CN105717753A - 用于制造多级钟表部件的方法 - Google Patents
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Abstract
一种用于制造多层钟表部件的方法,其中该方法包括以下步骤:-E1、E2:在基底(10)的上表面上制造钟表部件的至少一个第一金属层(13);-E13:从先前步骤中得到的结构中分离基底(10),以便得到薄片;随后-E4、E5;E14、E15:在薄片的上表面和/或下表面上,在基底(10)的分离之后生产钟表部件的至少一个另外的金属层(23;33)和/或执行加工金属层的操作。
Description
技术领域
本发明涉及一种通过光刻和电沉积技术来制造金属部件的方法。这种类型的方法特别地用于多级三维微结构形式的金属部件的制造,特别是为了形成钟表机芯部件。
背景技术
2005年第104号DGCMitteilungen提到使用LIGA技术(光刻电铸注塑(LIthographieGalvanikAbformung):德国卡尔斯鲁厄核研究中心的W.Ehrfeld设计的方法),以用于高精度金属钟表部件的制造,例如用于擒纵叉或擒纵轮。这一方法包括通过同步加速器产生的高能X射线束的辐射来形成对X射线敏感的树脂制成的模具,其表现出重要的缺陷。
A.B.Frazier等人所著的1993年6月号微机电系统杂志第2,2页描述了通过在由聚酰亚胺基光致抗蚀剂制成的模具中电镀金属来制造金属结构,其通过使用被称为LIGA-UV的技术的方法制备,该技术与上文提到的LIGA技术类似,但是使用紫外线照射抗蚀剂来替代X射线辐射。
钟表部件的三维形状经常是复杂的,并且包括由非常不同的截面的叠加部分形成的不连续点。例如,图1示出了制轮爪1,其包括具有平坦上表面的下部2,第二部3在该平坦上表面上延伸。这种三维形状被称为“多级形状”,这是因为可以在下部2的上表面的平面中区分在特定的方向Z上具有非常不同的截面的两个叠加的部分2、3,它们在边界上形成不连续点。部分2、3各自包括穿过垂直于方向Z的平面的截面,该截面基本上是恒定的或连续变化的。如果具有多级形状的部件的部分是在LIGA方法的实施过程中通过分别的电沉积层产生的,则在分别的层之间的边界观察到所得到的部件的弱点,其可能导致层的意外分离。因此可取的是限定用于制造多级钟表部件的方法,能够使其承受大的机械应力,特别是垂直方向上的剪切应力和/或拉伸应力。
专利EP2405300描述了用于制造具有至少两级的金属部分的方法的多个示例性实施方式。根据一个具体的示例性实施方式,该方法包括以下连续步骤:
·将第一光致抗蚀剂层沉积到覆盖有导电层的基底上,该第一光致抗蚀剂层限定了第一级;
·通过借助于掩模的光刻在第一抗蚀剂层中制造空腔以及随后的抗蚀剂的显影来获得第一模具;
·通过导电层发起的电沉积来将金属或合金沉积到第一模具中,以形成第一级金属层;
·从第一层完全移除剩余的抗蚀剂,以便仅在基底上留下第一级金属层;
·将第二抗蚀剂层沉积到基底上,例如,该第二抗蚀剂层具有比第一级金属层更大的厚度,然后,通过借助于掩模的光刻以及随后的抗蚀剂的显影来形成由导电层、第一级金属层的侧壁和第二抗蚀剂层的侧壁划界的中空空间。
该中空空间最终构成第二模具,在其中可以通过导电层发起的电沉积来沉积金属或合金并且(在抗蚀剂和基底移除之后)形成金属部件,其至少具有互相连结的两级。
总之,文献EP2405300因此公开了借助于LIGA方法得到的分离的层来制造多级部件,LIGA方法使得这些分离的层是互相连结的,这能够使它们保证彼此之间良好的连接,由此减小了它们意外分离的危险。然而,这一方法在生产时间方面是耗时的,并且使要被制造用于形成每一层的抗蚀剂层模具复杂化。
