CN105974741B - 光照射装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种可将急剧上升的照射强度的光向矩形照射区域照射的光照射装置，对待照射物上的矩形照射区域进行光照射的光照射装置，具备有：多个发光元件，其二维配置在基板上；透镜单元，其将各发光元件射出的光成形为指定扩散角的光；导光构件，其在内表面具有以将多个发光元件的光轴围成矩形的方式而形成的镜面，将透镜单元射出的光进行混合后导光；孔径光阑，其具有以导光构件的光轴为中心的矩形开口，并配置在导光构件与待照射物之间。镜面以朝向待照射物扩展的方式，相对导光构件的光轴，按小于扩散角的指定角度倾斜，从透镜单元所射出的光的至少一部分，通过镜面反射，穿过孔径光阑开口的端面部附近，相对照射区域大致垂直射入。

Description

光照射装置

技术领域

本发明涉及一种在涂有光致抗蚀剂的基板(例如，半导体基板、液晶显示用玻璃基板、光掩膜用玻璃基板)的周边曝光装置上使用的光照射装置，特别涉及一种均匀照射待照射物上的矩形照射区域的光照射装置。

背景技术

以往，在半导体(例如，集成电路IC(Integrated Circuit)或大规模集成电路LSI(Large Scale Integrated circuit))的制造工序中，在半导体晶片的表面涂上光致抗蚀剂，通过掩膜向所述抗蚀层进行曝光显影，从而形成电路图案。

作为在半导体晶片表面上涂覆抗蚀剂的方法，一般都采用旋涂法。即将晶片放置在旋转台上，在该晶片表面的中心附近滴下抗蚀剂使其旋转，通过离心力作用使晶片表面整体都涂上抗蚀剂。

采用这种旋涂法，虽然不仅在晶片中央部的电路图案形成区域有涂覆抗蚀剂，在未形成电路图案的晶片边缘部也有涂覆，但是很多时候，为了运送晶片，晶片运送装置会握持住晶片边缘部，如果晶片边缘部一直残留抗蚀剂，在晶片运送过程中，会出现抗蚀剂的一部分剥离、脱落的现象。并且，如果晶片边缘部的抗蚀剂出现脱落，而脱落的抗蚀剂又恰巧附着在晶片的电路图案形成区域上时，则无法形成所期望的电路图案，会有成品率也降低的问题。因此，一般情况下，使用对包含晶片边缘部在内的其周边照射紫外光的周边曝光装置进行抗蚀剂的曝光，去除涂覆在晶片边缘部的多余抗蚀剂。这种用于周边曝光装置的光照射装置，例如在专利文献1中有记载。

专利文献1中所述的用于周边曝光装置(边缘曝光装置)的光照射装置，具备有：光源单元，其内部具有灯；第1光导，对光源单元所射出的紫外光进行导光；光混合光学元件(石英棒)，混合第1光导所射出的紫外光；第2光导，对光混合光学元件所射出的光进行导光；照射头，将第2光导的光投射至基板边缘部上，并以灯所照射的紫外光汇聚到基板边缘部的矩形照射区域的方式而构成。

此外，近些年来，比灯寿命更长、且低功耗的紫外线发光二极管LED(LightEmitting Diode)已被实际投入使用，因此也有提出采用了所述紫外线发光二极管LED的周边曝光装置的建议(例如，专利文献2)。

经该周边曝光装置曝光后，通过蚀刻等去除晶片边缘部上的多余抗蚀剂，但是如果多余抗蚀剂没有被完全去除，在晶片上少量残留时(即产生所谓的灰区时)，将会成为导致后工序 抗蚀剂脱落的原因。因此，优选地，去除多余抗蚀剂后的抗蚀剂端部的横截面形状(即，残留在电路图案形成区域的抗蚀剂端部的横截面形状)，为电路图案形成区域与晶片边缘部之间呈急剧上升(即，不太平缓)的形状。

