JP5327422B2 - フィルタ処理装置 - Google Patents
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Description
このように本発明においては、フィルタに対して通流する流体の上流側にプラズマ発生手段を配設するようにしたので、汚染された流体又は汚濁した流体による再汚染及び再汚濁を未然に防止できることとなり、フィルタの上流側から下流側まで全体を洗浄及び滅菌できる。
このように本発明においては、フィルタに対して通流する流体の下流側を上流側よりも低気圧状態とすることにより、プラズマ及びラジカルをフィルタ内に誘引できることとなり、より一層確実にフィルタの洗浄及び滅菌が可能となる。
このように本発明においては、前記フィルタ及びプラズマ発生手段を収納容器に収納し、当該収納容器内を負圧状態とすることによりプラズマ発生手段が生成したプラズマを負圧環境下で長時間維持してフィルタ内に誘引できることから、さらに強力にフィルタを洗浄及び滅菌できることとなる。
以下、本発明に係る第1の実施形態に係るプラズマ滅菌装置に装着されたフィルタ処理装置を図1に基づいて説明する。この図1は、本実施形態に係るフィルタ処理装置の全体構成図を示す。
以下、本発明に係る第2の実施形態に係るフィルタ処理装置を図2に基づいて説明する。この図2は、本実施形態に係るフィルタ処理装置の要部概略構成図を示す。
同図において本実施形態に係るフィルタ処理装置1は、前記第1の実施形態と同様にチャンバー11(図1の10に相当)、電極12a、12b(図1の12に相当)、交流高電圧電源13a(図1の13に相当)、菌補集用フィルタ14及びロータリーポンプ18を共通して備え、この電極12a、12bとチャンバー11との構成を異にする。
また、チャンバー11は、全て絶縁材で形成できると共に、電極12a、12bとの絶縁状態が保持されている限り金属との導体で形成することができる。
以下、本発明の第3の実施形態に係るフィルタ処理装置を図3に基づいて説明する。この図3は、本実施形態に係るフィルタ処理装置の要部概略構成図を示す。
同図において本実施形態に係るフィルタ処理装置1は、絶縁材からなる排気管11a(図1の16に相当)の内部に菌補集用フィルタ14を収納し、この排気管11aの外周にアンテナを形成する電極12cを巻回して配設し、この巻回した電極12cの端部に高周波電源13を接続すると共に、電極12cの他端部を接地する構成である。
(本発明の他の実施形態)
以下、本発明の他の実施形態に係るフィルタ処理装置を図4(A)(B)に基づいて説明する。この図4(A)(B)は、本実施形態に係るフィルタ処理装置の要部概略構成図である。
本実施例の実験方法は、菌補集用フィルタ14として多孔質素材を使用した滅菌実験を行うため、真空ポンプのロータリーポンプ18で低圧に保持したチャンバー10(4インチ×600mm)に高周波電源13から高周波電力(13.56MHz)を投入し、プラズマを発生させる。投入電力は、30〜50W、チャンバー10内の圧力20Paに設定し、プラズマ発生後、1時間単位で滅菌処理を行った。酸素ラジカルの生成は、分光分析やケミカルインジケータを使用して確認した。
従って、低圧酸素プラズマを用いた滅菌実験において、多孔質素材に付着させた大腸菌の減少を確認した。
10 チャンバー
10a 絶縁収納部
10b 導電収納部
11 チャンバー
11a 排気管
12、12a、12c 電極
12d、12e アンテナ
13 高周波電源
13a 交流高電圧電源
13a マイクロ波発振器
14 菌補集用フィルタ
15 注入調整バルブ
16、19 排気管
17 排出調整バルブ
18 ロータリーポンプ
19a 排気バルブ
100 プラズマ滅菌装置
101 滅菌チャンバー
102 電極
103 高周波電源
104 酸素ボンベ
105 排気管
200 滅菌対象物
Claims (5)
- 管路の中間にチャンバーが形成され、当該チャンバー内にフィルタを収納し、当該管路内に通流する流体を濾過するフィルタに対して洗浄及び/又は滅菌するフィルタ処理装置において、
前記チャンバー内のフィルタに対して通流する流体の上流側に一の電極を配設すると共に、下流側に他の電極を配設して形成され、当該各電極間で容量結合プラズマを発生させるプラズマ発生処理手段と、
前記管路の上流側及び下流側に各々配設される注入調整バルブ及び排出調整バルブと、
前記チャンバーと排出調整バルブとの間の管路から分岐する分岐管路の一端に接続される吸引ポンプと、
前記分岐管路の他端と吸引ポンプとの間に配設される排気バルブとを備え、
前記注入調整バルブ及び排出調整バルブを閉塞した状態で排気バルブを開放してチャンバー内の流体を吸引ポンプで吸引して、低気圧とし、当該低気圧下で前記注入調整バルブを排気バルブの開度より少ない開度で開放し、
前記プラズマによりフィルタを洗浄及び/又は滅菌することを
特徴とするフィルタ処理装置。 - 前記請求項1に記載のフィルタ処理装置において、
前記プラズマ発生手段が、フィルタに対して通流する流体の上流側に配設されることを
特徴とするフィルタ処理装置。 - 前記請求項1又は2に記載のフィルタ処理装置において、
前記プラズマ発生手段が、誘導結合プラズマを発生させることを
特徴とするフィルタ処理装置。 - 前記請求項1ないし3のいずれかに記載のフィルタ処理装置において、
前記フィルタに対して通流する流体の下流側を上流側よりも低気圧状態とすることを
特徴とするフィルタ処理装置。 - 前記請求項1ないし4のいずれかに記載のフィルタ処理装置において、
前記フィルタ及びプラズマ発生手段を収納容器に収納し、当該収納容器内を負圧状態とすることを
特徴とするフィルタ処理装置。
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