CN106010325A - 表面保护膜及贴附有该表面保护膜的光学部件 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种在裁切成规定尺寸时难以产生因粘结剂层导致的异物、对表面具有凹凸的光学用膜的亲和性良好、且对被粘物污染少、不会经时劣化、具有优异剥离抗静电性能的表面保护膜，及贴合有该表面保护膜的光学部件。一种在透明基材(1)的至少一个面上、具有由含聚醚改性有机硅的有机硅粘结剂组合物构成的粘结剂层(2)，且具有抗静电剂层(4)的贴合用膜(5)经由抗静电剂层贴合在粘结剂层上的表面保护膜(10)，贴合用膜是在树脂膜(3)的一个面上层积含有粘合剂树脂、不与该粘合剂树脂反应的抗静电剂的抗静电剂层(4)而成，抗静电剂层的成分从贴合用膜转印至粘结剂层的表面，将粘结剂层从被粘物上剥离时的剥离静电压降低。

Description

表面保护膜及贴附有该表面保护膜的光学部件
技术领域
本发明涉及一种贴附于偏振片、相位差板、显示器用的透镜膜、玻璃盖板等光学部件表面的表面保护膜。更详细而言，本发明提供一种表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件，所述表面保护膜即使在裁切成规定的尺寸时也难以产生因粘结剂层而导致的异物(粘结剂的胶团)，对表面具有凹凸的光学用膜也亲和性(润湿性)良好，且对被粘物的污染少，不会经时劣化，具有优异的剥离抗静电性能。
背景技术
在制造及搬运偏振片、相位差板、显示器用的透镜膜、防反射膜、硬涂膜、触摸屏用透明导电性膜等光学用膜及使用有该光学用膜的显示器等光学制品时，在该光学用膜的表面贴合表面保护膜，以防止在后续工序中的表面的污垢或损伤。作为制品的光学用膜的外观检查，为了节省揭下表面保护膜再进行贴合的程序而提高作业效率，有时也在将表面保护膜贴合在光学用膜的状态下直接进行。
在以往，在光学制品的制造工序中为了防止损伤或污垢的附着，通常使用在基材膜的一个面上设有粘结剂层的表面保护膜。表面保护膜经由弱粘结力的粘结剂层贴合于光学用膜。使粘结剂层具有弱粘结力的目的在于，在将使用后的表面保护膜从光学用膜的表面上剥离去除时能够容易剥离，且粘结剂不附着残留在作为被粘物的制品的光学用膜上(即防止残胶的产生)。
在光学部件用的表面保护膜中，多使用丙烯酸类粘结剂。但是，在将贴合有表面保护膜的光学用膜以合乎显示器的尺寸裁切成规定的大小时，存在表面保护膜的粘结剂因裁切刃而破碎，容易产生小片状异物(也称之为胶团)的问题。若产生该异物，则会成为发生工序污染(所使用的装置、半成品等的污染)或在光学用膜上产生压痕等不良状况的原因。因此，谋求一种在分切或裁切贴合有表面保护膜的光学用膜时，异物产生少的表面保护膜。此外，谋求一种对棱镜片或经过防眩处理的偏振片等表面具有凹凸形状的光学用膜也亲和性(润湿性)良好，在将表面保护膜贴合于光学用膜时难以进入气泡的表面保护膜。
由于谋求这种在分切或裁切时难以产生粘结剂的胶团、对各种光学用膜亲和性良好的表面保护膜，适合使用使用了聚氨酯类粘结剂、有机硅类粘结剂的表面保护膜。
此外，近年来，在液晶显示面板的生产工序中，虽然产生件数少，但却存在如下现象：由于将贴合于光学用膜上的表面保护膜剥离去除时产生的剥离静电压而产生的用于控制液晶显示面板的显示画面的驱动IC等电路部件被击穿的现象、或液晶分子的取向受损的现象。
此外，为了降低液晶显示面板的电力消耗，液晶材料的驱动电压变低，驱动IC的击穿电压也随之变低。最近，开始谋求使剥离静电压在+0.7kV～-0.7kV的范围内。
最近提出了如下一种表面保护膜：将表面保护膜从作为被粘物的光学用膜上剥离时，为了防止剥离静电压高导致的不良现象，使用了用于较低地抑制剥离静电压的、含有抗静电剂的粘结剂层。
