CN107003641A - 钟表部件以及钟表部件的制造方法 - Google Patents

钟表部件以及钟表部件的制造方法 Download PDF

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Abstract

通过构成如下钟表部件，从而能够实现高制造精度且轻量化，并且，即使在使用硅那样的脆性材料来形成了母材(11a～11d)的情况下，在从外部施加了冲击的情况下也难以损坏并能够发挥高强度，所述钟表部件具备在以非导电性的第1材料为主要成分而形成的母材(11a～11d)的表面的至少一部分设置的中间膜(51a～51d)、和层叠于中间膜(51a～51d)并且以粘韧性比第1材料高的第2材料为主要成分的缓冲膜(21a～21d)。

Description

钟表部件以及钟表部件的制造方法
技术领域
本发明涉及构成钟表中的机械部件的钟表部件以及钟表部件的制造方法。
背景技术
以往，在机械式钟表中，使用了调速器(摆轮游丝机构)，调速器由游丝和摆轮(带摆轴)构成，使驱动机构(机芯)有规律地保持固定速度来进行动作。摆轮通过有规律地保持固定速度的、具有所谓等时性的游丝的伸缩，从而有规律地进行往复旋转运动。摆轮游丝机构与由擒纵轮和擒纵叉构成的擒纵机构连结，通过传递来自游丝的能量，从而持续进行动作(振动)。
一般，关于游丝，已知通过加工金属而形成的游丝。通过加工金属而形成的游丝由于加工精度的偏差、金属具有的内部应力的影响等，存在无法得到与设计一致的形状的情况。在需要使摆轮游丝机构有规律地振动的游丝无法得到与设计一致的形状的情况下，摆轮也不能实现具有等时性的运动。在该情况下，表示平均每一天的钟表的快或慢的程度的所谓钟表的快慢差率会产生偏差。
近年来，正在进行通过对硅基板进行蚀刻加工来制造钟表部件的尝试。通过对硅基板进行蚀刻加工而形成的钟表部件与现有的使用金属部件形成的钟表部件相比，能够轻量化。此外，通过对硅基板进行蚀刻加工而形成的钟表部件能够高精度地大量生产。因此，通过使用通过对硅基板进行蚀刻加工而形成的钟表部件，从而小型且轻量的钟表的制造备受期待。
在硅基板的蚀刻时，能够使用作为干蚀刻技术的反应性离子蚀刻(Reactive IonEtching：RIE)技术。该RIE技术在近年来不断进步，RIE技术当中深层RIE(Deep RIE)技术被开发，能够进行高纵横比的蚀刻。通过使用RIE技术对硅基板进行蚀刻，从而蚀刻不会迂回到由光致抗蚀剂等遮蔽的部分的下方而在垂直深度方向上能够忠实地重现掩模图案，能够按设计原样的形状高精度地制造钟表部件。
使用硅形成的钟表部件与金属相比，温度特性良好，与使用金属形成的现有的游丝相比对于环境温度不易变形。因此，可以考虑对构成钟表的调速机构的钟表部件应用RIE技术等干蚀刻技术。另一方面，由于硅是脆性材料，因此使用硅形成的钟表部件在钟表受到较大的冲击时有可能会发生损坏。
为了消除这样的不良状况，现有技术中存在如下技术：例如，通过在作为对游丝进行俯视时的一平面的发条部的上表面设置开口部来减少游丝的质量，从而维持与无开口部的游丝同等的刚性并且使得难以受到冲击所造成的影响(例如，参照下述专利文献1。)。
在先技术文献
专利文献
专利文献1：JP特开2012-21984号公报
发明内容
发明要解决的课题
但是，上述的专利文献1所记载的现有技术由于设置开口部从而开口部的部分变薄，因此开口部周边的强度不足，在较大的冲击施加于钟表的情况下，存在有时游丝发生损坏这样的问题。具体地，例如，游丝的大小根据组装该游丝的钟表的尺寸等而不同，在一般的手表的情况下，使用直径为5mm～8mm左右的游丝。
在这样的直径的游丝中，构成发条部的部分的上表面的宽度为几十μm，上述专利文献1所记载的现有技术由于这样在较薄的部分设置开口部，因此存在发条部反而容易发生损坏这样的问题。具体而言，例如，在较大的冲击施加于钟表的情况下，由于相邻的线圈形状的发条部接触从而会发生这样的游丝的损坏。
此外，对于使用硅那样的脆性材料而形成的游丝来说，在施加了某些冲击的情况下，应力会集中于该游丝的角部。因此，在较大的冲击施加于钟表的情况下，由于该冲击的影响，在游丝的角部会产生缺损或裂纹。若游丝损坏或者一部分缺损，则摆轮不能有规律地进行往复旋转运动，变得不再作为钟表而发挥功能。此外，在损坏的游丝的碎片飞散而进入到驱动机构的情况下，存在有可能会导致钟表本身发生致命性故障这样的问题。
本发明的目的在于，为了消除上述的现有技术中的问题点，提供一种能够实现高制造精度且轻量化，并且即使在从外部施加了冲击的情况下也难以损坏并能够发挥高强度的钟表部件以及钟表部件的制造方法。
用于解决课题的手段
为了解决上述课题，达成目的，本发明所涉及的钟表部件是构成钟表的钟表部件，其特征在于，具备：以非导电性的第1材料为主要成分而形成的母材；在所述母材的表面的至少一部分设置的中间膜；和层叠在所述中间膜上，以粘韧性比所述第1材料高的第2材料为主要成分的缓冲膜。
此外，本发明所涉及的钟表部件的特征在于，在上述的发明中，所述第1材料是硅。
此外，本发明所涉及的钟表部件的特征在于，在上述的发明中，所述第2材料是树脂。
此外，本发明所涉及的钟表部件的特征在于，在上述的发明中，所述母材在外表面具备台阶部，所述中间膜至少设置在覆盖所述台阶部的位置。
此外，本发明所涉及的钟表部件的特征在于，在上述的发明中，所述钟表部件是构成机械式钟表的驱动部的调速机构的游丝。
此外，本发明所涉及的钟表部件的特征在于，在上述的发明中，所述钟表部件是构成钟表的驱动部且具有嵌合其他构件的孔的齿轮、擒纵叉或摆轮。
此外，本发明所涉及的钟表部件的制造方法的特征在于，包括：对以非导电性的第1材料为主要成分而形成的基板进行蚀刻来形成呈现钟表部件的形状的母材的工序；在所述母材的表面的至少一部分形成中间膜的工序；和在所述中间膜上，层叠以粘韧性比所述第1材料高的第2材料为主要成分的材料来形成缓冲膜的工序。
此外，本发明所涉及的钟表部件的制造方法的特征在于，在上述的发明中，包含在所述母材的表面形成台阶部的工序，形成所述中间膜的工序在形成所述台阶部的工序之后进行。
此外，本发明所涉及的钟表部件的制造方法的特征在于，在上述的发明中，在形成所述缓冲膜的工序中，将形成了所述中间膜的所述母材浸渍在规定的电沉积液中后，对该中间膜施加规定电压来形成所述缓冲膜。
发明效果
根据本发明所涉及的钟表部件以及钟表部件的制造方法，能够取得如下效果：能够实现高制造精度且轻量化，并且，即使在从外部施加了冲击的情况下也难以损坏并能够发挥高强度。
附图说明
图1是表示机械式钟表的驱动机构的说明图。
图2是表示本发明所涉及的实施方式1的游丝的结构的说明图。
图3是表示图2中的A-A’剖面的说明图。
图4是表示本发明所涉及的实施方式1的游丝的制造方法的说明图(其1)。
图5是表示本发明所涉及的实施方式1的游丝的制造方法的说明图(其2)。
图6是表示本发明所涉及的实施方式1的游丝的制造方法的说明图(其3)。
图7是表示本发明所涉及的实施方式1的游丝的制造方法的说明图(其4)。
图8是表示本发明所涉及的实施方式1的游丝的制造方法的说明图(其5)。
图9是表示本发明所涉及的实施方式1的游丝的制造方法的说明图(其6)。
图10是表示本发明所涉及的实施方式2的游丝的结构的说明图。
图11是表示图10中的B-B’剖面的说明图。
图12是表示本发明所涉及的实施方式2的游丝的制造方法的说明图(其1)。
图13是表示本发明所涉及的实施方式2的游丝的制造方法的说明图(其2)。
图14是表示本发明所涉及的实施方式3的游丝的结构的说明图。
图15是表示图14中的C-C’剖面的说明图。
图16是表示本发明所涉及的实施方式3的游丝的制造方法的说明图(其1)。
图17是表示本发明所涉及的实施方式3的游丝的制造方法的说明图(其2)。
图18是表示本发明所涉及的实施方式3的游丝的制造方法的说明图(其3)。
图19是表示本发明所涉及的实施方式3的游丝的制造方法的说明图(其4)。
图20是表示本发明所涉及的实施方式3的游丝的制造方法的说明图(其5)。
图21是表示本发明所涉及的实施方式3的游丝的制造方法的说明图(其6)。
图22是表示本发明所涉及的实施方式3的游丝的制造方法的说明图(其7)。
图23是表示本发明所涉及的实施方式3的游丝的制造方法的说明图(其8)。
图24是表示本发明所涉及的实施方式3的游丝的制造方法的说明图(其9)。
图25是表示本发明所涉及的实施方式3的游丝的制造方法的说明图(其10)。
图26是表示本发明所涉及的实施方式3的游丝的制造方法的说明图(其11)。
图27是表示本发明所涉及的实施方式4的游丝的制造方法的说明图(其1)。
图28是表示本发明所涉及的实施方式4的游丝的制造方法的说明图(其2)。
图29是表示本发明所涉及的实施方式4的游丝的制造方法的说明图(其3)。
