CN107073945A - 接触并且引导介质的介质碰撞预防表面 - Google Patents

Abstract

一种包括介质控制符合表面和介质碰撞预防表面的间插构件。介质碰撞预防表面周期性地接触介质并且将介质引导到介质控制符合表面。介质控制符合表面与介质控制构件的表面相符合。

Description

接触并且引导介质的介质碰撞预防表面

背景技术

打印系统包括打印头和介质控制构件。打印头在沿着打印空间中的介质路径放置的介质上提供打印流体。介质控制构件沿着介质路径引导介质。

附图说明

在以下描述中描述了非限制性示例、参考附于其的图来阅读非限制性示例，并且非限制性示例不限制权利要求的范围。主要为了方便和展示的清晰起见来选择在图中所图示的组件和特征的尺度，并且组件和特征的尺度不一定是按比例的。参考附图：

图1是根据示例图示介质碰撞预防装置的框图。

图2是根据示例图示介质碰撞预防装置的透视图。

图3A和3B是根据示例图示出介质控制构件和联接到打印头的图2的介质碰撞预防装置的侧视图。

图4是根据示例图示图3A的介质控制构件和联接到打印头的介质碰撞预防装置的底视图。

图5是根据示例图示打印头的框图。

图6A和6B是根据示例图示分别在打印位置和维护位置时的排障器和图5的打印头的侧视图。

图7是根据示例图示排障器和图6A的打印头的底视图。

图8是根据示例的减少介质碰撞的方法。

具体实施方式

诸如页面宽度阵列打印机的打印系统包括介质控制构件和打印头。打印头可以是打印杆、打印头组件、以及喷墨打印头等。介质控制构件沿着介质路径引导介质，例如朝向打印空间和远离打印空间引导介质。介质可以包括纸、织物等。介质控制构件可以包括排障器、墨辊、传动带等。排障器是接收介质并且沿着介质路径引导介质的打印系统的介质控制构件。排障器可以包括用于输送介质的星轮。打印空间可以包括打印头和介质路径之间的以及与打印头和介质路径相邻的区域。打印空间是接收介质以使诸如喷墨打印头之类的打印头将打印流体提供到其中的介质上的区域。

诸如排障器之类的介质控制构件沿着介质路径引导介质。例如，排障器可以在打印头将打印流体提供到打印空间上之后从打印空间接收打印后的介质并且继续沿着介质路径对其进行引导。然而，有时，打印后的介质可能形成包括由新近沉积在其上的打印流体引起的皱皮的卷曲。也就是说，诸如水基墨水之类的打印流体可能使介质的湿润面上的介质纤维膨胀并且使介质的干燥面上的其他介质纤维保持不变，从而引起介质的不均匀的膨胀。此类不均匀的膨胀可能导致介质卷曲。由于沉积在介质上的打印流体的水分蒸发，随着时间的推移，介质卷曲可以变直。

介质碰撞(media crash)可能起因于例如打印空间中的介质路径内的介质卷曲的失控。也就是说，卷曲介质的前缘可能不期望地卡在打印空间中的遮板下游的相应边缘和/或过渡上。遮板例如可以包括用于保护喷嘴表面的打印头的突起部分。在双面打印时，在介质的第一面上进行打印之后可能形成介质卷曲。随后，当介质被输送回打印空间中以便由打印头在其上打印时，介质卷曲可能在遮板下游的过渡和/或边缘上绊住，引起介质碰撞。因此，打印系统组件可能受损、吞吐率可能被降低、和/或介质可能被浪费。

在示例中，介质碰撞预防装置能与打印头一起使用。打印头在打印位置和维护位置之间可移动。打印头包括遮板。在打印位置时，打印头可以朝介质路径移动。在维护位置时，打印头可以远离介质路径移动以便于打印头被清洁、检修、和/或加盖。介质碰撞预防装置包括间插构件。间插构件包括遮板符合表面、介质控制符合表面、以及介质碰撞预防表面。

例如，响应于介质碰撞预防装置被联接到打印头，遮板符合表面被定位为接近遮板并且面对该遮板。介质控制符合表面被定位为：在打印位置时接近介质控制构件并且面对该介质控制构件，在维护位置时远离介质控制构件。介质碰撞预防表面在打印位置时周期性地接触介质并且将介质引导到介质控制构件。控制介质符合表面和介质碰撞预防表面与打印头一起移动到打印位置和维护位置。因此，联接到打印头的介质碰撞预防装置提供将打印空间中的介质引导到在介质输送方向上的打印头下游的介质控制构件的集成功能。因此，减少介质碰撞。结果，受损的打印系统组件、减少的吞吐率、以及浪费的介质可以降低。

