CN107041060A - 电晕处理方法 - Google Patents

电晕处理方法 Download PDF

Info

Publication number
CN107041060A
CN107041060A CN201610884117.XA CN201610884117A CN107041060A CN 107041060 A CN107041060 A CN 107041060A CN 201610884117 A CN201610884117 A CN 201610884117A CN 107041060 A CN107041060 A CN 107041060A
Authority
CN
China
Prior art keywords
electrode
film
corona treatment
corona
ground connection
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201610884117.XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN107041060B (zh
Inventor
武藤清
出口修央
仓本贤尚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=46602717&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=CN107041060(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Publication of CN107041060A publication Critical patent/CN107041060A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN107041060B publication Critical patent/CN107041060B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J19/087—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
    • B01J19/088—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/47—Generating plasma using corona discharges
    • H05H1/473—Cylindrical electrodes, e.g. rotary drums
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/47—Generating plasma using corona discharges
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/47—Generating plasma using corona discharges
    • H05H1/471—Pointed electrodes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/12—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements by surface treatment, e.g. by irradiation

Abstract

本发明提供一种对薄膜的表面进行电晕处理的方法，该方法具备如下工序：在放电电极(2)与接地辊(3)之间产生电晕放电的工序：及在电晕放电，使薄膜(10)在接地辊(3)上移动的工序。放电电极(2)由电极罩(4)覆盖，电极罩(4)在接地辊(3)侧具有开口部(4c)，电极罩(4)的开口部(4C)朝向横向、斜上方或上方。

