CN106784595A - 泡沫镍基底上直接生长碳纳米管来制备电池电极的方法 - Google Patents

泡沫镍基底上直接生长碳纳米管来制备电池电极的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN106784595A
CN106784595A CN201510826340.4A CN201510826340A CN106784595A CN 106784595 A CN106784595 A CN 106784595A CN 201510826340 A CN201510826340 A CN 201510826340A CN 106784595 A CN106784595 A CN 106784595A
Authority
CN
China
Prior art keywords
foam nickel
growth
nickel base
cnt
foam
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201510826340.4A
Other languages
English (en)
Inventor
余兴华
易秋珍
钟建夫
朱济群
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
CHANGDE LIYUAN NEW MATERIAL Co Ltd
Original Assignee
CHANGDE LIYUAN NEW MATERIAL Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by CHANGDE LIYUAN NEW MATERIAL Co Ltd filed Critical CHANGDE LIYUAN NEW MATERIAL Co Ltd
Priority to CN201510826340.4A priority Critical patent/CN106784595A/zh
Publication of CN106784595A publication Critical patent/CN106784595A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01MPROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
    • H01M4/00Electrodes
    • H01M4/02Electrodes composed of, or comprising, active material
    • H01M4/04Processes of manufacture in general
    • H01M4/0402Methods of deposition of the material
    • H01M4/0421Methods of deposition of the material involving vapour deposition
    • H01M4/0428Chemical vapour deposition
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/02Pretreatment of the material to be coated
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/02Pretreatment of the material to be coated
    • C23C16/0227Pretreatment of the material to be coated by cleaning or etching
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/26Deposition of carbon only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01MPROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
    • H01M4/00Electrodes
    • H01M4/02Electrodes composed of, or comprising, active material
    • H01M4/24Electrodes for alkaline accumulators
    • H01M4/26Processes of manufacture
    • H01M4/28Precipitating active material on the carrier
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/10Energy storage using batteries

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)

Abstract

本发明提供了一种泡沫镍基底上直接生长碳纳米管来制备电池电极的方法,包括以下步骤:选用泡沫镍做碳纳米管化学气相沉积反应的催化与基底材料,对泡沫镍基底进行化学和超声清洁;设置CVD反应装置,并在CVD反应装置中对泡沫镍基底直接进行碳纳米管的化学气相沉积生长,生长温度600‑900°C时,该碳氢气体与载气的流量比为(10‑40sccm):(100‑400sccm),生长压力在1‑760Torr,生长时间1‑30min。本发明的优点是对增强电池器件的性能起到了显著的作用,CNT‑泡沫镍基底的比表面积和电化学活性有明显提高,基于CNT‑泡沫镍基底的镍氢电池循环寿命性能显著改善。

Description

泡沫镍基底上直接生长碳纳米管来制备电池电极的方法
技术领域
本发明属于碳纳米管应用领域,具体是指泡沫镍基底上直接生长碳纳米管来制备泡沫镍电池电极的方法。
背景技术
泡沫镍具有优异的催化活性、呈多孔结构、表面积大,在镍氢电池、超级电容器等多种电池能源器件中,泡沫镍是制备电池电极的重要材料。提高泡沫镍的催化活性、多孔 性、导电性等,对于增强电池器件的性能有重要意义。碳纳米管(CNTs)具有典型的层状中空结构特征、较高的长径比、高机械强度、稳定的化学性质,使得它在电池能源器件领域的应用得到广泛关注和研究。因此,将CNTs与泡 沫镍相结合,是提高相关电池能源器件性能的一条有效途径。在现有技术中,泡沫镍上生长CNTs的工艺中,常用的手段是先沉积一层催化剂, 再经CVD进行CNTs生长。受CNTs生长机制的制约,因而这种方法存在一些固有缺陷,包括:(1)在结构性能方面,CNT-催化金属薄膜-基底之间难以形成强烈有机的结合,在不同的应用条件冲击下,CNT薄膜易脱落,直接影响器件的性能和寿命;(2)CNT-催化金属薄膜-基底结构的导电性能不佳,影响电子、能源等器件的性能;(3)CNT-催化金属薄膜-基底结构的非紧密结合会造成较大的热耗散,不但会直接影响能源器件的效率等特性,还会加速器件的老化。
发明内容
本发明的目的是为了克服现有技术存在的缺点和不足,而提供一种泡沫镍基底上直接生长碳纳米管来制备泡沫镍电池电极的方法。通过该方法碳纳米管在泡沫镍基底上生长均匀、晶体性好、与基底结合力强且工艺步骤简单高效,从而提高了其作为泡沫镍电池电极的性能。
为实现上述目的,本发明的技术方案包括以下步骤:
⑴选用泡沫镍做碳纳米管化学气相沉积反应的催化与基底材料,对泡沫镍基底进行化学和超声清洁;
⑵设置CVD反应装置,并在CVD反应装置中对泡沫镍基底直接进行碳纳米管的化学气相沉积生长,所述CVD反应装置包括管式炉、设置于管式炉一侧的进气通道、以及设置于管式炉另一端的真空抽气泵,将泡沫镍基底用耐高温托盘承载、放置在管式炉中间,用真空抽气泵将管式炉抽至压强<1 Torr的真空状态,同时对管式炉进行加热,并向石英炉内通入载气,当管式炉加热温度达到600-900°C时,向炉中通入适当流量比的碳氢气体,该碳氢气体与载气的流量比为(10-40sccm) : (100-400sccm),并控制反应炉内的压力在1-760Torr, 开始1-30min的碳纳米管生长,生长结束后,停止加热,关闭碳氢气源,维持载气通入,让反 应炉降温至室温,取出样品。
进一步设置是所述的步骤(1)和(2)之间还设置有泡沫镍基底的阳极化处理,选用酸性溶液,以泡沫镍基底为正极,选用耐腐蚀导体作负极,在两极间加以1-100V的固定电压,持续0.1-10分钟,阳极化处理后对泡沫镍基底进行化学、超声清洗。
进一步设置是所述的碳氢气体为乙炔、甲烷、乙烯。
进一步设置是所述的步骤(2)中碳纳米管的生长温度为625℃,生长压力为 30Torr,生长时间 10min。
本发明的基本原理是利用泡沫镍本身的镍催化功能,使碳氢气体在泡沫镍基底上直接催化分解出碳原子并生长形成碳纳米管。通过本发明的工艺参数,控制碳氢气体的类型、气体流量、生长压力、反应温度等因素,制备与基底结合性能优异的CNT-泡沫镍结构。
本发明的方法的有益效果:
1)CNTs与泡沫镍基底结合性能好。在适当的工艺条 件下,CNTs可从泡沫镍内部长出,与基底有机而非常强烈地结合,机械性能优异,有利于改 进器件的性能和寿命;
2)本发明所述制备的CNT-泡沫镍结构导电性能优异、热耗散低,改善了器件的电学、 热学等性能;
3)能够在泡沫镍多孔结构内部均匀生长CNTs,,有效提高泡沫镍基底的比表面积和催 化活性;
4)工艺简洁,省略了金属沉积步骤,便于工业化应用。
附图说明
图1是本发明具体实施例所述制备的碳纳米管在泡沫镍基底上SEM 50倍放大形貌图
图2是本发明具体实施例所述制备的碳纳米管在泡沫镍基底上SEM 1000倍放大形貌图
图3是本发明具体实施例所述制备的碳纳米管在泡沫镍基底上SEM 20000倍放大形貌图
图4是基于本发明所制备的CNT-泡沫镍的镍氢电池负电极截面SEM图。
具体实施方式
下面通过实施例对本发明进行具体的描述,只用于对本发明进行进一步说明,不能理解为对本发明保护范围的限定,该领域的技术人员可根据上述发明的内容对本发明作出一些非本质的改进和调整。
实施例
在该CVD反应装置中进行含镍金属基底上直接生长碳纳米管并制备镍氢电池电极的方法,包括以下步骤:
(1)对含镍金属基底进行化学、超声清洗,本实施例该含镍金属基底为泡沫镍;
(2)设置CVD反应装置,并在CVD反应装置中对含镍金属基底进行碳纳米管的化学气 相反应生长,所述CVD反应装置包括石英加热炉、设置于石英加热炉一侧的进气通道、以及 设置于石英加热炉另一端的真空抽气泵,将含镍金属基底用石英托盘承载、放置在石英加 热炉中间,用真空抽气泵将石英加热炉抽至压强<1 Torr的真空状态,同时对石英加热炉进 行加热,并向石英炉内通入载气,当石英加热炉加热温度达到625°C时,向炉中通入适当流 量比的碳氢气体,该碳氢气体与载气的流量比为20sccm:200sccm,并控制反应炉内的压力 在0.5Torr,开始10min的碳纳米管生长,生长结束后,停止加热,关闭碳氢气源,维持载气通入,让反应炉降温至室温,取出样品。
试验例
利用扫描电镜JE0L6700研究了 CNTs在泡沫镍表面的形貌。图1-3为在压力30torr、 625°C、10min条件下泡沫镍生长的CNTs的SEM形貌图。从图中可以看出,碳纳米管在表面 分布均匀致密,取向无序,相互纠缠,管径约在50nm左右。
对上述条件所制备的CNT-泡沫镍在电池器件中的应用进行了研究,应用干粉末 滚压技术,制备了镍氢电池电极,图4为负电极的SEM截面图。如图4中所示,细长的CNTs 穿插在活性材料之间,以枝干的形式有效增强了活性材料的聚合性、强化了活性物质与基 底间粘合力,起到了减缓电池循环过程中活性物质脱落的作用,并增加材料的导电性,从而 增加电池放电比容量,延长了电池循环寿命。
本申请通过CVD直接生长技术,在泡沫镍基底上直接生长CNTs,对增强电池器件 的性能起到了显著的作用,CNT-泡沫镍基底的比表面积和电化学活性有明显提高。在镍氢 电池应用中,穿插在活性材料之间的CNTs有效增强了活性材料的聚合性、强化了活性物质 与基底间粘合力,有效延长了电池的循环寿命;同时,CNTs与基底直接连接,增加电极活性 材料的导电性,降低了电池内阻,增加了电池放电比容量。