图30是表示本发明所涉及的实施方式4的游丝的制造方法的说明图(其4)。
图31是表示实施方式5的擒纵叉的结构的说明图。
图32是表示图31中的D-D’剖面的说明图。
图33是表示实施方式6的齿轮的结构的说明图。
图34是表示本发明所涉及的实施方式6的驻极体的说明图(其1)。
图35是表示本发明所涉及的实施方式6的驻极体的说明图(其2)。
图36是表示机械式钟表中的驱动机构的一部分的说明图(其1)。
图37是表示机械式钟表中的驱动机构的一部分的说明图(其2)。
具体实施方式
以下，参照附图对本发明所涉及的钟表部件以及该钟表部件的制造方法的优选实施方式详细进行说明。
＜实施方式1＞
(机械式钟表的驱动机构)
首先，作为组装了通过本发明所涉及的实施方式1的制造方法而制造的、本发明所涉及的实施方式1的钟表部件的钟表的驱动机构，对机械式钟表的驱动机构进行说明。图1是表示机械式钟表的驱动机构的说明图。在图1中，示出组装了通过本发明所涉及的实施方式1的制造方法而制造的、本发明所涉及的实施方式1的钟表部件的机械式钟表的驱动机构。
在图1中，组装了通过本发明所涉及的实施方式1的制造方法而制造的钟表部件的机械式钟表的驱动机构101具备条盒102、擒纵机构103、调速机构(摆轮游丝机构)104、轮系(驱动轮系)105等。条盒102在形成薄圆筒形状的盒的内侧，收纳有省略图示的动力发条。在条盒102的外周部设置有被称为条盒轮的齿轮，与构成轮系105的号轮啮合。
动力发条是处于卷绕的状态的长条状的金属薄板，收纳在条盒102中。动力发条的中心的端部(在卷绕的状态下位于内周侧的端部)安装于条盒102的中心轴(条盒轴)。动力发条的外侧的端部(在卷绕的状态下位于外周侧的端部)安装于条盒102的内表面。
擒纵机构103由擒纵轮106以及擒纵叉107构成。擒纵轮106是具备钩型的齿的齿轮，擒纵轮106的齿与擒纵叉107啮合。擒纵叉107通过与擒纵轮106的齿啮合从而将擒纵轮106的旋转运动变换为往复运动。
摆轮游丝机构104由游丝108、摆轮109等构成。游丝108和摆轮109通过设置在摆轮109的中心的天芯109a而连结。游丝108是处于卷绕的状态的长条状的构件，形成了螺旋形状(参照图2)。游丝108设计为在组装到机械式钟表而构成了驱动机构101的状态下，示出优异的等时性。
摆轮游丝机构104通过游丝108的弹力所引起的伸缩，能够有规律地进行往复运动。摆轮109呈环形，对来自擒纵叉107的反復运动进行调节、控制，保持固定速度的振动。摆轮109在摆轮109形成的环形的内侧，设置有从天芯109a呈辐射状延伸设置的臂(arm)。
轮系105由设置在条盒102与擒纵轮106之间、并且分别啮合的多个齿轮构成。具体而言，轮系105由二号轮110、三号轮111、四号轮112等构成。条盒102的条盒轮与二号轮110啮合。在四号轮112上安装有秒针113，在二号轮110上安装有分针114。在图1中，对时针、各齿轮进行支承的底板等省略图示。
在驱动机构101中，由于动力发条的中心固定于条盒102的中心(条盒轴)使得不能逆向旋转，动力发条的外侧的端部固定于条盒的内周面，因此若卷绕于条盒102的中心(条盒轴)的动力发条试图恢复原状，则会向与卷绕的方向相同方向对试图解开的动力发条的外侧的端部施力，从而条盒102向与卷绕的发条解开的方向相同的方向进行旋转。条盒102的旋转依次传递至二号轮110、三号轮111、四号轮112，并从四号轮112传递至擒纵轮106。
由于擒纵叉107与擒纵轮106啮合，因此若擒纵轮106旋转，则擒纵轮106的齿(冲击面)推起擒纵叉107的进瓦，由此擒纵叉107中的摆轮游丝机构104侧的前端使摆轮游丝机构104旋转。若摆轮游丝机构104旋转，则擒纵叉107的出瓦立即使擒纵轮106停止。若摆轮游丝机构104因游丝108的力而逆向旋转，则擒纵叉107的进瓦解除，擒纵轮106再次进行旋转。
这样，调速机构104通过具有等时性的游丝108的伸缩来使摆轮游丝机构104反复进行有规律的往复旋转运动，擒纵机构103对摆轮游丝机构104持续施加用于进行往复运动的力，并且通过来自摆轮游丝机构104的有规律的振动而以固定速度使轮系105中的各齿轮进行旋转。擒纵轮106、擒纵叉107、摆轮游丝机构104构成将摆轮游丝机构104的往复运动变换为旋转运动的调速机构。
(游丝108的结构)
图2是表示本发明所涉及的实施方式1的游丝108的结构的说明图。在图2中，示出了从图1中的箭头X方向观察实施方式1的游丝108的俯视图。更具体而言，在图2中，示出了从构成轮系105的齿轮110～112等的旋转轴体的轴方向俯视游丝108的状态。以后，对实施方式1的游丝108，赋予标号108a来进行说明。
在图2中，游丝108a由游丝固着环3、发条部2和游丝外桩4构成。游丝固着环3具备在中心部具有用于与作为旋转轴体的摆轴嵌合的贯通孔31的游丝固着环3。发条部2形成了以游丝固着环3的贯通孔31为中心，设计为卷绕于游丝固着环3的线圈形状。游丝外桩4与发条部2的卷绕终端连接。发条部2在卷绕始端部分，经由连接部32与游丝固着环3连接。
图3是表示图2中的A-A’剖面的说明图。在图3中，对发条部2的4个缠绕部分进行了放大表示。如图3所示，发条部2通过从内侧的缠绕起连接发条臂201a、201b、201c、201d而形成了1个结构体。
发条臂201之中，发条臂201a位于发条部2中的最内周侧，从内周侧朝向外周侧依次是发条臂201b、发条臂201c，发条臂201d位于发条部2中的最外周侧。各发条臂201a～201d例如能够设宽度为50μm、设高度为100μm。
发条臂201a～201d在母材11a、11b、11c、11d的表面，依次层叠中间膜51a、51b、51c、51d以及缓冲膜21a、21b、21c、21d而构成。缓冲膜21a～21d形成在游丝108a的最表面。如上所述，发条臂201a～201d形成了一体的1个结构物，母材11a～11d也形成了1个结构体。同样地，中间膜51a～51d也形成1个结构体，缓冲膜21a～21d也形成了1个结构体。
母材11a～11d使用第1材料而形成。作为第1材料，例如，能够使用以水晶、陶瓷、硅、硅氧化物等为主要成分的材料。通过使用硅作为第1材料来形成母材11a～11d，从而能够实现游丝108a的轻量化。
此外，通过使用硅作为第1材料来形成母材11a～11d，从而能够确保在游丝108a的制造时的良好的加工性。具体地，通过使用硅作为第1材料来形成母材11，从而能够使用深层RIE技术来制造游丝108a。
深层RIE技术一般经常用作半导体制造技术。深层RIE技术是作为干蚀刻加工之一的反应性离子蚀刻的一种，作为能够进行高精度下的微细加工的技术而众所周知。通过使用深层RIE技术对硅基板进行干蚀刻加工，从而能够高精度地制造游丝108a。此外，通过使用深层RIE技术来制造游丝108a，从而能够一体地形成发条部2、游丝固着环3和游丝外桩4。
中间膜51a～51d使用与形成母材11a～11d的第1材料相比粘韧性更高的材料而形成。粘韧性表示针对来自外部的压力难以损坏的性质，即所谓的“韧度”。粘韧性高的材料示出良好的韧度。具体而言，中间膜51a～51d例如也可以使用硅氧化物(SiO2)、矾土(氧化铝：Al2O3)、DLC(Diamond-Like Carbon)等来形成。
由硅氧化物形成的中间膜51a～51d包含通过将硅暴露在大气中而形成的硅氧化物所形成的自然氧化膜。DLC以碳(C)的同位体或烃为主要成分而构成，形成非晶态结构。DLC是硬质的膜，近年来，存在通过注入等离子体离子或者利用溅射来添加金属元素等各种方法而赋予了导电性的DLC。
此外，中间膜51a～51d也可以具有导电性，例如，也可以使用铜(Cu)、金(Au)、镍(Ni)、钛(Ti)等金属材料来形成。此外，具体而言，中间膜51a～51d也可以使用将多种材料进行混合而成的合金来形成。
具体地，中间膜51a～51d例如能够通过在母材11a～11d表面将铜(Cu)以0.2μm的厚度进行成膜而形成。此外，具体地，中间膜51a～51d例如也可以由通过将形成母材11a～11d的硅暴露在大气中而形成的自然氧化膜来实现。
形成中间膜51a～51d的材料，例如能够根据游丝108a等钟表部件所要求的硬度来适当设定。游丝108a等钟表部件所要求的硬度，例如能够根据机械式钟表的规格、使用环境、制造成本等来任意地设定。此外，游丝108a等钟表部件所要求的硬度，并不限于中间膜51a～51d的材料，例如，也能够通过中间膜51a～51d的膜厚来进行调整。
具体而言，例如，在游丝108a等钟表部件要求高硬度的情况下，能够使用作为比铜(Cu)、金(Au)更坚硬的金属的钛(Ti)。另一方面，例如，在游丝108a等钟表部件要求柔软性或柔韧度的情况下，能够使用具有比较柔软的特性的铜(Cu)、金(Au)。铜(Cu)、金(Au)因为是柔软的特性，所以能够发挥柔韧度，由此能够追随游丝108a的变形而变形，因而即使在使用硅来形成游丝108a的情况下也能够降低该游丝108a的脆弱性(易碎性)。