Description

电晕处理方法
本申请为专利申请201280006992.8(申请日：2012年1月30日，发明创造名称：电晕处理方法)的分案申请。
技术领域
本发明涉及一种对薄膜状的被电晕处理物的表面进行电晕处理的方法。
背景技术
专利文献1、2中记载有通过对偏光膜等的表面进行电晕处理而使其表面活化的技术。电晕处理通常是如下进行的，即，通过将由高频电源供给的高频/高电压输出施加于电晕处理装置所具备的放电电极与接地辊之间来产生电晕放电，在该电晕放电下使偏光膜等薄膜(被电晕处理物)通过。
然而，若长期进行电晕处理，则存在结晶状异物附着于薄膜(被电晕处理物)上而使成品率下降的问题。
另一方面，已知因电晕放电而导致生成臭氧及氮氧化物(NOX)的情况(例如，参考专利文献3)。专利文献3中，通过使用具有规定结构的电晕处理装置来减少臭氧及氮氧化物(NOX)的产生量。
然而，专利文献3中所记载的电晕装置在抑制上述长期进行电晕处理时的结晶状异物附着这一方面未必一定得到充分满足。另外，专利文献3中，在电晕处理装置必须成为规定结构这一方面，也存在无法简单地进行电晕处理的问题。
专利文献
专利文献1：日本特开2005-213314号公报
专利文献2：日本特开2009-8860号公报
专利文献3：日本专利第4194766号公报
发明内容
本发明的课题在于提供一种能够长期稳定地进行电晕处理的方法。
本发明人等为了解决上述课题而反复进行了深入研究，结果发现以下见解。
即，对附着于电晕处理结束后的薄膜(被电晕处理物)上的结晶状异物进行了分析，结果该结晶状异物为草酸、草酸盐、草酸铵、硝酸铝、硝酸铵等。
本发明人等对这些结晶状异物的来源进行了反复研讨。其结果，得到如下见解，即，这些结晶状异物是随着电晕放电的进行而蓄积于电晕处理装置的，其是落下并附着于薄膜(被电晕处理物)上的异物。而且，基于该见解而进一步反复进行了深入研究，结果发现若将电晕处理装置配置成电晕处理装置所具备的电极罩的开口部成为特定方向，则能够抑制被蓄积于电晕处理装置的结晶状异物落下并附着于薄膜(被电晕处理物)，以至完成本发明。
即，本发明的电晕处理方法包括以下构成。
(1)一种电晕处理方法，为在电晕处理装置所具备的放电电极与接地辊之间产生电晕放电且在该电晕放电下介由所述接地辊而使薄膜状的被电晕处理物通过并对所述被电晕处理物的表面进行电晕处理的方法，其中，所述电晕处理装置进一步具备电极罩，该电极罩覆盖所述放电电极，并且在所述接地辊侧具有开口部，将所述电晕处理装置配置成使该电极罩的开口部成为朝向横向乃至上方。
(2)所述(1)记载的电晕处理方法，其中，所述电晕处理装置由耐腐蚀性部件构成。
(3)所述(1)或(2)记载的电晕处理方法，其中，所述电晕处理装置的表面被施以耐腐蚀处理。
(4)所述(1)至(3)中任一项记载的电晕处理方法，其中，所述电极套由透明性部件构成。
(5)所述(1)至(4)中任一项记载的电晕处理方法，其中，所述薄膜状的被电晕处理物为选自光学膜及保护膜中的至少一种。
(6)所述(1)至(5)中任一项记载的电晕处理方法，其中，所述薄膜状的被电晕处理物的长度为1万米以上。
应予说明，本发明中的所述“接地辊”只要是具有在与放电电极之间产生电晕放电且在该电晕放电下使薄膜状的被电晕处理物通过的功能的辊即可，还包括所谓被称为处理辊或后辊等的辊。
本发明中的所述“薄膜状”并非只限于薄膜状，只要无损于本发明的效果，也包括薄膜状乃至薄片状的概念。
另一方面的发明为对薄膜的表面进行电晕处理的方法，其具备：
在放电电极与接地辊之间产生电晕放电的工序：及
在所述电晕放电下，使薄膜在所述接地辊上移动的工序，
所述放电电极被电极罩覆盖，
所述电极罩在所述接地辊侧具有开口部，
所述电极罩的开口部朝向横向、斜上方或上方。
在此，优选所述放电电极、所述接地辊及所述电极罩中的至少一个具有耐腐蚀性部件。
另外，还优选所述放电电极、所述接地辊及所述电极罩中的至少一个的表面被施以耐腐蚀处理。
另外，还优选由所述电极罩所包围的空间内的气体通过排气管进行排气，所述排气管具有耐腐蚀性部件或所述排气管的表面被施以耐腐蚀处理。
另外，还优选所述放电电极被电极夹保持，所述电极夹具有耐腐蚀性部件或所述电极夹的表面被施以耐腐蚀处理。
另外，还优选所述电极罩为透明的。
另外，优选所述薄膜为选自光学膜及保护膜中的至少一种。
另外，优选所述薄膜的长度为1万米以上。
根据本发明，能够抑制被蓄积于电晕处理装置的结晶状异物落下并附着于薄膜(被电晕处理物)，因此具有能够长期稳定地进行电晕处理的效果。而且，能够采用具有一般结构的电晕处理装置，因此能够简单地进行电晕处理。
附图说明
图1是表示本发明的一个实施方式所涉及的电晕处理装置的示意图。
图2(a)～(c)是对图1所示的电晕处理装置的配置状态进行说明的概略说明图。