专利文献1及专利文献2中公开了一种使用含有丙烯酸类聚合物和抗静电剂的丙烯酸类粘结剂的表面保护膜。此外，在专利文献3中，公开了一种由具有环氧烷链的聚氨酯、离子化合物及3官能团的异氰酸酯化合物构成的抗静电粘结剂。此外，在专利文献4中，公开了一种表面保护膜用聚氨酯粘结剂组合物，其特征在于，该组合物含有超强酸的碱金属盐类、碱土类金属盐类的至少一种的盐。更进一步，在专利文献5中，公开了一种粘结剂组合物及使用有该粘结剂组合物的表面保护膜，所述粘结剂组合物由含有氟代有机阴离子的离子液体及数均分子量5,000以上的聚氨酯构成。专利文献6公开了一种由有机硅类粘结剂和导电性粉体构成的导电性有机硅粘结剂组合物。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：特开2005-131957号公报
专利文献2：特开2005-330464号公报
专利文献3：特开2005-154491号公报
专利文献4：特开2006-182794号公报
专利文献5：特开2007-277484号公报
专利文献6：专利第3956121号公报
发明内容
本发明要解决的技术问题
上述专利文献1及2所述的表面保护膜中使用了丙烯酸类粘结剂，因此在将光学用膜裁切成合乎显示器大小的规定尺寸时，存在粘结剂因裁切刃而破碎，容易产生小片状的异物(也称作胶团)的问题。若产生该异物，则会成为发生工序污染或在光学用膜上产生压痕等不良状况的原因。
上述专利文献3～5所述的表面保护膜中，由于使用了聚氨酯类粘结剂，所述光学用膜裁切时产生的小片状物(胶团)少，但与有机硅类粘结剂相比，存在对被粘物的亲和性(润湿性)差的问题。对于表面比较平滑的光学用膜或玻璃没有大的问题，但对于表面具有凹凸形状的光学用膜，则存在亲和性差的问题。
另一方面，在上专利文献6所述的粘着用导电性有机硅粘结剂组合物中，由于在有机硅粘结剂中使用了导电性粉体，因此存在透明性等光学特性差的问题，产生难以用作贴附于显示器表面、玻璃、各种光学用膜等光学部件的表面的表面保护膜的问题。
本发明鉴于上述情况，其技术问题在于提供一种表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件，所述表面保护膜即使在裁切成规定的尺寸时也难以产生来自粘结剂层的异物(粘结剂的胶团)，对表面具有凹凸的光学用膜也亲和性(润湿性)良好，且对被粘物的污染少，不会经时劣化，具有优异的剥离抗静电性能。
解决技术问题的技术手段
本申请发明人等对该技术问题进行了认真研究。
首先，为了获得即使在裁切时也难以产生因粘结剂层导致的异物(胶团)、对表面具有凹凸的光学用膜依然亲和性(润湿性)良好的表面保护膜，判断适合使用有机硅类粘结剂。然后，对能够赋予有机硅粘结剂层抗静电性，且光学特性不下降的粘结剂层进行了研究。此外，为了对被粘物的污染少，且污染性的经时变化少，认为需要减少被推测为污染被粘物的抗静电剂的含量。更进一步，对不增加抗静电剂的含量，较低地抑制将表面保护膜从被粘物上剥离时的剥离静电压的方法进行了研究。
对所述问题进行研究，其结果，本发明的技术思路在于：不是在粘结剂组合物中混合抗静电剂而形成粘结剂层，而是最初在基材的一个面上，涂覆、干燥不含抗静电剂的粘结剂组合物，层积粘结剂层。然后，将具有包含抗静电剂的树脂层的贴合用膜，以粘结剂层与抗静电剂层接触的方式贴合，从贴合用膜一侧向粘结剂层的表面转印、赋予适量的抗静电剂成分。本申请发明人等发现，根据该技术思路，可获得一种能够较低地抑制表面保护膜从被粘物上剥离时的剥离静电压的表面保护膜，进而完成了本发明。
即，为了解决上述技术问题，本发明提供一种表面保护膜，其特征在于，在透明基材的至少一个面上，具有由含有聚醚改性有机硅的有机硅粘结剂组合物构成的粘结剂层，具有抗静电剂层的贴合用膜经由所述抗静电剂层贴合在该粘结剂层上，在该表面保护用膜中，所述贴合用膜是在树脂膜的一个面上层积抗静电剂层而成，作为所述抗静电剂层，含有粘合剂树脂、以及不与该粘合剂树脂反应的抗静电剂，所述抗静电剂层的成分从所述贴合用膜转印至所述粘结剂层的表面，将所述粘结剂层从被粘物上剥离时的剥离静电压降低。