缓冲膜21a～21d以第2材料为主要成分而形成。第2材料能够通过粘韧性比第1材料更高的材料来实现。具体而言，例如，在第1材料为硅的情况下，第2材料能够通过粘韧性比硅更高的树脂来实现。作为第2材料，例如，能够使用丙烯酸树脂、环氧树脂、作为高分子合成材料的对二甲苯类聚合物等。
丙烯酸树脂近年来进行了各种各样的改良，已经开发了能够通过电沉积法以一定的厚度进行成膜、并且能够进行图案形成的被称作电沉积抗蚀剂的丙烯酸树脂。通过使用由这样的丙烯酸树脂构成的电沉积抗蚀剂，从而能够在游丝108a等精密且复杂的形状的钟表部件的表面，设置固定(均匀)的膜厚的缓冲膜21a～21d。
在要求以固定周期进行伸缩运动的游丝108a中，若设置于游丝108a的表面的缓冲膜21a～21d的厚度不均则会失去平衡而发生偏心。通过使用被称作电沉积抗蚀剂的丙烯酸树脂，从而能够设置固定(均匀)的膜厚的缓冲膜21a～21d，因此能够使游丝108a正确地动作。这样，由丙烯酸树脂构成的电沉积抗蚀剂适于作为缓冲膜21a～21d的材料，所述缓冲膜21a～21d用于精密且复杂的形状的钟表部件，特别是用于通过伸缩来进行动作的游丝108a等。
此外，不限于游丝108a，即使在其他的钟表部件中，若所谓的“缓冲膜积存”那样的缓冲膜21a～21d的厚度出现偏颇的部分存在于表面，或者缓冲膜21a～21d的膜厚根据位置而不同，则例如存在会引发在进行活动时与其他结构体发生摩擦或者动作出现偏颇等不良状况的情况。此外，若缓冲膜21a～21d从母材11a～11d的表面突出，则存在钟表部件的外形形状与设计时的尺寸不同的情况。在这样的情况下，由于与设计的形状不一致，因此成为不具有规定性能的钟表部件(次品)。
相对于此，通过作为第2材料而使用被称作电沉积抗蚀剂的丙烯酸树脂，利用电沉积法来形成缓冲膜21a～21d，从而能够在母材11a～11d的表面设置固定(均匀)的膜厚的缓冲膜21a～21d，所以能够避免上述那样的不良状况。缓冲膜21a～21d例如以5μm的厚度形成。
在利用电沉积法来进行缓冲膜21a～21d的形成时，能够将中间膜51a～51d用作在电沉积时施加电压的电极。在基于电沉积法的物体的电沉积中，在基底的电极的上部(表面)，形成电沉积的材料(例如丙烯酸树脂)。因此，通过事先设置与想要形成的缓冲膜21a～21d的形状匹配的形状的中间膜51a～51d，从而能够容易地形成反映了成为基底的中间膜51a～51d的形状的缓冲膜21a～21d。
(游丝108a的制造方法)
接下来，作为本发明所涉及的实施方式1的钟表部件的制造方法，对游丝108a的制造方法进行说明。图4～图9是表示本发明所涉及的实施方式1的游丝108a的制造方法的说明图。在图4～图6中，示出了形成游丝108a中的母材11a～11d的工序。在图7～图9中，示出了在母材11a～11d的表面，依次形成金属膜以及缓冲膜的工序。在图4～图9中，示出了与上述的图3相当的位置。
在游丝108a的制造时，首先，准备硅基板60。硅基板60具有至少能够取出游丝108a的大小的面积和厚度。若考虑游丝的生产性，则硅基板60优选为能够取出多个游丝108a的大小。
接着，如图4所示，在硅基板60的正面形成掩模层90a，在硅基板60的背面对掩模层90b进行成膜。掩模层90a、90b作为在后段的工序中进行的使用了深层RIE技术的加工中的保护膜而发挥作用。掩模层90a、90b优选由蚀刻速度比硅慢的氧化硅(SiO2)形成。在使用氧化硅的情况下，掩模层90a、90b例如能够使用公知的气相沉积技术或CVD法所代表的成膜技术来形成。掩模层90a、90b例如能够通过在硅基板60的正面以1μm的膜厚沉积氧化硅来形成。
接着，如图5所示，在硅基板60的正面，形成掩模层91a。掩模层91a能够通过将掩模层90a图案化为游丝108a的形状来形成。掩模层91a能够通过使用了一般众所周知的光刻法的加工，来图案化为游丝108a的形状。
接着，如图6所示，将硅基板60加工成游丝108a的形状。硅基板60例如能够使用SF6与C4F8的混合气体(SF6+C4F8)300，通过深层RIE技术，经由掩模层91a进行干蚀刻来进行加工。
硅基板60通过经由掩模层91a进行干蚀刻，从而能够加工成规定宽度的游丝的形状。此外，硅基板60能够通过管理干蚀刻的处理时间来加工成规定的高度(深度)。通过针对硅基板60的经由掩模层91a的干蚀刻，从而如图6中由标号11a～11d所示那样，形成成为发条臂201a～201d的母材11a～11d。
接着，如图7所示，从加工后的硅基板60除去掩模层90b以及掩模层91a，从而使游丝108a的母材11a～11d露出。掩模层90b以及掩模层91a例如能够通过将如上所述干蚀刻后的硅基板60浸渍在以氢氟酸为主要成分的公知的蚀刻液中来除去。
接着，如图8所示，在母材11a～11d的表面，形成中间膜51a～51d。中间膜51a～51d例如形成于母材11a～11d的表面整体。形成中间膜51a～51d的材料，如上所述，例如，能够使用铜(Cu)、金(Au)、镍(Ni)等。
使用了铜(Cu)、金(Au)、镍(Ni)等的中间膜51a～51d，例如，使用作为真空成膜法的一种的溅射法，例如，以0.2μm的厚度形成。或者，中间膜51a～51d例如也可以由通过将硅基板60暴露在大气中从而在硅基板60的表面形成的自然氧化膜(硅氧化物)来实现。
中间膜51a～51d成为在后段的工序中设置缓冲膜21a～21d时的基底。此外，使用了铜(Cu)、金(Au)、镍(Ni)等的中间膜51a～51d在使用后述的电沉积法形成缓冲膜21a～21d的情况下，作为电极而发挥作用。在使缓冲膜21a～21d作为电极发挥作用的情况下，中间膜51a～51d优选使用电阻低的材料来形成。
接着，如图9所示，在中间膜51a～51d的表面，形成缓冲膜21a～21d。如上所述，缓冲膜21a～21d是为了缓和从外部对游丝108a施加的冲击力，保护由硅那样的脆性材料构成的母材11a～11d不受破坏而设置的。因此，构成缓冲膜21a～21d的第2材料使用粘韧性比构成母材11a～11d的第1材料高的材料。
此外，形成缓冲膜21a～21d的第2材料能够根据游丝108a等钟表部件所要求的硬度、形成中间膜51a～51d的材料来选择。换言之，形成中间膜51a～51d的材料能够根据形成缓冲膜21a～21d的第2材料来选择。
例如，在使用铜(Cu)来形成了中间膜51a～51d的情况下，构成缓冲膜21a～21d的第2材料优选由丙烯酸树脂、环氧树脂来实现。缓冲膜21a～21d，例如，能够在通过旋涂装置而进行旋转的状态的硅基板60上，使用喷吹丙烯酸树脂、环氧树脂的方法(例如溅射)、使液状化后的树脂滴下而形成的方法(例如旋涂)、使基板浸渍到装入了液状化后的树脂的液槽中后取出而形成的方法等公知的各种技术来容易地形成。
具体地，例如，在利用使液状化后的树脂滴下而形成的方法来形成缓冲膜21a～21d的情况下，首先，准备填满了液状化后的规定树脂的分配器(省略图示)。接着，使载置于可动台(省略图示)的游丝108a沿规定方向进行移动等，并从该分配器滴下缓冲膜21a～21d的树脂。此时，进行滴下使得不从发条臂201a～201d的表面的中间膜51a～51d露出。
然后，进行规定的固化处理来使树脂固化。关于使树脂固化的固化处理，例如，在使用具有紫外线固化性的树脂的情况下，能够通过规定时间的紫外线的照射来实现。此外，关于固化处理，例如在使用了具有热固化性的树脂的情况下，能够通过规定时间的加热来实现。由此，能够在形成于发条臂201a～201d的表面的中间膜51a～51d的表面，形成缓冲膜21a～21d。
缓冲膜21a～21d也能够使用电沉积法来形成。在滴下树脂来形成缓冲膜21a～21d的方法中，极少地存在不能均匀地形成树脂的情况。相对于此，通过使用电沉积法，从而能够在中间膜51a～51d的表面，以固定厚度对构成缓冲膜21a～21d的树脂进行成膜，并且能够容易地进行图案形成。在通过电沉积法来形成缓冲膜21a～21d时，使用被称作电沉积抗蚀剂的丙烯酸树脂。所谓电沉积法，是指使通过电解而析出的物质附着形成在施加有电压的中间膜51a～51d上的成膜法，是众所周知的。
具体地，例如，在使用电沉积法来形成缓冲膜21a～21d的情况下，预先在游丝108a的规定部分，形成中间膜51a～51d。在使用电沉积法来形成缓冲膜21a～21d的情况下，中间膜51a～51d例如优选使用电阻低的铜(Cu)来形成。与中间膜51a～51d的形成同时形成与该中间膜51a～51d电连接的端子区域(省略图示)。该端子区域设置在不影响游丝108a的形状的部分。
