CN101861281A - 硅-金属复合微机械部件及其制造方法 - Google Patents
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- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 98
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 51
- 239000002905 metal composite material Substances 0.000 title claims abstract description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 116
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 116
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 52
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 48
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 48
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 45
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 45
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 13
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 12
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 230000012010 growth Effects 0.000 claims description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 7
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 claims description 7
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 abstract description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 4
- 238000000708 deep reactive-ion etching Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 78
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000004512 die casting Methods 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 239000003353 gold alloy Substances 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 239000010930 yellow gold Substances 0.000 description 2
- 229910001097 yellow gold Inorganic materials 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007773 growth pattern Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical group 0.000 description 1
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/10—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
- B81C99/0075—Manufacture of substrate-free structures
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
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- C25D1/00—Electroforming
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- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/02—Electroplating of selected surface areas
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16H—GEARING
- F16H55/00—Elements with teeth or friction surfaces for conveying motion; Worms, pulleys or sheaves for gearing mechanisms
- F16H55/02—Toothed members; Worms
- F16H55/06—Use of materials; Use of treatments of toothed members or worms to affect their intrinsic material properties
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- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
- G04B13/00—Gearwork
- G04B13/02—Wheels; Pinions; Spindles; Pivots
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- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
- G04B13/00—Gearwork
- G04B13/02—Wheels; Pinions; Spindles; Pivots
- G04B13/021—Wheels; Pinions; Spindles; Pivots elastic fitting with a spindle, axis or shaft
- G04B13/022—Wheels; Pinions; Spindles; Pivots elastic fitting with a spindle, axis or shaft with parts made of hard material, e.g. silicon, diamond, sapphire, quartz and the like
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- G—PHYSICS
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- G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
- G04B19/00—Indicating the time by visual means
- G04B19/04—Hands; Discs with a single mark or the like
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
- B81B2201/00—Specific applications of microelectromechanical systems
- B81B2201/03—Microengines and actuators
- B81B2201/035—Microgears
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C2201/00—Manufacture or treatment of microstructural devices or systems
- B81C2201/01—Manufacture or treatment of microstructural devices or systems in or on a substrate
- B81C2201/0174—Manufacture or treatment of microstructural devices or systems in or on a substrate for making multi-layered devices, film deposition or growing
- B81C2201/0197—Processes for making multi-layered devices not provided for in groups B81C2201/0176 - B81C2201/0192
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T74/00—Machine element or mechanism
- Y10T74/19—Gearing
- Y10T74/1987—Rotary bodies
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
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Abstract