图3(a)、(b)是对图1所示的电晕处理装置的配置状态进行说明的概略说明图。
图4是表示本发明的一个实施方式所涉及的电晕处理方法的概略说明图。
具体实施方式
以下，参考图l～图4对本发明所涉及的电晕处理方法的一个实施方式进行详细说明。本实施方式的电晕处理方法是使用图l所示的电晕处理装置1来进行的。
电晕处理装置1具备：放电电极2；接地辊3，与该放电电极2对置配置；电极罩4，覆盖放电电极2；电极夹5，保持放电电极2；及排气管6，位于电极罩4的与位于接地辊3侧的一端面4a相反的另一端面4b侧。
放电电极2大致呈棒状，其前端部2a的位置比电极罩4的一端面4a更靠电极罩4的内方，其后端部2b被电极夹5保持。应予说明，只要能够放电，放电电极2的形状并不限于大致棒状，例如也可以是针状、板状、圆柱状等其它形状。
接地辊3被接地，并且与放电电极2的前端部2a之间隔着规定间隔，且与放电电极2对置配置。接地辊3被构成为连接于未图示的马达等旋转驱动机构，且能够以规定的圆周速度旋转。
电极罩4具有在位于接地辊3侧的一端面开口的开口部4c。另外，电极罩4具有一对侧面4d、4d。一对侧面4d、4d以相互大致平行的方式从一端面4a向另一端面4b延伸。
就排气管6而言，其外周的一部分在由电极罩4所包围的空间内通过，并且未图示25的排气管出口与真空泵等吸引机构连接。由此，能够将由电极罩4所包围的空间内的气体通过排气管6进行吸引，并向电晕处理装置1的外部排气。因此，能够将由电晕处理产生的臭氧通过排气管6而向电晕处理装置1的外部进行排气。作为排气管6的排气管出口的风量，在可靠地进行臭氧的排气方面，优选为0.1m3/秒以上。
使用上述电晕处理装置l进行的本实施方式的电晕处理方法是如下方法：通过将由未图示的高频电源供给的高频高电压输出施加于放电电极2与接地辊3之间，从而在它们之间产生电晕放电，并在该电晕放电下介由接地辊3而使薄膜状的被电晕处理物10通过，由此对被电晕处理物10的表面进行电晕处理。即，在电晕放电下，使薄膜在所述接地辊上移动，由此对薄膜的表面进行电晕处理。
作为电晕处理强度，根据薄膜(被电晕处理物)10而采用所期望的强度即可，无特别限定，但通常为200～2000W左右。若电晕处理强度过低，则存在难以在薄膜(被电晕处理物)10的整个宽度上得到稳定的电晕放电的倾向，另外，若过高，则虽然因薄膜(被电晕处理物)10的耐热特性等而有所差异，但存在因所产生的热而导致薄膜(被电晕处理物)10容易产生皱纹等倾向，因此不优选。
在此，如图2(a)～(c)所示，在本实施方式的电晕处理方法中，将电晕处理装置1配置成上述电极罩4的开口部4c朝向横向乃至上方。即，电极罩4的开口部4c朝向横向、斜上方或上方。由此，能够抑制被蓄积于电晕处理装置1的结晶状异物落下并附着于薄膜(被电晕处理物)10，且能够长期稳定地进行电晕处理。与此相对，如图3(a)、(b)所示，将电晕处理装置1配置成电极罩4的开口部4c比横向更朝向斜下方乃至下方，则导致被蓄积于电晕处理装置l的结晶状异物落下到薄膜(被电晕处理物)10。
另一方面，通常的电晕处理装置大多在构成电极夹5和排气管6等的部件中采用铝，而结晶状异物有大量附着于由铝构成的部件上的倾向。因此，本实施方式所涉及的电晕处理装置1(例如，放电电极、接地辊、电极罩、电极夹及排气管中的至少一种)优选由除铝以外的部件构成，更优选由耐腐蚀性部件构成。作为耐腐蚀性部件，例如可列举出陶瓷、不锈钢(SUS)等。另外，代替由耐腐蚀性部件构成电晕处理装置1本身，通过由耐腐蚀性部件覆盖电晕处理装置1(例如，放电电极、接地辊、电极罩、电极夹及排气管中的至少一种)的表面，或对其表面进行耐腐蚀处理，也能够得到同样的效果。作为耐腐蚀处理，例如可列举出耐酸铝处理等。上述耐腐蚀性部件、耐腐蚀处理的适用可对电晕处理装置1整体进行适用，也可对电晕处理装置1中结晶状异物易附着的部件、区域进行适用。
另外，优选由透明性部件构成电极罩4。由此，电极罩4变得透明，因此能够介由该电极罩4而目视确认放电电极2、电极夹5等的状态。作为透明性部件，例如可列举出丙烯酸类树脂等。透明是指相对于可见光(例如，390～750nm)为透明的。
电极罩4的侧面4d的内侧优选由没有易蓄积结晶状异物的槽、凹凸的形状构成。
作为由电晕处理装置l进行电晕处理的薄膜(被电晕处理物)10，能够采用需要电晕处理的所期望的薄膜状的薄膜，无特别限定，但例如可列举出偏光膜等光学膜、保护该光学膜的保护膜、具备粘合剂层或粘接剂层的薄膜等。作为偏光膜，例如可列举出使二色性色素在聚乙烯醇类薄膜上吸附取向而成的薄膜等，作为保护薄膜，例如可列举出三醋酸纤维素、二醋酸纤维素之类的醋酸纤维素类树脂膜、环烯烃类树脂膜等。