接着，在通过公知的把持装置等将形成了中间膜51a～51d以及端子区域的状态的硅基板60进行了固定的状态下，浸渍到填满了含有电沉积抗蚀剂的电沉积液的液槽中。此时，使探针等接触与中间膜51a～51d电连接的端子区域。该探针等与规定的电源单元连接，由此，能够对中间膜51a～51d施加规定电压。
若在使探针等与端子区域接触的状态下对浸渍于电沉积液槽中的中间膜51a～51d施加规定电压，则在液槽内中，通过电解而析出的电沉积抗蚀剂附着于中间膜51a～51d的表面。施加电压，直到电沉积抗蚀剂达到规定的膜厚为止。电沉积抗蚀剂并无特别限定，但例如以5μm的厚度进行成膜。电沉积抗蚀剂的膜厚能够鉴于机械式钟表的规格等自由设定。这样，在使用电沉积法来形成缓冲膜21a～21d的情况下，通过管理施加电压的时间，从而能够容易地调整电沉积抗蚀剂的膜厚。
然后，结束电压的施加，从液槽取出硅基板60。由此，能够在中间膜51a～51d的表面，以固定的膜厚形成反映了中间膜51a～51d的形状的缓冲膜21a～21d。通过使用电沉积法，从而能够在形成缓冲膜21a～21d的前后不会使游丝108a的形状较大变化地形成缓冲膜21a～21d。
此外，具体而言，例如，在由自然氧化膜(硅氧化物)来实现中间膜51a～51d的情况下，构成缓冲膜21a～21d的第2材料优选由对二甲苯类聚合物等树脂材料来实现。对二甲苯类聚合物是作为有机化合物的对二甲苯的聚合物，能够在游丝108a的表面通过发生聚合反应而形成为薄膜状。
对二甲苯类聚合物在保形(conformal)包覆性上优异。即，通过使用对二甲苯类聚合物，从而例如即使是像用于手表的游丝108a等钟表部件那样，微细且由于槽、孔、边缘部分等而成为复杂的形状，也能够无气泡(pin hole)地形成均匀的膜厚的缓冲膜21a～21d。对二甲苯类聚合物所形成的缓冲膜21a～21d例如能够使用作为化学气相沉积(CVD：Chemical Vapor Deposition)之一的气相蒸镀聚合法来形成。
通过上述那样的制造方法，从而能够制造在整个面形成了缓冲膜21a～21d的游丝108a。在作为实施方式1的钟表部件的游丝108a中，作为形成该钟表部件的形状的主要构件的母材11a～11d由非导电性材料的第1材料(例如硅)构成，并在母材11a～11d的表面的至少一部分具有中间膜51a～51d。而且，在该中间膜51a～51d的表面，设置有由粘韧性比第1材料高的第2材料构成的缓冲膜21a～21d。
这样，实施方式1的钟表部件具备使用硅形成的母材11a～11d。由此，通过使用了深层RIE技术的蚀刻加工，从而能够进行高精度的微细加工，能够高精度并且抑制加工精度的偏差地制造形成微细且复杂的形状的钟表部件。
此外，实施方式1的钟表部件在母材11a～11d的表面的至少一部分，具备使用粘韧性比形成母材11a～11d的硅更高的材料而形成的中间膜51a～51d。由此，实施方式1的钟表部件即使在使用硅来形成了母材11a～11d的情况下，也能够缓和硅的易碎性，实现牢固的钟表部件。
此外，实施方式1的钟表部件在中间膜51a～51d的表面，具备粘韧性高的缓冲膜21a～21d。由此，在实施方式1的钟表部件中，缓冲膜21a～21d起到缓冲的作用，即使钟表部件与其他结构体发生了接触，也能够通过缓冲膜21a～21d来缓和冲击。此外，实施方式1的钟表部件通过具备缓冲膜21a～21d，从而能够防止向角部等的应力集中所引起的裂纹、缺损。由此，能够实现钟表部件的耐久性的提高。
如以上说明的那样，实施方式1的钟表部件能够通过在使用硅材料形成的母材11a～11d的表面的至少一部分设置的中间膜51a～51d来缓和硅的易碎性，进而通过在中间膜51a～51d的表面设置的粘韧性高的缓冲膜21a～21d来缓和来自外部的对钟表部件的冲击，从而能够防止向角部等的应力集中所引起的裂纹、缺损。
根据实施方式1的钟表部件，通过具备中间膜51a～51d和缓冲膜21a～21d这2个不同的膜，从而能够实现牢固、并且即使由于冲击而发生与其他结构体的碰撞或应力的集中也难以破坏的钟表部件。
此外，根据实施方式1的钟表部件，通过使用金属材料等具有导电性的材料来形成中间膜51a～51d，从而也能够将中间膜51a～51d用作电极。在该情况下，也能够使用电沉积法来形成缓冲膜21a～21d，通过使用电沉积法，从而能够形成固定的膜厚且基底(例如中间膜51a～51d)的包覆性较高的缓冲膜21a～21d。
此外，根据实施方式1的钟表部件，在使用金属材料的情况下，该金属材料也用作形成对母材11a～11d的表面进行覆盖的中间膜51a～51d的材料。即，中间膜51a～51d的膜厚相对于硅的厚度极薄。由此，实施方式1的钟表部件不会使硅所具有的优异的温度特性变差。
因此，即使在使用作为钟表部件的温度特性不及形成母材11a～11d的硅的金属材料来形成了中间膜51a～51d的情况下，也与对规定的板材形状的金属进行压延等而形成的金属板等不同，不会使硅等第1材料的温度特性变差。由此，实施方式1的钟表部件能够使硅所具有的优异的温度特性得到发挥，并且能够发挥高强度。
这样，根据实施方式1的钟表部件，通过使用以硅等为主要成分的第1材料来形成母材11a～11d，从而能够实现制造精度高的游丝108a的轻量化，并且，通过设置中间膜51a～51d、缓冲膜21a～21d，从而即使在从外部施加了冲击的情况下也难以破坏，能够使其发挥高强度。
＜实施方式2＞
接下来，对作为通过本发明所涉及的实施方式2的制造方法而制造的、本发明所涉及的实施方式2的钟表部件的游丝进行说明。在实施方式2中，与上述实施方式1相同的部分用同一标号表示，并省略说明。在实施方式2中，对游丝108赋予标号108b来进行说明。
图10是表示本发明所涉及的实施方式2的游丝108b的结构的说明图。在图10中，示出了从图1中的箭头X方向观察实施方式2的游丝108b的俯视图。图11是表示图10中的B-B’剖面的说明图。在图10以及图11中，实施方式2的游丝108b具备通过从内侧的缠绕起连接发条臂202a、202b、202c、202d而形成1个结构体的发条部2。
发条臂202a～202d例如能够与实施方式1同样地，宽度设为50μm且高度设为100μm。发条部2的两端部与实施方式1同样地，由中间膜52a、52b、52c、52d和缓冲膜22a、22b、22c、22d重叠形成。在发条臂202a～202d中，母材11a～11d例如与实施方式1同样地，能够使用硅来形成。
此外，在发条臂202a～202d中，中间膜52a～52d设置为覆盖由第1材料构成的母材11a～11d的4个角部1100。中间膜52a～52d能够使用与实施方式1相同的材料，采用与实施方式1相同的制造方法来形成。中间膜52a～52d的膜厚例如能够与实施方式1同样地设为0.2μm。
此外，在发条臂202a～202d中，缓冲膜22a～22d设置在中间膜52a～52d的上层。缓冲膜22a～22d使用第2材料作为主要成分来形成。缓冲膜22a～22d的膜厚并不特别限定，但例如能够设为5μm。第2材料例如能够与实施方式1同样地，通过树脂、电沉积抗蚀剂来实现。在使用电沉积抗蚀剂作为第2材料的情况下，能够与第1实施方式同样地，在中间膜52a～52d的表面，形成固定膜厚的缓冲膜22a～22d。
因为电沉积抗蚀剂与光致抗蚀剂相同，所以通过将公知的光刻技术与蚀刻技术进行组合，从而能够仅在发条臂202a～202d中的母材11a～11d的4个角部1100，形成以规定形状图案化的缓冲膜22a～22d。
在某些冲击施加于游丝108b的情况下，应力集中于角部1100。因此，在使用硅那样的脆性材料来形成游丝108b的情况下，担心会由于冲击的影响而在角部1100产生缺损、裂纹。对此，实施方式2的游丝108如图11所示，通过在应力集中的游丝108b的角部1100设置中间膜52a～52d和粘韧性较高的缓冲膜22a～22d，从而能够缓和施加于角部1100的冲击。由此，能够实现强韧的游丝108b。
(游丝108b的制造方法)
接下来，作为本发明所涉及的实施方式2的钟表部件的制造方法，对游丝108b的制造方法进行说明。图12以及图13是表示本发明所涉及的实施方式2的游丝108b的制造方法的说明图。在游丝108b的制造时，首先，与上述实施方式1中的图4～图9的工序相同，在母材11a～11d的表面，依次形成中间膜52a～52d以及缓冲膜22a～22d。在实施方式2中，例如，以使用了电沉积法的电沉积抗蚀剂所形成的缓冲膜22a～22d为例来进行说明。
接着，将缓冲膜22a～22d图案形成为规定形状。如图12所示，缓冲膜22a～22d的图案形成通过经由曝光掩模500、510利用紫外光600对由电沉积抗蚀剂构成的缓冲膜21a～21d进行规定部分的曝光来进行。
在实施方式2中的缓冲膜22a～22d的形成时，例如，能够使用曝光部分被显影而溶解的类型的感光性材料所形成的电沉积抗蚀剂。在该情况下，使用设计为进行遮蔽使得想要保留图案的部分不被曝光的曝光掩模500、510。例如，在游丝108b的角部1100想要保留缓冲膜的情况下，曝光掩模500、510设为不向该角部1100照射紫外光600那样的形状。