上述灰区的出现起因于从周边曝光装置投射到基板边缘部的紫外光的照射强度分布。即，从周边曝光装置投射到基板边缘部的紫外光照射强度分布，如果在电路图案形成区域与晶片边缘部之间平缓地变化时，在电路图案形成区域与晶片边缘部之间将出现曝光不充分区域，残留在电路图案形成区域的抗蚀剂端部的横截面形状也变为平缓的形状(即，出现灰区)，因此，从周边曝光装置投射到基板边缘部的紫外光照射强度分布，优选在电路图案形成区域与晶片边缘部之间为急剧上升的(即，不太平缓)形状。

【现有技术文献】

【专利文献】

【专利文献1】特许第3947365号说明书

【专利文献2】特开2007-194583号公报

发明内容

发明要解决的问题

专利文献1、2中所述的周边曝光装置中，以在照射头内形成矩形缝隙，通过光混合光学元件混合后的紫外光，穿过缝隙投射到基板上的方式构成。因此，投射在基板上的光，穿过缝隙后，只会成为在某种程度上限制了扩散角的矩形光束，在电路图案形成区域与晶片边缘部之间成为相对的急剧上升(即，不太平缓)的照射强度分布。

然而，最近，形成在晶片上的电路越来越集成化，电路图案也越来越微型化，因此，需求一种在电路图案与晶片边缘部之间，可投射比以往更加急剧上升(即，更加不平缓)的照射强度分布的光的光照射装置。

本发明正是鉴于上述情况，并基于此目的的同时，提供一种可将急剧上升的照射强度分布的光照射在待照射物上的矩形照射区域的光照射装置。

解决问题的手段：

为达到上述目的，本发明的光照射装置，是一种对待照射物上的矩形照射区域进行光照射的光照射装置，其特征在于，具备有：多个发光元件，所述发光元件的光轴朝向一致地二维配置在基板上并射出光；透镜单元，所述透镜单元分别配置在各发光元件的光轴上，将所述发光元件射出的光成形为指定扩散角的光；筒状的导光构件，所述导光构件在内表面具有以将多个发光元件的光轴围成矩形的方式而形成的镜面，将透镜单元射出的光进行混合后导光；孔径光阑，所述孔径光阑具有以导光构件的光轴为中心的矩形开口，并配置在导光构件 与待照射物之间，镜面以朝向待照射物扩展的方式，相对导光构件的光轴，按小于扩散角的指定角度倾斜，从透镜单元所射出的光的至少一部分，通过镜面反射，穿过孔径光阑开口的端面部附近，相对照射区域大致垂直射入。

根据所述结构，在照射区域的边缘部，紫外光非重叠区域变为最小，照射区域的照射强度分布变为急剧上升的照射强度分布。因此，如果将本发明的光照射装置应用于半导体的周边曝光装置上，便可以在电路图案形成区域和晶片边缘部之间照射急剧上升的照射强度分布的紫外光，可以缩小所谓的灰区。