作为薄膜(被电晕处理物)10的长度(以下称为“处理量”)，优选为1万米以上，更优选为3万米以上，进一步优选为4万米～6万米。若针对这样的处理量进行以往的电晕处理，则存在结晶状异物易附着于薄膜(被电晕处理物)10的倾向。若利用能够长期稳定地进行电晕处理的本实施方式的电晕处理方法，则即使针对上述处理量，也能够稳定地进行电晕处理。另外，具有上述处理量的薄膜(被电晕处理物)10可以是从长条状薄膜(被电晕处理物)卷取成辊状而成的l根原料辊中连续抽出的薄膜，也可以是将各自具有规定处理量的多个薄膜(被电晕处理物)进行接续而成的薄膜。
作为薄膜(被电晕处理物)10的厚度，通常为10～300μm左右，作为薄膜(被电晕处理物)10的宽度，通常为300～2500mm左右，但并不限于这些。
接着，列举出使用偏光膜及保护膜作为薄膜(被电晕处理物)10的情况为例，参考图4，对于对它们的表面进行本发明的电晕处理的一个实施方式进行详细说明。
如同图所示，首先，将2个电晕处理装置1、l以电极罩4的开口部4c成为横向的方式在规定的位置进行配置。
接着，介由电晕处理前导辊15a、15b分别向箭头A、B方向输送偏光膜11、保护膜12。此时，偏光膜11、保护膜12以各自表面与电晕处理前导辊15a、15b接触的方式进行输送。
然后，通过将由未图示的高频电源供给的高频高电压输出施加于放电电极2与接地辊3之间，从而在它们之间产生电晕放电，并在该电晕放电下介由接地辊3而使偏光膜11、保护膜12通过。
由此，能够对偏光膜11、保护膜12的各自的表面进行电晕处理，并且电晕处理装置1被配置成电极罩4的开口部4c成为横向，因此能够抑制被蓄积于电晕处理装置1的结晶状异物落下并附着于偏光膜11、保护膜12，由此能够长期稳定地进行电晕处理。
另一方面，在缩减成本方面，优选在输送偏光膜11、保护膜12之前预先输送廉价的薄膜作为先导膜之后，输送偏光膜11、保护膜12。此时，优选在先导膜输送时不产生电晕放电，而在偏光膜11、保护膜12在接地辊3上通过时产生电晕放电。
电晕处理后的偏光膜11、保护膜12介由电晕处理后导辊16a、16b而分别向箭头C、D方向输送。在此，若通过电晕处理而被活化的偏光膜11、保护膜12的表面与电晕处理后导辊16a、16b接触，则这些电晕处理后导辊16a、16b存在被污染的倾向。作为其理由，推测是由于在电晕处理后的偏光膜11、保护膜12的表面存在因电晕处理而生成的草酸等，而其附着于电晕处理后导辊16a、16b。因此，本实施方式中，以与通过电晕处理而被活化的表面相反的背面与电晕处理后导辊16a、16b接触的方式输送电晕处理后的偏光膜11、保护膜12。
然后，将通过电晕处理而被活化的相互的表面彼此通过左右一对贴合辊17a、17b进行贴合，沿箭头E方向收取而制成偏振片13。应予说明，该偏振片13的层结构为在偏光膜11的表面贴合有保护膜12而成的2层结构，但也可以在偏光膜11的背面也贴合保护膜12而制成3层结构。
另外，偏光膜11、保护膜12的贴合能够利用例如粘接剂、粘合剂(压敏粘合剂)等来进行，无特别限定。
以下，列举实施例对本发明进行详细说明，但本发明并不只限于以下的实施例。
实施例
使用上述图l所示的电晕处理装置l来对薄膜(被电晕处理物)10的表面进行了电晕处理。然后，目视观察有无结晶状异物附着于薄膜(被电晕处理物)10并进行了评价。以下示出所使用的电晕处理装置1的结构、薄膜(被电晕处理物)10及电晕处理条件，并将其结果示于表l。
(电晕处理装置l的结构)
·电极夹5、排气管6：对表面进行了氧化铝膜处理(耐腐蚀处理)的铝制造
·电极罩4：透明的丙烯酸类树脂制造
·电极罩4的开口部4c的方向：朝向斜上方(参考图2(b))
(薄膜(被电晕处理物)10及电晕处理条件)
·薄膜(被电晕处理物)10：对各自具有规定的处理量的偏光膜、环烯烃薄膜及三醋酸纤维素薄膜进行接续而成的薄膜
·电晕处理强度600W
·处理量49654m
[比较例]
除了将电极罩4的开口部4c的方向设为朝向下方(参考图3(b))、将处理量设为49747m以外，与上述实施例同样而对薄膜(被电晕处理物)10的表面进行电晕处理，目视观察有无结晶状异物附着于薄膜(被电晕处理物)10并进行了评价。将其结果示于表1。
表1
电极罩4的开口部4c的朝向 处理量 有无结晶状异物的附着
实施例 朝向斜上方 49654m 无
比较例 朝向下方 49747m 有
由表1可知，使电极罩4的开口部4c的方向朝向斜上方的实施例与使开口部4c的方向朝向下方的比较例相比，能够长期稳定地实施电晕处理。
符号说明
1 电晕处理装置
2 放电电极
3 接地辊
4 电极罩
4a 一端面
4b 另一端面
4c 开口部
4d 侧面
5 电极夹
6 排气管
10 薄膜(被电晕处理物)
11 偏光膜
12 保护膜
13 偏振片
15a、15b 电晕处理前导辊
16a、16b 电晕处理后导辊
17a、17b 贴合辊