在缓冲膜22a～22d的图案形成时，如图12所示，通过从斜向对游丝108b照射紫外光600，从而能够向游丝108b的侧面80也照射紫外光600。在缓冲膜22a～22d的图案形成时，具体而言，例如，如图12所示，使用从斜向对母材11a～11d的表面照射紫外光600的曝光装置，以400mJ/cm2的曝光量进行照射。
接着，如图13所示，除去由电沉积抗蚀剂构成的缓冲膜21a～21d中的已曝光的部分。通过除去已曝光的部分，从而能够形成仅对游丝108b的角部1100进行图案化的缓冲膜22a～22d。已曝光的部分的除去能够通过使用公知的显影液将该已曝光的部分溶解来除去。已曝光的部分的除去，具体而言，例如，通过使用25℃的电解还原离子水作为显影液进行20分钟的显影来进行。
然后，将仅对游丝108b的角部1100进行图案化的缓冲膜22a～22d用作掩模，对中间膜51a～51d进行蚀刻。例如，在使用铜(Cu)来形成中间膜51a～51d的情况下，能够使用氯化铜系蚀刻液来进行中间膜51a～51d的蚀刻。
由此，如图11所示，中间膜51a～51d中的未被缓冲膜22a～22d覆盖的部分通过蚀刻而被除去，形成以与缓冲膜22a～22d相同的形状进行了图案形成的中间膜52a～52d。若中间膜51a～51d中的未被缓冲膜22a～22d覆盖的部分通过蚀刻而被除去，则与通过蚀刻而除去的部分对应的部分的母材11a～11d露出。这样，如图11所示，能够制造具备在母材11a～11d的表面的一部分形成的缓冲膜22a～22d的游丝108b。
如以上说明的那样，实施方式2的钟表部件通过预先由电沉积抗蚀剂形成缓冲膜21a～21d，从而能够将使用通常的光致抗蚀剂的公知的光刻技术与蚀刻技术进行组合，对缓冲膜21a～21d容易地实施加工。由此，能够容易地形成仅覆盖母材11a～11d的4个角部1100的缓冲膜22a～22d。
在实施方式2的制造方法中，在图13所示的状态下，也可以停止以后的加工。在该情况下，中间膜51a～51d保持覆盖母材11a～11d的表面的状态。通过设为这样的结构，从而能够提高游丝108b的强度。是设为图11所示的结构还是设为图13所示的结构，例如，能够鉴于搭载游丝108b的机械式钟表的规格、使用环境等来进行选择。
＜实施方式3＞
接下来，对作为组装了通过本发明所涉及的实施方式3的制造方法而制造的、本发明所涉及的实施方式3的钟表部件的钟表的驱动机构的游丝进行说明。在实施方式3中，与上述实施方式1、2相同的部分用同一标号表示，并省略说明。在实施方式3中，对游丝108赋予标号108c来进行说明。
图14是表示本发明所涉及的实施方式3的游丝108c的结构的说明图。在图14中，示出了从图1中的箭头X方向观察实施方式3的游丝108c的俯视图。图15是表示图14中的C-C’剖面的说明图。在图14以及图15中，实施方式3的游丝108c具备通过从内侧的缠绕起连接发条臂203a、203b、203c、203d而形成1个结构体的发条部2。发条臂203a～203d例如能够与实施方式1、2同样地，宽度设为50μm且高度设为100μm。
在发条部2中，在母材11a～11d的正面侧的端面(平面)81，在宽度方向的中央部分，设置有从该平面81向母材11a～11d的背面侧的端面(平面)82侧凹陷的槽部71a、71b、71c、71d。槽部71a～71d以规定宽度且以规定深度凹陷。由此，在母材11a～11d的正面侧，通过平面81和槽部71a～71d形成了台阶部。
此外，在发条部2中，在母材11a～11d的平面82，在宽度方向的中央部分，设置有从该平面82向平面81侧凹陷的槽部72a、72b、72c、72d。槽部72a～72d以规定宽度且以规定深度凹陷。由此，在母材11a～11d的背面侧，通过平面82和槽部72a～72d形成了台阶部。
槽部71a～71d以及槽部72a～72d形成为宽度是20μm且深度是40μm的尺寸。槽部71a～71d以及槽部72a～72d的尺寸并不特别限定。在槽部71a～71d以及槽部72a～72d的内侧(内表面)，设置有中间膜53a、53b、53c、53d。
中间膜53a～53d与上述实施方式1、2同样地，使用粘韧性比形成母材11a～11d的第1材料高的材料来形成。中间膜53a～53d例如能够使用硅氧化物、氧化铝、DLC、金属材料、将金属材料与其他材料进行了混合的合金等来形成。中间膜53a～53d例如能够与上述实施方式1、2同样地，例如以0.2μm的厚度形成。
在中间膜53a～53d的表面即该中间膜53a～53d的上层，设置有缓冲膜23a～23d。缓冲膜23a～23d填充到槽部71a～71d以及槽部72a～72d内而设置。缓冲膜23a～23d例如与上述实施方式1、2同样地，使用粘韧性比第1材料高的第2材料来形成。具体而言，缓冲膜23例如能够使用树脂、电沉积抗蚀剂等作为第2材料。通过使用电沉积抗蚀剂，从而能够在中间膜53a～53d的上层，形成固定膜厚(例如5μm)的缓冲膜23a～23d。在实施方式3中，如图15所示，缓冲膜23a～23d设置为填充槽部71a～71d以及槽部72a～72d。
一般地，树脂的密度比硅小。因此，像游丝108c这样，通过在由硅形成的母材11a～11d设置槽部71a～71d以及槽部72a～72d，并在该槽部71a～71d以及槽部72a～72d填充由树脂形成的缓冲膜23，从而能够与槽部71a～71d以及槽部72a～72d的体积的部分相应地实现进一步的游丝108c的轻量化。
此外，通过由使用金属材料形成的中间膜53a～53d来覆盖槽部71a～71d以及槽部72a～72d的内部，从而能够弥补因设置槽部71a～71d以及槽部72a～72d(从母材11a～11d除去槽部71a～71d以及槽部72a～72d部分的体积)而引起的游丝108c的强度下降，使游丝108c的强度提高。
进而，通过在中间膜53a～53d的上层，设置粘韧性高的缓冲膜23，从而能够使游丝108c变得难以破坏，能够实现游丝108c的耐久性的提高。此外，通过覆盖槽部71a～71d以及槽部72a～72d的角部分来设置中间膜53a～53d，从而即使在游丝108c受到较强的冲击的情况下也能够防止应力集中于角部而损坏的情况。由此，能够制造牢固的游丝108c。
此外，通过在槽部71a～71d以及槽部72a～72d的内部，设置缓冲膜23，从而能够在母材11a～11d的内侧设置树脂，由此，能够使发条部2变得柔软，能够使发条部2不易折断。
在上述的实施方式3中，通过使平面81、82凹陷为凹状，从而形成槽部71a～71d以及槽部72a～72d，构成了台阶部，但台阶部并不限于通过凹状来构成。例如，也可以通过使平面81、82向与槽部71a～71d以及槽部72a～72d相反的方向突出为凸状而构成凸部，覆盖该凸部来形成中间膜53a～53d和缓冲膜23。由此，能够制造牢固的游丝108c。
在实施方式3中，对在平面81以及平面82的双方设置了槽部71a～71d以及槽部72a～72d的游丝108c进行了说明，但并不限于此。槽部71a～71d以及槽部72a～72d也可以仅设置于平面81或平面82中的任意一方。
(游丝108c的制造方法)
接下来，作为本发明所涉及的实施方式3的钟表部件的制造方法，对游丝108c的制造方法进行说明。图16～图26是表示本发明所涉及的实施方式3的游丝108c的制造方法的说明图。在游丝108c的制造时，首先，准备硅基板61。硅基板61具有至少能够取出游丝108c的大小的面积和厚度。若考虑游丝的生产性，则硅基板61优选为能够取出多个游丝108c的大小。
接着，如图16所示，在硅基板61的正面侧的端面即平面81的正面侧形成掩模层92a，在硅基板61的背面侧的端面即平面82的背面侧形成掩模层92b。在掩模层92a、92b上，形成有用于在游丝的规定部分形成槽部的开口图案。
掩模层92a、92b作为在后段的工序中进行的使用了深层RIE技术的加工中的保护膜而发挥作用。掩模层92a、92b优选由蚀刻速度比硅慢的氧化硅(SiO2)形成。掩模层92a、92b例如能够通过以1μm的膜厚沉积氧化硅来形成。
接着，如图17所示，在管理处理时间的同时，使用SF6与C4F8的混合气体(SF6+C4F8)300，通过深层RIE技术，经由掩模层92a、92b进行干蚀刻。由此，未被掩模层92a、92b覆盖的部分，即按规定形状空出的开口图案部分被进行蚀刻加工。
即，形成在平面81侧形成了槽部71a～71d、且在平面82侧形成了槽部72a～72d的硅基板62。槽部71a～71d以及槽部72a～72d并无特别限定，但例如形成为宽度成为20μm、深度成为40μm。在利用深层RIE技术对硅基板61进行干蚀刻时，也可以像在平面81侧进行的干蚀刻和在平面82侧进行的干蚀刻这样，按每个面分2次进行蚀刻。