本发明涉及一种结合有DRIE和LIGA工艺的制造硅-金属复合微机械部件的方法(1)。本发明还涉及一种微机械部件(51),该微机械部件包括一个层,具有硅部分(53)和金属部分(41),从而形成复合微机械部件(51)。本发明可用于钟表机芯领域。
Description
技术领域
本发明涉及一种硅-金属复合微机械部件以及制造该部件的方法。
背景技术
硅因为其低的摩擦系数在摩擦学中是公知。在机械钟表制造领域中硅的应用对于擒纵系统、更具体地说对于擒纵轮的冲击齿轮而言是特别有利的。然而,在力学中也公知硅具有低塑性变形区。硅的这种脆性意味着难以将驱动部件的常规技术适用于心轴上。
发明内容
本发明的一个目的是通过提出一种制造方法来克服上述所有或部分缺点,该制造方法可有利地制造能容易地适用于大多数钟表应用的复合微机械部件。
本发明因此涉及一种制造硅-金属复合微机械部件的方法,包括如下步骤:
a)准备基板,所述基板包括硅顶层和硅底层以及在所述硅顶层和硅底层之间延伸的中间二氧化硅层;
b)在所述顶层内选择性地蚀刻至少一个腔室以限定所述部件的硅部分的图案;
c)在所述中间层内继续蚀刻所述至少一个腔室;
其特征在于还包括下列步骤:
d)至少从所述至少一个腔室的至少一部分上生长金属层以在所述部件的厚度内形成一金属部分,以使得所述微机械部件的硅部分免于破坏性的应力;
e)从所述基板释放硅-金属复合微机械部件。
该方法有利地提供了一具有硅的摩擦学特性和金属的机械特性的单体部件。
根据本发明的其他有利特征,步骤d)包括下列步骤:
-在基板的顶部涂覆光敏树脂;
-在光敏树脂上选择性地进行光刻以根据预定的金属部分的图案对所述树脂进行光造型;
-从垂直于所述至少一个腔室的底层的导电顶面开始,通过从所述底层开始于所述腔室内分别在光造型树脂和中间层或顶层之间生长一个层来电镀地沉积一金属层,以根据所述图案形成所述金属部分;
并且,步骤e)通过去除光造型树脂进行。
-垂直于所述至少一个腔室的底层的所述导电顶面通过涂布所述底层和/或通过沉积一导电层而获得导电性;
-在光刻步骤中,光造型树脂从基板的顶层凸出,从而该层可通过至少在所述光造型树脂的所述凸出部之间进行电镀而继续生长,从而在硅部分之上形成微机械部件的第二金属部分;
-该方法在步骤d)之后包括一加工基板顶面的步骤,以使得金属层的高度与所述光造型树脂的顶端的高度相同;
-所述金属层包括镍;
-该方法在释放步骤之前包括一在基板的底层内加工和蚀刻至少一个腔室的步骤,以根据预定的厚度和形状形成微机械部件的第二硅部分;
-该方法在加工和蚀刻基板底层的步骤和释放步骤之间包括一通过在底层的所述至少一个腔室的至少一部分内进行电镀而生长第二金属层的步骤,以在底层的厚度内形成至少一个另一金属部分;
-生长步骤包括下列步骤:
-在基板的底部涂覆光敏树脂;
-在光敏树脂上选择性地进行光刻以根据预定的金属部分的图案对树脂进行光造型;
-从所述至少一个腔室的底部开始,通过从所述底部开始生长一金属层来电镀地沉积所述金属层,以根据所述图案形成所述金属部分;
-在光刻步骤中,光造型树脂从基板的底层凸出,从而该层可通过电镀继续生长,以在第二硅部分之下形成微机械部件的另一第二金属部分;
-在释放步骤之前,该方法包括一加工基板的底面的步骤,以使得金属部分的高度与所述光造型树脂的底端的高度相同;
-第二电镀金属层包括镍;
-在同一基板上制造数个微机械部件。
本发明还涉及一种硅-金属复合微机械部件,包括一形成在硅层内的部分,其特征在于,所述硅部分包括用于形成轮或齿轮的齿部,并且至少在其厚度的一部分上包括一厚度大于6微米的金属部分,该金属部分使得硅部分免于破坏性的应力。
该单体部件由此具有硅的摩擦学特性和金属的机械特征。
根据本发明的其他有利特征:
-金属部分形成一套筒,其覆盖所述硅部分的周向壁;
-所述金属部分在硅部分的腔室内形成一套筒,以用于接纳在其中驱动的枢转心轴;
-每个套筒通过材料桥连接到硅部分的壁;
-每个金属部分在其延伸部上包括一从硅部分凸出的第二金属部分;
-第二金属部分包括用于形成轮或齿轮的齿部;
-每个金属部分包括镍;
-该部件包括由第二层形成的第二硅部分;
-第二硅部分至少在其厚度的一部分上包括另一金属部分,以使得第二硅部分免于破坏性的应力;
-所述另一金属部分在形成于所述第二硅部分中的腔室内形成一套筒,以用于接纳在其中驱动的枢转心轴;
-所述套筒通过材料桥连接到所述腔室的壁;
-所述另一金属部分在其延伸部上包括一从第二硅部分凸出的另一第二金属部分;
-另一第二金属部分包括用于形成轮或齿轮的齿部;
-第二硅部分通过中间二氧化硅层设置到硅部分上;
-第二硅部分包括用于形成轮或齿轮的齿部。
最后,本发明涉及一种钟表,其特征在于,包括至少一个根据上述变例之一的复合微机械部件。
附图说明
通过下文对非限制性示例的描述并参考附图,其他特征和优点将非常清楚,在附图中:
图1至7是处于根据本发明制造方法的不同阶段的复合微机械部件的横截面图;
图1b是图1的立体图;
图8是根据本发明方法的最后步骤的第一实施例的示意图;
图9是根据本发明方法的最后步骤的第二实施例的示意图;
图10是根据本发明制造方法的流程图;
图11是根据本发明的齿轮系的立体图;
图12是根据本发明获得的指针的俯视图。
具体实施方式