文献EP0851295描述了另一种方法,其基于通过连续的抗蚀剂沉积和照射来生产光致抗蚀剂微结构,但是被照射的抗蚀剂在单独的场合显影,以便得到与待加工部件相对应的复杂的三维模具。接下来,通过模具中的电沉积获得部件。该方法的优点是获得了整体式金属组件,不同级在单个步骤中被制得,因此能够被比作单一的层。这导致不同级的部分的更好的机械强度,这是因为在分离的层之间的边界上不再会观察到弱点。它的缺点是复杂性,特别是为了形成抗蚀剂模具的复杂性。该方法也不能获得所有期望的形状。
发明内容
因此,本发明的目标是改进上述状况并且对三维金属部件的加工提出改进的解决方案。特别地,特别是当三维金属部件是具有至少两级的形式时,该解决方案能够允许三维金属部件获得良好的机械强度。该解决方案也便于多级部件的特定几何形状的制造。
为了这一目的,本发明涉及一种用于制造多层钟表部件的方法,其中该方法包括以下步骤:
-在基底的上表面上制造钟表部件的至少一个第一金属层;
-从前述步骤中得到的结构中分离基底,以便获得薄片;随后
-在基底的分离之后,在薄片的上表面和/或下表面上生产钟表部件的至少一个另外的金属层和/或执行用于加工金属层的操作。
本发明更具体地由权利要求限定。
附图说明
本发明的这些主题、特征、优点将在下文给出的具体的非限制性的具体实施方式中结合附图详细描述,其中:
图1示出了钟表机芯的制轮爪的立体图;
图2-8示出了用于制造金属部件的方法的连续的步骤,这些步骤能够在本发明的实施方式中全部或部分的被实施;
图9-12示出了用于制造制轮爪的制造方法的实施例;
图13-18示出了根据本发明的一个实施方式的、用于制造金属部件的方法的连续的步骤。
具体实施方式
参照图13-18,将描述用于制造金属部件的方法,其特别适于制造多级微结构,特别是用于制造钟表部件。为了简便,术语“金属”和“金属的”在之后将被用来表示金属材料或金属合金。
制造方法的第一步骤E1包括在基底10上制造具有第一级N1的第一模具。基底10可以包括金属晶片,其特别是由合金制成,例如不锈钢、硅、玻璃或陶瓷晶片。该基底优选是实心的,但是也可以包括由微细加工产生的结构。基底按照本领域技术人员已知的标准被制备,特别是用于基底的脱脂、清洗、选择性钝化和/或活化的标准。该基底优选是平坦的。作为变型,根据现有技术的教导,基底可以包括图案,特别是已加工的图案,和/或空腔和/或其他结构。特别地,基底可以包括用于放置一个或多个插件的壳体,该插件用于以不可移动和不可拆卸的方式陷入或埋入另外的沉积金属层,以便最终成为金属部件的部分。在所示的示例性的实施方式中,基底10由导电材料制成,例如由不锈钢制成。作为变型,也可以使用由非导电材料制成的基底,例如硅制成的基底。
可选地,例如,导电层11通过蒸发被沉积在基底10上。该导电层11特别地用于作为激发随后的电沉积或电镀的阴极。以一种已知的方式,该导电激发层11可以包括铬、镍或钛的下层,其覆盖有金层或铜层(因此其具有多层结构)。
导电层11覆盖有预期高度的起始光致抗蚀剂层。该高度优选地大于0并且小于或等于1.5mm。该抗蚀剂是光致抗蚀剂,适于光刻。该抗蚀剂可以是负性的或正性的。在第一种情况下,抗蚀剂被设计为在辐射作用下变得不可被显影剂溶解,或者难以被显影剂溶解,而在第二种情况下,其被设计为在辐射作用下变得可以被显影剂溶解,同时未暴露在辐射下的部分仍然保持不可溶解或难以溶解。在描述的具体示例中,使用的抗蚀剂是“SU-8”类型,其是一种在紫外线辐射作用下聚合的负性光致抗蚀剂,例如来自Microchem的SU-8-100抗蚀剂。该起始抗蚀剂层限定第一级N1。
执行起始抗蚀剂层的光刻步骤,其包括通过具有开口和不透明区域的掩模将起始抗蚀剂层暴露到光辐射下,或者使其曝光。该掩模限定了用于待加工部件的第一级的生产的复制图案。用于照射或曝光抗蚀剂的光辐射在这里是由紫外线光源发出的紫外辐射。然而,可以设想基于所使用的抗蚀剂而使用X射线、电子束(其随后被称为是电子束光刻)或任意其他类型的辐射。该辐射垂直于掩模延伸的平面,以便仅照射位于制成在掩模中的开口处的抗蚀剂区域。在这里描述的具体的示例性实施方式中,曝光的抗蚀剂区域变得对于大多数显影液体不敏感或者不能溶解到其中。