接着，如图18所示，从硅基板62除去掩模层92a、92b。掩模层92a、92b例如能够通过将硅基板62浸渍在以氢氟酸为主要成分的公知的蚀刻液中来除去。由此，能够将设置在平面82侧的掩模层92a和设置在平面81侧的掩模层92b同时除去。
接着，如图19所示，在硅基板62的正面侧的平面81以及槽部71a～71d的内壁，对掩模层93a进行成膜。此外，如图19所示，在硅基板62的背面侧的平面82以及槽部72a～72d的内壁，对掩模层93b进行成膜。
掩模层93a、93b作为在后段的工序中进行的使用了深层RIE技术的加工中的保护膜而发挥作用。掩模层93a、93b优选由蚀刻速度比硅慢的氧化硅(SiO2)形成。掩模层93a、93b例如能够通过以1μm的膜厚沉积氧化硅来形成。
接着，如图20所示，对掩模层93a进行加工，形成图案化为游丝108c的形状的掩模层94a。在掩模层93a的加工时，通过一般所熟知的光刻法来进行加工。由此，能够形成图案化为游丝108c的形状的掩模层94a。
接着，如图21所示，在管理处理时间的同时，使用SF6与C4F8的混合气体(SF6+C4F8)300，通过深层RIE技术，经由掩模层94a、93b进行干蚀刻。由此，未被掩模层94a覆盖的部分，即按规定形状空出的开口图案部分被进行蚀刻加工，硅基板62被加工成规定宽度和规定高度的母材13a～13d的形状。
接着，如图22所示，除去掩模层93b、94a。掩模层93b、94a例如能够将硅基板62浸渍到以氢氟酸为主要成分的公知的蚀刻液中来除去。由此，露出图22所示那样的游丝108c的母材13a～13d。在露出状态的母材13a～13d上，分别形成了槽部71a～71d以及槽部72a～72d。
接着，如图23所示，形成中间膜55a～53d使得覆盖母材13a～13d的表面。中间膜55a～55d也设置在槽部71a～71d以及槽部72a～72d的内侧。中间膜55a～55d能够使用上述的各种材料来形成，例如，能够使用铜(Cu)、金(Au)、镍(Ni)等来形成。具体地，关于中间膜55a～55d，例如，在使用铜(Cu)来形成中间膜53a～53d的情况下，能够使用作为真空成膜法的一种的溅射法来形成。此外，中间膜55a～55d例如形成为0.2μm的厚度。
接着，如图24所示，在中间膜55a～55d的上层形成缓冲膜25a～25d。如上所述，缓冲膜25a～25d缓和从外部施加于游丝108c的冲击。因此，缓冲膜25a～25d使用粘韧性比构成母材13a～13d的第1材料高的材料来形成，以使得适于冲击的缓和。在实施方式3中，由于需要将缓冲膜25a～25d加工成规定形状，因此选择适于冲击的缓和并且容易加工的材料。
作为粘韧性高、并且能够进行图案形成(容易加工)的材料，例如，优选为在电沉积法中使用的由丙烯酸树脂构成的电沉积抗蚀剂。通过使用由丙烯酸树脂构成的电沉积抗蚀剂，从而能够形成固定厚度的缓冲膜25a～25d，并且，也能够良好地进行该缓冲膜25a～25d的图案形成。
通过使用由这样的丙烯酸树脂构成的电沉积抗蚀剂作为缓冲膜25a～25d，从而如图24所示，能够在形成于由硅构成的母材13a～13d上的由铜(Cu)构成的中间膜55a～55d的上层，容易地形成由电沉积抗蚀剂构成的缓冲膜25a～25d。缓冲膜25a～25d的膜厚并无特别限定，但例如能够以5μm的厚度形成。
接着，如图25所示，经由曝光掩模520、530，利用紫外光600对由电沉积抗蚀剂构成的缓冲膜25a～25d进行规定部分的曝光。在实施方式3中使用的电沉积抗蚀剂如实施方式2中所说明的那样，例如，能够使用曝光部分被显影而溶解的类型的感光性材料所形成的电沉积抗蚀剂。曝光掩模520、530设计为使槽部71a～71d以及槽部72a～72d的部分的缓冲膜25a～25d不通过紫外光600而曝光。
在缓冲膜25a～25d的图案形成时，如图25所示，通过从斜向对游丝108c照射紫外光600，从而能够对游丝108c的侧面80也照射紫外光600。在缓冲膜25a～25d的图案形成时，具体而言，例如，如图25所示，使用从斜向对母材13a～13d的表面照射紫外光600的曝光装置，以400mJ/cm2的曝光量进行照射。
接着，如图26所示，除去由电沉积抗蚀剂构成的缓冲膜25a～25d中的已曝光的部分。通过除去已曝光的部分，从而能够形成仅在槽部71a～71d以及槽部72a～72d的附近残存缓冲膜23a～23d的游丝108c。已曝光的部分的除去能够通过使用公知的显影液将该已曝光的部分溶解来除去。已曝光的部分的除去，具体而言，例如，与上述实施方式2同样地，通过使用25℃的电解还原离子水作为显影液进行20分钟的显影来进行。
然后，将在游丝108c的槽部71a～71d以及槽部72a～72d形成的缓冲膜23a～23d用作掩模，对中间膜55a～55d进行蚀刻。例如，在使用铜(Cu)来形成了中间膜55a～55d的情况下，能够使用氯化铜系蚀刻液来进行中间膜55a～55d的蚀刻。
由此，如图15所示，中间膜53a～53d中的未被缓冲膜23a～23d覆盖的部分通过蚀刻而被除去，在被缓冲膜23a～23d覆盖的部分以形成了中间膜53a～53d的状态而残留。若中间膜53a～53d中的未被缓冲膜23a～23d覆盖的部分通过蚀刻而被除去，则与通过蚀刻而除去的部分对应的部分的母材13a～13d露出。这样，如图15所示，能够制造具备在母材13a～13d的表面的一部分形成的缓冲膜23a～23d的游丝108c。
在实施方式3的制造方法中，在图26所示的状态下，也可以停止以后的加工。在该情况下，中间膜53a～53d保持覆盖母材13a～13d的表面的状态。通过设为这样的结构，从而能够提高游丝108c的强度。是设为图15所示的结构还是设为图26所示的结构，例如，能够鉴于搭载游丝108c的机械式钟表的规格、使用环境等来进行选择。
如图14以及图15所示，具有槽部71a～71d以及槽部72a～72d的游丝能够通过上述那样的第3制造方法来容易地制造。在实施方式3中，以在槽部71a～71d以及槽部72a～72d的内侧填充缓冲膜23a～23d的情况为例进行了说明，但并不限定于此。在利用电沉积法进行的缓冲膜23a～23d的形成中，通过管理形成时间等，能够在中间膜53a～53d的上部以固定膜厚形成缓冲膜23a～23d。
此外，在上述的第3制造方法中，示出了作为台阶部而在凹部形状的槽部71a～71d以及槽部72a～72d形成缓冲膜23a～23d的制造方法，但对于凸部形状的台阶部(省略图示)也能够通过同样的制造方法来制造。即，在形成台阶部时，只要对掩模进行图案形成使得在平面81、82形成凸部即可。像这样，遮蔽哪部分，蚀刻哪部分，在半导体装置的加工中也广泛使用，故而省略详细说明。
＜实施方式4＞
(游丝的制造方法)
接下来，作为本发明所涉及的实施方式4的钟表部件的制造方法，对本发明所涉及的实施方式4的游丝的制造方法进行说明。在实施方式4中，与上述实施方式1～3相同的部分用同一标号表示，并省略说明。在实施方式4中，对图30所示的游丝108(108d)的制造方法进行说明。
图27～图30是表示本发明所涉及的实施方式4的游丝108d的制造方法的说明图。在游丝108d的制造时，首先，准备硅基板61。硅基板61具有至少能够取出游丝108d的大小的面积和厚度。若考虑游丝108d的生产性，则硅基板61优选为能够取出多个游丝108d的大小。
接着，如图27所示，在硅基板61的平面81的正面侧形成第1掩模层95a，在硅基板61的平面82的背面侧形成掩模层95b。掩模层95a、95b在与游丝108d的形状相应的规定部分形成了开口图案，使得硅基板61分别形成母材13a～13d。
此外，如图27所示，在第1掩模层95a的上层，形成第2掩模层97a，该第2掩模层97a形成了用于在游丝108d的规定部分形成槽部71a～71d的开口图案，在第1掩模层95b的上层，形成第2掩模层97b，该第2掩模层97b形成了用于在游丝108d的规定部分形成槽部72a～72d的开口图案。此外，在第2掩模层97a、97b上，在与掩模层95a、95b上的开口图案相应的位置，形成了与游丝108d的形状相应的开口图案。
第1掩模层95a、95b作为在后段的工序中进行的使用了深层RIE技术的加工中的保护膜而发挥作用。例如，第1掩模层95a、95b优选由蚀刻速度比硅慢的氧化硅(SiO2)形成。第1掩模层95a、95b例如能够通过以1μm的膜厚沉积氧化硅来形成。
第2掩模层97a、97b作为在后段的工序中进行的在第1掩模层95a、95b对槽形状进行图案形成时的保护膜而发挥作用。第2掩模层97a、97b优选由针对第1掩模层95a、95b的蚀刻具有耐蚀性的材料来形成。例如，在第1掩模层95a、95b使用氧化硅来形成的情况下，第2掩模层97a、97b能够通过以1μm的膜厚沉积感光性抗蚀剂来形成。