此外，抗静电剂优选为离子化合物。
此外，所述抗静电剂优选为以碱金属为阳离子的离子化合物。
此外，所述粘结剂层的厚度优选为2～250μm。
此外，将所述贴合用膜从所述粘结剂层上剥离时的剥离力优选为0.005～0.3N/50mm。
此外，本发明提供一种贴合上述表面保护膜而成的光学部件。
发明效果
本发明可提供一种表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件，本发明的表面保护膜，即使在裁切时也难以产生因粘结剂层导致的异物(胶团)，对表面具有凹凸的光学用膜也亲和性(润湿性)良好，且对被粘物的污染少，不会经时劣化，具有优异的剥离抗静电性能。
此外，根据本发明的表面保护膜，即使在裁切时也能够抑制因粘结剂层导致的异物(胶团)，因此能够防止工序污染或在光学用膜上产生压痕等不良状况的产生。
此外，根据本发明的表面保护膜，能够确实保护光学用膜的表面，因此能够谋求生产性的提高及成品率的提高。
附图说明
图1为本发明表面保护膜的概念截面图；
图2为表示将贴合用膜从本发明的表面保护膜上揭下的状态的截面图；
图3为表示将本发明的表面保护膜贴合于光学部件的一个实施例的截面图。
附图标记说明
1.基材膜、2.粘结剂层、3.树脂膜、4.抗静电剂层、5.贴合用膜、7.抗静电剂、8.被粘物(光学部件)、10.表面保护膜、11.揭下贴合用膜的表面保护膜、20.贴合有表面保护膜的光学部件。
具体实施方式
以下，根据实施方式对本发明进行详细说明。
图1为本发明表面保护膜的概念截面图。该表面保护膜10，在透明基材膜1的一个面的表面上形成有粘结剂层2。在该粘结剂层2的表面上，贴合有在树脂膜3的表面上形成抗静电剂层4的贴合用膜5。
作为本发明的表面保护膜10所使用的基材膜1，使用由具有透明性及可挠曲性的树脂构成的基材膜(透明基材)。因此，能够以将表面保护膜贴合于作为被粘物的光学部件的状态，进行光学部件的外观检查。用作基材膜1的由具有透明性的树脂形成的膜，适宜使用聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚间苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯等聚酯膜。除了聚酯膜之外，也可以使用由其他树脂构成的膜，只要是具有所需强度、且具有光学特性的膜即可。基材膜1可以是无拉伸膜，也可以是经单轴或双轴拉伸的膜。此外，也可以将拉伸膜的拉伸倍率或随拉伸膜的结晶化而形成的轴方向的取向角度控制为特定的值。
用于本发明的表面保护膜10的基材膜1的厚度没有特别的限定，例如，优选为12～100μm左右的厚度，若为20～50μm左右的厚度则易于操作，因此更优选。
此外，可以根据需要，在基材膜1的形成有粘结剂层2一面的相反侧面上，设置防止表面污垢的防污层、抗静电层、防伤的硬涂层等。此外，在基材膜1的表面，可以施加通过电晕放电导致的表面改性、涂敷锚涂剂(アンカーコート剤)等易粘合处理。
此外，用于本发明的表面保护膜10的粘结剂层2粘合于被粘物的表面，可在使用后简单地剥离，且为难以污染被粘物的粘结剂。此外，从裁切时胶团的产生少、对于光学用膜等被粘物的润湿性良好的方面考虑，有机硅类粘结剂较适合。
作为有机硅类粘结剂，根据反应方式有加成反应型或过氧化物固化型等，从被粘物污染性少的方面考虑，加成反应型较适合。此外，可根据直链状有机硅聚合物与有机硅树脂的添加比例或有机硅聚合物的交联密度来改变粘结剂的粘着力。用于表面保护膜的粘结剂，适用粘着力较弱的粘结剂。
作为市面出售的粘结剂，可列举出信越化学工业制的KR-3704、X40-3306或Dow Corning Toray制的DC7651ADHESIVE、SD7587LPSA、Aica工业制的SE9500、SE9600等。