本发明涉及一种制造硅-金属复合微机械部件51的方法1。如图1至7所示,方法1包括一系列用于制造至少一个部件51、51’、51”、51’”的步骤,这些部件可以是复杂的并且/或者在数个层上制造并且/或者以数种材料制造。方法1的目的包括提供最少一个部件,该部件包括至少一个硅部分和至少一个金属部分。
第一步骤11包括准备一个绝缘体上硅(SOI)基板3。基板3包括由单晶硅或多晶硅制成的底层7和顶层5。由非晶态二氧化硅(SiO2)形成的中间层9在顶层5和底层7之间延伸。
在步骤11中,基板3优选这样地选择:如图1所示,顶层5和中间层9的高度与最终微机械部件51的部分53的最终高度相匹配。
在第二步骤13中,如图1和1b所示,例如通过深反应离子蚀刻(DRIE)方法在硅顶层5中选择性地蚀刻腔室37、45。这两个腔室37和45形成的图案限定微机械部件51的硅部分53的内轮廓和外轮廓。
在图1所示的实施例中,腔室37存在于腔室45的每一侧,因为如图1b所示,腔室37基本上是环形的并环绕腔室45。腔室37的近端壁优选选择性地蚀刻以在部分53的外周缘上形成齿部55。腔室45基本上是柱形的,具有一个盘形截面,并且与环形腔室37同轴。
在第三步骤15中,进行湿法或干法化学蚀刻以使得腔室37和45在中间层9内延伸,从而在中间层9中以相同的图案形成部分53,直至底层7被部分地暴露。
根据本发明的方法1然后包括执行一LIGA工艺19,其包括使用光造型树脂在基板3的顶面上以特定的形状电镀金属的一系列步骤(17、21和23)。
在第四步骤17中,一层光敏树脂57沉积在基板3的顶面上,如图2所示。步骤17可通过模铸方法完成。光敏树脂57优选为Su-8型,例如Microchem公司的产品“nanoTMSu-8”。
在第五步骤21中进行光刻,即通过使用例如部分穿孔的掩模M以选择性地暴露于射线R而在所述树脂中形成刻印,如图2所示。接下来显影树脂57,即去除树脂57中所有没有暴露于射线R的部分。由此通过光造型的树脂71、73和75依据预定的形状形成金属层。
在图3的实施例中,光造型树脂包括底环71、顶环73和柱体75。在图3的实施例中,底环71的形状匹配腔室37的形状。顶环73覆盖底环71并部分地覆盖基板3的顶层5。最后,柱体75的高度基本上等于环71和73的层叠厚度,且柱体处于腔室45的中心。在图1至7所示的实施例中,顶环73的内径包括一个齿部59。
在第六步骤29中,一导电的锚固层61优选沉积在基板3的顶面上,如图4所示。该步骤例如可使用真空阴极溅射通过传统的金属处理方法完成。优选地,层61包括黄金——即纯黄金或者黄金合金。层61的厚度可处于10至100nm之间。
在第七步骤23中,通过电镀基板3的顶面形成金属层的起始部,即,生长金属层63以在微机械部件51上形成至少一个金属部分41。在图5所示的实施例中,层63基本上起始于底层7的由腔室45暴露出的顶面。
光造型树脂柱体75的存在迫使金属层63在柱体75和中间层9之间、然后在柱体75和基板3的顶层5之间连续地以环圈形式生长。该第一电镀阶段形成处于腔室45的至少一部分内的第一金属部分41。
由此,从该第一阶段23清楚地得知,现在在一个层——该层包括硅和二氧化硅部分53——上形成微机械部件51,其中一个腔室45的至少一部分包括一金属部分41。
在图5所示的实施例中,电镀继续进行,形成不处于腔室45中、而是在其之上以及还位于基板3顶层5的一部分之上的层。由此在顶环73和光造型树脂柱体75之间单独地形成连续的层。由此可清楚地得知,在第二阶段中形成的层39的形状基本上是环形的,并且所述层的外径包括一齿部,该齿部与光造型树脂顶环73的齿部反向。在步骤23结束时,可发生这种情况:在基板3的整个顶面上形成金属层63,如图5所示。
层63——即特别是金属部分39和41——优选地包括镍,即镍或者镍合金。在电镀步骤23中所需的基板3的电势差优选地通过其底面和/或顶面上的触点获得。
在第八步骤25中,例如通过研磨来加工基板3的顶面,从而使得在步骤23的所述第二阶段中获得的金属部分39的高度与光造型树脂的顶环73和柱体75的厚度平齐,如图6所示。这使得包括反向齿部(在下文中标记为59)的第二金属部分39被正确地限定。
由此可清楚地得知,在此步骤25中,微机械部件51现在在两层上形成。第一层包括硅和二氧化硅部分53,其中一个腔室45的至少一部分包括一金属部分41。第二层在第一层上形成并包括第二金属部分39。
在第九和第十步骤27和31中,如图10中的双线所示,在基板3的底层7中形成第二硅部分65。在步骤27中,加工基板3的底面,将其厚度减少至期望的最终底层7的值。在步骤31中,在硅底层7中通过例如DRIE方法蚀刻出腔室47和49。与步骤13和15类似地,这两个腔室47和49形成的图案限定微机械部件51的第二硅部分65的轮廓。
在图7所示的实施例中,腔室49存在于腔室47的每一侧,因为其基本上是环形的并环绕腔室47。腔室49的近端壁优选选择性地蚀刻以在第二部分65的外周缘上形成齿部67。腔室47基本上是柱形的,具有一盘形截面,并且与环形腔室49同轴。
步骤27至31没有特别优选的顺序,因此这些步骤能够以任何顺序进行。加工步骤27优选包括机械化学抛光——例如通过化学磨损研磨。