此外，可构成为：由透镜单元射出的光的至少一部分，通过镜面仅反射1次。

此外，扩散角的大小为5～20°，优选地，指定角度小于扩散角的1/2。

此外，优选地，通过导光构件的镜面所形成的射出侧开口，以大于孔径光阑开口的方式构成。

此外，优选地，光为紫外波段的光。

发明效果

如上所述，本发明中的光照射装置可将急剧上升的照射强度分布的光照射在待照射物上的矩形照射区域。

附图说明

图1是示出了本发明的实施方式所涉及的光照射装置从其射出口侧观察时的光照射装置的正面图。

图2为图1的A-A向剖视图。

图3为图1的B部放大图。

图4是配备在本发明的实施方式所涉及的光照射装置上的各透镜单元所射出的紫外光的光路图。

图5是由位于图4中心的透镜单元射出的紫外光的光路图。

图6是由距离图4中心1个透镜位置的透镜单元射出的紫外光的光路图。

图7是由距离图4中心2个透镜的位置(即，靠最外边的位置)的透镜单元射出的紫外光的光路图。

图8是说明射入通过本发明的实施方式所涉及的光照射装置所照射的照射区域的边缘部内的光线的图。

图9是示出了本发明的比较例所涉及的光照射装置的结构及光路图的模式图。

图10是说明射入通过本发明的比较例所涉及的光照射装置所照射的照射区域的边缘部的光线的图。

图11是示出了采用本发明的实施方式所涉及的光照射装置时的照射区域上的照射强度分布、以及采用本发明的比较例所涉及的光照射装置时的照射区域上的照射强度分布的图表。

图12是将图11E部的照射强度分布向横轴方向放大后的图表。

图中：

100、100C 光照射装置

110 发光二极管LED单元

112 基板

114 发光二极管LED元件

120 透镜单元

122 第1透镜

124 第2透镜

126 第3透镜

130、130C 导光构件

130a、130b、130c、130d、130Ca、130Cb、130Cc、130Cd 镜面

150 孔径光阑

具体实施方式

下面，结合附图对本发明的实施方式做进一步的详细说明。并且，图中相同或相应的部位用相同的符号标记，其说明不再重复。

图1是示出了本发明的实施方式所涉及的光照射装置100的结构的模式图。图1是从光照射装置100的射出口侧观察时的光照射装置100的正面图。图2是通过图1的A-A线的横截面图。图3是图1的B部放大图。本实施方式的光照射装置100是一种装在周边曝光装置等内，对待照射物W(例如，玻璃基板上的抗蚀剂)上的矩形照射区域P，照射紫外波段的大致平行光的装置。并且，在图1中，为便于说明，示出时省略孔径光阑150等一部分结构。

如图1至图3所示，光照射装置100具备有25个发光二极管LED单元110、对应各发光二极管LED单元110而配置的25个透镜单元120、导光构件130、孔径光阑150、以及收纳这些部件的壳体(未图示)。发光二极管LED单元110、透镜单元120、导光构件130以及孔径光阑150朝向待照射物W，沿着光轴AX(穿过由光照射装置100射出的光的中心的轴)依次配置。并且，在本实施方式中，光照射装置100的工作距离WD(从导光构件130的射出开口130f到待照射物W的距离)设定为约10mm，由光照射装置100射出的紫外波段的光(以下称为“紫外光”)在工作距离WD上以成为均匀的光量分布的方式聚光(稍后详述)。并且，在本说明书中，将光照射装置100射出的紫外光的前进方向(即，平行于光轴AX的方向)定 义为Z轴方向，将与Z轴方向正交、且相互正交的2个方向定义为X轴方向以及Y轴方向进行说明。

如图1所示，本实施方式的25个发光二极管LED单元110,以及在Z轴方向上对齐光轴，在X-Y平面上呈5列(Y轴方向)×5个(X轴方向)的正方格子形状配置。各发光二极管LED单元110具备有大致正方形状的基板112、在所述基板112上的中心部并将在Z轴方向对齐光轴配置的发光二极管LED元件114(发光元件)(如图3)。本实施方式的各发光二极管LED元件114具有例如2.15mm(X轴方向长度)×2.15mm(Y轴方向长度)的矩形外形(图1(c)),其两边以平行于X轴方向的方式配置，并与基板112电连接。基板112是由玻璃纤维环氧树脂、陶瓷等构成的电子电路基板，连接在未图示的发光二极管LED驱动电路上，通过基板112向各发光二极管LED元件114供给来自发光二极管LED驱动电路的驱动电流。如果向各发光二极管LED元件114供给驱动电流时，各发光二极管LED元件114以对应驱动电流的光量发光，射出指定光量的紫外光。并且，在本实施方式中，各发光二极管LED元件114，以接受发光二极管LED驱动电路供给的驱动电流，射出波长为395nm的紫外光的方式构成。

并且，本实施方式的各发光二极管LED元件114，以射出大致相同光量的紫外光的方式调整供给至各发光二极管LED元件114的驱动电流。此外，在本实施方式中，5列(Y轴方向)×5个(X轴方向)排列的发光二极管LED单元110的中心C(即，位于中心的发光二极管LED单元110的基板112的中心)以与光轴AX大致一致的方式配置(图1)。

