CN106119803A - 一种真空镀膜设备 - Google Patents

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廖荣新
禤瑞彬
黄进高
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    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/568—Transferring the substrates through a series of coating stations

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Abstract

本发明涉及镀膜设备领域，具体涉及一种真空镀膜设备。所述真空镀膜设备，包括真空室及分设于真空室两端的进片装置及出片装置，还包括设置于所述真空室上方或下方的垫板返回装置，所述的进片装置包括进片运输架及推动所述进片运输架在真空室与垫板返回装置之间来回升降的进片升降机构；所述的出片装置包括出片运输架及推动所述出片运输架在真空室与垫板返回装置之间来回升降的出片升降机构。通过将垫板返回装置设置于真空室的上方或下方，简化了真空镀膜设备的整体结构，节约了生产成本，同时也减小了真空镀膜设备占用空间，有利于提高厂房的利用率。

Description

一种真空镀膜设备
技术领域
本发明涉及镀膜设备领域，具体涉及一种真空镀膜设备。
背景技术
连续式真空镀膜设备是由一个或多个真空室和进片装置、出片装置组成；其中进片装置与真空室的最前端连接，出片装置与真空室的最后端连接。进、出片装置和真空室都装有若干辊轴，辊轴用于运输被镀膜的工件(如玻璃、胶板等)，工作的某一时刻辊轴转动从而使工件作平移运动(使工件进出某一个真空室或进、出片装置)。由于空间位置等原因辊轴之间的间距不能做得太密，所以加工较小尺寸工件时，工件不能直接在辊轴上实现平移运动，所以要在工件与辊轴之间增加一件面积较大的垫板(要在进片装置将工件放于垫板上)，垫板在辊轴上作平移运动，通过真空室到达出片装置后再将工件从垫板上拿走(镀膜生产线是连续工作的所以工作时会有多件垫板同时镀膜生产线上)。工件从垫板上拿走后要将垫板从出片装置搬运到入片架位置，进行下一次装片工作。
如图1所示，现有技术的真空镀膜设备垫板返回装置方式为垫板返回段与真空室同一水平面，通过移位架改变垫板前进方向(所指移位架为改变垫板前进方向的装置，即所形成长方形路线的四个转角)，将垫板由出片架a至返回段然后返回至进片架b。移位架的结构如附图2所示，在移位架处设置两组不同方向的辊轴，从而改变其前进方向(较通常做法是在机架内设置纵向和横向两组辊轴，当横向辊轴传动时垫板做纵向平移运动；当纵向辊轴升高并转动时垫板做横向平移运动)。整个返回路线与生产线形成成长方形结构，装置所占空间面积大，制造成本高，对厂房的利用率低。
发明内容
本发明要解决的技术问题在于，针对现有技术的上述缺陷，提供一种真空镀膜设备，克服现有的真空镀膜设备结构复杂，生产成本高，占地面积大的缺陷。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：提供一种真空镀膜设备，包括真空室及分设于真空室两端的进片装置及出片装置，还包括设置于所述真空室上方或下方的垫板返回装置，所述的进片装置包括进片运输架及推动所述进片运输架在真空室与垫板返回装置之间来回升降的进片升降机构；所述的出片装置包括出片运输架及推动所述出片运输架在真空室与垫板返回装置之间来回升降的出片升降机构。
本发明的更进一步优选方案是：所述垫板返回装置包括由若干个并列设置的辊轴组成的垫板运输架及至少一个驱动所述辊轴转动的第三驱动电机。
本发明的更进一步优选方案是：所述垫板运输架包括两组并列设置的辊轴，所述两组并列设置的辊轴由两个所述第三驱动电机单独驱动。
本发明的更进一步优选方案是：所述进片运输架包括若干个并列设置的辊轴及驱动所述辊轴转动的第一驱动电机；所述进片升降机构包括第一驱动缸以及设置于所述进片运输架下方，并靠近进片运输架两端部边缘位置的第一转臂组件和第二转臂组件、所述第一转臂组件和第二转臂组件之间设有连接彼此的第一连杆，所述第一驱动缸用于同步驱动所述第一转臂组件和第二转臂组件带动所述进片运输架升降。
本发明的更进一步优选方案是：所述进片运输架包括若干个并列设置的辊轴及驱动所述辊轴转动的第一驱动电机；所述进片升降机构包括设置于所述进片运输架下方的第一驱动缸。
本发明的更进一步优选方案是：所述出片升降机构包括第二驱动缸以及设置于所述出片运输架下方，并靠近出片运输架两端部边缘位置的第三转臂组件和第四转臂组件、所述第三转臂组件和第四转臂组件之间设有连接彼此的第二连杆，所述第二驱动缸用于同步驱动所述第三转臂组件和第四转臂组件带动所述出片运输架升降。
本发明的更进一步优选方案是：所述出片运输架包括若干个并列设置的辊轴及驱动所述辊轴转动的第二驱动电机；所述出片升降机构包括设置于所述出片运输架下方的第二驱动缸。
本发明的有益效果在于，通过将垫板返回装置设置于真空室的上方或下方，简化了真空镀膜设备的整体结构，节约了生产成本，同时也减小了真空镀膜设备占用空间，有利于提高厂房的利用率。出片装置将真空室送出的垫板移送至垫板返回装置，进片装置回收由垫板返回装置送回的垫板(进行下一次装片工作)并移送至真空室，从而完成垫板的循环运输。
附图说明
下面将结合附图及实施例对本发明作进一步说明，附图中：
图1是现有技术的真空镀膜设备平面结构示意图；