为了便于抗静电剂从贴合用膜转印，有机硅粘结剂中最好含有聚醚改性有机硅。聚醚改性有机硅是为了提高有机硅粘结剂与抗静电剂的亲和性、容易赋予粘结剂层抗静电性能而添加。聚醚改性有机硅可以是具有聚环氧烷烃基(ポリアルキレンオキシド基)的聚硅氧烷(聚甲基聚环氧烷烃硅氧烷)，根据需要，也可以是聚二甲基硅氧烷与聚甲基聚环氧烷烃硅氧烷(ポリメチルポリアルキレンオキシドシロキサン)的共聚物。作为聚环氧烷烃，可以为环氧乙烷、环氧丙烷、环氧乙烷与环氧丙烷的共聚物等。根据有无聚二甲基硅氧烷成分、共聚比及聚环氧烷烃基的种类等，聚醚改性有机硅有多种，考虑抗静电性能或被粘物污染性等选择即可。
作为市面出售的聚醚改性有机硅，可列举出信越化学工业制的KF-351A、KF-352A、KF-353、KF-354L、KF-355A、KF-615A、KF-945、KF-640、KF-642、KF-643、KF-644、KF-6020、KF-6204、KF-6011、KF-6012、KF-6015、KF-6017，Dow Corning Toray制的SH8700、SH8400、SF8410、L-7002、FZ-2104、FZ-77、L-7606等。
用于本发明的表面保护膜10的粘结剂层2的厚度，以合乎被粘物的种类或表面形状选定即可，多为2～250μm左右。从价格层面或对被粘物的亲和性考虑，优选5～40μm左右的厚度，更优选10～30μm左右的厚度。从将表面保护膜从被粘物上揭下时的操作性优异方面考虑，优选表面保护膜对被粘物的表面的剥离强度(粘着力)为0.03～0.3N/25mm左右的具有弱粘着力的粘结剂层2。此外，从将贴合用膜5从表面保护膜10揭下时的操作性优异方面考虑，优选在剥离速度0.3m/min、剥离角度180°的条件下进行测定的将贴合用膜5从粘结剂层2上剥离时的剥离力为0.005～0.3N/50mm。
此外，用于本发明的表面保护膜10的贴合用膜5在树脂膜3的一个面上层积有抗静电剂层4，该抗静电剂层4含有粘合剂树脂及不与该粘合剂树脂反应的抗静电剂。
作为树脂膜3，可列举出聚酯膜、聚酰胺膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚酰亚胺膜等，从透明性优异或是较廉价的方面考虑，优选聚酯膜。树脂膜可以是无拉伸膜，也可以是经单轴或双轴拉伸的膜。此外，可以将拉伸膜的拉伸倍率或伴随拉伸膜的结晶化形成轴方向的取向角度控制在特定的值。
树脂膜3的厚度没有特别的限定，例如优选12～100μm左右的厚度，若为20～50μm左右的厚度则容易操作，因而更优选。
此外，可根据需要，在树脂膜3的表面施加等离子放电或电晕放电的表面改性、涂布锚涂剂等易粘合处理。
作为构成抗静电剂层4的粘合剂树脂，可列举出聚酯树脂、聚氨酯树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、聚烯烃树脂、醇酸树脂、纤维素树脂、聚乙烯醇树脂、三聚氰胺树脂、酚醛树脂等。作为粘合剂树脂，可使用进行交联的类型、使溶剂或分散介质挥发的类型等任意一种。
作为构成抗静电剂层4的抗静电剂7，如果其对粘合剂树脂溶液的分散性良好，且为粘合剂树脂固化的类型的情况下，优选其不阻碍粘合剂树脂的固化。此外，为了从抗静电剂层4向粘结剂层2的表面转移，赋予粘结剂层2抗静电效果，可以为不与粘合剂树脂反应的抗静电剂。作为这种抗静电剂，离子化合物较适合。
作为离子化合物，其为具有阳离子与阴离子的离子化合物，作为阳离子，可列举出碱金属阳离子、吡啶鎓阳离子、咪唑鎓阳离子、嘧啶鎓阳离子(pyrimidinium cation)、吡唑鎓阳离子(pyrazolium cation)、吡咯烷鎓阳离子、铵阳离子等含氮鎓阳离子、鏻阳离子、锍阳离子等有机阳离子或无机阳离子。此外，作为阴离子，可列举出CnH2n+1COO-、CnF2n+1COO-、NO3 -、CnF2n+1SO3 -、(CnF2n+1SO2)2N-、(CnF2n+1SO2)3C-、RC6H4SO3 -、PO4 3-、AlCl4 -、Al2Cl7 -、ClO4 -、BF4 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -、SCN-等有机阴离子或无机阴离子。这些离子化合物可单独使用，也可两种以上混合使用。为了离子物质的稳定化，可以添加含有聚氧亚烷基结构的化合物。
