CN105874317B - 用于借助于光学投影断层扫描术研究样品的方法和设备 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及用于样品(9)的断层扫描术研究的方法，在该方法中样品(9)采用照射光束(3)照射，并且在该方法中包含照射光束(3)的通过样品(9)透射的光的透射光束(10)采用透射检测器(13)检测。本发明进一步涉及用于样品(9)的断层扫描研究的设备。提供的是，照射光束(3)和透射光束(10)以相反的传播方向通过同一物镜(7)穿过。

Description

用于借助于光学投影断层扫描术研究样品的方法和设备
技术领域
本发明涉及用于样品的断层扫描术研究的方法，在该方法中样品采用照射光束照射，并且在该方法中包含照射光束的通过样品透射的光的透射光束采用透射检测器检测。
本发明此外涉及一种用于样品的断层扫描术研究的设备，该设备具有生成照射要研究的样品的照射光束的光源，并且具有用于检测照射光束的包含通过样品透射的光的透射光束的透射检测器。
背景技术
WO 2012/027542 A2公开了同时允许样品的光学断层扫描研究和SPIM研究两者的显微镜。该文件具体叙述了光学投影断层扫描术(OPT)。不利的是，显微镜具有非常复杂的结构；特别是，同时需要彼此精确对准的三个物镜，以便将照射光聚焦到样品，并接收从样品出射的检测光，用于相应的检测器。此外，显微镜无法灵活使用。例如，样品必须强制性地相对于显微镜移动，以使得样品的三维图像可生成；这是麻烦的，且不可能用于每一种类型的样品，因为实验空间由三个物镜限制。此外，以常规的显微镜配置(特别是使用常规的显微镜支架)实施这种显微镜是不可能的，或至多仅是存在困难的可能性，其使得这种显微镜的制造复杂且昂贵。
发明内容
本发明的目的是描述用于借助于光学投影断层扫描术研究样品的方法，该方法可采用可灵活地应用的紧凑配置执行，然而其并未限制同时应用其它研究方法的可能性，例如SPIM技术、共焦观察技术或多光子技术。
该目的借助于先前描述的类型的方法来实现，该方法特征在于照射光束和透射光束以相反的传播方向通过同一物镜被引导。
本发明的目的是描述用于借助于光学投影断层扫描术研究样品的设备，该设备可灵活地应用，并且该设备仍然提供了同时应用其它方法的可能性，例如SPIM技术、共焦观察技术或多光子技术。
该目的由如下设备来实现，该设备特征在于照射光束和透射光束以相反的传播方向通过同一物镜行进。
本发明具有如下优点，即其仅需要单个物镜以借助于光学断层扫描术研究样品，以使得较少限制且容易获得的实验空间可用于样品。
本发明还具有如下优点，即样品可容易从相反方向被照射而无需很大支出，且没有移动样品的需求。该优点来自如下事实，即照射和检测不在样品平面的不同侧上发生，以使得光路径可例如借助于针对偏转角能够调节的束偏转装置由简单的切换来反转，如将在下面进一步详细解释的。
本发明此外具有如下优点，即其可以常规显微镜配置实现，特别是包括常规竖立的或倒置的显微镜支架的使用；这对用于制造根据本发明的设备的复杂性和成本具有积极影响。
优选地，照射光束采用物镜聚集在样品中，并且透射光束由物镜准直。
分束器，特别是分束器板可被使用，以便将来自物镜的透射光束与要传播到物镜上的照射光束物理分离，并且将它引导到通往透射检测器的束路径上。
在特定实施例中，照射光束在它已经穿过物镜之后采用照射光偏转部件偏转，使得其在偏转之后相对于物镜的光轴线以不同于零度的角传播。特别地，可有利提供的是，照射光束在它已经穿过物镜之后采用照射光偏转部件偏转到要研究的样品。特别有利的是，如果照射光束在它已经穿过物镜之后通过照射光偏转部件相对于物镜的光轴线以90度角(直角)偏转到样品。该类型的实施例特别注意可用于如下事实，即垂直于通过样品行进的照射光的传播方向从样品出射的光平行于物镜的光轴线行进，例如用于SPIM图像的获取，以使得其在相对于入射物镜的照射光束的直行方向中可采用另外的物镜准直，并且然后被检测。该类型的物镜布置非常类似于常规显微镜配置，并且可因此容易地并且以稳健的实施例实施，特别是包括现有显微镜(特别是扫描显微镜)的重新配置。