图1是根据示例图示的介质碰撞预防装置的框图。在一些示例中，介质碰撞预防装置100能与打印头一起使用。打印头可以是打印杆、打印头组件、和/或喷墨打印头等的形式。参考图1，在一些示例中，介质碰撞预防装置100包括用于联接到打印头的间插构件10。打印头可以包括围绕其喷嘴表面的遮板。例如，遮板可以包括用于保护喷嘴表面的打印头的突起部分。在一些示例中，遮板可以围绕打印头模形式的多个喷嘴表面。打印头可以在打印位置和维护位置之间可移动。在打印位置时，例如，打印头可以朝介质路径移动以在介质上进行打印。在维护位置时，例如，打印头可以远离介质路径移动以对打印头进行清洁、检修、和/或加盖。

参考图1，在一些示例中，间插构件10包括遮板符合表面11、介质控制符合表面12、以及介质碰撞预防表面13。遮板符合表面11用于被定位为接近遮板并且面对该遮板。例如，当间插构件10被联接到打印头时，遮板符合表面11可被维持在靠近遮板且离遮板距离恒定的位置。在打印位置时，介质控制符合表面12被定位为接近介质控制构件并且面对该介质控制构件。在维护位置时，介质控制符合表面12用于被定位为远离介质控制构件。例如，当间插构件10被联接到打印头时，介质控制符合表面12可以在打印位置和维护位置之间与打印头一起移动。

参考图1，在一些示例中，例如，在打印位置时，介质碰撞预防表面13周期性地接触介质并且将介质引导到介质控制构件。也就是说，卷曲介质的前缘可以以不具约束性的方式碰撞介质碰撞预防表面13并且被从打印头朝介质控制构件导向在介质输送方向的下游。例如，在双面打印时，在介质的第一面上进行打印之后可能形成介质卷曲。因此，当打印后的介质被输送回打印空间中以使打印头在其第二面上打印时，介质卷曲可以使介质的前缘接触介质碰撞预防表面13并且由该介质碰撞预防表面13引导。介质碰撞预防表面13可以在打印位置和维护位置之间与打印头一起移动。因此，可以减少由于介质卷曲引起的介质碰撞。另外，在维护位置时，可以将介质和介质碰撞预防表面13与打印头一起清洁。

图2是根据示例图示的介质碰撞预防装置的透视图。图3A和3B是根据示例图示出分别在打印位置和维护位置时的介质控制构件和联接到打印头的图2的介质碰撞预防装置的侧视图。图4是根据示例图示出的介质控制构件和联接到图3A的打印头的介质碰撞预防装置的底视图。在一些示例中，介质碰撞预防装置200包括如前关于图1的介质碰撞预防装置100所论及的间插构件10。参考图2-4，在一些示例中，间插构件被联接到具有围绕至少一个喷嘴表面38的遮板37的打印头36并且位于介质输送方向d_m上的遮板37的下游。

参考图2-4，在一些示例中，间插构件10包括遮板符合表面11、介质控制符合表面12、以及介质碰撞预防表面13。遮板符合表面11的形状可以与位于遮板符合表面11对面的遮板37的表面形状相符合。这样的相符合性可以使得遮板符合表面11和遮板37能够减少和/或消除在其之间的间距，以便被紧密地定位到彼此。例如，遮板符合表面11和其相对的遮板之间的距离可以小于0.5mm。在一些示例中，遮板符合表面11的形状可以是弯曲的。例如，遮板符合表面11的形状可以是凹的，而遮板37的对应的部分的形状可以是凸的。

参考图2-4，在一些示例中，介质控制符合表面12的形状可以与位于介质控制符合表面12对面的介质控制构件39的表面的形状相符合。这样的相符合性可以使得介质符合表面12和介质控制构件39能够减少和/或消除在其之间的间距，以便被紧密地定位到彼此。也就是说，介质控制符合表面12与介质控制构件39的表面相符合，以在打印位置时将间插构件10定位为靠近且与介质控制构件39相对(图3A)。例如，介质符合表面12和其相对的介质控制构件39之间的距离可以小于2.0mm。另外，相符合性可以使得介质控制符合表面12能够在维护位置时远离介质控制构件39移动(图3B)。在维护位置时，例如，清洁装置34可以对打印头36和介质碰撞预防表面13进行清洁。介质控制符合表面12的形状可以包括用于接收介质控制构件39的表面的多个突起39a、并且与该介质控制构件39的表面的多个突起39a相对应的多个凹进20a。介质控制构件39可以包括多个星形轮39b来沿着介质路径22引导介质35。

参考图2-4，在一些示例中，介质碰撞预防表面13包括与喷嘴表面38基本平行的平面区域。例如，介质碰撞预防表面13可以被布置为与喷嘴表面38对准，并且与喷嘴表面38基本处于同一平面中。因此，从遮板37到间插构件10的过渡可以是平滑的并且对可以周期性地与其接触的介质边缘不具约束性。另外，可以以在介质输送方向d_m上沿着介质路径22到打印头36下游的介质控制构件39的引导方式继续介质35的前进。因此，可以获得介质35在遮板38上以及至介质控制构件39的位置控制。而且，可以减少由介质卷曲引起的打印空间中的介质碰撞。

图5是根据示例图示出打印头的框图。打印头501能与排障器一起使用。排障器是接收介质并且沿着介质路径22引导介质的打印系统的介质控制构件。打印系统可以包括页面宽度阵列打印机等。打印头501在打印位置和维护位置之间可移动。参考图5，在一些示例中，打印头501包括外壳50。外壳50包括喷嘴表面55和围绕喷嘴表面55的扩展遮板56。扩展遮板56包括介质控制符合表面52和介质碰撞预防表面53。介质控制符合表面52与排障器的表面相符合，以在打印位置时将扩展遮板56定位为靠近排障器并且与排障器相对。

因此，可以以从打印空间到介质输送方向上的打印头501的下游的排障器的引导方式继续介质的前进。因此，可以获得介质在扩展遮板56上以及至排障器的位置控制。而且，即使关于双面打印和短丝流(例如，在介质的横向方向)介质进给，可以减少由于介质卷曲引起的打印空间中的介质碰撞。也就是说，在双面打印时，在介质的第一面上进行打印之后可能形成介质卷曲。结果，当介质被输送回打印空间中以使打印头在其第二面上打印时，介质卷曲可以接触介质碰撞预防表面53并且由其引导。介质控制符合表面52与排障器的表面相符合，以在维护位置时将扩展遮板56定位为远离排障器。介质碰撞预防表面53包括平面区域以周期性地接触介质并且将介质引导到排障器。在打印位置时，介质碰撞预防表面53被设置为接近于排障器并且面对该排障器。在维护位置时，介质碰撞预防表面53被设置为远离排障器。

图6A和6B是根据示例图示分别在打印位置和维护位置时的排障器和图5的打印头的侧视图。图7是根据示例图示排障器和图6A的打印头的底视图。打印头501包括如前关于图5所论及的外壳50。外壳50包括喷嘴表面55和围绕喷嘴表面55的扩展遮板56。扩展遮板56包括介质控制符合表面52和介质碰撞预防表面53。参考图6A-7，在一些示例中，介质控制符合表面52的形状可以与位于介质控制符合表面52对面的排障器69的表面的形状相符合。

这样的相符合性可以使得介质控制符合表面52和排障器69能够减少和/或消除在其之间的间距，以便在打印位置时被紧密地定位到彼此(图6A)。例如，介质控制符合表面52和排障器69之间的距离可以小于0.5mm。另外，相符合性可以使得介质控制符合表面52能够在维护位置时远离排障器69移动(图6B)。在维护位置时，例如，清洁装置64可以对打印头501进行清洁。介质控制符合表面52的形状可以包括用于接收排障器69的表面的多个突起69a、并且与该多个突出69a对应的多个凹进56a。排障器69可以包括多个星形轮69b来引导介质35。

参考图6A-7，在一些示例中，介质碰撞预防表面53包括与喷嘴表面55基本平行的平面区域53a(图5)。例如，介质碰撞预防表面53可以被布置为与喷嘴表面55对准，并且与喷嘴表面55基本处于同一平面中。因此，从扩展遮板56到排障器69的过渡可以是平滑的并且对可以周期性地与其接触的介质边缘不具约束性。另外，可以以在介质输送方向d_m上从扩展遮板56到打印头501下游的排障器69的引导方式继续介质35的前进。因此，可以减少由于介质卷曲引起的打印空间中的介质碰撞。

图8是根据示例的减少介质碰撞的方法。在一些示例中，先前参考图1-7所讨论的模块、组件等可以用于实施图8的方法。在框S810中，将介质输送到打印空间中。在一些示例中，将介质输送到打印空间中可以包括：诸如在双面打印时，在介质的第一面上先接收到打印流体之后，将介质输送到打印空间中以在介质的第二面上提供打印流体。在框S812中，在打印位置时，由具有喷嘴表面和围绕喷嘴表面的遮板的打印头将打印流体提供到打印空间中的介质上。例如，喷墨打印头可以将墨水喷射到置于打印空间中的介质上以在其上形成图像。

在框S814中，联接到打印头的间插构件的介质控制符合表面被定位为：在打印位置时接近介质控制构件并且面对该介质控制构件，并且在维护位置时远离介质控制构件。例如，当与间插构件联接的打印头朝介质路径移动时，介质控制符合表面被置于靠近介质控制构件并且与介质控制构件对准。例如，当打印头与间插构件远离介质路径移动时，介质控制符合表面移动离开介质控制构件。在一些示例中，介质控制符合表面的形状包括用于接收介质控制构件的表面的多个突起、并且与该多个突起相对应的多个凹进。

在框S816中，间插构件的遮板符合表面被维持为在打印位置和维护位置时接近遮板并且面对该遮板。例如，间插构件以在遮板符合表面和遮板之间存在小且恒定的空间量的方式附接到打印头。

在框S818中，间插构件的介质碰撞预防表面被定位为：在打印位置时接近喷嘴表面，以周期性地接触介质并且将介质引导到介质控制构件，并且在维护位置时远离喷嘴表面。例如，当与间插构件联接的打印头朝介质路径移动时，介质碰撞预防表面被置于靠近喷嘴表面并且与喷嘴表面对准。替换地，例如，当打印头与间插构件远离介质路径移动时，介质碰撞预防表面远离喷嘴表面移动。在一些示例中，将间插构件的介质碰撞预防表面定位为在打印位置时接近喷嘴表面，以周期性地联系接触介质并且将介质引导到介质控制构件，并且在维护位置时远离喷嘴表面可以包括：将介质碰撞预防表面定位为与喷嘴表面基本平行。例如，介质碰撞预防表面可以被定位为：与喷嘴表面对准，并且与喷嘴表面基本处于同一平面中。

应当理解，图8的流程图图示了本公开的示例的体系结构、功能、和/或操作。尽管图8的流程图图示了执行的特定次序，但执行的次序可以不同于所描绘的次序。例如，可以相对于所示出的次序将两个或更多框的执行的次序重新排列。而且，可以并行地或在部分同时发生的时执行在图8中接连地图示的两个或更多框。此类变化在本公开的范围之内。

已经使用并不意图限制总体发明构思的范围的本公开的示例的非限制性具体实施方式描述了本公开。应当理解的是，可以将参考一个示例所描述特征和/或操作用于其他示例，并且不是所有示例都具有特定图中图示出的或参考示例之一所描述所有特征和/或操作。本领域技术人员将想起所描述的示例的变体。此外，当在本公开和/或权利要求中被使用时，术语“包括”、“包含”、“具有”和它们的词形变化应当意指“包括但是不一定局限于”。

请注意，以上所描述的示例中的一些可以包括结构、行为或者结构的详情，以及对于总体发明构思可能不是必要的并且为了说明性目的而被描述的行为。如现有技术中已知的，即使结构或行为是不同的，也可通过执行相同的功能的等同物来更换在本文描述的结构和行为。因此，仅仅通过在权利要求中使用的要素和限制来限制总体发明构思的范围。

Claims (15)

1.一种能与打印头一起使用的介质碰撞预防装置，所述介质碰撞预防装置包括：

间插构件，所述间插构件联接到具有围绕所述打印头的喷嘴表面的遮板并且在打印位置和维护位置之间可移动的所述打印头，所述间插构件包括遮板符合表面、介质控制符合表面、以及介质碰撞预防表面；