图2是现有技术的真空镀膜设备的移位架平面结构示意图；
图3是本发明实施例一的真空镀膜设备平面结构示意图；
图4是本发明实施例一的真空镀膜设备的进片装置平面结构示意图；
图5是本发明实施例一的真空镀膜设备的出片装置平面结构示意图；
图6是本发明实施例一的垫板返回装置及真空室平面结构示意图；
图7是本发明实施例二的进片装置(出片装置)平面结构示意图。
具体实施方式
现结合附图，对本发明的较佳实施例作详细说明。
实施例一
如图3-5所示，本发明的真空镀膜设备，包括真空室1及分设于真空室1两端的进片装置2及出片装置3，还包括设置于所述真空室1上方或下方的垫板返回装置4，所述的进片装置2包括进片运输架21及推动所述进片运输架21在真空室1与垫板返回装置4之间来回升降的进片升降机构22；所述的出片装置3包括出片运输架31及推动所述出片运输架31在真空室1与垫板返回装置4之间来回升降的出片升降机构32。所述出片装置3可将真空室1送出的垫板移送至垫板返回装置4；所述进片装置2可回收由垫板返回装置4送回的垫板(进行下一次装片工作后)，并移送至真空室1，从而完成垫板的循环运输。通过将垫板返回装置4设置于真空室1的上方或下方，简化了真空镀膜设备的整体结构，节约了生产成本，同时也减小了真空镀膜设备占用空间，有利于提高厂房的利用率。
如图3、6所示，本发明的垫板返回装置4包括由若干个并列设置的辊轴组成的垫板运输架41及至少一个驱动所述辊轴转动的第三驱动电机42。优选的，所述垫板运输架41包括两组并列设置的辊轴，所述两组并列设置的辊轴由两个所述第三驱动电机42单独驱动。当然，为运输垫板，所述垫板返回装置4所采用的传动方式并不限定为上述的辊轴传动方式，其也可为带传动或链条转动等传动方式。
如图3-5所示，本发明的进片运输架21包括若干个并列设置的辊轴及驱动所述辊轴转动的第一驱动电机211；所述进片升降机构22包括设置于所述进片运输架21下方的第一驱动缸221。所述出片运输架31包括若干个并列设置的辊轴及驱动所述辊轴转动的第二驱动电机311；所述出片升降机构32包括设置于所述出片运输架31下方的第二驱动缸321。为运输垫板，所述进片运输架21及出片运输架31所采用的传动方式也不限定为上述的辊轴传动方式，其也可为带传动或链条转动等传动方式。所述第一驱动缸221和第二驱动缸321也可为气缸或液压缸。本实施例仅以垫板返回装置4设置于真空室1下方为例来说明本发明的真空镀膜设备的工作原理，在进片装置2上的垫板上放置待镀膜工件后，进片运输架21的驱动电机带动其辊轴转动，将垫板运送进真空室1对待镀膜工件进行镀膜；垫板从真空室1出来后进入出片运输架31的辊轴上(此时，出片升降机构32的气缸处于伸长状态)，卸下垫板上的工件后，所述出片升降机构32的气缸缩回，将垫板运送至所述垫板返回装置4的高度位置，然后所述出片运输架31的驱动电机带动其辊轴转动，将垫板移送入垫板返回装置4的垫板运输架41上；垫板返回装置4的驱动电机带动其辊轴转动将垫板移送至进片装置2的进片运输架21上(此时，所述进片升降机构22的气缸处于收缩状态)，然后所述进片升降机构22的气缸伸长，将所述垫板已送至所述真空室1的高度，垫板完成一次循环。
实施例二
如图7所示，本实施例的总体结构和实施例一相同，不同之处在于：所述进片升降机构22和出片升降机构32的结构不同。本实施例的进片升降机构22包括第一驱动缸221以及设置于所述进片运输架21下方，并靠近进片运输架21两端部边缘位置的第一转臂组件222和第二转臂组件223、所述第一转臂组件222和第二转臂组件223之间设有连接彼此的第一连杆224，所述第一驱动缸221用于同步驱动所述第一转臂组件222和第二转臂组件223带动所述进片运输架21升降。通过在靠近进片运输架21两端部边缘的位置的下方设置第一转臂组件222和第二转臂组件223以及连接第一转臂组件222和第二转臂组件223的第一连杆224，第一连杆224的设置可保证第一转臂组件222和第二转臂组件223动作的一致性，有效的防止了进片运输架21发生倾斜或卡滞现象，提高了升降平衡性；通过仅一个第一驱动缸221驱动第一转臂组件222和第二转臂组件223运动，便可带动所述进片运输架21平稳升降，不仅结构简单，也有利于降低升降装置生产成本高。所述出片升降机构32包括第二驱动缸321以及设置于所述出片运输架31下方，并靠近出片运输架31两端部边缘位置的第三转臂组件322和第四转臂组件323、所述第三转臂组件322和第四转臂组件323之间设有连接彼此的第二连杆324，所述第二驱动缸321用于同步驱动所述第三转臂组件322和第四转臂组件323带动所述出片运输架31升降。通过在靠近出片运输架31两端部边缘的位置的下方设置第三转臂组件322和第四转臂组件323以及连接第三转臂组件322和第四转臂组件323的第二连杆324，第二连杆324的设置可保证第三转臂组件322和第四转臂组件323动作的一致性，有效的防止了出片运输架31发生倾斜或卡滞现象，提高了升降平衡性；通过仅一个第二驱动缸321驱动第三转臂组件322和第四转臂组件323运动，便可带动所述出片运输架31平稳升降，不仅结构简单，也有利于降低升降装置生产成本高。
应当理解的是，以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制，对本领域技术人员来说，可以对上述实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而所有这些修改和替换，都应属于本发明所附权利要求的保护范围。