特别在其中来自物镜的照射光束采用照射光偏转部件偏转到样品的实施例中，来自样品的透射光束可采用透射光偏转部件引导到物镜。因此可特别提供的是，来自样品的透射光束采用透射光偏转部件偏转使得其在偏转后平行于物镜的光轴线传播。
为了获得用于计算样品的三维投影断层图像的足够数量的测量值，样品在不同的样品方位处和/或采用照射光束的不同传播方向时间上连续地被照射。优选地，对于每一个样品方位并且对于照射光束的每一个传播方向，透射光束的光功率值采用透射检测器测量。
在非常特别有利的实施例中，样品在该背景中保持静止，而相对于样品的照射光束的位置和/或传播方向被相应地修改。虽然样品没有移动，但是可以获得关于样品的足够数量的透射信息，以允许三维投影断层图像从该信息重构，其原因在于，由于本发明，样品可基本上从至少三个主方向照射，即特别是沿着物镜的光轴线以及从与物镜的光轴线横向的相反方向；这在稍后进一步详细解释。
然而可替代地，样品同样可以相对于设备并且相对于照射光束移动，以便在不同的样品方位处和/或采用照射光束的不同传播方向时间上连续地照射样品。
在特定实施例中，照射光束的位置和/或传播方向采用束偏转装置调节，该束偏转装置放置在物镜的前面，并且针对偏转角能够调节。这种类型的束偏转装置可包含例如万向安装式反射镜，该万向安装式反射镜的角位置例如采用电流计可调节。同样可以的是，例如束偏转装置包括具有相互垂直的旋转轴线的两个电流计反射镜。同样可以的是，束偏转装置被实施为声光束偏转装置。根据特定的独立发明构思，扫描显微镜的扫描器用作可调节的束偏转装置，用于修改照射光束的位置和/或传播方向。
在有利的实施例中，照射光束首先采用可调节的束偏转装置定位并取向使得在穿过物镜之后照射光束入射照射光偏转部件并且由它偏转到样品，并且从样品出射的透射光束采用透射光偏转部件引导到物镜。照射光束然后采用可调节的束偏转装置定位并取向以使得光路径反向行进，即以照射光束在它穿过物镜之后入射到透射光偏转部件并且由它引导到样品，而透射光束采用照射光偏转部件引导到物镜。简而言之，采用该程序，偏转部件交换功能，以便将光路径反转。以该方式，样品可从相反方向被照射，而无需它被移动。
为了允许样品在尽可能多的方向中被照射，可充当照射光偏转部件和/或透射光偏转部件的多个不同的或不同取向的偏转部件可以存在。特别地，多个偏转部件可在样品周围分布。可替代地或另外地，同样可提供的是，例如构成斜面反射镜的偏转设备包括多个偏转部件。同样可以使用圆锥形偏转部件，例如圆锥形反射镜，其在物镜的光轴线周围共轴布置，以使得借助于针对偏转角可调节的束偏转装置，照射光束在样品上的入射方向在同样布置在光轴线上的样品周围可旋转360度。为此目的，例如，以圆锥形反射镜的表面上的入射点描述一个圆的方式，照射光束可采用束偏转装置引导。
偏转部件中的每一个可包括例如平坦的或曲面的反射镜。还可能的是，特别是照射光偏转部件和透射光偏转部件可以构成同一偏转设备(例如斜面反射镜)的构成部分。
为了修改照射光束的位置和/或传播方向，替代针对偏转角可调节的束偏转装置的使用或作为其补充，同样可提供的是，照射光束的位置和/或传播方向通过移动(特别是通过位移和/或倾斜)照射光偏转部件来调节。
优选地，照射光束是圆横截面。然而照射光束同样可以具有不同横截面形状。例如，照射光束可采用圆柱形光学装置成形为用于SPIM图像的照射的光带。对此可替代地，如下面详细解释的，用于SPIM图像的准光带可通过来回迅速波动圆横截面的照射光束来生成。