如图2所示，本实施方式的各透镜单元120是将发光二极管LED元件114所射出的紫外光成形为指定扩散角(9°)的紫外光的透镜。各透镜单元120是由具有共同的光轴的第1透镜122、第2透镜124、以及第3透镜126构成。在本实施方式中，第1透镜122、第2透镜124、以及第3透镜126均为平凸透镜。第1透镜122、第2透镜124、以及第3透镜126通过未图示的镜筒架支撑，其光轴以与发光二极管LED元件114的光轴大致一致的方式调整位置，按指定间隔配置。穿过各透镜单元120的紫外光，朝向后段的导光构件130射出。

导光构件130是在内表面形成有4个镜面130a、130b、130c、130d的矩形筒状构件。如图1所示，本实施方式的4个镜面130a、130b、130c、130d从Z轴方向观察时，以将25个发光二极管LED单元110以及透镜单元120围成矩形的方式配置(即，以将发光二极管LED元件114以及透镜单元的光轴120围成矩形的方式配置)，以从透镜单元120射出的所有的紫外光射入导光构件130内的方式构成。如上所述，从透镜单元120射出的紫外光，因具有指定扩散角(9°)，所以在导光构件130内的各角度分量的紫外光分别被反射的同时(即，被混合的同时)被导光，从导光构件130射出大致均匀的光量分布的紫外光。并且，稍后会对详情进行描述，不过本实施方式的镜面130a、130b，相对光轴AX仅以指定角度(1.6°)向 Y轴方向倾斜，此外，镜面130c、130d，相对光轴AX仅以指定角度(1.6°)向X轴方向倾斜。并且，导光构件130中，在透镜单元120侧形成有矩形的射入开口130e，在待照射物W侧形成有大于射入开口130e的矩形射出开口130f。如上所述，本实施方式的4个镜面130a、130b、130c、130d，以随着从透镜单元120处离开，而离开光轴AX的方式(即，以朝向待照射物W扩展的方式)倾斜。因此，射入各镜面130a、130b、130c、130d的紫外光，通过各镜面130a、130b、130c、130d的反射，由此被转换为仅小了指定角度(即，倾斜角度(1.6°))的2倍角度(即，3.2°)的角度分量的紫外光(稍后详述)。

穿过导光构件130的紫外光，朝向后段的孔径光阑150射出。孔径光阑150是在中心具有矩形开口的板状构件，配置在射出开口130f与待照射物W之间的指定位置。孔径光阑150的开口设定为小于导光构件130的射出开口130f，具有去除导光构件130射出的紫外光中的多余光的功能。并且，通过由孔径光阑150去除多余光后的紫外光，以照射待照射物W上的矩形照射区域P的方式构成。

其次，对本实施方式的各透镜单元120所射出的紫外光的光路进行说明。图4是图2所示的各透镜单元120射出的紫外光的光路图。图5是在图4中，由位于中心的透镜单元120射出的紫外光的光路图。图6是在图4中，由距离中心1个透镜位置的透镜单元120所射出的紫外光的光路图。图7是在图4中，由距离中心2个透镜位置(即，靠最外边的位置)的透镜单元120所射出的紫外光的光路图。并且，在图4～图7中，紫外光的光路用虚线表示。

如图4及图5所示，由位于中心的透镜单元120射出的紫外光，以指定的扩散角(9°)扩展，不经导光构件130的各镜面130a、130b、130c、130d的反射而直接前进，照射在待照射物W上的矩形(例如，约70mm×约70mm)的照射区域P内。

此外，如图4及图6所示，由距离中心1个透镜位置的透镜单元120射出的紫外光，以指定的扩散角(9°)扩展，其中一部分(例如，图8中用“m1”表示的光线)，通过导光构件130的各镜面130a、130b、130c、130d的至少一面(在图4及图6中为镜面130a)反射，照射在待照射物W上的矩形照射区域P内。