其中，含有作为阳离子的碱金属阳离子的离子化合物(碱金属盐)较适合。作为碱金属盐，可列举出锂、钠、钾构成的金属盐。具体而言，例如，可适用Li+、Na+、K+中选择的阳离子与Cl-、Br-、I-、BF4 -、PF6 -、SCN-、ClO4 -、CF3SO3 -、(FSO2)2N-、(CF3SO2)2N-、(C2F5SO2)2N-、(CF3SO2)3C-中选择的阴离子所构成的金属盐。其中，特别优选使用LiBr、LiI、LiBF4、LiPF6、LiSCN、LiClO4、LiCF3SO3、Li(FSO2)2N、Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(CF3SO2)3C等锂盐。这些碱金属盐可以单独使用，或者可以2种以上混合使用。为了离子物质的稳定化，可以添加含有聚氧亚烷基结构的化合物。
相对于粘合剂树脂的抗静电剂的添加量根据抗静电剂的种类或与粘合剂树脂的亲和性程度而异，可通过考虑将表面保护膜从被粘物上剥离时所期望的剥离静电压、对被粘物的污染性、粘着特性等而设定。
粘合剂树脂与抗静电剂的混合方法没有特别限定。可以是通过溶剂或分散介质将粘合剂树脂稀释后添加、混合抗静电剂的方法；将粘合剂树脂与抗静电剂混合后通过溶剂或分散介质稀释的方法；通过溶剂或分散介质分别将粘合剂树脂与抗静电剂稀释后将两者混合的方法等各种方法。此外，可以根据需要，添加用于固化粘合剂树脂的交联剂或交联催化剂、用于提高对粘合剂树脂的树脂膜的贴附性的贴附性改善剂、用于提高含有抗静电剂的粘合剂树脂涂料涂敷性的流平剂等添加剂。
粘合剂树脂与抗静电剂的混合比例没有特别的限定，相对于100重量份的粘合剂树脂的固体成分，以固体成分计抗静电剂优选为5～100重量份左右的比例。相对于100重量份的粘合剂树脂的固体成分，若抗静电剂以固体成分换算的添加量小于5重量份的比例，则抗静电剂7向粘结剂层2的表面的转印量变少，难以在粘结剂层2发挥剥离抗静电性能。此外，相对于100重量份的粘合剂树脂的固体成分，若抗静电剂以固体成分换算的添加量超过100重量份的比例，则粘合剂树脂也与抗静电剂7同时转印至粘结剂层2的表面，存在使粘结剂层2的粘着特性降低的可能性。
在本发明的表面保护膜10的基材膜1上形成粘结剂层2方法、及贴合贴合用膜5的方法，通过公知的方法进行即可，没有特别的限定。具体而言，通常为在基材膜1的一个面上，涂布、干燥用于形成粘结剂层2的树脂组合物，形成粘结剂层后，贴合贴合用膜5的方法。
此外，在基材膜1的表面形成的粘结剂层2，可通过公知的方法进行。具体而言，可使用反向涂布法、逗号刮刀式涂布法(CommaCoating)、凹版涂布法、夹缝式挤压型涂布法、迈耶棒涂布法、气刀涂布法等公知的涂敷方法。
此外，在树脂膜3上形成抗静电层4同样可通过公知的方法进行。具体而言，可使用凹版涂布法、迈耶棒涂布法、气刀涂布法等公知的涂敷方法。
具有所述构成的本发明的表面保护膜10，其从作为被粘物的光学用膜上剥离时的表面电势(表面電位)优选为+0.7kV～-0.7kV。更进一步，表面电势更优选为+0.5kV～-0.5kV，特别优选为+0.1kV～-0.1kV。该表面电势可通过增减抗静电剂层4中含有的抗静电剂7的种类、添加量等进行调整。
图2为表示将剥离膜从本发明的表面保护膜上揭下的状态的截面图。
通过将贴合用膜5从图1所示的表面保护膜10上剥下，贴合用膜5的抗静电剂4中含有的抗静电剂(符号7)的一部分转印到(附着于)表面保护膜10的粘结剂层2的表面。因此，在图2中，模式性地以符号7的斑点表示在表面保护膜的粘结剂层2的表面附着的抗静电剂。抗静电剂7的成分从贴合用膜5被转印至粘结剂层2的表面，由此与转印前的粘结剂层2相比，从被粘物上剥离粘结剂层2时的剥离静电压降低。此外，从被粘物上剥离粘结剂层时的剥离静电压可通过公知的方法测定。例如，在将表面保护膜贴合至偏振片等被粘物后，使用高速剥离试验机(Tester产业制)，以每分钟40m的剥离速度将表面保护膜剥离，同时使用表面电势计(Keyence(株)制)测定被粘物表面的表面电势，将每10ms进行一次测定时的表面电势的绝对值的最大值设为剥离静电压(kV)。
在本发明的表面保护膜中，将图2所示的揭下贴合用膜的状态的表面保护膜11贴合于被粘物时，转印至该粘结剂层2的表面的抗静电剂与被粘物的表面接触。由此，能够较低地抑制将表面保护膜再次从被粘物上揭下时的剥离静电压。
图3为表示将本发明的表面保护膜贴合于光学部件的实施例的截面图。
从本发明的表面保护膜10上剥下贴合用膜5，以露出粘结剂层2的状态(图2的表面保护膜11)，经由该粘结剂层2贴合于作为被粘物的光学部件8上。
即，图3表示贴合有在从本发明的表面保护膜10上揭下贴合用膜5的状态下的表面保护膜11的光学部件20。作为光学部件，可列举出偏振片、相位差板、透镜膜、相位差板兼用的偏振片、透镜膜兼用的偏振片等光学用膜。所述光学部件可用作液晶显示板等液晶显示装置、各种计量仪器类的光学类装置等的构成部件。此外，作为光学部件，还可列举出防反射膜、硬涂膜、触摸屏用透明导电性膜等光学用膜。
将从本发明的表面保护膜10上揭下贴合用膜5的状态下的表面保护膜11从作为被粘物的光学部件(光学用膜)上剥离去除时，能够充分地较低地抑制剥离静电压。因此，不存在击穿驱动IC、TFT元件、栅线驱动电路等电路部件的担忧，能够提高在制造液晶显示面板等工序中的生产效率，确保生产工序的可靠性。
实施例
接着通过实施例对本发明进行进一步说明。
(实施例1)
(表面保护膜的制作)
混合1.5重量份乙基纤维素(DOW Chemical制ETHOCEL(注册商标)100FP)、1.125重量份双氟磺酰亚胺锂的20％醋酸乙酯溶液、98.5重量份甲苯与醋酸乙酯的1:1混合溶剂，搅拌混合，制备形成实施例1的抗静电剂层的涂料。以使干燥后的厚度为0.2μm的方式，在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面上，使用迈耶棒涂布形成实施例1的抗静电剂层的涂料，通过120℃的热风循环式烤箱干燥1分钟，得到实施例1的贴合用膜。另一方面，以使干燥后的厚度为20μm的方式，将添加、混合有100重量份有机硅粘结剂(信越化学工业(株)制、商品名：X-40-3306)、0.2重量份催化剂(信越化学工业(株)制、商品名：PL-50T)、1.0重量份聚醚改性有机硅油(DowCorning Toray(株)制、商品名：SH8400)的涂布液，涂布在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面上，然后通过100℃的热风循环式烤箱干燥2分钟，形成粘结剂层。然后，在该粘结剂层的表面上贴合上述制作的实施例1的贴合用膜的抗静电剂层(抗静电处理面)。将所得的粘着膜在40℃的环境下保温5天，使粘结剂固化，得到实施例1的表面保护膜。
(实施例2)
除了将抗静电剂变成双三氟甲烷磺酰亚胺锂以外，以与实施例1相同的方式，得到实施例2的表面保护膜。
(实施例3)
除了将形成实施例1的抗静电剂层的涂料设为由3.125重量份氨基醇酸树脂(日立化成工业(株)制、商品名：TessFine 303(注册商标、テスファイン303)、0.1重量份催化剂(日立化成工业(株)制、商品名：dryer 900(ドライヤー900))、1重量份双三氟甲烷磺酰亚胺锂的20％醋酸乙酯溶液、96.275重量份甲苯与醋酸乙酯的1:1混合溶剂掺混并搅拌混合而成的涂料以外，以与实施例1相同的方式，得到实施例3的表面保护膜。