由此可清楚地得知,在步骤27和31之后,微机械部件51现在在三个层上形成。第一层包括一硅和二氧化硅部分53,其中腔室45的至少一部分包括一金属部分41。位于第一层之上的第二层由第二金属部分39形成。位于第一层之下的第三层由第二硅部分65形成。
根据本发明的方法1然后如图10中的三线所示包括进行新的LIGA工艺19’,其包括使用光造型树脂在基板3的底面上以特定的形状电镀金属的一系列步骤(17’、21’和23’)。
在第十一步骤17’中,例如使用模铸方法在基板3的底面上沉积一层光敏树脂。在第十二步骤21’中,进行光刻以形成用于将来的金属电镀的生长图案。
在第十三步骤29’中,优选在基板3上沉积一锚固层。该步骤可例如通过如上所述地真空沉积纯黄金或黄金合金层完成。
在第十四步骤23’中,在基板3的底面上电镀一金属层,以在腔室47的至少一部分中形成微机械部件51的至少另一个金属部分41’。
由此可清楚地得知,在此阶段,微机械部件51仍然在三层上形成。第一层包括硅和二氧化硅部分53,其中腔室45的至少一部分包括金属部分41。在第一层之上的第二层由第二金属部分39形成。在第一层之下的第三层由第二硅部分65形成,其中腔室47的至少一部分包括另一金属部分41’。
电镀步骤23’可继续进行以形成不处于腔室47中、而是位于其下方的层,并且在可能的情况下,此层形成于基板3底面7的一部分上。然后,在另一第二金属部分39’中,连续的层在步骤21’中于光造型树脂之间单独地形成。
电镀的金属层——即另外的金属部分39’和41’——优选地包括镍,即纯镍或镍合金。
在第十五步骤25’中,例如通过研磨来加工基板3的底面,从而正确地限定另一第二金属部分39’。与第二部分39类似,另一第二金属部分39’也可包括齿部59’。
由此可清楚地得知,在此阶段,微机械部件51现在在四层上形成。第一层包括硅和二氧化硅部分53,其中腔室45的至少一部分包括金属部分41。在第一层之上的第二层由第二金属部分39形成。在第一层之下的第三层由第二硅部分65形成,其中腔室47的至少一部分包括另一金属部分47’。在第三层之下的第四层由另一第二金属层39’形成。
当然,此方法的优点是其还有利地允许在同一基板3上制造数个微机械部件51。而且,借助于上文的描述以及图10中的单线、双线和三线,应当理解,方法1不必执行其全部步骤,即取决于待制造的微机械部件51的复杂度,例如可在步骤25、31或25’之后完全地构建部件。然而,对于每个结构变例,方法1都包括一最终步骤33,该步骤33包括从基板3释放微机械部件51。通过示例,将在下文描述方法1和/或微机械部件51的几个实施方式。
在第一实施方式中,方法1的释放步骤33在由图10的单线表示的、在硅部分53中构建金属部分41的步骤25之后发生。释放步骤33然后包括去除光造型树脂和底层7或底层7和中间层9。相对于基板3的其余部分释放由此制造的微机械部件51’。如图12所示,该部件在单个层上包括一个硅或硅和二氧化硅部分53”,其限定指针主体的形状,其中腔室45”的至少一部分具有形成套筒的金属部分41”。在图8所示的第二实施方式中,可清楚地得知,例如,方法1的释放步骤33在由图10的双线表示的、构建第二硅部分65的步骤31之后执行。此时,释放步骤33包括例如通过蚀刻和/或脱模去除光造型树脂71、73和75。相对于基板3的其余部分释放由此制造的微机械部件51。其因此在三个叠置的层上包括一个第二金属部分39、一个硅和二氧化硅部分53和一个第二硅部分65,在硅和二氧化硅部分53中,腔室45的至少一部分包括一金属部分41。
根据上文参考图1至8和10描述的方法1的第二实施方式获得的微机械部件51大致包括依次叠置的三个分别为39、53和65的轮部件,其分别包括齿部59、55和67。该部件51优选适于形成一与同轴的擒纵棘爪配合的擒纵轮。硅齿部55和67然后有利地用于形成与所述棘爪的擒纵叉瓦配合的冲击齿部。金属齿部59由此用作擒纵齿轮以调节微机械部件51所属的钟表机芯。
在图9所示的第三实施方式中,可以看到,例如,方法1的释放步骤33在由图10中三线表示的、构建另一第二金属部分39’的步骤25’之后进行。此时,释放步骤33不但包括从基板3的顶部去除光造型树脂部分71、73和75,而且包括去除存在于所述基板底层上的光造型树脂部分。相对于基板3的其余部分释放由此制造的微机械部件51’。
微机械部件51’由此如图11所示在四个叠置的层上包括:一个第二金属部分39;一个硅和二氧化硅部分53,其中腔室45的至少一部分包括一个金属部分41;一个第二硅部分65,其中腔室47的至少一部分包括另一金属部分41’;以及另一第二金属部分39’。
根据上面参考图1至7和9至11描述的方法1的第三实施方式获得的微机械部件51’大致包括依次叠置的四个分别为39、53、65和39’的轮层,其分别包括齿部59、55、67和59’。
在所有这些实施方式中,微机械部件51、51’和51”有利地不直接地在硅部分53和65上驱动,而是在金属部分39、39’、41和41’上驱动。金属部分41的厚度优选大于6微米,以优选地使得金属部分41可与硅部分53充分地隔绝(isole)。事实上,超过此厚度、且厚度理想地从10微米起,金属——例如镍——能够弹性地或者塑性地吸收应力而不会将应力传递给硅。