对于使用圆柱形透镜成形照射光束的情况，透射检测器可有利地实施为区域检测器或线性检测器，以使得整个分散开的透射光束可被同时捕获。
在本发明的非常特别有利的实施例中，针对断层扫描研究，样品的至少一个横截平面的至少一个SPIM图像同时或依次地生成。这具有如下优点，即关于样品的信息可采用完全不同的研究方法，尤其还是同时地，获得。关于样品的内部构造和性质的更精确陈述因而是可能的。特别地，采用研究方法中的一种研究方法可能发生的错误和赝像可借助于通过相应的其它研究方法获得的信息来识别并校正。
能够使用除了投影断层扫描研究之外的另一个研究方法的选项特别从如下事实产生，即由于本发明，在样品的区域中存在可用的较少限制且容易获得的实验空间，在该实验空间中另外的物镜可容易被布置，特别是还与物镜共轴或平行地布置。
另外的物镜与该物镜同轴或平行布置以便将用于选择性平面照射显微(SPIM)图像的检测光准直的实施例具有特别的优点，即其可具有特别紧凑的配置，并且与常规显微镜配置类似；这允许常规显微镜支架的使用，或使得容易改装现有的显微镜系统。
为了生成SPIM图像，样品采用薄的光带照射，而照射的样品层的观察通过荧光和/或散射光的检测垂直于照射光带的平面发生。样品的三维图像可从不同的样品层的图像生成，特别是从相互平行的样品层的图像堆叠生成。用于获取SPIM图像的检测器可实施为例如摄像机和/或CCD摄像机，和/或SCMOS检测器和/或区域检测器。
如已经提到的，用于SPIM照射的光带可例如采用圆柱形光学装置从照射光束成形。
然而，相反，用于SPIM照射的准光带同样可通过在光带平面中来回波动照射光束来生成。可提供的是，例如，大体为圆横截面的照射光束首先生成，其束由束偏转装置(特别可以是扫描显微镜的扫描器)快速地来回波动，以使得形成准光带。特别可提供的是，照射光束快速地来回波动，以使得接收检测光的检测器生成与在采用例如圆柱形光学装置生成的光带的照射情况下很大程度上相同的检测信号，和/或以使得对于正使用的SPIM检测器，准光带无法与例如采用圆柱形光学装置生成的光带区分。
如已经提到的，有利地，可同时执行样品的投影断层扫描研究和SPIM研究。在该情况中特别可提供的是，用于SPIM图像的照射的准光带通过在光带平面中来回波动照射光束生成，对于不同的照射方位和/或对于照射光束的不同传播方向，透射光束同时分别被检测到，用于断层扫描研究。
使用从基本上圆的照射光束产生的准光带具有特别的优点，即额外的光学系统可省略，并且基本上任意形状的准光带(特别包括曲面的准光带)同样可生成。使用从基本上圆的照射光束产生的准光带对于同时投影断层扫描研究同样是有利的，因为相应测量的透射值可容易与照射光束的相关的照射方位和传播方向相关联。
特别是为了SPIM研究但同样为了执行样品的其它研究，相对于投影断层扫描研究同时或随后，可以非常宽泛地提供的是，相对于入射到样品上的照射光束的传播方向以不同于零度的角(特别是相对于入射到样品上的照射光束的传播方向以90度的角)从样品出射的光穿过另外的物镜，并且采用与透射检测器不同的检测器检测。光可以例如是荧光和/或散射光。
如已经提到的，该另外的物镜可特别有利地取向，以使得该另外的物镜的光轴线相对于入射到样品的照射光束的传播方向以90度角(直角)取向，和/或以使得该另外的物镜的光轴线与物镜的光轴线平行或同轴取向。然而原则上同样可以的是，另外的物镜的光轴线相对于入射到样品的照射光束的传播方向以不同于零度的另一个角取向。