(比较例1)
将1.5重量份乙基纤维素(DOW Chemical制ETHOCEL(注册商标)100FP)、98.5重量份甲苯与醋酸乙酯的1:1混合溶剂掺混，搅拌混合，制备比较例1的贴合用膜侧的涂料。以使干燥后的厚度为0.2μm的方式，在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面上，使用迈耶棒涂布比较例1的贴合用膜侧的涂料，通过120℃的热风循环式烤箱干燥1分钟，得到比较例1的贴合用膜。另一方面，以使干燥后的厚度为20μm的方式，在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面上涂布添加、混合了100重量份有机硅粘结剂(信越化学工业(株)制、商品名：X-40-3306)、0.2重量份催化剂(信越化学工业(株)制、商品名：PL-50T)、1.0重量份聚醚改性硅油(Dow CorningToray(株)制、商品名：SH8400)、2.5重量份双氟磺酰亚胺锂的20％醋酸乙酯溶液的涂布液，然后通过100℃的热风循环式烤箱干燥2分钟，形成粘结剂层。然后，在该粘结剂层的表面上贴合上述制作的比较例1的贴合用膜的粘合剂树脂涂布层。将所得的粘着膜在40℃的环境下保温5天，使粘结剂固化，得到比较例1的表面保护膜。
(比较例2)
除了在抗静电剂层中不添加双氟磺酰亚胺锂以外，以与实施例1相同的方式，得到比较例2的表面保护膜。在该情况下，在贴合用膜的表面以与比较例1相同的方式形成不含抗静电剂的粘合剂树脂涂布层。
(比较例3)
除了在粘结剂层中不添加SH8400，在抗静电剂层中添加1.0重量份SH8400以外，以与实施例1相同的方式，得到比较例3的表面保护膜。
以下表示评价试验的方法及结果。
(抗静电剂层及粘结剂层的表面电阻率)
使用高性能高电阻率计(三菱化学Analytech社制Hiresta(注册商标)-UP)，在施加电压100V、测定时间30秒的条件下测定贴合用膜的抗静电剂层的表面电阻率、及表面保护膜的粘结剂层的表面电阻率。测定为：将贴合有粘结剂层与抗静电剂层的粘着膜在40℃的环境下保温5天，然后从粘着膜上剥离贴合用膜，分别测定粘着膜的粘结剂层与贴合用膜的抗静电剂层的表面电阻率(Ω/□)。
(贴合用膜的剥离力的测定方法)
将表面保护膜的样本裁切成宽50mm、长150mm。在23℃×50％RH的试验环境下，用拉伸试验机以300mm/分钟的剥离速度在180°的方向上，测定将贴合膜剥离时的强度，将其作为贴合用膜的剥离力(N/50mm)。
(表面保护膜的粘着力的测定方法)
使用贴合机，在玻璃板的表面贴合经过防眩低反射处理的偏振片(AG-LR偏振片)。然后，在偏振片的表面上贴合裁切成宽25mm的表面保护膜后，在23℃×50％RH的试验环境下保存1天。然后，用拉伸试验机以300mm/分钟的剥离速度在180°的方向上，测定将表面保护膜剥离时的强度，将其作为粘着力(N/25mm)。
(表面保护膜的剥离静电压的测定方法)
使用贴合机，在玻璃板的表面贴合经过防眩低反射处理的偏振片(AG-LR偏振片)。然后，在偏振片的表面上贴合裁切成宽25mm的表面保护膜后，在23℃×50％RH的试验环境下保存1天。然后，使用高速剥离试验机(Tester产业制)，以每分钟40m的剥离速度剥离表面保护膜，同时使用表面电势计(Keyence(株)制)每10ms测定一次所述偏振片表面的表面电势，将此时的表面电势的绝对值的最大值作为剥离静电压(kV)。
(表面保护膜的表面污染性的确认方法)
使用贴合机，在玻璃板的表面贴合经过防眩低反射处理的偏振片(AG-LR偏振片)。然后，在偏振片的表面上贴合裁切成宽25mm的表面保护膜后，在23℃×50％RH的试验环境下保存3天及30天。然后，揭下表面保护膜，以目视观察偏振片的表面有无污染，确认表面污染性。作为表面污染性的判定标准，以偏振片上没有污染转移的情况为(○)，偏振片上确认到污染转移的情况为(×)。