之前的暴露到光辐射(或者到电子束)下的步骤可选地跟随着交联热处理步骤,然后是显影步骤。显影步骤包括根据适于所使用的抗蚀剂的方法移除未曝光的抗蚀剂区域,例如通过化学物或等离子方法溶解。在溶解之后,导电层11出现在抗蚀剂被移除的位置。在正性光致抗蚀剂的情况下,例如,曝光区域将会通过化学方法被移除,同时非曝光区域将会保留在基底上。
起始层的抗蚀剂的保留部分形成了具有第一级N1的第一抗蚀剂模具12。该模具的底部被导电层11分隔开。因此在显影步骤的最后获得了图13所示的模具和结构,其中基底10覆盖有导电层11,在第一级N1范围内的抗蚀剂模具12形成在导电层11上。在基本上垂直于基底10的单个方向上进行这种构建,该方向将会按照惯例被称为垂直方向z,在图中被取向为向上,因此具有第一级N1的模具按照惯例被认为是形成在基底10的顶端。该平坦的基底10按照惯例同样地限定了水平面。
使用LIGA类型的方法制造抗蚀剂模具的这些步骤是已知的并且不再更详细地示出。
所述方法的下一个步骤E2包括通过电镀或者电沉积将第一金属层13沉积到第一抗蚀剂模具12的空腔中。根据所示的实施方式的、或者在基底10是导电的情况下作为其变型的导电层11作为激发沉积的阴极。例如,这一步骤使用LIGA方法和金属,例如镍(Ni)或镍磷(NiP)。图14中所示的得到的金属层13优选地具有与抗蚀剂的起始层相同的高度,其对应于抗蚀剂模具12的高度。金属层13也可以具有比抗蚀剂模具12低的高度,或者比抗蚀剂模具12高的高度。可选地,步骤E2可以包括厚度设定操作,其通过对金属层和保留的抗蚀剂同时的机械抛光来获得完全平坦的水平上表面。金属层的上表面15随后完全对齐抗蚀剂模具12的上表面16,这两个表面16、15因此限定了在第一金属层13成形之后获得的中间结构的第一级N1的上平面。在本实施方式中该平面是基本上水平的。
作为未示出的实施方式的变型,金属层13可以不占据第一模具12的整个高度,金属层13的上表面15保持在模具12的上表面16以下。
随后进行结构的剩余部分、可选地导电层11的剩余部分上的基底10的早期移除。
在实践中,当第一金属层被加工好就可以进行所述移除,也就是,在执行上文描述的步骤E2之后进行,其结果如图14所示。这导致由第一金属层13和抗蚀剂12形成的牢固附接的薄片,也就是,结构的第一级N1。该薄片最终起到用于延续所述方法的基底的作用。
在这个阶段,在步骤E13中,为了获得图15所示的、称为薄片的结构,基底10被移除或被分离(总之是从结构的剩余部分被分离)。
所述方法随后包括沉积第二抗蚀剂层的步骤,在本示例中仍然是SU-8负性光致抗蚀剂层。作为变型,可以使用不同的抗蚀剂。在这里示出的示例中,该第二层从级N1的第一层的下表面18开始被沉积。该第二层因此限定了第二级N-1,其在第一级N1下方垂直延伸。第二级N-1的高度优选地严格大于0并且小于或等于1.5mm。它可以与第一级的高度相等或不同,这取决于待加工的最终部件的第二级的高度。如图16所示,经由光刻和显影步骤,通过第二抗蚀剂层的光刻来完成获得第二模具32的步骤E14,该光刻和显影步骤与先前描述的为了形成第一级的抗蚀剂模具的那些步骤类似。
所述方法随后包括电镀或电沉积的步骤E15,其包括在模具32中沉积第二金属层33。该第二金属层在第一金属层13的下表面18的下方延伸。第二金属层优选地在第一金属层13下方具有至少10μm的高度。第二金属层可以充满第二级N-1的第二抗蚀剂模具32的全部或部分高度。所述步骤可选地跟随着厚度设定操作,该操作通过金属层和抗蚀剂的机械抛光进行。所述步骤的结果如图17所示。
应注意的是,第二金属层32的电镀在此处通过导电层11被激发,导电层11覆盖基底10并且在基底被移除后被保留。作为变型,导电层11可以与基底10同时被移除,所述激发通过第一金属层13获得。
在步骤E16中,在抗蚀剂被移除后,获得了两级金属部件,如图18所示。