通过阅读上文的描述,应当理解,图中的微机械部件51、51’、51”仅仅是示例实施方式,其表明方法1可形成高达四层的叠层(两层包括金属,两层包括硅和金属)而不会过度地复杂。由此第一实施方式的构造可构造最简单的微机械部件,而第三实施方式可构造高度复杂的部件。
在图10中由虚线表示的变例中,步骤29——其在步骤21和23之间发生、包括沉积锚固层61——可移到步骤15和17之间,即位于中间层9的蚀刻和光敏树脂层57的沉积之间。在此第一变例中,优选对两个硅层5和7进行涂布。
当然,本发明不限于所示的实施例,而可以有多种变例和变化,这对于本领域技术人员而言是清楚的。特别地,可以设想其他的金属层63,例如黄金、铝、铬或者它们的任何合金。类似地,可以设想其他的锚固层61,只要它们是导电的并且极佳地粘附于所选的用于电镀生长层63的金属即可。然而,应当指出,如果硅层5和7均被涂布,则用于沉积上述层61的步骤29对于电镀生长的正确进行而言不是必须的。
类似地,可蚀刻不同于齿部55、59、59’和67的图案,例如可蚀刻钩或爪。还应当指出,层63可形成为抵靠所述的蚀刻图案,例如齿部66、59、59’和67。
类似地,光刻当然可以形成正片结构或者负片结构,这取决于所使用的光造型树脂或者所设想的应用。也可以用喷射涂覆方法来沉积树脂57。
最后,金属层63可如同形成于至少一个硅部分53和65的周向壁上那样同样好地形成于腔室45的内壁部分上。层63还可构造成通过材料桥连接到所述硅壁。
Claims (32)
1.一种制造硅-金属复合微机械部件(51、51’、51”)的方法(1),包括下列步骤:
a)准备(11)基板(3),所述基板(3)包括硅顶层(5)和硅底层(7)以及在所述硅顶层(5)和硅底层(7)之间延伸的中间二氧化硅层(9);
b)在所述顶层(5)内选择性地蚀刻(13)至少一个腔室(37、45、45”)以限定所述部件的硅部分(53、53”)的图案;
c)在所述中间层内继续蚀刻(15)所述至少一个腔室(37、45、45”);
其特征在于还包括下列步骤:
d)至少从所述至少一个腔室(37、45、45”)的一部分生长(17、21、23)金属层(63)以在所述部件的厚度内形成金属部分(41、41’、41”),以使得所述微机械部件的硅部分(53、53”)免于破坏性的应力;
e)从所述基板(3)释放(33)硅-金属复合微机械部件(51、51’、51”)。
2.根据权利要求1所述的方法(1),其特征在于,步骤d)包括下列步骤:
-在所述基板(3)的顶部涂覆(17)光敏树脂(57);
-在所述光敏树脂(57)上选择性地进行(21)光刻以根据预定的金属部分(39、41)的图案对所述树脂进行光造型(71、73、75);
-从垂直于所述至少一个腔室(37、45、45”)的所述底层(7)的导电顶面开始,通过从所述底层开始分别在光造型树脂(75)和中间层(9)或顶层(5)之间生长一个层(63)来电镀地沉积(23)一金属层,以根据所述图案形成所述金属部分(41、41’、41”);
并且,所述步骤e)通过去除(33)所述光造型树脂(71、73、75)进行。
3.根据权利要求2所述的方法(1),其特征在于,垂直于所述至少一个腔室(37、45、45”)的底层(7)的所述导电顶面通过涂布所述底层(7)和/或通过沉积(29)一导电层(61)而获得导电性。
4.根据权利要求2所述的方法(1),其特征在于,在光刻步骤(21)中,光造型树脂(71、73、75)从所述基板(3)的顶层(5)凸出(73、75),从而所述层(63)可通过至少在所述光造型树脂的凸出部(73、75)之间进行电镀(23)而继续生长,以在硅部分(53)之上形成微机械部件(51、51’)的第二金属部分(39)。
5.根据权利要求1所述的方法(1),其特征在于,在步骤d)之后包括一加工基板(3)的顶面的步骤(25),以使得金属层(63)的高度与所述光造型树脂(73、75)的顶端的高度相同。
6.根据权利要求1所述的方法(1),其特征在于,所述金属层(63、39、39’、41、41’、41”)包括镍。
7.根据权利要求1所述的方法(1),其特征在于,在释放步骤(33)之前包括一在基板(3)的底层(7)内加工(27)和蚀刻(31)至少一个腔室(47、49)的步骤,以根据预定的形状和厚度形成微机械部件(51、51’)中的第二硅部分(65)。
8.根据权利要求7所述的方法(1),其特征在于,在所述加工和蚀刻(27、31)基板(3)底层(7)的步骤和释放步骤(33)之间,包括一通过在底层(7)的所述至少一个腔室(47)的至少一部分内进行电镀而生长第二金属层(41’)的步骤(17’、21’、23’),以在底层(7)的厚度内形成至少一个另一金属部分(41’)。
9.根据权利要求8所述的方法(1),其特征在于,所述生长步骤包括下列步骤:
-在所述基板(3)的底部涂覆(17’)光敏树脂;
-在光敏树脂上选择性地进行(21’)光刻以根据预定的金属部分(41’)的图案对树脂进行光造型;
-从所述至少一个腔室(47)的底部开始,通过从所述底部开始在所述至少一个腔室(47)内生长一金属层来电镀地沉积(23’)所述金属层,以根据所述图案形成所述金属部分(41’)。