对于所得到的实施例1～3及比较例1～3的表面保护膜，所测定的测定结果如表1所示。“X40-3306”表示X-40-3306，“PL-50T”表示PL-50T，“SH8400”表示SH8400，“100FP”表示ETHOCEL(注册商标)100FP。“LiFSI”表示双氟磺酰亚胺锂，“LiTFSI”表示双三氟甲烷磺酰亚胺锂，“T303”表示TessFine303(注册商标、テスファイン303)，“D900”表示dryer 900(ドライヤー900)。
此外，“贴合层”为层积于贴合用膜的一个面上的、抗静电剂层及粘合剂树脂涂布层的总称。
此外，表面电阻率A为对本发明的表面保护膜的、粘结剂层的表面电阻率(Ω/□)进行测定的电阻率。此外，表面电阻率B为对从粘结剂层的表面剥离后的、贴合用膜的抗静电剂层的表面电阻率(Ω/□)进行测定的电阻率。表1的OR为Over-range的略写，表示超出高性能高电阻率计(三菱化学Analytech社制Hiresta(注册商标)-UP)的测定范围，表面电阻率表示为1E+13Ω/□以上。另外，在表面电阻率的标记中，例如1.7E+10是1.7×10的10次方的意思。表面电阻率的单位为Ω/□。
[表1]
由表1的测定结果可知：
本发明的实施例1～3的表面保护膜具有适度的粘着力，没有对被粘物的表面的污染，且将表面保护膜从被粘物上剥离时的剥离静电压低。
另一方面，在粘结剂层中混合有抗静电剂的比较例1的表面保护膜，虽然将表面保护膜从被粘物上剥离时的剥离静电压低，为良好，但剥离后的对被粘物的污染增多。此外，在不使用抗静电剂的比较例2的表面保护膜中，对被粘物的污染性得到改善，但将表面保护膜从被粘物上剥离时的剥离静电压增高。粘结剂层侧没有使用聚醚改性有机硅、贴合层侧使用了聚醚改性有机硅的比较例3的表面保护膜，将表面保护膜从被粘物上剥离时的剥离静电压也增高。
工业实用性
本发明的表面保护膜，例如在偏振片、相位差板、透镜膜、防反射膜、硬涂膜、透明导电性膜等光学用膜、其他各种光学部件等的生产工序等中，可用于贴合在该光学部件等上而保护其表面。此外，本发明的表面保护膜即使在裁切时也难以产生来自粘结剂层的异物(胶团)，对表面具有凹凸的光学用膜也亲和性(润湿性)良好，不会经时劣化，具有优异的剥离抗静电性能，因此从被粘物上剥离时产生的静电量低，且剥离抗静电性能的经时变化及对被粘物的污染少，能够提高生产工序的成品率，在工业上的利用价值大。

Claims (6)

1.一种表面保护膜，其特征在于，在透明基材的至少一个面上，具有由含有聚醚改性有机硅的有机硅粘结剂组合物构成的粘结剂层，具有抗静电剂层的贴合用膜经由所述抗静电剂层贴合在该粘结剂层上，在该表面保护用膜中，所述贴合用膜是在树脂膜的一个面上层积抗静电剂层而成，作为所述抗静电剂层，含有粘合剂树脂、不与该粘合剂树脂反应的抗静电剂，所述抗静电剂层的成分从所述贴合用膜转印至所述粘结剂层的表面，将所述粘结剂层从被粘物上剥离时的剥离静电压降低。
2.根据权利要求1所述的表面保护膜，其特征在于，所述抗静电剂为离子化合物。
3.根据权利要求1所述的表面保护膜，其特征在于，所述抗静电剂为以碱金属为阳离子的离子化合物。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的表面保护膜，所述粘结剂层的厚度为2～250μm。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的表面保护膜，其特征在于，将所述贴合用膜从所述粘结剂层上剥离时的剥离力为0.005～0.3N/50mm。
6.贴合权利要求1～5中任一项所述的表面保护膜而成的光学部件。
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