如已经提到的，由于本发明，样品可基本上从至少三个主方向照射，即特别沿着物镜的光轴线以及从与物镜的光轴线横向的相反方向。上面已经解释了用于来自与横向于物镜的光轴线的相反方向的照射的程序。沿着物镜的光轴线的照射被实现，而不使用在透射光布置中的照射偏转部件和透射偏转部件。照射光束在此以照射光在穿过物镜之后入射样品而没有偏转的方式被取向，而透射光束在直行方向中行进到可同样实施为聚光光学装置的另外的物镜。在穿过该另外的物镜之后，透射光束被引导到束路径中，在该束路径中透射光束行进到检测器，特别是到另外的透射检测器。
上述的SPIM研究在透射光布置中的投影断层扫描研究期间并不可能。将要用于SPIM研究的该另外的物镜可代替用于将透射光束准直，并且为此可保持在其位置中，除了可能必要的聚焦调整。在特定的实施例中，SPIM检测器在该情况中用作透射检测器。
照射光偏转部件和/或透射光偏转部件可有利地布置在物镜上或该另外的物镜上。这具有如下优点，即从外部投影到样品区域中并且它们自身占用空间的很大的额外支架部分将不需要。此外，在物镜或该另外的物镜上的放置确保良好的稳定性，因为物镜它们自身必须已经以稳定的方式保持。
在特定的实施例中，照射光偏转部件和/或透射光偏转部件可移动地(特别可位移地和/或倾斜地)在物镜上或在另外的物镜上布置。这种类型的实施例具有非常特别的优点，即照射光束的照射方位和/或对准可通过将照射光偏转部件移动到不同的位置中和/或不同的取向中来修改。类似地，透射光束的位置和/或取向可通过将透射光偏转部件移动到不同的位置中和/或不同的取向中来修改。
如已经提到的，根据本发明的方法可以有利地采用扫描显微镜或采用共焦扫描显微镜执行。在任何情况下可能存在的非退扫描检测器(NDD)可特别用作透射光检测器，和/或特别是如果NDD实施为区域检测器、实施为SPIM检测器的话。根据本发明的设备可以特别部分地由扫描显微镜或由共焦扫描显微镜构成。
附图说明
本发明的主题在附图中示意性描绘，并且在下面参照附图来描述；相同或相同功能的元件在大多数情况下以相同的参考字符标记。在附图中：
图1示意性地描绘根据本发明的设备的示例性实施例；
图2是示出在从第一主方向照射时根据本发明的方法的示例性实施例的示意图；
图3是示出在从与第一主方向相反的第二主方向照射时根据本发明的方法的示例性实施例的示意图；
图4是示出在从第一主方向照射时根据本发明的方法的另外示例性实施例的示意图；以及
图5示出基于共焦扫描显微镜的本发明的设备的示例性实施例。
具体实施方式
图1示出了根据本发明的设备1的示例性实施例。该设备包括可以特别实施为激光的光源2。光源2发射照射光束3，该照射光束3由针对偏转角可调节的束偏转装置4偏转。在偏转之后，照射光束3通过扫描透镜5和镜筒透镜6行进，穿过分束器12，并且行进到将照射光束3聚集的物镜7。
束偏转装置4以这种方式调节，即照射光束3以相对于光轴线的倾角穿过物镜7的物镜光瞳，以使得它偏心地离开物镜7，即相对于物镜7的光轴线具有横向偏移，然后入射到照射光偏转部件8，照射光偏转部件8优选以约90度将照射光束3偏转到样品。照射光束3在样品9中具有焦点。
通过样品9透射的照射光束3的那一部分作为透射光束10离开样品9，并由透射光偏转部件11偏转到物镜7。透射光束10以与照射光束3相同的方式但以相反的传播方向行进通过物镜7。
在穿过物镜7之后，透射光束10至少部分地由分束器12偏转到透镜18，该透镜18将透射光束10聚集到透射检测器13。
为了获得用于计算样品9的三维投影断层图像的测量值，样品9在不同的样品方位处和/或采用照射光束3的不同传播方向时间上连续地被照射，并且对于每一个样品方位并且对于照射光束3的每一个传播方向，透射光束10的光功率水平分别采用透射检测器13测量。为此，照射光束3的空间位置和传播方向借助于束偏转装置4连续地修改。在另外的物镜14上可移动地布置的照射光偏转部件8和/或透射光偏转部件11两者可为此目的额外调节。
