaO 0.75%、K2O2.2%、SnO2 2.25%,烧失量IL为5%,各成分的百分比为质量百分比。
3.根据权利要求1所述一种全抛釉砖的制备方法,其特征在于,步骤(2)中的底釉原料的主要化学成分为:SiO2 70%、Al2O3 20%、Fe2O3 0.15%、TiO2 0.04%、CaO 2.56%、ZrO20.15%、K2O 1.8%、SnO2 2.3%,烧失量IL为3%,各成分的百分比为质量百分比。
4.根据权利要求1所述一种全抛釉砖的制备方法,其特征在于,所述抛釉原料的主要化学成分为:SiO2 69.2%、Al2O3 15%、Fe2O3 0.12%、TiO2 0.03%、CaO 4%、K2O 0.45%、SnO22.2%,烧失量IL为9%,各成分的百分比为质量百分比。
5.根据权利要求1所述一种全抛釉砖的制备方法,其特征在于,步骤(4)中的丝网印刷,包括用100目全通网和100目效果网,在通过基础色网以后,采用三道全通网和一道效果网。
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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GR01 | Patent grant | ||
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