接着，如图28所示，在管理处理时间的同时，使用SF6与C4F8的混合气体(SF6+C4F8)300，通过深层RIE技术，经由第1掩模层95a、95b进行干蚀刻。由此，未被第1掩模层95a、95b覆盖的部分即与游丝108d的形状相应的规定部分被加工，形成规定宽度和规定高度的母材14a～14d。
接着，如图29所示，将第2掩模层97a、97b用作掩模，对第1掩模层95a、95b进行图案形成。因为第1掩模层95a、95b如上所述由氧化硅(SiO2)构成，所以该图案形成能够通过将形成了第2掩模层97a、97b的硅基板61浸渍在以氢氟酸为主要成分的公知的蚀刻液中来除去。
由此，如图29所示，成为槽部71a～71d以及槽部72a～72b的部分的第1掩模层95a、95b被除去，形成与第2掩模层97a、97b在平面上重叠的加工后的第1掩模层96a、96b。在平面81侧，成为如下状态，即：成为槽部71a～71d的部分的掩模开口从而硅的母材14a、14b、14c、14d露出。此外，平面82侧的第1掩模层95b中的与游丝108c的形状相应的规定部分也被除去。此时，若第2掩模层97a、97b是感光性抗蚀剂，则即使浸渍在以氢氟酸为主要成分的公知的蚀刻液中，也不会侵蚀第2掩模层97a、97b。
接着，如图30所示，在管理处理时间的同时，使用SF6与C4F8的混合气体(SF6+C4F8)300，通过深层RIE技术，经由第2掩模层97a、97b以及加工后的第1掩模层96a、96b，进行干蚀刻。由此，未被第2掩模层97a、97b以及加工后的第1掩模层96a、96b覆盖的部分，即与槽部71a～71d以及槽部72a～72b相当的部分被蚀刻加工，将硅基板62加工成规定宽度和规定高度的母材13a～13d的形状。
接着，除去第2掩模层97a、97b以及加工后的第1掩模层96a、96b。由此，形成上述图22所示那样的、游丝108d的母材13a～13d。在母材13a～13d的正面(平面81)以及背面(平面82)，分别形成了槽部71a～71d以及槽部72a～72d。
加工后的掩模层96a、96b例如能够通过将硅基板62浸渍在以氢氟酸为主要成分的公知的蚀刻液中来除去。此外，第2掩模层97a、97b例如能够通过将硅基板62浸渍在丙酮那样的有机溶剂的液中来除去。之后，能够与图23～26同样地形成图14以及图15所示的游丝108d。
这样，实施方式4的制造方法是与上述的实施方式3同样地，在发条臂203a～203d设置作为台阶部的槽部71a～71d以及槽部72a～72d，在该槽部71a～71d以及槽部72a～72d设置中间膜53a～53d和缓冲膜23a～23d的游丝108d的制造方法，其在形成外形形状的工序之后，能够形成作为台阶部的槽部。在实施方式4的制造方法中，示出了在作为凹部形状的槽部71a～71d以及槽部72a～72d形成中间膜53a～53d和缓冲膜23a～23d的制造方法，但与上述实施方式3同样地，即使是凸部形状的台阶也能够通过同样的制造方法来制造。
＜实施方式5＞
接下来，对作为组装了通过本发明所涉及的实施方式5的制造方法而制造的、本发明所涉及的实施方式5的钟表部件的钟表的驱动机构的擒纵叉107进行说明。在实施方式5中，与上述实施方式1～4相同的部分用同一标号表示，并省略说明。
图31是表示实施方式5的擒纵叉107的结构的说明图。在图31中，示出了从图1中的箭头X方向观察实施方式5的擒纵叉107的俯视图。图32是表示图31中的D-D’剖面的说明图。在图31以及图32中，擒纵叉107实现机械式钟表的摆轮游丝机构(调速机构)104的一部件。
擒纵叉107使通过由轮系105传递的动力而试图旋转的擒纵轮106有规律地前进或者停止。擒纵叉107具备从作为擒纵叉107的旋转中心的轴孔10朝向分别不同的3个方向延伸的1支叉杆部6和2支臂部7a、7b。
在叉杆部6的前端，设置有呈コ字状开口的叉口部8。通过游丝108(108a～108c)以规律的周期进行旋转往复运动的摆钻与叉口部8抵接，相应地擒纵叉107以轴孔10为中心，以规律的周期进行往复运动。
在臂部7a、7b的前端，设置有叉开槽9a、9b。在叉开槽9a、9b中，插入固定称为叉瓦的部件。从游丝108(108a～108c)，经由摆钻，传递至擒纵叉107的有规律的运动通过由叉瓦弹拨擒纵轮106而传递给擒纵轮106，使擒纵轮106前进或者停止。
在这样的摆轮游丝机构104中，通过实现各部件的轻量化，从而能够提高游丝108(108a～108c)产生的动力的传递效率。因此，在实施方式5的擒纵叉107中，作为形成该擒纵叉107的母材15的第1材料，使用了轻量并且具有良好的加工性的硅。
如以上说明的那样，实施方式5的擒纵叉107通过使用硅来形成母材15，从而能够使用深层RIE技术对形成该母材15的硅进行加工。具体而言，如图31所示，在擒纵叉107的一部分开设孔12，从而能够容易地实现成为中空形状的擒纵叉107。孔12沿厚度方向贯通了擒纵叉107。通过将擒纵叉107设为中空形状，从而能够在由硅形成母材15所实现的轻量化的基础上，实现进一步的轻量化。
此外，实施方式5的擒纵叉107通过在母材15的表面形成中间膜53，并在中间膜53的上层进一步形成缓冲膜24，从而能够防止因中空而导致的强度的下降所引起的损坏。即，通过在母材15的表面设置使用上述的各种材料等而形成的中间膜53来缓和硅的易碎性，进而通过在中间膜53的表面设置使用粘韧性比作为第1材料的硅高的第2材料而形成的缓冲膜24来缓和来自外部的对擒纵叉107的冲击，从而能够防止向角部等的应力集中所引起的裂纹、缺损等损坏。
叉口部8是与摆钻直接接触的部分，若在叉口部8的表面设置缓冲膜24，则来自摆钻的力的传递效率会下降。因此，在擒纵叉107中，如图32所示，像擒纵叉107中的叉口部8等那样，根据目的、功能，在同一部件中在一部分上不设置缓冲膜24。
此外，在擒纵叉107等钟表部件中，根据使用该钟表部件的机械式钟表的规格等，也可以除了叉口部8的缓冲膜24之外也将叉口部8的中间膜53除去，使作为母材15的第1材料(在该例中为硅)露出。由此，能够使来自摆钻的力高效地传递至擒纵轮106。
在实施方式5中，设置沿厚度方向贯通擒纵叉107的多个孔12而成为中空形状，但擒纵叉107的形状并不限于此。例如，也可以如上述实施方式3中所说明的那样，设为在擒纵叉107的表面设置成为台阶部的槽部的结构。由此，能够在由硅形成母材15所实现的轻量化的基础上，实现进一步的轻量化。
此外，在通过这样设置槽部来实现轻量化的情况下，也可以沿着该槽部的形状设置缓冲膜53、缓冲膜24，或者由缓冲膜24来填充槽部。由此，能够防止因中空而导致的强度的下降所引起的损坏。
在实施方式5中，作为实现了基于中空的轻量化、以及因中空导致的强度的下降所引起的损坏的防止的钟表部件，对擒纵叉107进行了举例说明，但并不限于此。这样的钟表部件能够取代擒纵叉107或者在擒纵叉107的基础上，通过齿轮(号轮、擒纵轮)、摆轮等其他钟表部件来实现。
＜实施方式6＞
接下来，对作为组装了通过本发明所涉及的实施方式6的制造方法而制造的、本发明所涉及的实施方式6的钟表部件的钟表的驱动机构的齿轮进行说明。在实施方式6中，与上述实施方式1～5相同的部分用同一标号表示，并省略说明。
图33是表示实施方式6的齿轮的结构的说明图。在图33中，实施方式6的齿轮331具备对轴332进行嵌合的轴孔331a。齿轮331具备使用硅形成的母材16。在位于轴孔331a的内周面的母材16的表面，设置有中间膜54。中间膜54能够使用上述的各种材料来形成。在中间膜54的上层，设置有使用第2材料形成的缓冲膜25。
如以上所说明的那样，实施方式6的齿轮331通过使用硅来形成母材16，从而实现齿轮331的轻量化，并且，通过在轴孔331a的内周面设置中间膜54以及缓冲膜25，从而缓和来自外部的对齿轮331的冲击，能够防止向角部等的应力集中所引起的裂纹、缺损等损坏。
＜实施方式7＞
接下来，对作为通过本发明所涉及的实施方式7的制造方法而制造的、本发明所涉及的实施方式7的钟表部件的驻极体进行说明。在实施方式7中，与上述实施方式1～6相同的部分用同一标号表示，并省略说明。
图34以及图35是表示本发明所涉及的实施方式6的驻极体的说明图。在图34中，示出从斜向观察驻极体的状态，在图35中，示出了从正面观察驻极体的状态。在图34以及图35中，驻极体(electret)340是由在通过施加电场而发生介电极化的电介质中即使去除电场而介电极化也仍然残留(继续形成电场)的物质所形成的带电体，其用于省略图示的发电装置等。
驻极体340具备对轴341进行嵌合的轴孔351。驻极体340具备以轴341为中心，从该轴341呈辐射状配置的带电体342。在带电体342的正面，设置有带电膜。带电膜例如通过进行电晕放电等处理，从而带电为正或者负的电荷。