此外，如图4及图7所示，由距离中心2个透镜位置的透镜单元120射出的紫外光，以指定的扩散角(9°)扩展，其中一部分(例如，在图7中朝向Y轴方向负侧扩展的光)，通过导光构件130的各镜面130a、130b、130c、130d的至少一面(在图4及图7中为镜面130a)反射，照射在待照射物W上的矩形照射区域P内。

其结果，是在待照射物W上的矩形照射区域P的中心部，由中心位置的透镜单元120射出的紫外光、由距离中心1个透镜位置的透镜单元120射出的紫外光、及由距离中心2个透镜位置的透镜单元120射出的紫外光重叠，可得到大致均匀的照射强度。此外，在待照射物W上的矩形照射区域P的周边部，由距离中心1个透镜位置的透镜单元120射出的紫外光、及由距离中心2个透镜位置的透镜单元120射出的紫外光重叠，可得到大致均匀的照射强度。不过，在待照射物W上的矩形照射区域P的边缘部(周边部的端部)，由于孔径光阑150遮住多余光，因此在待照射物W上的矩形照射区域P的边缘部(周边部的端部)，会产生出现紫外光非重叠区域的问题。并且，在照射区域P的边缘部，紫外光非重叠区域如果变大，该区域的照射强度将极度降低，因此，该区域的照射强度分布为较平缓的曲线。因此，本实施方式中，在照射区域P的边缘部，为了能够得到急剧上升的照射强度分布，使各镜面130a、130b、130c、130d倾斜，以在照射区域P的边缘部射入大致垂直的光线的方式构成，将紫外光非重叠区域减到最小。

图8是图4C部的放大图，是射入待照射物W上的矩形照射区域P的边缘部的光线说明图。图8的“m1”及“m2”均为由距离中心1个透镜位置的透镜单元120射出的、Y轴方向的角度分量为最大的(即，角度分量9°的)紫外光的光线。光线“m1”是角度分量9°的紫外光的光线中穿过最外侧的光线，光线“m2”是穿过孔径光阑150的端面部附近后到达待照射物W处的光线。如上所述，本实施方式的4个镜面130a、130b、130c、130d，以随着从透镜单元120处离开，而离开光轴AX的方式，按指定的倾斜角度(1.6°)倾斜。因此，如图8所示，如果紫外光射入镜面130a、130b、130c、130d中任意一个(在图8中是镜面130a)，所述角度分量成为仅小了倾斜角度1.6°的2倍角度的角度分量。即，最大角度分量9°的紫外光的光线“m1”作为5.8°的角度分量的紫外光(即，光线“n1”)从导光构件130射出。其结果，是在待照射物W上的矩形照射区域P的边缘部，经大约0.8mm宽度，形成紫外光未重叠的区域。

(比较例)

在此，为便于说明由本实施方式的结构所产生的效果，列举出比较例。图9是示出了与本实施方式的结构进行对比的比较例所涉及的光照射装置100C的结构以及光路图的模式图。此外，图10是图9D部的放大图，是说明射入至待照射物W上的矩形照射区域P的边缘部的光线的图。本比较例的光照射装置100C，导光构件130C的各镜面130Ca、130Cb、130Cc(在图9中未图示)、130Cd(在图9中未图示)平行于光轴AX，不具有倾斜角度(1.6°)，这一点与本实施方式的光照射装置100不同。并且，图10的“m1”是由距离中心2个透镜位置的透镜单元120射出的光线，是Y轴方向的角度分量为最大(即，角度分量9°)，且穿过孔径光阑150的端面部附近到达待照射物W的光线。此外，图10的“m2”是由距离中心1个透镜位置的透镜单元120射出的光线，是Y轴方向的角度分量为最大(即，角度分量9°)，且穿过孔径光阑150的端面部附近到达待照射物W的光线。

如图10所示，在本比较例中，因导光构件130C的各镜面130Ca、130Cb、130Cc、130Cd平行于光轴AX，所以即使紫外光射入镜面130Ca、130Cb、130Cc、130Cd，所述角度分量依然被维持。即，最大角度分量9°的紫外光的光线“m1”作为9°的角度分量的紫外光(即，光线“n1”)从导光构件130C射出。其结果，是在待照射物W上的矩形照射区域P的边缘部，经大约1.0mm宽度，形成紫外光非重叠区域。

图11是示出采用了本实施方式所涉及光照射装置100时的照射区域P上的照射强度分布(图11中的实线)、以及采用了比较例所涉及的光照射装置100C时的照射区域P上的照射强度分布(图11中的虚线)的图表。在图11中，纵轴是紫外光的相对强度，横轴是光轴AX的位置为0mm的照射位置(mm)。此外，图12是将图11E部(即，照射区域P的边缘部)的照射强度分布向横轴方向放大后的图表。

如图11所示，无论是采用了本实施方式所涉及的光照射装置100，还是采用了本比较例所涉及的光照射装置100C，在照射区域P的整个区域都可以得到相对强度0.8以上的照射强度分布。

不过，在图12中，通过对比两者的照射强度分布可看出，与比较例所涉及的光照射装置100C相比，本实施方式所涉及的光照射装置100的照射强度分布急剧上升。这是因如上所述形成在照射区域P的边缘部的紫外光非重叠区域的影响，因为本实施方式所涉及的光照射装置100的紫外光非重叠区域要小的缘故。

如上所述，在本实施方式中，通过使导光构件130的各镜面130a、130b、130c、130d倾斜，将照射区域P的边缘部的紫外光非重叠区域减到最小，由此得到急剧上升的照射强度分布。因此，如将本实施方式所涉及的光照射装置100应用于半导体的周边曝光装置上，可以在电路图案形成区域与晶片边缘部之间照射急剧上升的照射强度分布的紫外光，可缩小所谓的灰区。

并且，本实施方式中，通过更进一步加大镜面130a、130b、130c、130d的倾斜角度(1.6°)，可以更进一步缩小光线“n1”的角度分量(即，相对照射区域P更接近垂直的光线)。不过，如果加大倾斜角度，会增加被孔径光阑150遮住的紫外光的光量，会发生整体光量减少的问题。因此，考虑所需光量、照射强度分布的上升特性等，合理设定镜面130a、130b、130c、130d的倾斜角度。

以上是结合本实施方式所做出的说明，但本发明并非局限于上述构成，在本发明的技术性思想范围内可以进行各种变形。

例如，在本实施方式中，导光构件130的各镜面130a、130b、130c、130d，为对距离中心1个透镜位置的透镜单元120所射出的紫外光、及距离中心2个透镜位置的透镜单元120所射出的紫外光的只反射一次结构，但并非局限于该结构。也可构成为：例如，如果将导光构件130的各镜面130a、130b、130c、130d向Z轴方向延长，位于中心的透镜单元120射出的紫外光也可通过各镜面130a、130b、130c、130d反射。此外，也可构成为，导光构件130的各镜面130a、130b、130c、130d，多次反射由透镜单元120射出的紫外光。并且，这种情况下，由于各镜面130a、130b、130c、130d的反射率的影响，每次紫外光被反射照射强度便会降低，因此优选反射次数少的。

此外，在本实施方式中，虽然是采用呈正方格子形状配置的25个发光二极管LED单元110的结构，但是发光二极管LED单元110并非一定是呈正方格子形状配置，也可以是例如三角格子状、六方格子状、或者同心圆状配置。此外，发光二极管LED单元110的个数，至少是2个或以上，也可以根据照射区域P的面积以及形状进行合理地变更。

此外，在本实施方式中，第1透镜122、第2透镜124、以及第3透镜126作为平凸透镜进行了说明，不过如果可以将发光二极管LED元件114射出的紫外光成形为指定扩散角的紫外光，第1透镜122、第2透镜124以及第3透镜126也可适用其他形状(例如，凹凸透镜)。此外，本实施方式的透镜单元120，也并非一定为3片透镜的结构。