Claims (4)

1.泡沫镍基底上直接生长碳纳米管来制备电池电极的方法,其特征在于,包括以下步骤:
⑴选用泡沫镍做碳纳米管化学气相沉积反应的催化与基底材料,对泡沫镍基底进行化学和超声清洁;
⑵设置CVD反应装置,并在CVD反应装置中对泡沫镍基底直接进行碳纳米管的化学气相沉积生长,所述CVD反应装置包括管式炉、设置于管式炉一侧的进气通道、以及设置于管式炉另一端的真空抽气泵,将泡沫镍基底用耐高温托盘承载、放置在管式炉中间,用真空抽气泵将管式炉抽至压强<1 Torr的真空状态,同时对管式炉进行加热,并向石英炉内通入载气,当管式炉加热温度达到600-900°C时,向炉中通入适当流量比的碳氢气体,该碳氢气体与载气的流量比为(10-40sccm) : (100-400sccm),并控制反应炉内的压力在1-760Torr, 开始1-30min的碳纳米管生长,生长结束后,停止加热,关闭碳氢气源,维持载气通入,让反 应炉降温至室温,取出样品。
2.根据权利要求1所述的泡沫镍基底上直接生长碳纳米管来制备电池电极的方法,其特征在于,所述的步骤(1)和(2)之间还设置有泡沫镍基底的阳极化处理,选用酸性溶液,以泡沫镍基底为正极,选用耐腐蚀导体作负极,在两极间加以1-100V的固定 电压,持续0.1-10分钟,阳极化处理后对泡沫镍基底进行化学、超声清洗。
3.根据权利要求1所述的泡沫镍基底上直接生长碳纳米管来制备电池电极的方法,其特征在于,所述的碳氢气体为乙炔、甲烷、乙烯。
4.根据权利要求1所述的泡沫镍基底上直接生长碳纳米管来制备电池电极的方法,其特征在于,所述的步骤(2)中碳纳米管的生长温度为625C,生长压力为 30Torr,生长时间 10min。
CN201510826340.4A 2015-11-25 2015-11-25 泡沫镍基底上直接生长碳纳米管来制备电池电极的方法 Pending CN106784595A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510826340.4A CN106784595A (zh) 2015-11-25 2015-11-25 泡沫镍基底上直接生长碳纳米管来制备电池电极的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510826340.4A CN106784595A (zh) 2015-11-25 2015-11-25 泡沫镍基底上直接生长碳纳米管来制备电池电极的方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN106784595A true CN106784595A (zh) 2017-05-31

Family

ID=58963634

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201510826340.4A Pending CN106784595A (zh) 2015-11-25 2015-11-25 泡沫镍基底上直接生长碳纳米管来制备电池电极的方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN106784595A (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108441840A (zh) * 2018-01-30 2018-08-24 同济大学 一种简便的碳纳米管泡沫的制备方法
CN109680257A (zh) * 2019-02-19 2019-04-26 中国铝业股份有限公司 一种纳米材料的制备方法
CN118522909A (zh) * 2024-07-19 2024-08-20 杭州德海艾科能源科技有限公司 一种钒电池用复合双极板制备方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108441840A (zh) * 2018-01-30 2018-08-24 同济大学 一种简便的碳纳米管泡沫的制备方法
CN109680257A (zh) * 2019-02-19 2019-04-26 中国铝业股份有限公司 一种纳米材料的制备方法
CN118522909A (zh) * 2024-07-19 2024-08-20 杭州德海艾科能源科技有限公司 一种钒电池用复合双极板制备方法
CN118522909B (zh) * 2024-07-19 2024-09-27 杭州德海艾科能源科技有限公司 一种钒电池用复合双极板制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104577059B (zh) 泡沫镍基底上直接生长碳纳米管来制备电池电极的方法
CN101661840B (zh) 一种超级电容器的制备方法
JP4775718B2 (ja) 白金ナノ触媒担持炭素ナノチューブ電極及びその製造方法
CN108264034B (zh) 源于木材的多孔碳上生长螺旋状碳纳米管的方法
CN105322146B (zh) 一种硒化钼/碳纳米纤维/石墨烯复合材料及其制备方法
CN108017090B (zh) 一种高密度边界双层二硫化钼纳米片及其制备方法
CN107934955B (zh) 一种活化处理商用碳纤维布的方法
CN102786756A (zh) 三维连续石墨烯网络复合材料及其制备方法
CN104103821B (zh) 硅碳负极材料的制备方法
CN103253648A (zh) 一种在泡沫镍上生长碳纳米管的方法
CN109742355A (zh) 一种硅碳复合材料制备方法
CN105645375A (zh) 一种在纳米多孔铜上直接生长多孔碳纳米管的方法
CN103682384B (zh) 一种全钒液流电池用复合碳电极及其制备方法
CN113271758B (zh) 一种电磁波屏蔽透气多孔碳复合材料及其制备方法、应用
CN106784595A (zh) 泡沫镍基底上直接生长碳纳米管来制备电池电极的方法
CN105742666B (zh) 一种燃料电池用碳纳米管气体扩散层及其制备和应用
CN109817920A (zh) 一种硒包覆碳纳米管/石墨烯的制备方法及应用
CN110423017A (zh) 石墨烯完全包覆轻质空心微珠颗粒及制备方法
CN110240145B (zh) 一种无过渡层支撑的金属基阵列碳纳米管电极材料及其制备方法和应用
CN104773725A (zh) 一种利用低温等离子体制备石墨烯的方法
CN102263243B (zh) 阵列化镍硅纳米线及镍硅-硅核壳纳米线的制备方法
CN107119262A (zh) 一种镍金属基体表面催化生长碳纳米管薄膜的方法
CN104637758B (zh) 含镍金属基底上直接生长碳纳米管场发射阴极的方法
CN105375049B (zh) 碳质管式氧还原阴极微生物燃料电池及制备方法
CN107961799A (zh) 一种金字塔形二硫化钼纳米片及其制备方法和应用

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20170531