相对于透射光束10的检测，同时地或依次地，垂直于入射到样品9上的照射光束3的传播方向从样品9出射的检测光15采用与透射检测器13不同的检测器16额外检测。检测光15穿过另外的物镜14，并且然后由另外的镜筒透镜17聚集到检测器16上。具体地，用于SPIM图像的样品9的样品层的平面照射的准光带通过在垂直于物镜7的光轴线的光带平面中采用束偏转装置4来回波动照射光束3来生成。检测器16实施为用于获取照射的样品层的图像的摄像机。
图2是详细描述，其示出从物镜7出来的照射光束3采用照射光偏转部件8以直角偏转到样品9，并且从样品9出来的透射光束10由透射光偏转部件11偏转到物镜7。用于SPIM图像的检测光15在物镜7的光轴线19的方向中行进。
图3示出其中样品9可采用照射光束3从相反的方向照射的方式。照射光束3采用可调节的束偏转装置4定位并取向使得光路径反向行进，即以在穿过物镜7之后照射光束3入射透射光偏转部件11并且由它引导到样品9，而透射光束10由照射光偏转部件8引导到物镜7。
图4示出其中样品9可以从额外的主照射方向(即与物镜7的光轴线基本上共轴)被照射的方式。这种照射被实现，而不使用照射偏转部件8，并且不使用在透射光布置中的透射偏转部件11。为此目的，照射光束3以如下方式采用束偏转装置4取向，即照射光束3在中央通过物镜7的物镜光瞳行进，并且在穿过物镜7之后，入射了样品9而没有偏转，以使得透射光束10在直行方向中行进到另外的物镜14。通过在相对于物镜7的光轴线的物镜光瞳中照射光束3的连续倾斜，从物镜7出射的照射光束3的横向偏移可相应地产生，以便连续透照不同的样品区域。在穿过另外的物镜14之后，透射光束10采用镜22偏转，并且然后由光学装置20聚焦到另外的透射检测器21上。照射光束3到样品9上的入射方位和/或在样品9内部的照射光束3的传播方向可借助于束偏转装置4改变，以使得对于每一个入射方位和/或每一个传播方向，透射值可被测量用于样品9的图像的随后断层扫描重构。因此，对于随后的重构，除了在与物镜的光轴线19横向的照射的情况中获得的测量值，同样可以考虑在上述透射光布置的情况中获得的测量值。
图5示出了基于共焦扫描显微镜的根据本发明的设备1的示例性实施例，除了上面提到的研究所需的许多组件，该共焦扫描显微镜还包括照射针孔23、检测针孔24，以及多频带检测器25，以及用于将激励束路径与检测束路径分离的二色分束器26。然而对于上述的研究方法，这些元素不是必需的。共焦扫描显微镜的ND检测器用作用于检测透射光束10的透射光检测器13。如果图像产生光学装置在NDD束路径(镜筒透镜)中使用，则在空间上分辨检测器(摄像机、CCD、CMOS、SCMOS)也可以使用。
零件列表
1 根据本发明的设备
2 光源
3 照射光束
4 可调节的束偏转装置
5 扫描透镜
6 镜筒透镜
7 物镜
8 照射光偏转部件
9 样品
10 透射光束
11 透射光偏转部件
12 分束器
13 透射检测器
14 另外的物镜
15 检测光
16 检测器
17 另外的镜筒透镜
18 透镜
19 物镜7的光轴线
20 光学装置
21 另外的透射检测器
22 镜
23 照射针孔
24 检测针孔
25 多频带探测器
26 二色分束器

Claims (20)

1.一种用于借助于光学投影断层扫描术研究样品（9）的方法，在所述方法中样品（9）采用照射光束（3）照射，并且在所述方法中包含所述照射光束（3）的通过所述样品（9）透射的光的透射光束（10）采用透射检测器（13）检测，
其中所述照射光束（3）和所述透射光束（10）以相反的传播方向通过同一物镜（7）被引导，
其中