Claims (8)

1.一种电晕处理方法，为对薄膜的表面进行电晕处理的方法，该方法具备如下工序：
在放电电极与接地辊之间产生电晕放电的工序：及
在所述电晕放电下，使薄膜在所述接地辊上移动的工序，
其中，所述放电电极被电极罩覆盖，
所述电极罩在所述接地辊侧具有开口部，
所述电极罩的开口部朝向横向、斜上方或上方。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述放电电极、所述接地辊及所述电极罩中的至少一个具有耐腐蚀性部件。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述放电电极、所述接地辊及所述电极罩中的至少一个的表面被施以耐腐蚀处理。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中，由所述电极罩所包围的空间内的气体通过排气管进行排气，所述排气管具有耐腐蚀性部件或所述排气管的表面被施以耐腐蚀处理。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中，所述放电电极被电极夹保持，所述电极夹具有耐腐蚀性部件或所述电极夹的表面被施以耐腐蚀处理。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中，所述电极罩为透明的。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法，其中，所述薄膜为选自光学膜及保护膜中的至少一种。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法，其中，所述薄膜的长度为1万米以上。
CN201610884117.XA 2011-02-03 2012-01-30 电晕处理方法 Active CN107041060B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011-021461 2011-02-03
JP2011021461A JP5787306B2 (ja) 2011-02-03 2011-02-03 コロナ処理方法
CN201280006992.8A CN103338856B (zh) 2011-02-03 2012-01-30 电晕处理方法

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201280006992.8A Division CN103338856B (zh) 2011-02-03 2012-01-30 电晕处理方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN107041060A true CN107041060A (zh) 2017-08-11
CN107041060B CN107041060B (zh) 2019-08-23

Family

ID=46602717

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201280006992.8A Ceased CN103338856B (zh) 2011-02-03 2012-01-30 电晕处理方法
CN201610884117.XA Active CN107041060B (zh) 2011-02-03 2012-01-30 电晕处理方法

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201280006992.8A Ceased CN103338856B (zh) 2011-02-03 2012-01-30 电晕处理方法