此外，本实施方式的透镜单元120，虽然是将发光二极管LED元件114射出的紫外光成形为扩散角(9°)的紫外光的透镜，但是扩散角可以根据照射区域P所需照射强度分布的均匀度(即，紫外光的重叠度)、上升特性等进行合理变更。并且，从透镜单元120射出的紫外光的扩散角，从紫外光的利用效率、以及照射强度分布的上升特性等角度考虑，优选5～20°。如果扩散角小于5°，射出紫外光的利用效率会降低，从而在照射区域P内无法得到所期望的照射强度。此外，如果扩散角大于20°，在照射区域P的边缘部，紫外光非重叠区域变大，照射强度分布的上升特性会变差。此外，优选地，各镜面130a、130b、130c、130d的倾斜角度，以通过各镜面130a、130b、130c、130d反射，照射在照射区域P的紫外光的角度分量，小于扩散角的方式(即，以成为大致平行光的方式)，被设定为小于扩散角的1/2的角度。

此外，本实施方式的发光二极管LED单元110,虽然为具备有1个发光二极管LED元件114的单元，但并非局限于该结构，发光二极管LED单元110也可以具备有多个(例如，4个)发光二极管LED元件114。

此外，本实施方式的发光二极管LED元件114，虽然为射出波长395nm紫外光的元件，但并非局限于该结构，也可以为射出其他波长(例如，波长365nm、波长385nm、波长405nm)紫外光的元件，此外也可以为组合波长不同的多种发光二极管LED元件(即，混合多个波长)的结构。

并且，本次公开的实施方式，在各方面做出了例示，但应理解，本发明不仅仅限于所述 的实施方式。本发明的范围并非局限于上述说明，其旨在包含根据权利要求书所示、与权利要求书范围均等的意图，以及其范围内所包括的所有变形。

Claims (9)

1.一种光照射装置，所述光照射装置对待照射物上的矩形照射区域进行光照射，

具备有：

多个发光元件，所述发光元件的光轴朝向一致地二维配置在基板上，并射出光，

透镜单元，所述透镜单元分别配置在所述各发光元件的光轴上，将所述各发光元件射出的光成形为指定扩散角的光，

其特征在于，

所述光照射装置还具备有：

筒状的导光构件，所述导光构件在内表面具有以将所述多个发光元件的光轴围成矩形的方式而形成的镜面，将所述透镜单元射出的光进行混合后导光，以及

孔径光阑，所述孔径光阑具有以所述导光构件的光轴为中心的矩形开口，并配置在所述导光构件与所述待照射物之间，所述镜面以朝向所述待照射物扩展的方式，相对所述导光构件的光轴，按小于所述扩散角的指定角度倾斜，从所述透镜单元所射出的光的至少一部分，通过所述镜面反射，穿过所述孔径光阑开口的端面部附近，相对所述照射区域大致垂直射入。

2.根据权利要求1所述的光照射装置，其特征在于，

由所述透镜单元射出的光的至少一部分，通过所述镜面仅反射1次。

3.根据权利要求1或2所述的光照射装置，其特征在于，

所述扩散角的大小为5～20°，所述指定角度小于所述扩散角的1/2。

4.根据权利要求1或2所述的光照射装置，其特征在于，

通过所述导光构件的所述镜面所形成的射出侧开口，比所述孔径光阑的开口要大。

5.根据权利要求3所述的光照射装置，其特征在于，

通过所述导光构件的所述镜面所形成的射出侧开口，比所述孔径光阑的开口要大。

6.根据权利要求1或2所述的光照射装置，其特征在于，

所述光为紫外波段的光。

7.根据权利要求3所述的光照射装置，其特征在于，

所述光为紫外波段的光。

8.根据权利要求4所述的光照射装置，其特征在于，

所述光为紫外波段的光。

9.根据权利要求5所述的光照射装置，其特征在于，

所述光为紫外波段的光。