a. 所述照射光束（3）在它已经穿过所述物镜（7）之后采用照射光偏转部件（8）偏转，使得其在偏转之后相对于所述物镜（7）的光轴线以不同于零度的角传播；和/或
b. 所述照射光束（3）在它已经穿过所述物镜（7）之后采用照射光偏转部件（8）偏转到要研究的所述样品（9）。
2.根据权利要求1所述的方法，其中
a. 所述透射光束（10）采用透射光偏转部件（11）偏转，使得其在偏转之后平行于所述物镜的光轴线（19）传播；和/或
b．所述透射光束（10）采用透射光偏转部件（11）偏转到所述物镜（7）。
3. 根据权利要求1或2所述的方法，其中
a. 所述样品（9）在不同的样品方位处和/或采用所述照射光束（3）的不同传播方向在时间上连续地被照射；或
b. 所述样品（9）在不同的样品方位处和/或采用所述照射光束（3）的不同传播方向在时间上连续地被照射，所述样品（9）保持静止，并且所述照射光束（3）相对于所述样品（9）的位置和/或传播方向被相应地修改。
4. 根据权利要求3所述的方法，其中
a. 所述照射光束（3）的位置和/或传播方向采用束偏转装置（4）调节，所述束偏转装置（4）放置在所述物镜（7）的前面，并且针对偏转角能够调节；和/或
b. 所述照射光束（3）的位置和/或传播方向通过移动所述照射光偏转部件（8）调节。
5. 根据权利要求1或2所述的方法，其中
a. 针对所述断层扫描研究，所述样品（9）的至少一个横截平面的至少一个选择性平面照射显微（SPIM）图像同时或依次生成；和/或
b. 用于SPIM图像的照射的准光带通过在光带平面中来回波动所述照射光束（3）来生成；和/或
c. 用于SPIM图像的照射的准光带通过在光带平面中来回波动所述照射光束（3）来生成，对于不同的照射方位和/或对于所述照射光束（3）的不同传播方向，所述透射光束（10）同时分别被检测到，用于断层扫描研究。
6. 根据权利要求1或2所述的方法，其中
a. 相对于入射到所述样品（9）的所述照射光束的传播方向以不同于零度的角从所述样品（9）出射的光穿过另外的物镜（14），并且采用与所述透射检测器（13）不同的检测器（16）检测；或
b. 相对于入射到所述样品（9）的所述照射光束的传播方向以90度角从所述样品出射的光穿过另外的物镜（14），并且采用与所述透射检测器（13）不同的检测器（16）检测。
7. 根据权利要求6所述的方法，其中
a. 所述另外的物镜（14）的光轴线相对于入射到所述样品（9）的所述照射光束的传播方向以不同于零度的角取向；和/或
b. 所述另外的物镜（14）的光轴线相对于入射到所述样品（9）的所述照射光束的传播方向以90度角取向；和/或
c. 所述另外的物镜（14）的光轴线与所述物镜（7）的光轴线平行或同轴地取向。
8. 根据权利要求1或2所述的方法，其中在检测与所述照射光束（3）一样行进通过相同的物镜（7）的透射光束（10）之前或之后，所述样品（9）采用照射光束（3）额外地照射，使得所述透射光束（10）传播到另外的物镜（14）并且在穿过所述另外的物镜（14）之后被检测。
9. 根据权利要求6所述的方法，其中
a. 所述照射光偏转部件（8）和/或所述透射光偏转部件（11）在所述物镜（7）上可移动地布置；或所述照射光偏转部件（8）和/或所述透射光偏转部件（11）在所述另外的物镜（14）上可移动地布置；和/或
b. 所述照射光偏转部件（8）和所述透射光偏转部件（11）是同一偏转设备的构成部分。
10.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述方法采用扫描显微镜或采用共焦扫描显微镜来执行。
11. 一种用于借助于光学投影断层扫描术研究样品（9）的设备，所述设备具有生成照射要研究的所述样品（9）的照射光束（3）的光源（2），并且具有用于检测包含所述照射光束（3）的通过所述样品（9）透射的光的透射光束（10）的透射检测器（13），其中所述照射光束（3）和所述透射光束（10）以相反的传播方向通过同一物镜（7）行进，