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP5787306B2 (zh)
KR (2) KR102137918B1 (zh)
CN (2) CN103338856B (zh)
TW (1) TWI601618B (zh)
WO (1) WO2012105503A1 (zh)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101713864B1 (ko) * 2016-10-13 2017-03-09 주식회사 포스텍 이지-필 필름 제조장치
JP7309843B2 (ja) * 2017-03-03 2023-07-18 住友化学株式会社 光学フィルム原反ロールの製造方法、および光学部材シートの製造方法
JP6421962B1 (ja) * 2017-08-09 2018-11-14 春日電機株式会社 表面改質装置
CN108705788B (zh) * 2018-05-24 2020-05-05 金凌印刷（苏州）有限公司 一种材料表面处理装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01246540A (ja) * 1988-03-28 1989-10-02 Konica Corp コロナ放電処理におけるオゾン除去方法
EP1072175A1 (fr) * 1998-03-10 2001-01-31 IST Instant Surface Technology S.A. Procede de traitement de surface d'un materiau ou d'un objet et dispositif pour la mise en oeuvre du procede
US20010014405A1 (en) * 1998-11-13 2001-08-16 Takashi Yuzawa Surface treatment method using electric discharge, and an electrode for the surface treatment method
JP3823172B2 (ja) * 2002-09-05 2006-09-20 春日電機株式会社 コロナ処理用電極構造
CN101836245A (zh) * 2007-10-25 2010-09-15 住友化学株式会社 光学显示面板的制造方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3427130B2 (ja) * 1993-12-17 2003-07-14 藤森工業株式会社 偏光板又は位相差板貼付用粘着剤層の積層方法
JP2681625B2 (ja) * 1995-06-27 1997-11-26 春日電機株式会社 放電処理方法及び放電処理装置
JP2001290338A (ja) * 2000-04-04 2001-10-19 Canon Inc 電子写真装置
JP4194766B2 (ja) 2001-01-12 2008-12-10 株式会社リコー コロナ放電装置及び画像形成装置
JP4830258B2 (ja) 2004-01-28 2011-12-07 住友化学株式会社 粘着剤層の貼合方法。
JP4208870B2 (ja) * 2005-10-05 2009-01-14 春日電機株式会社 フィルム等の長尺処理対象物の表面処理装置
KR20070116309A (ko) * 2006-06-05 2007-12-10 동우 화인켐 주식회사 접착제 및 편광판
JP4744483B2 (ja) 2007-06-27 2011-08-10 日東電工株式会社 偏光板の製造方法、偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置
JP2009237489A (ja) * 2008-03-28 2009-10-15 Sumitomo Chemical Co Ltd 表面保護フィルム付き偏光板の製造方法
JP2010043215A (ja) * 2008-08-18 2010-02-25 Toray Ind Inc 電気絶縁性シートの表面処理装置、表面処理方法、および、電気絶縁性シートの製造方法
JP5332526B2 (ja) * 2008-11-11 2013-11-06 株式会社ニチレイフーズ 表面処理装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01246540A (ja) * 1988-03-28 1989-10-02 Konica Corp コロナ放電処理におけるオゾン除去方法
EP1072175A1 (fr) * 1998-03-10 2001-01-31 IST Instant Surface Technology S.A. Procede de traitement de surface d'un materiau ou d'un objet et dispositif pour la mise en oeuvre du procede
US20010014405A1 (en) * 1998-11-13 2001-08-16 Takashi Yuzawa Surface treatment method using electric discharge, and an electrode for the surface treatment method
JP3823172B2 (ja) * 2002-09-05 2006-09-20 春日電機株式会社 コロナ処理用電極構造
CN101836245A (zh) * 2007-10-25 2010-09-15 住友化学株式会社 光学显示面板的制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP5787306B2 (ja) 2015-09-30
CN103338856A (zh) 2013-10-02
KR20140004712A (ko) 2014-01-13
CN103338856B (zh) 2016-11-09
TWI601618B (zh) 2017-10-11
JP2012161703A (ja) 2012-08-30
CN107041060B (zh) 2019-08-23
KR20190053277A (ko) 2019-05-17
WO2012105503A1 (ja) 2012-08-09
TW201236843A (en) 2012-09-16
KR102137918B1 (ko) 2020-07-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107041060A (zh) 电晕处理方法
CN104695201B (zh) 翻转式电极组纺织品大气等离子处理机构及双面处理机构
EP1875212A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur charakterisierung einer oberfläche eines werkstückes
US20170203304A1 (en) Electrostatic collector
AU2016101922A4 (en) A method for cladding an inner hole of an upright cylinder
Liu et al. Determination of enoxacin and ofloxacin by capillary electrophoresis with electrochemiluminescence detection in biofluids and drugs and its application to pharmacokinetics
KR20190134362A (ko) 집진 필터
CN208230339U (zh) 刷粉吸尘装置
CN106525815B (zh) 一种燃油样品拉曼光谱测试方法
CN102021694B (zh) 纺织车间电晕反清洗除绒装置及其方法
CN207699735U (zh) 一种工作效果好的梳棉机
CN207872766U (zh) 一种电子元器件用分条机构
CN205182404U (zh) 卷轴式过滤器及空调
CN103537467A (zh) 一种纺织用吸尘装置
CN205588080U (zh) 一种在线卷板磨砂生产装置
CN211339782U (zh) 一种棉纱加工用梳棉机
CN2775521Y (zh) 一种空气净化器
CN207775418U (zh) 一种效率高的粗纱机
JP5327422B2 (ja) フィルタ処理装置
CN205599602U (zh) 一种多功能风淋室
CN218743639U (zh) 一种眼镜片表面除尘装置
CN108000288A (zh) 一种用于机车零部件的加工装置
CN210029603U (zh) 一种用于中空纤维集束的卷取轮及卷取装置
CN211505315U (zh) 一种水质在线分析装置
CN218089916U (zh) 一种高性能pbt纤维丝的生产装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant