CN107057122A - 一种负载型光稳定剂及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种负载型光稳定剂及其制备方法。一种负载型光稳定剂,是由纳米二氧化硅与二苯甲酮类光稳定剂组成的。同时也公开了该种负载型光稳定剂的制备方法,是将纳米二氧化硅和二苯甲酮类光稳定剂置于溶剂中混合,再去除溶剂,干燥、粉碎即可。本发明公开的负载型光稳定剂制备方法简单易行,制备得到的负载型光稳定剂在基体中具有相对较好的分散性;纳米二氧化硅与光稳定剂相比,成本较低,使用其作为载体,可在达到相同光稳定效果的同时,大大降低光稳定剂的用量,从而从总体上降低材料的生产成本;纳米二氧化硅作为载体,在PP、PE等聚合物上应用时更有利于生产多孔抗紫外薄膜。
Description
技术领域
本发明涉及一种负载型光稳定剂及其制备方法。
背景技术
高分子材料由于自身结构的原因,暴露在日光或强的荧光下,会出现外观和物理机械能劣化(如:变色、失去光泽、出现银纹、侵蚀、龟裂以及拉伸强度、冲击强度、伸长性和电性能下降等)的光老化现象。虽然结构不同的聚合物的光老化速率存在显著的差异,但所有未经稳定化处理的高分子材料暴露在日光下,无论有没有氧存在,都会发生光老化。高分子材料光老化的最终结果是使用寿命缩短(如聚丙烯制品,如果不作稳定化处理,其户外使用寿命只有几个月),这就大大影响了高分子材料户外使用的经济性和环保性,限制了其应用范围。同时,由于高分子材料应用范围广,使用量巨大,因老化而使材料废弃不仅给经济带来损失,还给环境带来巨大的压力。
为了延缓高分子材料的光老化,在高分子材料加工过程中添加光稳定剂是行业内普遍使用的方法,此法简单有效,无需改变现有生产工艺。目前对于光稳定剂的制备方法主要是:(1)通过反应合成新型结构的光稳定剂;(2)通过几种光稳定剂的复配来制备更加高效的光稳定剂体系。第一种反应合成的制备方法较为复杂,对于生产设备及工艺的要求较高,不利于实施,而第二种复配的方法,由于高分子材料与光稳定剂在极性上存在一些差异而导致二者相容性较差,往往因为分散不均匀而影响光稳定效果,且部分光稳定剂价格昂贵,又无可替代,导致了高分子材料生产成本的提高。
发明内容
本发明的目的在于提供一种负载型光稳定剂及其制备方法。
本发明所采取的技术方案是:
一种负载型光稳定剂,是由纳米二氧化硅与二苯甲酮类光稳定剂组成的。
纳米二氧化硅与二苯甲酮类光稳定剂的质量比为(100~10):1。
所述的二苯甲酮类光稳定剂为2,4-二羟基二苯甲酮、2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮、2-羟基-4-正辛氧基二苯甲酮、2-羟基-4-癸氧基二苯甲酮、2-羟基-4-十二烷氧基二苯甲酮、2,2’-二羟基-4-甲氧基二苯甲酮、2-羟基-4-甲氧基-2’-羧基二苯甲酮、2,2’-二羟基-4,4’-二甲氧基二苯甲酮、2,2’,4,4’-四羟基二苯甲酮、2-羟基-4-甲氧基-5-磺基二苯甲酮、2,2'-二羟基-4,4’-二甲氧基-5-磺基二苯甲酮中的至少一种。
一种负载型光稳定剂的制备方法,将纳米二氧化硅和二苯甲酮类光稳定剂置于溶剂中混合,再去除溶剂,干燥、粉碎即可。
所述的溶剂为醇类、醚类、酮类、醇醚类、酯类、烃类溶剂中的至少一种。
所述的溶剂为酮类溶剂。
所述混合的温度为20~30℃。
所述去除溶剂的温度为0~80℃。
本发明的有益效果是:
1、本发明公开的负载型光稳定剂制备方法简单易行,制备得到的负载型光稳定剂在基体中具有相对较好的分散性;
2、纳米二氧化硅与光稳定剂相比,成本较低,使用其作为载体,可在达到相同光稳定效果的同时,大大降低光稳定剂的用量,从而从总体上降低材料的生产成本;
3、纳米二氧化硅作为载体,在PP、PE等聚合物上应用时更有利于生产多孔抗紫外薄膜。
具体实施方式
一种负载型光稳定剂,是由纳米二氧化硅与二苯甲酮类光稳定剂组成的。
优选的,纳米二氧化硅与二苯甲酮类光稳定剂的质量比为(100~10):1;进一步优选的,纳米二氧化硅与二苯甲酮类光稳定剂的质量比为10:1。
优选的,所述的二苯甲酮类光稳定剂为2,4-二羟基二苯甲酮、2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮、2-羟基-4-正辛氧基二苯甲酮、2-羟基-4-癸氧基二苯甲酮、2-羟基-4-十二烷氧基二苯甲酮、2,2’-二羟基-4-甲氧基二苯甲酮、2-羟基-4-甲氧基-2’-羧基二苯甲酮、2,2’-二羟基-4,4’-二甲氧基二苯甲酮、2,2’,4,4’-四羟基二苯甲酮、2-羟基-4-甲氧基-5-磺基二苯甲酮、2,2'-二羟基-4,4’-二甲氧基-5-磺基二苯甲酮中的至少一种;进一步优选的,所述的二苯甲酮类光稳定剂为2,4-二羟基二苯甲酮、2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮、2-羟基-4-正辛氧基二苯甲酮、2-羟基-4-癸氧基二苯甲酮中的至少一种;再进一步优选的,所述的二苯甲酮类光稳定剂为2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮(UV-9)或2-羟基-4-正辛氧基二苯甲酮(UV-531)。
一种负载型光稳定剂的制备方法,将纳米二氧化硅和二苯甲酮类光稳定剂置于溶剂中混合,再去除溶剂,干燥、粉碎即可。
优选的,所述的溶剂为醇类、醚类、酮类、醇醚类、酯类、烃类溶剂中的至少一种;进一步优选的,所述的溶剂为酮类溶剂;再进一步优选的,所述的溶剂为丙酮。
优选的,所述混合的温度为20~30℃。
优选的,所述去除溶剂的温度为0~80℃。
进一步的,所述的混合以及去除溶剂的温度均为室温。
以下通过具体的实施例对本发明的内容作进一步详细的说明。
实施例1:
一种负载型光稳定剂的制备方法,为:室温下,将纳米二氧化硅、2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮(UV-9)按照质量比1:0.1置于丙酮溶剂中充分混合,再于室温下,挥干溶剂,烘干后粉碎过筛即得到负载型光稳定剂。
实施例2:
一种负载型光稳定剂的制备方法,为:室温下,将纳米二氧化硅、2-羟基-4-正辛氧基二苯甲酮(UV-531)按照质量比1:0.1置于丙酮溶剂中充分混合,再于室温下,挥干溶剂,烘干后粉碎过筛即得到负载型抗氧剂。
将负载型光稳定剂按配方添加到聚乙烯中利用双螺杆挤出机挤出造粒得到抗光老化聚乙烯,挤出造粒的加工温度设定如下表1所示。
作为对比,将光稳定剂、纳米二氧化硅、聚乙烯也以相应配方按照表1的加工条件进行加工(对比例1和2),其中光稳定剂的用量是实施例中光稳定剂有效用量的2倍。
表1 挤出造粒加工条件
分区 | 一区 | 二区 | 三区 | 四区 | 五区 | 六区 | 七区 | 八区 | 九区 | 机头 |
温度/℃ | 130 | 165 | 170 | 175 | 175 | 175 | 180 | 180 | 180 | 180 |
造粒后将所得抗老化聚乙烯按设定条件吹膜,加工温度设定如表2所示;
表2 吹膜加工温度
区域 | 模头 | 连接体 | 机筒Ⅰ | 机筒Ⅱ |
温度/℃ | 140 | 140 | 145 | 140 |
吹膜后将样品分别投样进行紫外加速老化实验,测试样品的抗紫外光老化性能。
本发明实施例的负载型光稳定剂和对比例的成分配比如表3所示,聚乙烯膜的紫外光老化性能测试结果如表4所示,所述方法均按国标进行测试。
表3 成分配比
例号 | 实施例1 | 实施例2 | 对比例1 | 对比例2 |
聚乙烯 | 98.7 | 98.7 | 98.7 | 98.7 |
二氧化硅 | -- | -- | 1 | 1 |
168 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 |
1010 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 |
UV-9 | -- | -- | 0.1 | -- |
UV-531 | -- | -- | -- | 0.1 |
负载型UV-9 | 0.55 | -- | -- | -- |
负载型UV-531 | -- | 0.55 | -- | -- |
表4 性能测试结果
本发明的制备方法简单易行,光稳定剂在基体中具有相对较好的分散性,纳米二氧化硅与光稳定剂相比,成本较低,使用其作为载体,可在达到相同光稳定效果的同时,大大降低光稳定剂的用量,从而从总体上降低材料的生产成本。本发明的负载型光稳定剂可用于聚丙烯、聚乙烯、聚酯、聚苯乙烯、ABS树脂等,尤其对于纤维和薄膜制品有较好的光稳定效果。
Claims (8)
1.一种负载型光稳定剂,其特征在于:是由纳米二氧化硅与二苯甲酮类光稳定剂组成的。
2.根据权利要求1所述的一种负载型光稳定剂,其特征在于:纳米二氧化硅与二苯甲酮类光稳定剂的质量比为(100~10):1。
3.根据权利要求2所述的一种负载型光稳定剂,其特征在于:二苯甲酮类光稳定剂为2,4-二羟基二苯甲酮、2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮、2-羟基-4-正辛氧基二苯甲酮、2-羟基-4-癸氧基二苯甲酮、2-羟基-4-十二烷氧基二苯甲酮、2,2’-二羟基-4-甲氧基二苯甲酮、2-羟基-4-甲氧基-2’-羧基二苯甲酮、2,2’-二羟基-4,4’-二甲氧基二苯甲酮、2,2’,4,4’-四羟基二苯甲酮、2-羟基-4-甲氧基-5-磺基二苯甲酮、2,2’-二羟基-4,4’-二甲氧基-5-磺基二苯甲酮中的至少一种。
4.权利要求1所述的一种负载型光稳定剂的制备方法,其特征在于:将纳米二氧化硅和二苯甲酮类光稳定剂置于溶剂中混合,再去除溶剂,干燥、粉碎即可。
5.根据权利要求4所述的一种负载型光稳定剂的制备方法,其特征在于:溶剂为醇类、醚类、酮类、醇醚类、酯类、烃类溶剂中的至少一种。
6.根据权利要求5所述的一种负载型光稳定剂的制备方法,其特征在于:溶剂为酮类溶剂。
7.根据权利要求4所述的一种负载型光稳定剂的制备方法,其特征在于:混合的温度为20~30℃。
8.根据权利要求4所述的一种负载型光稳定剂的制备方法,其特征在于:去除溶剂的温度为0~80℃。
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