所述遮板符合表面被定位为接近所述遮板并且面对所述遮板；

所述介质控制符合表面被定位为：在所述打印位置时接近介质控制构件并且面对所述介质控制构件，并且在所述维护位置时远离所述介质控制构件；并且

在所述打印位置时，所述介质碰撞预防表面周期性地接触所述介质并且将所述介质引导到所述介质控制构件。

2.根据权利要求1所述的介质碰撞预防装置，其中，所述间插构件位于介质输送方向上所述遮板的下游。

3.根据权利要求1所述的介质碰撞预防装置，其中，所述遮板符合表面的形状与位于所述遮板符合表面对面的所述遮板的表面的形状相符合，并且所述介质控制符合表面的形状与位于所述介质控制符合表面对面的所述介质控制构件的表面的形状相符合。

4.根据权利要求3所述的介质碰撞预防装置，其中，所述遮板符合表面的形状是弯曲的。

5.根据权利要求3所述的介质碰撞预防装置，其中，所述介质控制符合表面的形状包括用于接收所述介质控制构件的表面的多个突起、并且与所述介质控制构件的表面的多个突起相对应的多个凹进。

6.根据权利要求1所述的介质碰撞预防装置，其中，所述介质碰撞预防表面基本上是平面的并且与所述喷嘴表面基本平行。

7.根据权利要求1所述的介质碰撞预防装置，其中，所述介质碰撞预防表面被布置为与所述喷嘴表面对准，并且与所述喷嘴表面基本处于同一平面中。

8.一种在打印位置和维护位置之间可移动并且能与排障器一起使用的打印头，所述打印头包括：

外壳，所述外壳包括喷嘴表面和围绕所述喷嘴表面的扩展遮板；

所述扩展遮板包括介质控制符合表面和介质碰撞预防表面；

所述介质控制符合表面与所述排障器的表面相符合，以在所述打印位置时将所述扩展遮板定位为：靠近所述排障器并且与所述排障器相对，并且在所述维护位置时远离所述排障器；并且

所述介质碰撞预防表面包括平面区域，以周期性地接触介质并且将所述介质引导到所述排障器，所述介质碰撞预防表面被设置为：在所述打印位置时接近所述排障器并且面对所述排障器，并且在所述维护位置时远离所述排障器。

9.根据权利要求8所述的打印头，其中，所述介质控制符合表面的形状包括用于接收所述排障器的表面的多个突起、并且与所述排障器的表面的多个突起相对应的多个凹进。

10.根据权利要求8所述的打印头，其中，在所述打印位置时，所述平面区域与所述喷嘴表面基本平行。

11.一种减少介质碰撞的方法，所述方法包括：

将介质输送到打印空间中；

在打印位置时，由具有喷嘴表面和围绕所述喷嘴表面的遮板的打印头将打印流体提供到所述打印空间中的所述介质上；

将联接到所述打印头的间插构件的介质控制符合表面定位为：在所述打印位置时接近介质控制构件并且面对所述介质控制构件，并且在维护位置时远离所述介质控制构件；

将所述间插构件的遮板符合表面维持为在所述打印位置和所述维护位置时接近所述遮板并且面对所述遮板；以及

将所述间插构件的介质碰撞预防表面定位为：在所述打印位置时接近所述喷嘴表面，以周期性地接触所述介质并且将所述介质引导到所述介质控制构件，并且在所述维护位置时远离喷嘴表面。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，将所述间插构件的介质碰撞预防表面定位为在所述打印位置时接近所述喷嘴表面，以周期性地接触所述介质并且将所述介质引导到所述介质控制构件，并且在所述维护位置时远离喷嘴表面进一步包括：

将所述介质碰撞预防表面定位为与所述喷嘴表面基本平行。

13.根据权利要求11所述的方法，其中，将所述间插构件的介质碰撞预防表面定位为在所述打印位置时接近所述喷嘴表面，以周期性地接触所述介质并且将所述介质引导到所述介质控制构件，并且在所述维护位置时远离喷嘴表面进一步包括：

将所述介质碰撞预防表面定位为：与所述喷嘴表面对准，并且与所述喷嘴表面基本处于同一平面中。

14.根据权利要求13所述的方法，其中，将介质输送到打印空间中进一步包括：

在所述介质的第一面先接收到打印流体之后，将所述介质输送到所述打印空间中以在所述介质的第二面上提供打印流体。

15.根据权利要求14所述的方法，其中，所述介质控制符合表面的形状包括用于接收所述介质控制构件的表面的多个突起、并且与所述介质控制构件的表面的多个突起相对应的多个凹进。