Claims (7)

1.一种真空镀膜设备，包括真空室及分设于真空室两端的进片装置及出片装置，其特征在于：还包括设置于所述真空室上方或下方的垫板返回装置，所述的进片装置包括进片运输架及推动所述进片运输架在真空室与垫板返回装置之间来回升降的进片升降机构；所述的出片装置包括出片运输架及推动所述出片运输架在真空室与垫板返回装置之间来回升降的出片升降机构。
2.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于：所述垫板返回装置包括由若干个并列设置的辊轴组成的垫板运输架及至少一个驱动所述辊轴转动的第三驱动电机。
3.根据权利要求2所述的真空镀膜设备，其特征在于：所述垫板运输架包括两组并列设置的辊轴，所述两组并列设置的辊轴由两个所述第三驱动电机单独驱动。
4.根据权利要求1-3任一所述的真空镀膜设备，其特征在于：所述进片运输架包括若干个并列设置的辊轴及驱动所述辊轴转动的第一驱动电机；所述进片升降机构包括第一驱动缸以及设置于所述进片运输架下方，并靠近进片运输架两端部边缘位置的第一转臂组件和第二转臂组件、所述第一转臂组件和第二转臂组件之间设有连接彼此的第一连杆，所述第一驱动缸用于同步驱动所述第一转臂组件和第二转臂组件带动所述进片运输架升降。
5.根据权利要求1-3任一所述的真空镀膜设备，其特征在于：所述进片运输架包括若干个并列设置的辊轴及驱动所述辊轴转动的第一驱动电机；所述进片升降机构包括设置于所述进片运输架下方的第一驱动缸。
6.根据权利要求4所述的真空镀膜设备，其特征在于：所述出片升降机构包括第二驱动缸以及设置于所述出片运输架下方，并靠近出片运输架两端部边缘位置的第三转臂组件和第四转臂组件、所述第三转臂组件和第四转臂组件之间设有连接彼此的第二连杆，所述第二驱动缸用于同步驱动所述第三转臂组件和第四转臂组件带动所述出片运输架升降。
7.根据权利要求5所述的真空镀膜设备，其特征在于：所述出片运输架包括若干个并列设置的辊轴及驱动所述辊轴转动的第二驱动电机；所述出片升降机构包括设置于所述出片运输架下方的第二驱动缸。
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