10.根据权利要求9所述的方法(1),其特征在于,在光刻步骤(21’)中,光造型树脂从所述基板(3)的底层(7)凸出,从而该层可通过电镀(23’)继续生长,以在第二硅部分(65)之下形成微机械部件(51’)的另一第二金属部分(39’)。
11.根据权利要求1所述的方法(1),其特征在于,在释放步骤(33)之前,包括一加工所述基板(3)的底面的步骤(25’),以使得所述金属部分(39’)的高度与所述光造型树脂的底端的高度相同。
12.根据权利要求8所述的方法(1),其特征在于,第二电镀金属层(39’、41’)包括镍。
13.根据权利要求1所述的方法(1),其特征在于,在同一基板(3)中制造不同的微机械部件(51、51’、51”)。
14.一种硅-金属复合微机械部件(51、51’、51”),包括一形成于硅层(5)内的部分(53、53”),其特征在于,所述硅部分包括用于形成轮或齿轮的齿部(55),并且至少在其厚度的一部分上包括一厚度大于6微米的金属部分(39、41、41”),以使得所述硅部分(53、53”)免于破坏性的应力。
15.根据权利要求14所述的微机械部件,其特征在于,所述金属部分形成一覆盖所述硅部分的周向壁的套筒。
16.根据权利要求15所述的微机械部件,其特征在于,所述套筒通过材料桥连接到所述周向壁。
17.根据权利要求15所述的微机械部件,其特征在于,所述金属部分在其延伸部上包括一从所述硅部分凸出的第二金属部分。
18.根据权利要求14所述的微机械部件,其特征在于,所述金属部分在硅部分(53、53”)的腔室(45、45”)内形成一套筒(41、41”),以用于接纳在其中驱动的枢转心轴。
19.根据权利要求18所述的微机械部件,其特征在于,所述套筒通过材料桥连接到所述腔室的壁。
20.根据权利要求18所述的微机械部件,其特征在于,所述金属部分(41)在其延伸部上包括一从所述硅部分(53)凸出的第二金属部分(39)。
21.根据权利要求20所述的微机械部件,其特征在于,所述第二金属部分(39)包括用于形成轮或齿轮的齿部(59)。
22.根据权利要求14所述的微机械部件,其特征在于,每个金属部分(63、39、41、41”)包括镍。
23.根据权利要求14所述的微机械部件,其特征在于,所述微机械部件包括由第二层(7)形成的第二硅部分(65)。
24.根据权利要求23所述的微机械部件,其特征在于,所述第二硅部分(65)至少在其厚度的一部分上包括另一金属部分(41’),以使得所述第二硅部分(65)免于破坏性的应力。
25.根据权利要求24所述的微机械部件,其特征在于,所述另一金属部分在形成于所述第二硅部分(65)中的腔室(47)内形成一套筒(41’),以用于接纳在其中驱动的枢转心轴。
26.根据权利要求25所述的微机械部件,其特征在于,所述套筒通过材料桥连接到所述腔室的壁。
27.根据权利要求24所述的微机械部件,其特征在于,所述另一金属部分(41’)在其延伸部上包括一从所述第二硅部分(65)凸出的另一第二金属部分(39’)。
28.根据权利要求27所述的微机械部件,其特征在于,所述另一第二金属部分(39’)包括用于形成轮或齿轮的齿部(59’)。
29.根据权利要求24所述的微机械部件,其特征在于,每个所述金属部分(39’、41’)包括镍。
30.根据权利要求24所述的微机械部件,其特征在于,所述第二硅部分(65)通过由二氧化硅形成的中间层(9)设置于所述硅部分(53)上。
31.根据权利要求24所述的微机械部件,其特征在于,所述第二硅部分(65)包括用于形成轮或齿轮的齿部(67)。
32.一种钟表,其特征在于,包括至少一个根据权利要求14至31中任一项所述的微机械部件(51、51’、51”)。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP07120883A EP2060534A1 (fr) | 2007-11-16 | 2007-11-16 | Pièce de micromécanique composite silicium - métal et son procédé de fabrication |
EP07120883.9 | 2007-11-16 | ||
PCT/EP2008/065347 WO2009062943A1 (fr) | 2007-11-16 | 2008-11-12 | Pièce de micromécanique composite silicium-métal et son procédé de fabrication |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN101861281A true CN101861281A (zh) | 2010-10-13 |
CN101861281B CN101861281B (zh) | 2012-11-21 |
Family
ID=39420509
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2008801161499A Active CN101861281B (zh) | 2007-11-16 | 2008-11-12 | 硅-金属复合微机械部件及其制造方法 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8486279B2 (zh) |