所述实施方式的变型使得可以在不移除基底的情况下实施所述方法的步骤。特别地,如同示出的那样,可以从第一金属层13的下表面18开始在薄片的下方更精确地构建金属部件的元件。例如,经由电沉积或电镀,例如通过上文所述的LIGA方法,可以通过增长的方式而在所述金属层上附加一个或多个其他金属层。如果导电层11在第一金属层13的沉积之前被沉积,则对于后续工序可以保留该导电层或者移除它。随后薄片作为初始支撑部,能够从薄片开始在第一金属层13上方和下方附加金属层。在薄片下方附加金属层的优点是从之前在载体10上构建的下表面18的平坦性中受益。因此,对于待加工的三级金属部件,在薄片的上方和下方分别设置两个层是有利的,以便从薄片的上表面15和下表面18的良好控制的平坦性中受益。
如上文所述,所述制造方法可以包括各种变型,其中部件的其他层被制造在所述金属部件的上金属层13的顶端和/或下方。一旦薄片(并列设置的金属层和抗蚀剂)被从基底分离,先前描述的所有步骤可以在该部件上被实施。作为变型,抗蚀剂可以在所述方法的后续时刻被移除。
应注意的是,整体上优选地将导电层沉积到金属层的其中一个表面上,或者所有两个表面上。应注意的是,在上下文中,语句“在该层或表面下方增长”意思是“在与基底分离的层的下表面上或从与基底分离的层的下表面开始”,上述增长从下表面18开始发生。
根据实施方式的另一个变型,可以在制造方法的任意其他后续步骤中、特别是当通过形成两个或多个层来制造具有两个或多个级的部件时实施基底的早期移除。例如,可以正好在形成部件的最后一个金属层之前、因此在电沉积或电镀的最终步骤之前、可选地在形成抗蚀剂模具的最终步骤之前进行上述移除。作为变型,可以在用于平整电沉积或电镀的最终步骤中获得的上表面的最终操作之前进行上述移除。作为变型,可以在用于加工电沉积或电镀的最终步骤中获得的上表面的最终操作之前进行上述移除。
为了说明这些实施方式的变型,图2-8示出了制造多级多层部件的方法的步骤,在其过程中能够在该方法的一些步骤中进行未被示出的基底10的早期移除。
如图2和3所示,该制造方法包括两个步骤E1、E2,其对应于图13和14并且已经被描述。如前所述,能够在上述时刻进行基底10的移除步骤E13。
该方法随后包括加工第一金属层13的步骤E3,以便形成空腔14,如图4所示。如同随后将会详细描述的那样,该空腔的作用是容纳将会被叠加的第二金属层的一部分,以便使得两个金属层能够互相连结。
形成空腔14的步骤E3包括机械加工步骤,例如铣削和/或钻削,或者任意其他的机械加工。作为变型,可以通过激光烧蚀来进行,例如使用飞秒脉冲激光。作为变型,可以使用化学加工、或者超声加工、或者电火花加工、或者通过电介质中放电进行的局部加工。因此,通过使用材料移除方法来进行所述的加工步骤,其巧妙的与使用附加的电镀方法构造全金属或合金层的不同的步骤相结合。
通过从金属层13的上表面15开始的操作形成空腔14。在该示例性的实施方式中,并且优选地,最终的空腔14是盲孔的形式。该盲空腔可以具有不同的深度,其可以延伸至金属层13的大部分高度的90%。可以在空腔14的底部留下最小量的材料,其具有大于或等于10μm的高度。换言之,空腔14与基底10分离开大于或等于10μm的第一金属层13的材料的厚度。空腔14的深度可以被选择为部件的最终几何形状的函数并且按照其所承受的机械应力被选择,更大的深度确保两个叠加的层更好的互相连结,并且由此确保更好的最终机械强度。
作为未示出的变型,空腔可以是通空腔,该步骤在特定区域内、去除第一金属层13整个高度上的金属,并且露出基底的导电层11的一部分。
在图4所示的实施方式中,空腔14具有基本垂直的侧壁17,并且因此基本上垂直于金属层13的上表面15。作为变型,可以形成具有不同或相同的尺寸、深度和/或几何形状的多个空腔。
根据有利的实施方式的变型,空腔14具有倾斜的侧壁17,使得当深度增加时空腔14具有变大的水平截面。作为变型,侧壁17可以具有任意非垂直的形状(不完全垂直于基底),使得空腔14包括水平平截面,该水平平截面在金属层13的上表面15的水平面下方的至少一个深度处大于与金属层13的上表面15齐平的开口19。这些侧壁因此不必是平坦的。它们可以是弯曲的。它们也不必是连续的。它们可以是阶梯状的。总之,该方法进一步改进了两个层之间的相互锚定,特别是改进了在垂直方向上的锚定或保持。