在带电体342与带电体342之间，沿着以轴341为中心的圆的圆周方向，设置有开口343。由此，能够实现驻极体340的轻量化。带电体342经由省略图示的弹性构件与轴341连接。驻极体340构成为在从外部施加了振动的情况下，绕轴341进行摇摆运动。
实施方式6的驻极体340具备通过使用深层RIE技术对硅制的基板进行加工而形成的母材。驻极体340的形状通过母材来构成。在驻极体340中，在设置有带电膜的部分即带电体342的正面以外的位置，设置有中间膜以及缓冲膜(均省略图示)。中间膜以及缓冲膜设置于设置有带电膜的部分以外的所有部分，也设置于轴孔351的内周面。
中间膜设置为覆盖驻极体340的母材的表面中的带电体342的正面以外的部分。缓冲膜层叠在中间膜的上层，设置为覆盖带电体342的正面以外的部分。中间膜以及缓冲膜分别使用与上述的实施方式相同的材料来形成。
这样的驻极体340谋求轻量化，另一方面是非常微细的部件，所以若使用硅等来形成，则担心对来自外部的冲击的耐性降低。实施方式6的驻极体340由于在母材的表面中的带电体342的正面以外的位置设置有中间膜以及缓冲膜，因此能够通过由硅形成母材15来实现轻量化，并且能够通过中间膜以及缓冲膜来缓和来自外部的冲击。
此外，在驻极体340中，通过在轴孔351的内周面设置中间膜以及缓冲膜，从而轴孔351的内周面和轴341的外周面经由缓冲膜而接触。由此，即使在将轴341嵌入于轴孔351的情况下对驻极体340施加了冲击的情况下，也能够缓和该冲击。由此，能够防止在将轴341嵌入于轴孔351时驻极体340发生破裂或者产生裂纹。
＜实施方式8＞
接下来，对作为通过本发明所涉及的实施方式8的制造方法而制造的、本发明所涉及的实施方式8的钟表部件的宝石轴承进行说明。在实施方式8中，与上述实施方式1～7相同的部分用同一标号表示，并省略说明。
图36以及图37是表示机械式钟表中的驱动机构的一部分的说明图。在图36中，机械式钟表中的驱动机构具备作为由红宝石等宝石形成的轴承的宝石轴承361。图36所示的宝石轴承361呈圆板形状，在中央部形成有轴孔361a。
在机械式钟表中，关于宝石轴承361，例如，如图36所示，在底板362形成缺口363，通过在该缺口363内嵌入宝石轴承361来保持。缺口363具备突出为在多个部位与宝石轴承361抵接的突出部362a，形成与宝石轴承361的外表面的形状异型的形状。
缺口363并不是宝石轴承361正好嵌入在缺口363内那样的同型形状，而是通过使朝向缺口363的内侧突出的多个突出部362a与宝石轴承361的外周面抵接来支承宝石轴承361。缺口363通过对宝石轴承361经由突出部362a向由箭头所示的方向作用抵接力来支承宝石轴承361。
这样，在通过使突出部362a与宝石轴承361抵接来保持宝石轴承361的情况下，为了可靠地进行保持，需要使突出部362a对宝石轴承361强力地抵接，但由于强力地抵接，从而在宝石轴承361上的突出部362a抵接的位置处负担加重。另一方面，若突出部362a对宝石轴承361的抵接力较弱，则难以充分地保持宝石轴承361。特别是，在底板362的外侧的端部(外缘)配置宝石轴承361的情况下，难以保持宝石轴承361。
相对于此，实施方式8的宝石轴承361通过在将红宝石、硅等作为第1材料而形成的母材的表面，设置中间膜，并在该中间膜的上层设置缓冲膜而形成(均省略详细的图示以及标号)。即，宝石轴承361的母材由中间膜以及缓冲膜覆盖。
这样，通过设为在母材的表面设置有中间膜以及缓冲膜的宝石轴承361，从而即使在为了强力地保持该宝石轴承361而使突出部362a对宝石轴承361强力地进行了抵接的情况下，也不会损伤宝石轴承361，能够可靠地保持该宝石轴承361。
宝石轴承361并不限于图36所示的形状。例如，也可以取代图36所示的形状的宝石轴承361，而设为图37所示那样的形状的宝石轴承371。宝石轴承371通过从底板362的端部(外缘)向内侧插入，并嵌入到被切成在底板362的内侧向横向扩展的缺口373来支承。宝石轴承371具有与缺口373相同的形状，形成了比底板362的端部更靠内侧的部位在横向上扩展的大致T字形状。此外，宝石轴承371从中央部偏向端部，形成有轴孔371a。只要使用通过光刻对硅原材料进行加工而成的宝石轴承371，这样异型形状的制作也很容易。
通过设为这样形状的宝石轴承371以及缺口373，从而能够稳定地保持宝石轴承371。由此，能够将轴孔371a配置在靠近底板362的端部(外缘)的位置。宝石轴承的形状并不限于图36、图37所示的形状，例如，也可以设为由底板362支承的三角形的宝石轴承，使得在底板362的端部(外缘)配置顶角。在这样的三角形的宝石轴承中，能够在配置于底板362的端部(外缘)的顶角设置轴孔。
＜实施方式9＞
接下来，对作为通过本发明所涉及的实施方式9的制造方法而制造的、本发明所涉及的实施方式8的钟表部件的齿隙校正构件进行说明。齿隙校正构件在像机械式钟表中的轮系105或者螺纹等那样，与齿轮(或者螺纹)相互嵌合来传递运动的机构中，为了对在该机构中的齿轮(或者螺纹)的运动方向上有意地设置的间隙(所谓的齿隙)进行校正而设置。关于齿隙校正构件，作为现有技术，例如，在专利第4851945号中有记载。
具体而言，齿隙校正构件例如设置在齿轮(或者螺纹)与嵌合对象进行嵌合的齿(或者螺纹牙)的位置。或者，齿隙校正构件设置在齿轮(或者螺纹)与嵌合对象之间。齿隙校正构件具备与齿轮(或者螺纹)嵌合的齿部，在经由该齿部传递齿轮(或者螺纹)的旋转的情况下，与齿轮(或者螺纹)联动旋转。齿部构成为相对于旋转方向发生弹性变形。由此，齿隙校正构件对齿轮(或者螺纹)与嵌合对象之间的齿隙进行校正。
将该齿隙校正构件中的至少齿部作为母材，在该母材即齿部，设置上述的中间膜以及缓冲膜。由此，能够缓和齿轮(或者螺纹)等的动力传递所造成的冲击，能够防止由于该齿轮(或者螺纹)对齿隙校正构件的齿部进行碰撞而致使应力集中于该齿部所引起的、齿隙校正构件的裂纹、缺损。此外，因为通过设置缓冲膜，能够缓和冲击，所以能够防止齿隙校正构件以及与该齿隙校正构件发生碰撞的齿轮或螺纹等的损伤。
工业实用性
如上所述，本发明所涉及的钟表部件以及钟表部件的制造方法对于构成钟表中的机械部件的钟表部件以及钟表部件的制造方法是有用的，特别适于在机械式钟表的调速机构中使用的钟表部件以及钟表部件的制造方法。
标号说明
108、108a、108b、108c 游丝
2 发条部
3 游丝固着环
4 游丝外桩
5 擒纵叉
6 叉杆部
7a、7b 臂部
8 叉口部
9a、9b 叉开槽
10 轴孔
11a～11d、13a～13d 母材
21a～21d、22a～22d、23a～23d、24a～24d、25a～25d 缓冲膜
31 贯通孔
32 连接部
51a～51d、52a～52d、53a～53d、54、55a～55d 中间膜
60、61、62 硅基板
80 侧面
81、82 平面
331 齿轮
331a 轴孔
340 驻极体
341 轴
342 带电体
351、361a、371a 轴孔
361、371 宝石轴承
362 底板
363、373 缺口
500、510、520、530 曝光掩模

Claims (9)

1.一种钟表部件，其构成钟表，
所述钟表部件的特征在于，具备：
母材，其以非导电性的第1材料为主要成分而形成；
中间膜，其设置于所述母材的表面的至少一部分；和
缓冲膜，其层叠在所述中间膜上，并以粘韧性比所述第1材料高的第2材料为主要成分。
2.根据权利要求1所述的钟表部件，其特征在于，
所述第1材料是硅。
3.根据权利要求1或2所述的钟表部件，其特征在于，
所述第2材料是树脂。
4.根据权利要求1所述的钟表部件，其特征在于，
所述母材在外表面具备台阶部，
所述中间膜至少设置在覆盖所述台阶部的位置。
5.根据权利要求1所述的钟表部件，其特征在于，
所述钟表部件是构成机械式钟表的驱动部的调速机构的游丝。
6.根据权利要求1所述的钟表部件，其特征在于，
所述钟表部件是构成钟表的驱动部且具有嵌合其他构件的孔的齿轮、擒纵叉或摆轮。
7.一种钟表部件的制造方法，其特征在于，包括：
对以非导电性的第1材料为主要成分而形成的基板进行蚀刻来形成呈现钟表部件的形状的母材的工序；
在所述母材的表面的至少一部分形成中间膜的工序；和
在所述中间膜上，层叠以粘韧性比所述第1材料高的第2材料为主要成分的材料来形成缓冲膜的工序。
8.根据权利要求7所述的钟表部件的制造方法，其特征在于，
包含在所述母材的表面形成台阶部的工序，
形成所述中间膜的工序在形成所述台阶部的工序之后进行。
9.根据权利要求7或8所述的钟表部件的制造方法，其特征在于，
在形成所述缓冲膜的工序中，将形成了所述中间膜的所述母材浸渍在规定的电沉积液中后，对该中间膜施加规定的电压来形成所述缓冲膜。
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