EP (2) | EP2060534A1 (zh) |
JP (1) | JP5478498B2 (zh) |
KR (1) | KR20100084527A (zh) |
CN (1) | CN101861281B (zh) |
AT (1) | ATE511494T1 (zh) |
HK (1) | HK1144190A1 (zh) |
RU (1) | RU2474532C2 (zh) |
TW (1) | TWI436939B (zh) |
WO (1) | WO2009062943A1 (zh) |
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-
2008
- 2008-11-12 WO PCT/EP2008/065347 patent/WO2009062943A1/fr active Application Filing
- 2008-11-12 JP JP2010533559A patent/JP5478498B2/ja active Active
- 2008-11-12 KR KR1020107009432A patent/KR20100084527A/ko not_active Application Discontinuation
- 2008-11-12 AT AT08848955T patent/ATE511494T1/de not_active IP Right Cessation
- 2008-11-12 RU RU2010124426/28A patent/RU2474532C2/ru active
- 2008-11-12 EP EP08848955.4A patent/EP2259997B2/fr active Active
- 2008-11-12 CN CN2008801161499A patent/CN101861281B/zh active Active
- 2008-11-12 US US12/743,210 patent/US8486279B2/en active Active
- 2008-11-14 TW TW097144155A patent/TWI436939B/zh not_active IP Right Cessation
-
2010
- 2010-11-19 HK HK10110805.2A patent/HK1144190A1/xx unknown
-
2013
- 2013-06-14 US US13/917,975 patent/US20130279307A1/en not_active Abandoned
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20130279307A1 (en) | 2013-10-24 |
TW200927640A (en) | 2009-07-01 |
US20100243603A1 (en) | 2010-09-30 |
TWI436939B (zh) | 2014-05-11 |
ATE511494T1 (de) | 2011-06-15 |
JP5478498B2 (ja) | 2014-04-23 |
RU2010124426A (ru) | 2011-12-27 |
EP2060534A1 (fr) | 2009-05-20 |
EP2259997B1 (fr) | 2011-06-01 |
CN101861281B (zh) | 2012-11-21 |
KR20100084527A (ko) | 2010-07-26 |
EP2259997A1 (fr) | 2010-12-15 |
EP2259997B2 (fr) | 2015-09-30 |
US8486279B2 (en) | 2013-07-16 |
HK1144190A1 (en) | 2011-02-02 |
RU2474532C2 (ru) | 2013-02-10 |
WO2009062943A1 (fr) | 2009-05-22 |
JP2011514846A (ja) | 2011-05-12 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
REG | Reference to a national code |
Ref country code: HK Ref legal event code: DE Ref document number: 1144190 Country of ref document: HK |
|
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
REG | Reference to a national code |
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