CN106468836A - 显示装置及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

提供一种显示装置。一种显示装置包括：第一基板，包括显示区域和非显示区域，并且被放置为彼此面对；光阻挡图案，包括形成在非显示区域中的第一基板上的开口部分；以及虚设颜色层，设置在第一基板上的开口部分下面并在与开口部分相应的位置处，其中开口部分和虚设颜色层在一方向上延伸。

Description

显示装置及其制造方法
技术领域
本公开涉及液晶显示器(LCD)以及制造该液晶显示器的方法。
背景技术
一般地，液晶显示器(LCD)包括阵列基板、面对阵列基板的对基板、以及插置在阵列基板和对基板之间的液晶层。LCD包括在其中布置多个像素以显示图像的显示区域以及设置在显示区域周围并在其中放置驱动电路的非显示区域。
近来，已经发展了采用阵列上滤色器(COA)基板的高透射率LCD，在阵列上滤色器基板中滤色器形成在阵列基板上。在该LCD中，COA基板可能在其联接到具有光阻挡构件的对基板时与对基板未对准。为了防止该问题，正在开发在其中光阻挡构件形成在COA基板上的阵列上黑矩阵(BOA)基板。此外，正在开发黑色柱间隔物(BCS)。BCS通过利用相同材料与光阻挡图案同时地形成柱间隔物而获得，该柱间隔物保持光阻挡图案和基板之间的间隔。
在BOA或BCS结构中，公共电压可以通过密封构件中包括的导电球而被施加到设置在对基板上的公共电极。为此，用于施加公共电压的开口可以形成在光阻挡图案中。然而，尽管形成开口，但导电球和公共电极也可能由于光阻挡图案的厚度而难以彼此接触。为了解决该问题，虚设滤色器可以被放置在该开口下面以形成台阶。
在大尺寸面板的情形下，光阻挡图案和虚设滤色器通常利用缝针式照射(stitch-shot)法制造。然而，在利用该方法形成时，光阻挡图案和虚设滤色器可具有不同的缝针式照射构造，并且光阻挡图案的开口可能与用于形成台阶的虚设滤色器未对准。结果，设置在开口下面的金属可能暴露，并且被暴露的金属反射的光会被看到。
发明内容
本公开的方面提供一种显示装置以及制造该显示装置的方法，该显示装置被构造为防止由设置在短路点下面的金属引起的反射。
然而，本公开的方面不限于此处阐述的这些。对于本公开所属领域中的普通技术人员而言，通过参考以下给出的示例性实施方式的详细描述，本公开的以上和其它方面将变得更加明显。
根据本公开的方面，提供一种显示装置，该显示装置包括：第一基板和第二基板，包括显示区域和非显示区域，并且被放置为彼此面对；液晶层，插置在第一基板和第二基板之间；光阻挡图案，包括形成在非显示区域中的第一基板上的开口部分；以及虚设颜色层，设置在第一基板上的开口部分下面并在与开口部分相应的位置处，其中开口部分和虚设颜色层在一方向上延伸。
第一基板还可以包括设置在非显示区域中的扇出部分，开口部分和虚设颜色层可以跨扇出部分延伸。
开口部分的长度和虚设颜色层的长度可以大于显示区域的宽度。
虚设颜色层的宽度可以大于或等于开口部分的宽度。
开口部分可以完全交叠虚设颜色层。
第一基板还可以包括：设置在非显示区域中的扇出部分以及由开口部分暴露的公共电压线，其中公共电压线在一方向上延伸以横越扇出部分。
显示装置还可以包括设置在非显示区域中的密封构件，其中开口部分设置在由密封构件内部的区域交叠的区域中。
虚设颜色层可以设置在由密封构件内部的所述区域交叠的所述区域中。
显示装置还可以包括由开口部分暴露的公共电压线，其中公共电压线设置在由密封构件内部的所述区域交叠的所述区域中。
密封构件可以包括导电构件。
显示装置还可以包括：设置在第二基板上的公共电极；以及由开口部分暴露的公共电压线，其中导电构件设置在公共电极和公共电压线之间以接触公共电极和公共电压线。
第一基板还可以包括设置在非显示区域中的扇出部分以及被扇出部分至少部分地交叠的光阻挡金属层。
虚设颜色层可以是蓝色的。
虚设颜色层可以包括顺序地层叠的第一虚设颜色层和第二虚设颜色层，其中第一虚设颜色层和第二虚设颜色层具有不同的颜色。
第一虚设颜色层可以是红色的，第二虚设颜色层可以是蓝色的。
开口部分可以包括放置为彼此面对的第一开口和第二开口，显示区域插置在第一开口和第二开口之间。
虚设颜色层可以包括与第一开口相应的第一虚设颜色层以及与第二开口相应的第二虚设颜色层。
第一开口和第一虚设颜色层可以跨扇出部分延伸。
第一和第二开口的长度以及第一和第二虚设颜色层的长度可以大于显示区域的宽度。
根据本公开的另一方面，提供一种制造显示装置的方法，该方法包括：在包括显示区域和非显示区域的第一基板上在非显示区域中形成虚设颜色层，使其在一方向上延伸；以及在虚设颜色层上形成光阻挡图案，其中光阻挡图案包括开口部分，该开口部分对应于虚设颜色层并且在与其中虚设颜色层延伸的方向基本上相同的方向上延伸。
第一基板还可以包括设置在非显示区域中的扇出部分，开口部分和虚设颜色层可以跨扇出部分延伸。
开口部分的长度和虚设颜色层的长度可以大于显示区域的宽度。
开口部分和虚设颜色层可以利用缝针式照射方法形成。
该方法还可以包括：在第一基板上在显示区域中形成第一滤色器层；以及在第一基板上在显示区域中形成第二滤色器层，其中虚设颜色层与第一滤色器层或第二滤色器层同时形成。
开口部分可以包括放置为彼此面对的第一开口和第二开口，显示区域插置在第一开口和第二开口之间，虚设颜色层可以包括与第一开口部分相应的第一虚设颜色层以及与第二开口相应的第二虚设颜色层。
第一基板还可以包括设置在非显示区域中的扇出部分，第一开口和第一虚设颜色层可以跨扇出部分延伸。
附图说明
通过参考附图考虑在此处公开的详细的示例性实施方式，本公开的以上和其它方面及特征将变得更加明显，在图中：
图1是根据本公开的实施方式的显示装置的示意性平面图；
图2是图1的区域‘A’的放大图；
图3是沿图2的线III-III'截取的截面图；
图4是图1的显示装置的短路点结构的示意性平面图；
图5是图1的区域‘B’的放大图；
图6是沿图5的线VI-VI'截取的截面图；
图7是图1的区域‘C’的放大图；
图8是沿图7的线VIII-VIII'截取的截面图；
图9是沿着与图5的线VI-VI'相应的线截取的根据本公开另一实施方式的显示装置的截面图；
图10和11是沿着与图5的线VI-VI'相应的线截取的根据本公开的其它实施方式的显示装置的截面图；
图12和13示出根据本公开的其它实施方式的显示装置的短路点；
图14是根据本公开另一实施方式的显示装置的示意性平面图；以及
图15、16、17、18、19、20、21、22、23、24、25和26是示出根据本公开的实施方式的制造显示装置的方法的步骤的截面图。
具体实施方式
在此处示例性实施方式的描述中，相同的附图标记通篇指代相同的元件。当前公开的示例性实施方式可以变化，而不应被理解为限制本公开。因此，示例性实施方式仅在以下通过参考附图被描述以说明本公开的多个方面。
一个元件连接到或联接到另一元件的描述包括其中一个元件直接连接到另一元件的情形或其中中间元件插置在元件之间的情形。然而，一个元件直接连接或直接联接到另一元件的描述表示在元件之间没有中间元件。术语“和/或”包括一个或多个相关列举项目的任意和所有组合。
在本说明书中的单数表述还包括复数表述。术语“包括”和/或“包含”并未排除一个或多个其它组件、步骤、操作和/或器件的存在或添加的可能性。
在以下的描述中，假设根据本公开的一些示例性实施方式的显示装置是液晶显示(LCD)装置，但是本公开不限于此。也就是，除LCD装置以外，本公开也可应用于各种显示装置。
在下文中，将参考附图描述本公开的实施方式。
图1是根据本公开的实施方式的显示装置10的示意性平面图。图2是图1的区域‘A’的放大图。图3是沿图2的线III-III'截取的截面图。图4是图1的显示装置10的短路点结构的示意性平面图。图5是图1的区域‘B’的放大图。图6是沿图5的线VI-VI'截取的截面图。图7是图1的区域‘C’的放大图。图8是沿图7的线VIII-VIII'截取的截面图。
参考图1至8，显示装置10包括第一显示基板100、面对第一显示基板100的第二显示基板200、以及插置在第一显示基板100和第二显示基板200之间的液晶层300。
显示装置10包括显示区域DA和非显示区域NDA。布置成矩阵的多个像素可以被限定在显示区域DA中。
像素电极182可以设置在第一显示基板100的显示区域DA的每个像素中。像素电极182可以通过薄膜晶体管(TFT)接收数据电压。公共电极212可以形成在显示区域DA的整个表面上作为交叠所有的像素的单件(singlepiece)并且设置在第二显示基板200上。像素电极182可以与公共电极212一起产生电场，由此控制插置在像素电极182和公共电极212之间的液晶层300的液晶分子的排列方向。
提供数据驱动信号的数据驱动器400和提供栅驱动信号的栅驱动器500可以设置在第一显示基板100的显示区域DA之外。
数据驱动器400可以从时序控制器(未示出)接收图像信号和数据控制信号。数据驱动器400可以响应于数据控制信号而产生与图像信号相应的模拟数据电压。数据驱动器400可以经由数据传输线142a和数据线142向每个像素提供数据电压。数据传输线142a和数据线142可以彼此电连接。
数据驱动器400可以包括多个数据驱动器芯片410。数据驱动器芯片410可以安装在相应的第一柔性印刷电路板(FPCB)420上并因此连接到非显示区域NDA中的驱动电路板430和数据焊盘(未示出)。虽然在图中未示出，在其上安装数据驱动器芯片410的第一FPCB 420可以通过各向异性导电膜分别连接到相应的数据焊盘。
栅驱动器500可以响应于从安装在驱动电路板430上的时序控制器(未示出)接收的栅控制信号而产生栅信号。栅信号可以经由栅线112被逐行且顺序地提供到像素。栅驱动器500可以利用非晶硅栅(ASG)方法与非显示区域NDA一体地实现。然而，这仅是一示例，栅驱动器500的实现方法不限于ASG方法。例如，栅驱动器500也可以利用其中栅驱动器安装在FPCB上的带载封装(TCP)方法或玻璃上芯片(COG)方法实现。
第一显示基板100和第二显示基板200可以通过由密封剂制成的密封构件250接合在一起。密封构件250可以被放置在非显示区域NDA中，也就是，在每个第一显示基板100和第二显示基板200的外围区域中。
在一些实施方式中，设置在非显示区域NDA中的密封构件250可以像四边形带一样地成形，如图4所示。然而，这仅是一示例，密封构件250的形状不限于四边形带，而是可以根据显示装置10的结构而变化。
在一些实施方式中，密封构件250可以包括导电构件。例如，密封构件250可以包括导电球CB，如图6所示。施加到公共电压线(116,184)的公共电压可以经由导电构件被提供到设置在第二基板202上的公共电极212。在图6的实施方式中，导电球CB被作为导电构件的示例示出。然而，本公开不限于此，密封构件250中包括的导电构件可具有各种横截面形状，诸如椭圆形和多边形横截面形状。
公共电压线(116,184)可以设置在非显示区域NDA中。公共电压线(116,184)可以设置在第一基板102的边缘上。公共电压线(116,184)可以沿第一基板102的边缘设置。
公共电压线(116,184)可以包括第一公共电压线116和第二公共电压线184。第二公共电压线184可以设置在第一公共电压线116上。第一公共电压线116和第二公共电压线184可以通过形成在栅绝缘层122、钝化层152和有机层172中的孔116a而彼此电连接。
具体地，第一公共电压线116可以接触设置在孔116a中的第二公共电压线184，通过光阻挡图案192的开口部分(192a,192b)暴露的第二公共电压线184可以接触导电球CB。导电球CB可以接触设置在第二基板202上的公共电极212。因此，施加到第一公共电压线116的公共电压可以经由第二公共电压线184和导电球CB被提供到公共电极212。
在一些实施方式中，第一公共电压线116可以设置在与栅布线(112,114)相同的水平处，这在后面描述。第二公共电压线184可以设置在与像素电极182相同的水平处，这在后面描述。然而，这仅是一示例，用于向公共电极212施加公共电压的结构不限于以上结构。
第一公共电压线116可以包括用于改善第一公共电压线116与第二公共电压线184的接触的第一公共电压线扩展部分116E。第一公共电压线扩展部分116E的宽度可以比除了第一公共电压线扩展部分116E之外的整个第一公共电压线116的宽度大。
在一示例性实施方式中，第一公共电压线扩展部分116E可以设置在一对相邻的扇出部分FO之间。为了描述的方便，将首先限定扇出部分FO。如以上已经提及的，多个数据传输线142a可以从每个数据驱动芯片410延伸。设置在非显示区域NDA中的所述多个数据传输线142a可以连接到设置在显示区域DA中的多个数据线142。扇出部分FO可以由从每个数据驱动芯片410延伸的所述多个数据传输线142a中的两个最外面的数据传输线142a限定。换言之，扇出部分FO可以被定义为在从每个数据驱动芯片410延伸的所述多个数据传输线142a中的两个最外面的数据传输线142a之间的区域。如图1所示，可以提供多个扇出部分FO。
图1示出了其中扇出部分FO是梯形的示例，但是本公开不限于该示例。也就是，扇出部分FO的形状可以根据需要变化。
图1示出其中第一公共电压线扩展部分116E与数据驱动器400相邻地设置的示例，但是第一公共电压线扩展部分116E的位置不限于该示例。也就是，第一公共电压线扩展部分116E是用于促进第一公共电压线116和第二公共电压线184之间的接触，第一公共电压线116的与第二公共电压线184接触的部分可以是第一公共电压线扩展部分116E。换言之，在另一示例性实施方式中，第一公共电压线116和第二公共电压线184可以在非显示区域NDA中的任何地方彼此接触(也就是，第一公共电压线116和第二公共电压线184没有被特别限制为在邻近扇出部分FO的区域中彼此接触，如图1所示)。因此，第一公共电压线116的与第二公共电压线184接触的部分可以用第一公共电压线扩展部分116E替换。
为了在本公开中的描述的一致性，第一公共电压线116和第一公共电压线扩展部分116E将在下文中被共同称为第一公共电压线116。也就是，在以下的描述中，注意到，第一公共电压线116的与第二公共电压线184接触的部分可以用第一公共电压线扩展部分116E替换。
第一公共电压线116可以通过多个孔116a接触第二公共电压线184。例如，参考图5和6，孔116a可以设置在光阻挡图案192的开口部分(192a)的一侧以及在开口部分(192a)的另一侧(与以上的所述一侧相反的侧)。公共电压可以通过多个孔116a比通过单一孔更有效地施加到第二公共电压线184。在图5中示出的孔116a的结构仅是一示例，而不限于该示例。
在图6中，导电球CB设置在通过光阻挡图案192的开口部分(192a,192b)暴露的第二公共电压线184上。然而，本公开不限于此，导电球CB可以分布在密封构件250内的不同位置上。此外，公共电压可以通过除导电球CB以外的方式(means)被施加到公共电极212。
光阻挡图案192的开口部分(192a,192b)，也就是，短路点结构，在后面被详细描述。
包括具有正介电各向异性或负介电各向异性的液晶分子的液晶层300可以插置在第一显示基板100和第二显示基板200之间。
根据当前实施方式的显示装置10的第一显示基板100和第二显示基板200的结构现在被详细描述。
第一显示基板100使用第一基板102作为基底基板。第一基板102可以包含绝缘材料，诸如透明玻璃、石英、陶瓷、硅或透明塑料，或由本领域的普通技术人员选择的适当材料。在一些实施方式中，第一基板102可具有柔性。也就是，第一基板102可以是能够被卷绕、折叠、弯曲等的可变形的基板。
多条栅布线(112,114)和多条数据布线(142、144、146)可以设置在第一基板102上。
栅布线(112,114)可以包括多条栅线112和多个栅电极114。数据布线(142、144和146)可以包括多条数据线142、多个源电极144和多个漏电极146。
栅布线(112,114)和数据布线(142,144,146)可以由铝(Al)基金属诸如铝和铝合金、银(Ag)基金属诸如银和银合金、铜(Cu)基金属诸如铜和铜合金、钼(Mo)基金属诸如钼和钼合金、铬(Cr)、钛(Ti)或钽(Ta)制成。此外，栅布线(112,114)和数据布线(142,144,146)可具有由具有不同物理特性的两个导电层(未示出)组成的多层结构。例如，所述两个导电层中的其中之一可以由铝基金属、银基金属或铜基金属制成。导电层中的另一个可以由钼基金属、铬、钛或钽制成。多层结构的示例包括铬下层和铝上层以及铝下层和钼上层。然而，本公开不限于此。栅布线(112,114)和数据布线(142,144,146)可以由各种金属和导体制成。
栅线112可以沿像素的水平边界在第一方向上(例如，在水平方向上)延伸。数据线142可以沿像素的竖直边界在第二方向上(例如，在竖直方向上)延伸。栅线112和数据线142可以彼此垂直交叉以限定多个像素区域。也就是，像素区域可以被限定在由栅线112和数据线112围绕的区域中。
每个像素中的至少一个栅电极114连接到每条栅线112。栅电极114可以从栅线112朝向半导体层132分支，或可以通过延伸栅线112形成。然而，本公开不限于此，栅电极114也可以被限定在栅线112的交叠半导体层132的区域中。
每个像素中的至少一个源电极144连接到每条数据线142。源电极144可以从数据线142朝向半导体层132分支，或可以通过延伸数据线142形成。然而，本公开不限于此，源电极144也可以被限定在数据线142的交叠半导体层132的区域中。例如，源电极144可以不从数据线142突出而是可以位于与数据线142基本上相同的线上。漏电极146可以相对于半导体层132而与源电极144分离，并且可以经由穿透钝化层152和有机层172的接触孔146a而电连接到像素电极182，这在后面描述。
栅绝缘层122设置在栅布线(112,114)和数据布线(142,144,146)之间。在实施方式中，栅绝缘层122可以设置在栅布线(112,114)上，数据布线(142,144,146)可以设置在栅绝缘层122上。栅绝缘层122可以由例如硅氮化物(SiNx)、硅氧化物(SiO2)、硅氮氧化物(SiON)或其叠层制成。栅绝缘层122可以使栅布线(112,114)与位于栅布线(112,114)上的导电薄层(诸如数据线142)绝缘。
半导体层132设置在栅绝缘层122上并且可以由氢化非晶硅、多晶硅或氧化物半导体制成。至少部分的半导体层132交叠栅电极114。半导体层132与栅电极114、源电极144和漏电极146一起形成TFT。
半导体层132可具有各种形状，诸如岛和线。在图4的实施方式中，半导体层132是岛形状。然而，半导体层132的形状不限于岛形状。半导体层132也可以像线一样地成形。在该情形下，半导体层132可以交叠数据布线(142、144、146)，虽然在图中未示出。
由用n型杂质重掺杂的n+氢化非晶硅形成的欧姆接触层134可以设置在半导体层132上。欧姆接触层134可以位于在其下的半导体层132与在其上的源电极144和漏电极146之间以降低在它们之间的接触电阻。像半导体层132一样，欧姆接触层134可具有各种形状，诸如岛和线。当半导体层132是岛形状时，欧姆接触层134也可以是岛形状。当半导体层132线性地形成时，欧姆接触层134也可以线性地形成。与半导体层132不同，欧姆接触层134的与源电极144和漏电极146通过其分离从而彼此面对的空间对应的区域可以被去除。结果，欧姆接触层134可以暴露设置在其下的半导体层132。沟道可以形成在半导体层132的与源电极144和漏电极146通过其分离从而彼此面对的空间对应的区域中。
当沟道响应于被传送到栅电极114的栅导通信号而形成在半导体层132中时，TFT导通。然后，漏电极146从源电极144接收数据信号并且发送所接收的数据信号到像素电极182。
钝化层152设置在数据布线(142,144,146)以及半导体层132的暴露部分上。接触孔146a可以形成在钝化层152和有机层172中，这在后面描述，以暴露漏电极146的至少一部分。漏电极146的通过接触孔146a暴露的所述至少一部分可以接触像素电极182。因此，漏电极146和像素电极182可以彼此电连接/接触。
钝化层152可以由无机材料诸如硅氮化物或硅氧化物制成，或者可以由通过等离子体增强化学气相沉积(PECVD)形成的材料诸如Si:C:O或Si:O:F制成。
有机层172可以设置在钝化层152上。有机层172可以包含具有优良的平坦化性能和光敏性的材料。有机层172包括暴露漏电极146的至少一部分的接触孔146a。
滤色器162可以设置在有机层172和钝化层152之间。滤色器162可以包括红色滤色器、绿色滤色器和蓝色滤色器。红色、绿色和蓝色滤色器形成在像素中以分别形成红色、绿色和蓝色像素。滤色器162可以交叠像素电极182。滤色器162可以包含含有颜料的光敏有机材料。有机层172可以设置在滤色器162上以平坦化红色、绿色和蓝色滤色器之间的台阶。滤色器162可以被有机层172覆盖。也就是，滤色器162可以被有机层完全覆盖。然而，这仅是一示例，本公开不限于该结构。
像素电极182可以在每个单元像素中设置在有机层172上。像素电极182的一部分设置在接触孔146a中。像素电极182的设置在接触孔146a中的部分可以接触漏电极146并因此电连接到漏电极146。
当数据电压通过接触孔146a被施加到像素电极182时，像素电极182可以与公共电极212一起产生电场，由此使液晶层300中包括的液晶分子旋转。像素电极182可以由透明导电材料诸如铟锡氧化物(ITO)或铟锌氧化物(IZO)制成，但是不限于此。
光阻挡图案192可以设置在有机层172和像素电极182上。光阻挡图案192防止漏光。光阻挡图案192可以设置在TFT区域和非像素区域(在像素、栅线区域和数据线区域之间)中。
光阻挡图案192可以由包含黑色染料或颜料的黑色有机聚合物材料或者金属(金属氧化物)诸如铬或氧化铬制成。
柱间隔物194被设计为保持第一基板102和第二基板202之间的间隔。在一些实施方式中，柱间隔物194的端部可以接触第二显示基板200，如图3所示。然而，这仅是一示例，柱间隔物194的端部也可以与第二显示基板200分离预定距离。
虽然在图中未示出，但是柱间隔物194可以包括具有不同台阶高度的多个柱间隔物。例如，柱间隔物194可以包括具有较高台阶高度的主柱间隔物和具有较低台阶高度的辅助柱间隔物。在该情形下，第一显示基板100和第二显示基板200之间的间隔可以主要地通过主柱间隔物而克服外部压力被保持。在施加较大压力时，第一显示基板100和第二显示基板200之间的间隔可以辅助地通过辅助柱间隔物被保持。
柱间隔物194可以形成在与TFT对应的区域中。至少部分的柱间隔物194可以交叠栅布线(112,114)。然而，这仅是一示例，柱间隔物194的位置不限于以上示例。
在一些实施方式中，柱间隔物194可以由与光阻挡图案192相同的材料制成。柱间隔物194和光阻挡图案192可以通过利用半色调掩模或狭缝掩模的曝光而在一个图案化工艺中同时形成。也就是，柱间隔物194和光阻挡图案192可以利用相同的材料同时形成。
第二显示基板200使用第二基板202作为基底基板。第二基板202可以是绝缘基板。具体地，像第一基板102一样，第二基板202可以包含绝缘材料，诸如透明玻璃、石英、陶瓷、硅或透明塑料，或由本领域的普通技术人员选择的适当材料。在一些实施方式中，第二基板202可具有柔性。也就是，第二基板202可以是能够被卷绕、折叠、弯曲等的可变形基板。第二基板202可以被放置为面对第一基板102。
公共电极212可以设置在第二基板202上。在接收公共电压时，公共电极212可以与像素电极182一起产生电场，由此控制液晶层300中包括的液晶分子的排列方向。施加到公共电压线(116,184)的公共电压可以经由导电球CB被提供到公共电极212。
公共电极212可以在由栅线112和数据线142围绕的整个像素区域上形成为单件。公共电极212可以由透明导电材料诸如ITO或IZO制成，但是不限于此。
虽然在图中未示出，配向层可以设置在第一基板102的面对液晶层300的表面和第二基板202的面对液晶层300的表面的每个上。用于使液晶层300取向的配向层可以设置在像素电极182、公共电极212、光阻挡图案192和柱间隔物194上。配向层可以包含树脂聚合物，诸如聚酰亚胺、聚酰胺酸、聚酰胺、聚酰胺-酰亚胺、聚酯、聚乙烯、聚氨酯或聚苯乙烯、或其混合物。此外，配向层可以包含以上树脂聚合物的单体。
在一些实施方式中，虽然在图中未示出，但是用于防止配向层的流动的屏障(dam)可以设置在第一基板102的面对液晶层300的表面以及第二基板202的面对液晶层300的表面上。屏障可以比短路点进一步向第一基板102和第二基板202内，公共电压在该短路点被施加到公共电极212。
现在详细描述光阻挡图案192的开口部分(192a,192b)的结构，也就是，短路点的结构。
根据当前实施方式的显示装置10可以通过密封构件250中包括的导电球CB施加公共电压到设置在第二基板202上的公共电极212。因此，点，即公共电压在该处被施加到公共电极212的短路点，可以形成在密封构件250内部。短路点可以由于如下所述的结构而基本上形成在光阻挡图案192的开口部分(192a,192b)中。
具体地，参考图4，光阻挡图案192的开口部分(192a,192b)、虚设颜色层(164a,164b)以及第二公共电压线184可以设置在被密封构件250内部的区域交叠的区域中。换言之，至少部分的密封构件250可以完全交叠光阻挡图案192的开口部分(192a,192b)、虚设颜色层(164a,164b)和第二公共电压线184。此外，开口部分(192a,192b)可以完全交叠虚设颜色层(164a,164b)和第二公共电压线184。
参考图6，第二公共电压线184可以设置在虚设颜色层(164a,164b)上，光阻挡图案192的开口部分(192a,192b)可以形成在第二公共电压线184上。然而，这仅是一示例，光阻挡图案192的开口部分(192a,192b)、虚设颜色层(164a,164b)和第二公共电压线184的位置不限于以上示例。
光阻挡图案192包括用于施加公共电压到设置在第二基板202上的公共电极212的开口部分(192a,192b)。开口部分(192a,192b)可以在一方向上(例如，在水平方向上)延伸，如图4所示。第二公共电压线184的至少一部分可以通过开口部分(192a,192b)暴露，第二公共电压线184的暴露部分的至少部分可以接触导电球CB。因此，短路点可以基本上形成在光阻挡图案192的开口部分(192a,192b)内。
光阻挡图案192的开口部分(192a,192b)可以形成在非显示区域NDA中。开口部分(192a,192b)可以形成在光阻挡图案192内部。更具体而言，开口部分(192a,192b)可以形成在设置于非显示区域NDA中的光阻挡图案192的内部。当从上看时，开口部分(192a,192b)可以是矩形的，但是不限于此。
在一些实施方式中，光阻挡图案192的开口部分(192a,192b)可以包括第一开口192a和第二开口192b。参考图1和4，第一开口192a可以形成在显示基板的在其上设置数据驱动器400的侧部上(在图的上侧)，第二开口192b可以形成在与数据驱动器400相反的侧部上(在图的下侧)。这里，显示区域DA可以插置在第一开口192a和第二开口192b之间。
第一开口192a可以实现为横越扇出部分FO的线的形状。换言之，第一开口192a可以在第一方向(例如在图4中的水平方向)上延伸。也就是，至少部分的第一开口192a可以交叠扇出部分FO。
第二开口192b可以以与第一开口192a基本上相同的形状实现在与数据驱动器400相反的侧部上。也就是，第二开口192b可以在第一方向(例如在图4中的水平方向)上延伸。
在一些实施方式中，如从图4明显的，由于后面描述的制造方法的特性，第一开口192a和第二开口192b的每个的长度可以大于显示区域DA的宽度(在图中的水平宽度)。
在一些实施方式中，当显示区域DA是矩形或大致矩形时，第一开口192a和第二开口192b可以分别设置在显示区域DA的长侧上。因此，公共电压可以被均匀地施加到整个公共电极212。
虚设颜色层(164a,164b)可以设置在与光阻挡图案192的开口部分(192a,192b)相应的位置处。虚设颜色层(164a,164b)可以设置在开口部分(192a,192b)下面。虚设颜色层(164a,164b)可以至少部分地被开口部分(192a,192b)交叠。虚设颜色层(164a,164b)可以在一方向上(例如，在水平方向上)延伸，如图4所示。当从上看时，虚设颜色层(164a,164b)可以是矩形，但是不限于此。
在一些实施方式中，虚设颜色层(164a,164b)可以包括第一虚设颜色层164a和第二虚设颜色层164b。参考图1至4，第一虚设颜色层164a可以形成在显示基板的在其上设置数据驱动器400的侧部上(在图的上侧)，第二虚设颜色层164b可以形成在与数据驱动器400相反的侧部上(在图的下侧)。这里，显示区域DA可以插置在第一虚设颜色层164a和第二虚设颜色层164b之间。
第一虚设颜色层164a可以实现为横越扇出部分FO的线的形状。换言之，第一虚设颜色层164a可以在第一方向(例如在图4中的水平方向)上延伸。也就是，至少部分的第一虚设颜色层164a可以交叠扇出部分FO。
第二虚设颜色层164b可以以与第一虚设颜色层164a基本上相同的形状实现在与数据驱动器400相反的侧部上。也就是，第二虚设颜色层164b可以在第一方向(例如，图4中的水平方向)上延伸。
在一些实施方式中，如从图4明显的，由于后面描述的制造方法的特性，第一虚设颜色层164a和第二虚设颜色层164b的每个的长度可以大于显示区域DA的宽度(在图中的水平宽度)。
在一些实施方式中，虚设颜色层(164a,164b)的宽度可以大于开口部分(192a,192b)的宽度，如在图4和5中示出的。然而，本公开不限于该结构，虚设颜色层(164a,164b)的宽度也可以与开口部分(192a,192b)的宽度相等。这里，宽度指的是图5中的竖直长度。
虚设颜色层(164a,164b)可以设置在光阻挡图案192下面以确保提供导电球CB和公共电极212之间的接触的台阶并防止光通过开口部分(192a,192b)泄漏。
在一些实施方式中，虚设颜色层(164a,164b)可以设置在与滤色器162相同的水平处。也就是，虚设颜色层(164a,164b)可以设置在钝化层152上。虚设颜色层(164a,164b)可以包含含有颜料的光敏有机材料。例如，虚设颜色层(164a,164b)可以包含与蓝色滤色器相同的材料。也就是，虚设颜色层(164a,164b)可以是蓝色的。然而，这仅是一示例，虚设颜色层(164a,164b)的设置和材料不限于以上示例。
至少部分的第二公共电压线184可以通过光阻挡图案192的开口部分(192a,192b)暴露。第二公共电压线184可以设置在与开口部分(192a,192b)相应的位置处。第二公共电压线184可以设置在显示基板的在其上设置数据驱动器400的侧部上(在图的上侧)以及与数据驱动器400相反的侧部上(在图的下侧)，显示区域DA插置在其间。
第二公共电压线184可以实现为横越扇出部分FO的线的形状。换言之，第二公共电压线184可以在第一方向(例如，图4中的水平方向)上延伸。也就是，至少部分的第二公共电压线184可以交叠扇出部分FO。
在一些实施方式中，如从图4明显的，由于后面描述的制造方法的特性，第二公共电压线184的长度可以大于显示区域DA的宽度(在图中的水平宽度)。
在一些实施方式中，第二公共电压线184的宽度可以大于开口部分(192a,192b)和虚设颜色层(164a,164b)的宽度，如在图4和5中示出的。开口部分(192a,192b)可以完全交叠第二公共电压线184。然而，这仅是一示例，本公开不限于该结构。虚设颜色层(164a,164b)的宽度可以等于开口部分(192a,192b)的宽度。这里，宽度指的是图5中的竖直长度。
在大型面板的情形下，光阻挡图案192和虚设颜色层(164a,164b)可以通常利用缝针式照射方法制造。在利用该方法制造时，光阻挡图案192和虚设颜色层(164a,164b)可具有不同的缝针式照射构造，光阻挡图案192的开口部分(192a,192b)可以(具体地，在图的水平或竖直方向)与虚设颜色层(164a和164b)未对准。因此，被在其下的暴露金属例如第一公共电压线116反射的光可以被看到。
在这方面，在根据当前实施方式的显示装置10中，开口部分(192a,192b)和虚设颜色层(164a,164b)可以实现为线的形状，如图4所示，使得光阻挡图案192的开口部分(192a,192b)与虚设颜色层(164a,164b)没有未对准。也就是，每个开口部分(192a,192b)和虚设颜色层(164a,164b)可以不是实现为断续的虚线，而是被实现为一条实线。因此，即使光阻挡图案192和虚设颜色层(164a,164b)利用缝针式照射方法制造，也可以防止由于光阻挡图案192与虚设颜色层(164a,164b)的未对准而产生被在其下的金属反射的光。
另一方面，光阻挡图案192的线形的第一开口192a可以交叠在其中数据传输线142a从数据驱动器400延伸的扇出部分FO。这里，第一公共电压线116可以设置在每个扇出部分FO周围的第一开口192a下面，如图6所示，由此防止漏光。然而，每个扇出部分FO可以包括为了电压降的均匀性而实现为曲折形状的数据传输线142a，如图7所示。在该情形下，光可能在每个数据传输线142a的部分之间漏出。
在这方面，根据当前实施方式的显示装置10可以在每个扇出部分FO中包括光阻挡金属层148以防止漏光。
在一些实施方式中，光阻挡金属层148可以选择性地设置在每个扇出部分FO中，如图1所示。至少部分的光阻挡金属层148可以交叠每个第一公共电压线116，如图1所示。至少部分的光阻挡金属层148可以交叠数据传输线142a和虚设颜色层(164a,164b)，如图7和8所示。也就是，第一公共电压线116和光阻挡金属层148中的至少一个可以设置在光阻挡图案192的第一开口192a下面。因此，光通过光阻挡图案192的第一开口192a的泄漏通过第一公共电压线116和光阻挡金属层148中的至少一个被防止。
在一些实施方式中，光阻挡金属层148的宽度可以大于光阻挡图案192的第一开口192a的宽度和虚设颜色层(164a,164b)的宽度，如图7所示。然而，这仅是一示例，光阻挡金属层148的宽度可以小于或等于虚设颜色层(164a,164b)的宽度并且大于第一开口192a的宽度。此外，光阻挡金属层148的宽度可以小于密封构件250的宽度，如图8所示。然而，这仅是一示例，光阻挡金属层148的宽度可以大于或等于密封构件250的宽度并且大于第一开口192a的宽度。这里，宽度指的是图7中的竖直长度或图8中的水平长度。
在图6的实施方式中，虚设颜色层(164a,164b)被实现为单层。然而，本公开不限于此，虚设颜色层(164a,164b)可以包括多层。
图9是沿与图5的线VI-VI'相应的线被截取的根据本公开另一实施方式的显示装置10-1的截面图。
参考图9，根据当前实施方式的显示装置10-1与以上参考图1至8描述的显示装置10相同或类似，除了虚设颜色层(164a-1、164a-2)之外。为简单起见，根据当前实施方式的显示装置10-1在下文中以主要集中于与以上参考图1至8描述的显示装置10的差异的程度被描述。
在当前实施方式中，虚设颜色层(164a-1、164a-2)包括顺序地层叠的第一虚设颜色层164a-1和第二虚设颜色层164a-2。第二虚设颜色层164a-2可以设置在第一虚设颜色层164a-1上。第一虚设颜色层164a-1和第二虚设颜色层164a-2可以彼此交叠。第一虚设颜色层164a-1和第二虚设颜色层164a-2可以包括在其间的接触面。然而，本公开不限于此，另一层可以插置在第一虚设颜色层164a-1和第二虚设颜色层164a-2之间。
虚设颜色层(164a-1、164a-2)可以包含含有颜料的光敏有机材料。例如，第一和第二虚设颜色层164a-1和164a-2可以包含与红色滤色器、绿色滤色器和蓝色滤色器中的任一个相同的材料。第一虚设颜色层164a-1和第二虚设颜色层164a-2也可以包含含有不同颜色颜料的光敏有机材料。例如，第一虚设颜色层164a-1可以包含与红色滤色器相同的材料，第二虚设颜色层164a-2可以包含与蓝色滤色器相同的材料。也就是，第一虚设颜色层164a-1可以是蓝色的，第二虚设颜色层164a-2可以是红色的。然而，这仅是一示例，第一和第二虚设颜色层164a-1和164a-2的颜色不限于以上示例。
第一和第二虚设颜色层164a-1和164a-2可以设置在光阻挡图案192下面以防止光通过开口部分(192a)泄漏。通过第一虚设颜色层164a-1防止漏光被第二虚设颜色层164a-2增强。
在图6的实施方式中，提供了有机层172。然而，本公开不限于此，有机层172可以被省略。
图10和11是沿与图5的线VI-VI'相应的线截取的根据本公开的其它实施方式的显示装置10-2和10-3的截面图。
首先，参考图10，根据当前实施方式的显示装置10-2与以上参考图1至8描述的显示装置10相同或类似，除了其不包括有机层之外。为简单起见，根据当前实施方式的显示装置10-2以主要集中于与以上参考图1至8描述的显示装置10的差异的程度在下文中被描述。
与以上参考图1至8描述的显示装置10不同，根据当前实施方式的显示装置10-2不包括有机层。因此，第二公共电压线184可以直接设置在钝化层152上。此外，第二公共电压线184可以直接设置在虚设颜色层164a上。
接着，参考图11，根据当前实施方式的显示装置10-3与以上参考图1至8描述的显示装置10相同或类似，除了虚设颜色层(164a-1、164a-2)之外。为简单起见，根据当前实施方式的显示装置10-3以主要集中于与以上参考图1至8描述的显示装置10的差异的程度在下文中被描述。
在当前实施方式中，虚设颜色层(164a-1、164a-2)包括顺序地层叠的第一虚设颜色层164a-1和第二虚设颜色层164a-2。第二虚设颜色层164a-2可以设置在第一虚设颜色层164a-1上。第一虚设颜色层164a-1和第二虚设颜色层164a-2可以彼此交叠。第一虚设颜色层164a-1和第二虚设颜色层164a-2可以包括在其间的接触面。然而，本公开不限于此，另一层可以插置在第一虚设颜色层164a-1和第二虚设颜色层164a-2之间。
虚设颜色层(164a-1、164a-2)可以包含含有颜料的光敏有机材料。例如，第一和第二虚设颜色层164a-1和164a-2可以包含与红色滤色器、绿色滤色器和蓝色滤色器中的任一个相同的材料。第一虚设颜色层164a-1和第二虚设颜色层164a-2也可以包含含有不同颜色颜料的光敏有机材料。例如，第一虚设颜色层164a-1可以包含与红色滤色器相同的材料，第二虚设颜色层164a-2可以包含与蓝色滤色器相同的材料。也就是，第一虚设颜色层164a-1可以是蓝色的，第二虚设颜色层164a-2可以是红色的。然而，这仅是一示例，第一和第二虚设颜色层164a-1和164a-2的颜色不限于以上示例。
虚设颜色层(164a-1、164a-2)可以设置在光阻挡图案192下面以防止光通过开口部分(192a)泄漏。通过第一虚设颜色层164a-1防止漏光被第二虚设颜色层164a-2增强。
在一些实施方式中，光阻挡图案192的开口部分(192a,192b)可以实现为闭合形状，如图4所示。然而，这仅是一示例，光阻挡图案192的开口部分(192a,192b)也可以实现为敞开形式。
图12示出根据本公开另一实施方式的显示装置10-4的短路点。
参考图12，根据当前实施方式的显示装置10-4与以上参考图1至8描述的显示装置10相同或类似，除了开口部分(192c，192d)和虚设颜色层(164c，164d)之外。为简单起见，根据当前实施方式的显示装置10-4以主要集中于与以上参考图1至8描述的显示装置10的差异的程度在下文中被描述。
在当前实施方式中，光阻挡图案192的开口部分(192c，192d)包括第一开口192c和第二开口192d，第一开口192c形成在显示基板的在其上设置数据驱动器400的侧部上(在图的上侧)，第二开口192d形成在与数据驱动器400相反的侧部上(在图的下侧)。这里，显示区域DA可以插置在第一开口192c和第二开口192d之间。如图12所示，第一开口192c和第二开口192d的每个的两端可以敞开。因此，光阻挡图案192可以通过第一开口192c和第二开口192d的每个分离。
在当前实施方式中，虚设颜色层(164c，164d)包括第一虚设颜色层164c和第二虚设颜色层164d，第一虚设颜色层164c形成在显示基板的在其上设置数据驱动器400的侧部上(在图的上侧)，第二虚设颜色层164d形成在与数据驱动器400相反的侧部上(在图的下侧)。这里，显示区域DA可以插置在第一虚设颜色层164c和第二虚设颜色层164d之间。如图12所示，第一虚设颜色层164c和第二虚设颜色层164d的每个的两端可以延伸直到第一基板102的左边界和右边界。
在一些实施方式中，光阻挡图案192的开口部分(192a和192b)可以分离，如图4所示。然而，这仅是一示例，光阻挡图案192的开口部分(192c和192d)也可以形成为单件。
图13示出根据本公开另一实施方式的显示装置10-5的短路点。
参考图13，根据当前实施方式的显示装置10-5与以上参考图1至8描述的显示装置10相同或类似，除了光阻挡图案192的开口部分192e、虚设颜色层164e和第二公共电压线184e之外。为简单起见，根据当前实施方式的显示装置10-5以主要集中于与以上参考图1至8描述的显示装置10的差异的程度在下文中被描述。
在当前实施方式中，光阻挡图案192的开口部分192e可以形成为沿显示区域DA的外圆周的单件。当从上方看时，开口部分192e可以像四边形带一样地成形，如图13所示。然而，这仅是一示例，开口部分192e的形状不限于四边形带。
在当前实施方式中，虚设颜色层164e可以形成为沿显示区域DA的外圆周的单件。当从上方看时，虚设颜色层164e可以像四边形带一样地成形，如图13所示。虚设颜色层164e可以比开口部分192e宽。开口部分192e可以设置在虚设颜色层164e内部。至少部分的虚设颜色层164e可以交叠开口部分192e。然而，这仅是一示例，虚设颜色层164e的形状不限于该示例。
在当前实施方式中，第二公共电压线184e可以形成为沿显示区域DA的外圆周的单件。当从上方看时，第二公共电压线184e可以像四边形带一样地成形，如图13所示。第二公共电压线184e可以比虚设颜色层164e和开口部分192e宽。虚设颜色层164e和开口部分192e可以设置在第二公共电压线184e内部。至少部分的第二公共电压线184e可以交叠虚设颜色层164e和开口192e。然而，这仅是一示例，第二公共电压线184e的形状不限于该示例。
在一些实施方式中，光阻挡金属层148可以选择性地设置在每个扇出部分FO中，如图1所示。然而，这仅是一示例，光阻挡金属层148也可以形成为跨扇出部分FO延伸的单件。
图14是根据本公开另一实施方式的显示装置10-6的示意性平面图。
参考图14，根据当前实施方式的显示装置10-6与以上参考图1至8描述的显示装置10相同或类似，除了光阻挡金属层148a之外。为简单起见，根据当前实施方式的显示装置10-6以主要集中于与以上参考图1至8描述的显示装置10的差异的程度在下文中被描述。
在当前实施方式中，光阻挡金属层148a可以形成为跨扇出部分FO延伸的单件。至少部分的光阻挡金属层148a可以交叠第一公共电压线116，如图14所示。虽然在图中未示出，但是至少部分的光阻挡金属层148a可以交叠数据传输线142a和虚设颜色层164。光阻挡金属层148a可以设置在光阻挡图案192的第一开口192a下面。换言之，至少部分的光阻挡金属层148a可以被光阻挡图案192的第一开口192a交叠。因此，经由光阻挡图案192的第一开口192a的漏光可以被光阻挡金属层148a防止。
在一些实施方式中，光阻挡金属层148a的宽度可以大于光阻挡图案192的第一开口192a的宽度和虚设颜色层164的宽度。然而，这仅是一示例，光阻挡金属层148a的宽度可以小于或等于虚设颜色层164的宽度并且大于第一开口192a的宽度。此外，光阻挡金属层148a的宽度可以小于密封构件250的宽度。然而，这仅是一示例，光阻挡金属层148a的宽度可以大于或等于密封构件250的宽度并且大于第一开口192a的宽度。
在下文中，描述了制造根据图1至8的实施方式的显示装置10的方法。
图15至26是示出根据本公开的实施方式的制造显示装置的方法的步骤的截面图。
参考图2、3、6、8和15，栅布线(112,114)形成在第一基板102上。
第一金属层(未示出)形成在包含透明材料诸如玻璃或石英的第一基板102上。第一金属层(未示出)可以由铝、铜、银、钼、铬、钛、钽或其合金制成。此外，栅布线(112,114)可以包括具有不同物理特性的两个或更多层。第一金属层(未示出)通过例如溅射工艺沉积。然后，第一金属层(未示出)通过利用曝光掩模的光刻工艺被图案化，由此形成包括栅线112和栅电极114的栅布线(112,114)。栅电极114可以像从栅线112分支的突起一样地成形。
在一些实施方式中，第一公共电压线116可以在与栅布线(112,114)相同的工艺中形成。在该情形下，第一公共电压线116可以利用相同的材料形成在与栅布线(112,114)相同的水平处。然而，这仅是一示例，第一公共电压线116可以在与形成栅布线(112,114)不同的时间形成。此外，第一公共电压线116可以形成在与栅布线(112,114)的水平不同的水平处。
在一些实施方式中，数据传输线142a可以在与栅布线(112,114)相同的工艺中形成。在该情形下，数据传输线142a可以利用相同的材料形成在与栅布线(112,114)相同的水平处。然而，这仅是一示例，数据传输线142a可以在与形成栅布线(112,114)不同的时间形成。此外，数据传输线142a可以形成在与栅布线(112,114)的水平不同的水平处。
参考图16，栅绝缘层122-1形成在栅布线(112,114)上。栅绝缘层122-1可以通过PECVD形成并且包含硅氮化物(SiNx)或硅氧化物(SiO2)。
参考图17，半导体层132和欧姆接触层134形成在栅绝缘层122-1上。半导体层132可以利用氢化非晶硅或多晶硅形成。半导体层132和欧姆接触层134可以通过光刻工艺形成。
参考图18，包括交叉栅线112以限定单元像素的数据线142以及源电极144和漏电极146的数据布线(142、144、146)形成在栅绝缘层122-1、半导体层132和欧姆接触层134上。像栅布线(112,114)一样，数据布线(142、144、146)可以由铝、铜、银、钼、铬、钛、钽或其合金制成。此外，数据布线(142、144、146)可以包括具有不同物理特性的两个或更多层。
参考图8，在一些实施方式中，光阻挡金属层148可以在与数据布线(142、144、146)相同的工艺中形成。在该情形下，光阻挡金属层148可以利用相同的材料形成在与数据布线(142、144、146)相同的水平处。然而，这仅是一示例，光阻挡金属层148可以在与形成数据布线(142、144、146)不同的时间形成。此外，光阻挡金属层148可以形成在与数据布线(142、144、146)的水平不同的水平处。
参考图19，钝化层152-1形成在具有TFT的第一基板102上。钝化层152-1可以由无机材料诸如硅氮化物或硅氧化物制成，或者可以由通过PECVD形成的材料诸如Si:C:O或Si:O:F制成。
参考图20，滤色器162形成在钝化层152-1上。滤色器162可以设置在像素区域中并且包括红色滤色器、绿色滤色器和蓝色滤色器。滤色器162可以由含有颜料的光敏有机材料制成。滤色器162可以通过光刻工艺或喷墨打印方法形成。滤色器162也可以利用各种其它方法形成。
在一些实施方式中，虚设颜色层(164a,164b)可以在与滤色器162相同的工艺中形成。在该情形下，虚设颜色层(164a,164b)可以形成在与滤色器162相同的水平处。虚设颜色层(164a,164b)可以包含含有颜料的光敏有机材料。例如，虚设颜色层(164a,164b)可以包含与蓝色滤色器相同的材料。更具体而言，根据当前实施方式的制造显示装置的方法可以包括形成红色滤色器层和蓝色滤色器层，蓝色滤色器层和虚设颜色层(164a,164b)可以利用相同的材料在相同的工艺中形成。然而，这仅是一示例，虚设颜色层(164a,164b)的材料不限于以上示例。
在一些实施方式中，虚设颜色层(164a,164b)可以包括多层。例如，参考图9，虚设颜色层(164a,164b)可以包括第一虚设颜色层和第二虚设颜色层。第一虚设颜色层和第二虚设颜色层可以由包含不同颜色的颜料的光敏有机材料制成。第一虚设颜色层可以由与红色滤色器相同的材料制成，第二虚设颜色层可以由与蓝色滤色器相同的材料制成。然而，这仅是一示例，第一虚设颜色层和第二虚设颜色层的颜色不限于以上示例。
在一些实施方式中，虚设颜色层(164a,164b)和滤色器162可以利用缝针式照射方法制造。在该情形下，形成设置在显示面板的左端和右端的虚设颜色层(164a,164b)和滤色器162的缝针式照射(stitch shot)可以不同于形成设置在显示面板的除了其左端和右端之外的中心部分中的虚设颜色层(164a,164b)和滤色器162的缝针式照射。形成设置在显示面板的中心部分中的虚设颜色层(164a,164b)和滤色器162的缝针式照射可以被依次和重复地使用。然而，这仅是一示例，制造虚设颜色层(164a,164b)和滤色器162的方法不限于该示例。
参考图21，有机层172-1形成在钝化层152-1和滤色器162上。有机层172-1可以包含具有优良平坦化性能和光敏性的材料。有机层172-1可以通过旋涂或狭缝涂覆形成或通过旋涂和狭缝涂覆二者形成。
参考图22，暴露至少部分的漏电极146的接触孔146a形成在钝化层152-1和有机层172-1中。具体地，有机层172通过在有机层172-1中形成接触孔146a而形成，然后钝化层152通过在钝化层152-1中形成接触孔146a而形成。
在一些实施方式中，暴露至少部分的第一公共电压线116的孔116a形成在钝化层152-1、有机层172-1和栅绝缘层122-1中。具体地，有机层172通过在有机层172-1中形成孔116a而形成，钝化层152通过在钝化层152-1中形成孔116a而形成，然后栅绝缘层122通过在栅绝缘层122-1中形成孔116a而形成。
参考图23，像素电极182形成在有机层172上。具体地，像素电极182可以形成为接触漏电极146的经由形成在有机层172和钝化层152中的接触孔146a暴露的至少部分。通过该接触，像素电极182可以电连接到漏电极146或者接触漏电极146。
在一些实施方式中，第二公共电压线184可以在与像素电极182相同的工艺中形成。在该情形下，第二公共电压线184可以利用相同的材料形成在与像素电极182相同的水平处。然而，这仅是一示例，第二公共电压线184可以在与用于形成像素电极182不同的工艺中形成。
参考图24，光阻挡图案192形成在像素电极182和有机层172上。光阻挡图案192可以形成在其中液晶层300中包括的液晶分子是非活性的诸如TFT区域和非像素区域NDA(在像素之间，栅线区域和数据线区域)的区域中。光阻挡图案192可以由包含黑色染料或颜料的黑色有机聚合物材料或者金属(金属氧化物)诸如铬或氧化铬制成。
接着，柱间隔物194形成在光阻挡图案192上。柱间隔物194可以与光阻挡图案192一体形成，如图24所示。例如，柱间隔物194可以利用相同的材料并且在通过利用半色调掩模或狭缝掩模曝光的相同图案化工艺中与光阻挡图案192同时形成。然而，这仅是一示例，本公开不限于该示例。
柱间隔物194可以形成在与TFT对应的区域中，如图24所示。然而，这仅是一示例，柱间隔物194的位置不限于该示例。
光阻挡图案192包括开口部分(192a,192b)以施加公共电压到设置在第二基板202上的公共电极212。光阻挡图案192的开口部分(192a,192b)可以形成在非显示区域NDA中。开口部分(192a,192b)可以形成在光阻挡图案192内部。更具体而言，开口部分(192a,192b)可以形成在设置于非显示区域NDA中的光阻挡图案192的内部。
在一些实施方式中，光阻挡图案192的开口部分(192a,192b)可以包括第一开口192a和第二开口192b。参考图1，第一开口192a可以形成在显示基板的在其上形成数据驱动器400的侧部上(在图的上侧)，第二开口192b可以形成在与数据驱动器400相反的侧部上(在图的下侧)。这里，显示区域DA可以插置在第一开口192a和第二开口192b之间。然而，这仅是一示例，光阻挡图案192的开口部分(192a,192b)的形状不限于该示例。
在一些实施方式中，光阻挡图案192可以利用缝针式照射方法制造。在该情形下，形成设置在显示面板的左端和右端的光阻挡图案192的缝针式照射(stitch shot)可以不同于形成设置在显示面板的除了其左端和右端之外的中心部分中的光阻挡图案192的缝针式照射。形成设置在显示面板的中心部分中的光阻挡图案192的缝针式照射可以被依次和重复地使用。然而，这仅是一示例，制造本公开的光阻挡图案192的方法不限于该示例。
在大尺寸面板的情形下，光阻挡图案192和虚设颜色层(164a,164b)可以通常利用缝针式照射方法制造。在利用该方法制造时，光阻挡图案192和虚设颜色层(164a,164b)可具有不同的缝针式照射构造。因此，光阻挡图案192的开口部分(192a,192b)可以与虚设颜色层(164a,164b)未对准(具体地，在图的水平方向上)。因此，被在其下的暴露金属例如第一公共电压线116反射的光可以被看到。
在这方面，在根据当前实施方式的制造显示装置的方法中，开口部分(192a,192b)和虚设颜色层(164a,164b)可以实现为线的形状，使得光阻挡图案192的开口部分(192a,192b)与虚设颜色层(164a,164b)没有未对准。也就是，开口部分(192a,192b)和虚设颜色层(164a,164b)的每个可以不被实现为断续地虚线，而是被实现为一条实线。因此，即使光阻挡图案192和虚设颜色层(164a,164b)利用缝针式照射方法制造，也可以防止由于光阻挡图案192与虚设颜色层(164a,164b)的未对准而产生被在其下的金属反射的光。
参考图25，公共电极212形成在第二基板202上。公共电极212可以在由栅线112和数据线142围绕的整个像素区域上形成为单件。公共电极212可以由透明导电材料诸如ITO或IZO制成，但是不限于此。
接着，用于防止配向层流动的屏障可以设置在第一基板102和第二基板202上。该屏障可以比短路点进一步向第一基板102和第二基板202内设置。屏障可以由具有光敏性的材料制成，但是不限于此。
接着，配向层形成在第一基板102的表面和第二基板202的表面的每个上。配向层可以包含树脂聚合物，诸如聚酰亚胺、聚酰胺酸、聚酰胺、聚酰胺-酰亚胺、聚酯、聚乙烯、聚氨酯或聚苯乙烯、或其混合物。此外，配向层可以包含以上树脂聚合物的单体。
参考图26，液晶层300通过在第一基板102上涂覆具有正介电各向异性或负介电各向异性的液晶分子而形成。然后，具有液晶层300的第一显示基板100联接到第二显示基板200。
根据本公开的实施方式的显示装置防止由设置在短路点下面的金属层引起的反射。
此外，根据实施方式的制造显示装置的方法可以被采用以制造包括利用缝针式照射方法形成的结构的显示装置从而防止由设置在短路点下面的金属层引起的反射。
然而，本公开的效果不限于此处阐述的那些。对于本公开所属领域中的普通技术人员而言，通过参考权利要求，本公开的以上和其它效果将变得更加明显。
虽然为了示意性目的，已经公开了本公开的示例性实施方式，但是该实施方式仅是示例，而不限制本公开。本领域的技术人员将理解，各种变形和应用是可能的，而不脱离权利要求的范围和精神。例如，在本公开的实施方式中说明的每个元件可以被不同地改变和实现。此外，与这样的变形和应用相关的差异应该被解释为包括于权利要求的范围内。
本申请要求享有2015年8月21日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2015-0118153的优先权，其公开通过全文引用合并于此。

Claims (26)

1.一种显示装置，包括：
第一基板，包括显示区域和非显示区域；
光阻挡图案，包括形成在所述非显示区域中的所述第一基板上的开口部分；以及
虚设颜色层，设置在所述第一基板上的所述开口部分下面并在与所述开口部分相应的位置处，
其中所述开口部分和所述虚设颜色层在一方向上延伸。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述第一基板还包括设置在所述非显示区域中的扇出部分，所述开口部分和所述虚设颜色层跨所述扇出部分延伸。
3.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述开口部分的长度和所述虚设颜色层的长度大于所述显示区域的宽度。
4.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述虚设颜色层的宽度大于或等于所述开口部分的宽度。
5.根据权利要求4所述的显示装置，其中所述开口部分完全交叠所述虚设颜色层。
6.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述第一基板还包括：设置在所述非显示区域中的扇出部分以及由所述开口部分暴露的公共电压线，其中所述公共电压线在一方向上延伸以横越所述扇出部分。
7.根据权利要求1所述的显示装置，还包括设置在所述非显示区域中的密封构件，其中所述开口部分设置在由所述密封构件内部的区域交叠的区域中。
8.根据权利要求7所述的显示装置，其中所述虚设颜色层设置在由所述密封构件内部的所述区域交叠的所述区域中。
9.根据权利要求7所述的显示装置，还包括由所述开口部分暴露的公共电压线，其中所述公共电压线设置在由所述密封构件内部的所述区域交叠的所述区域中。
10.根据权利要求7所述的显示装置，其中所述密封构件包括导电构件。
11.根据权利要求10所述的显示装置，还包括：
设置在所述第二基板上的公共电极；以及
由所述开口部分暴露的公共电压线，
其中所述导电构件设置在所述公共电极和所述公共电压线之间以接触所述公共电极和所述公共电压线。
12.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述第一基板还包括设置在所述非显示区域中的扇出部分以及被所述扇出部分至少部分地交叠的光阻挡金属层。
13.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述虚设颜色层是蓝色的。
14.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述虚设颜色层包括顺序地层叠的第一虚设颜色层和第二虚设颜色层，其中所述第一虚设颜色层和所述第二虚设颜色层具有不同的颜色。
15.根据权利要求14所述的显示装置，其中所述第一虚设颜色层是红色的，所述第二虚设颜色层是蓝色的。
16.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述开口部分包括放置为彼此面对的第一开口和第二开口，所述显示区域插置在所述第一开口和所述第二开口之间。
17.根据权利要求16所述的显示装置，其中所述虚设颜色层包括与所述第一开口相应的第一虚设颜色层以及与所述第二开口相应的第二虚设颜色层。
18.根据权利要求17所述的显示装置，其中所述第一开口和所述第一虚设颜色层跨所述扇出部分延伸。
19.根据权利要求18所述的显示装置，其中所述第一开口和所述第二开口的长度以及所述第一虚设颜色层和所述第二虚设颜色层的长度大于所述显示区域的宽度。
20.一种制造显示装置的方法，所述方法包括：
在包括显示区域和非显示区域的第一基板上在所述非显示区域中形成虚设颜色层，使其在一方向上延伸；以及
在所述虚设颜色层上形成光阻挡图案，
其中所述光阻挡图案包括开口部分，所述开口部分基本上对应于所述虚设颜色层并且在与其中所述虚设颜色层延伸的方向基本上相同的方向上延伸。
21.根据权利要求20所述的方法，其中所述第一基板还包括设置在所述非显示区域中的扇出部分，所述开口部分和所述虚设颜色层跨所述扇出部分延伸。
22.根据权利要求20所述的方法，其中所述开口部分的长度和所述虚设颜色层的长度大于所述显示区域的宽度。
23.根据权利要求20所述的方法，其中所述开口部分和所述虚设颜色层利用缝针式照射方法形成。
24.根据权利要求20所述的方法，还包括：
在所述第一基板上在所述显示区域中形成第一滤色器层；以及
在所述第一基板上在所述显示区域中形成第二滤色器层；以及
其中所述虚设颜色层与所述第一滤色器层或所述第二滤色器层同时形成。
25.根据权利要求20所述的方法，其中所述开口部分包括放置为彼此面对的第一开口和第二开口，所述显示区域插置在所述第一开口和所述第二开口之间，所述虚设颜色层包括与所述第一开口部分相应的第一虚设颜色层以及与所述第二开口相应的第二虚设颜色层。
26.根据权利要求25所述的方法，其中所述第一基板还包括设置在所述非显示区域中的扇出部分，所述第一开口和所述第一虚设颜色层跨所述扇出部分延伸。
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