根据图5所示的实施方式,空腔14的侧壁17是连续倾斜的,使得空腔的平截面随着其在金属层13的上表面15下方的深度而连续增大。特别地,所示的空腔在垂直平面中具有燕尾形状的截面。可以使用斜角铣刀或燕尾铣刀、或通过斜入射的激光束30进行的激光烧蚀来加工该空腔。
所述方法随后包括沉积第二抗蚀剂层的步骤,在本示例中依然是SU-8负性的光致抗蚀剂层。作为变型,可以使用不同的抗蚀剂。上述第二层被沉积以便覆盖第一级N1。因此其限定了第二级N2,其在第一级N1的顶部垂直延伸。第二级N2的高度有利的是严格大于0并且小于或等于1.5mm。它可以与第一级的高度相同或不同,这取决于最终的待加工部件的第二级的高度。应注意的是,抗蚀剂也填满第一级N1的空腔14。如图6所示,经由光刻和显影步骤,通过第二抗蚀剂层的光刻来完成获得第二模具22的步骤E4,这与为了形成第一级的抗蚀剂模具的前述步骤类似。
所述方法随后包括电镀或电沉积的第二步骤E5,其包括在模具22中沉积第二金属层23。该第二金属层充满空腔14的整个容积,随后在第一金属层13的上表面15的顶部延伸。第二金属层在第一金属层13上方、特别地是在空腔14上方优选地具有至少10μm的高度。第二金属层可以充满第二级N2的第二抗蚀剂模具22的全部或部分高度。金属层23因此包括延伸部27,其占据了空腔14。
该步骤可选地跟随着厚度设定操作,该操作通过金属层和抗蚀剂的机械加工进行。该步骤的结果如图7所示。
应注意的是,在此处,经由第一级的沉积金属的上表面15和盲空腔14的内表面,通过第一级的沉积金属来激发第二金属层的电镀。作为变型,如果空腔14是通空腔,则可以通过覆盖基底10的具有空腔14的极的导电层来激发。
接下来,能够附加其他的层。例如,从图7开始的随后的步骤可以包括移除基底10的步骤E13,然后以与参照图15-18的描述类似的方式在薄片(具有两级N1、N2)下方附加级N-1的层。
作为变型,以与前述的两个层类似的方式,能够形成未示出的级N3的另一个上层。能够在第二层和第三层的沉积之间进行基底的移除。
最终,所述方法执行了用于制造部件的、基底的早期移除,以便留下包括至少一层的薄片,该层包括并列设置的树脂和金属区域。
从基底10上早期分离薄片具有以下主要的优点:
-仍然能够实现制造工序的连续性,例如在薄片的金属层13中形成盲空腔(步骤E3),并且制造一个或多个附加的抗蚀剂模具22(步骤E4),以及为了形成新金属层23的电沉积或电镀(步骤E5),以及为了形成附加的叠加层的上述步骤的重复,以及可选地插入物体(插件);
-同样能够进行可选的平整、中间加工等操作;
-薄片是薄的,并且其对于这些操作的实施是容易处理的。
自然的,也可以以与参照图4和5的上述描述中相似的方式进行在第一金属层13的下表面18中形成空腔的步骤,以便获得从该表面形成的金属层32的互相连结。应注意的是,薄片的第一金属层13可以因此在它的上部和它的下部中都包括空腔14。
可选地,无论是在基底的分离之前还是之后和/或在抗蚀剂的移除之前还是之后,都可以在已电镀的部件上进行用于二次加工或机械加工或修整表面的操作,例如涂层的沉积。
部件的多个金属层可以由相同的金属制成,或者作为变型由不同的金属制成。
上述用于制造金属部件的方法可以用来制造钟表部件,通过说明性和非限制性示例的方式,例如,擒纵叉、制轮爪、轮、齿条、游丝、摆轮、凸轮、齿轮或桥板。自然地,其也可以被用来制造微结构形式下的任意金属元件。
图9-12通过示例的方式示出了以根据图2-8的步骤E1-E5为基础的、制轮爪的制造。图9和10示出了在第一金属层13中加工空腔14的中间步骤之后获得的结果。图10特别地使得空腔14得到的燕尾形状可视化。图11示出了第二级抗蚀剂模具22形成之后的中间结果。可以看见模具底部的空腔14。通过第二金属层23的增长来完成部件,以便形成制轮爪的第二级,如图12所示。
根据实施方式的一个变型,所述方法可以在分离基底之前或之后包括加入插件的中间步骤,其跟随着增长新金属层的步骤,该步骤可以牢固地将插件附接到最终部件,并且特别是附接到两个叠加的层,以掩埋插件。该插件可以由金属的或导电的材料制成,或者由绝缘材料制成,例如红宝石、硅或陶瓷。
应注意的是,根据实施方式的另一个变型,在保留接下来的步骤E13至E15的情况下,能够通过任意其他方法生产第一金属层13。
Claims (6)
1.一种用于制造多层钟表部件的方法,其中该方法包括以下步骤:
-E1、E2:在基底(10)的上表面上制造钟表部件的至少一个第一金属层(13);
-E13:从先前步骤中得到的结构中分离基底(10),以便得到薄片;随后
-E4、E5;E14、E15:在薄片的上表面和/或下表面上,在基底(10)的分离之后生产钟表部件的至少一个另外的金属层(23、33)和/或执行加工金属层的操作。
2.根据权利要求1所述的用于制造多层钟表部件的方法,其中,在基底(10)的分离之后生产钟表部件的至少一个另外的金属层(23、33)的步骤包括以下步骤:
-E4:将光致抗蚀剂沉积到薄片的上表面(15)上;
-E4:通过掩模曝光光致抗蚀剂并且显影抗蚀剂,以便形成模具(22);
-E5:在模具(22)中电沉积金属或合金;
-选择性地重复先前的步骤,以便在之前形成的结构的顶部上附加一个或多个另外的金属层;和/或
-E14:将光致抗蚀剂沉积到薄片的下表面(18)上;
-E14:通过掩模曝光光致抗蚀剂并且显影抗蚀剂,以便形成模具(32);
-E15:在模具中电沉积金属或合金;
-选择性地重复先前的步骤,以便在事先形成的结构下面附加一个或多个另外的金属层。
3.根据前述权利要求之一所述的用于制造多层钟表部件的方法,其中,该方法包括在分离基底(10)的步骤(E13)之后进行的以下全部或部分额外的步骤:
-加工通过电沉积形成的新的金属层(13、23、33)的表面,以便增加该新的金属层的平坦度;
-在金属层中形成(E3)至少一个空腔(14),包括机械加工步骤,例如铣削和/或钻削、或激光烧蚀、或化学加工、或超声加工、或电火花加工、或通过电介质中放电进行的局部加工;
-将导电层沉积到通过电沉积形成的新的金属层上;
-将插件放置到部件的至少一个金属层中,使得插件全部或部分地被钟表部件的至少一个金属层掩埋;
-溶解形成一个或多个模具(12、22、32)的抗蚀剂,以用于制造一个或多个金属层(13、23、33)。
4.根据前述权利要求之一所述的用于制造多层钟表部件的方法,其中,该方法包括以下步骤:
-E1:将光致抗蚀剂沉积到基底(10)的表面上;
-E1:通过掩模曝光光致抗蚀剂并且显影抗蚀剂,以便形成模具(12);
-E2:将金属或合金电沉积到模(12)中,以便形成第一金属层(13);
-E4、E5:选择性地重复先前的步骤,以便在第一金属层(13)的上表面(15)上形成一个或多个另外的金属层(23);随后
-E13:从获得的结构上分离基底(10),以便获得薄片,该薄片包括一个或多个层,每一层都包括并列设置的抗蚀剂和金属区域。
5.根据前述权利要求之一所述的用于制造多层钟表部件的方法,其中,该方法包括在基底(10)的分离之后的以下步骤:
-E3:在金属层(13、23、33)的表面中形成至少一个空腔(14);
-E4:将光致抗蚀剂沉积到包括金属层(13、23、33)的空腔的表面上;
-E4:通过掩模曝光光致抗蚀剂并且显影抗蚀剂,以便形成模具,露出金属层(13、23、33)的表面的至少一个空腔(14);
-E5:将金属或合金电沉积到至少一个空腔(14)和模具中。
6.根据前述权利要求之一所述的用于制造多层钟表部件的方法,其中,多层钟表部件是包括由制轮爪、擒纵叉、轮、凸轮、齿条组成的组的元件中的一个。
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