其中
a.照射光偏转部件（8）在所述照射光束（3）已经穿过所述物镜（7）之后将所述照射光束（3）偏转，使得其相对于所述物镜的光轴线（19）以不同于零度的角传播；和/或
b. 照射光偏转部件（8）在所述照射光束（3）已经穿过所述物镜（7）之后，将所述照射光束（3）偏转到要研究的所述样品（9）。
12. 根据权利要求11所述的设备，其中
a.透射光偏转部件（11）偏转所述透射光束（10），使得其平行于所述物镜的光轴线（19）传播；和/或
b．透射光偏转部件（11）将所述透射光束（10）偏转到所述物镜（7）。
13. 根据权利要求11或12所述的设备，其中
a. 所述样品（9）能够在不同的样品方位处和/或采用所述照射光束（3）的不同传播方向在时间上连续地被照射；或
b. 所述样品（9）能够在不同的样品方位处和/或采用所述照射光束（3）的不同传播方向在时间上连续地被照射，所述样品（9）保持静止，并且所述照射光束（3）相对于所述样品（9）的位置和/或传播方向被相应地修改。
14. 根据权利要求13所述的设备，其中
a. 所述照射光束（3）的位置和/或传播方向采用束偏转装置（4）能够调节，所述束偏转装置（4）放置在所述物镜（7）的前面，并且针对偏转角能够调节；和/或
b. 所述照射光束（3）的位置和/或传播方向通过移动所述偏转部件（8）能够调节。
15. 根据权利要求11或12所述的设备，其中
a. 针对所述断层扫描研究，与所述透射检测器（13）不同的检测器（16）同时或依次地接收所述样品（9）的至少一个横截平面的至少一个选择性平面照射显微（SPIM）图像的光；和/或
b. 束偏转装置通过在光带平面中来回波动所述照射光束（3）来生成用于SPIM图像的照射的准光带；和/或
c. 束偏转装置通过在光带平面中来回波动所述照射光束（3）来生成用于SPIM图像的照射的准光带，对于不同照射方位和/或对于所述照射光束（3）的不同传播方向，所述透射检测器（13）同时分别检测用于断层扫描研究的透射光束（10）。
16. 根据权利要求11或12所述的设备，其中
a. 相对于入射到所述样品（9）的所述照射光束的传播方向以不同于零度的角从所述样品（9）出射的光穿过另外的物镜（14），并且采用与所述透射检测器（13）不同的检测器（16）检测；或
b. 相对于入射到所述样品（9）的所述照射光束的传播方向以90度角从所述样品（9）出射的光穿过另外的物镜（14），并且由与所述透射检测器（13）不同的检测器（16）检测。
17. 根据权利要求16所述的设备，其中
a. 所述另外的物镜（14）的光轴线相对于入射到所述样品（9）的所述照射光束的传播方向以不同于零度的角取向；和/或
b. 所述另外的物镜（14）的光轴线相对于入射到所述样品（9）的所述照射光束的传播方向以90度角取向；和/或
c. 所述另外的物镜（14）的光轴线与所述物镜（7）的光轴线平行或同轴地取向。
18. 根据权利要求11或12所述的设备，其中另外的透射检测器（21）被布置成以便接收并检测通过另外的物镜（14）而非通过所述物镜（7）行进的透射光。
19. 根据权利要求16所述的设备，其中
a. 所述照射光偏转部件（8）和/或所述透射光偏转部件（11）在所述物镜（7）上可移动地布置；或所述照射光偏转部件（8）和/或所述透射光偏转部件（11）在所述另外的物镜（14）上可移动地布置；和/或
b. 所述照射光偏转部件（8）和/或所述透射光偏转部件（11）是同一偏转设备的构成部分。
20.根据权利要求11或12所述的设备，其中所述设备至少部分地由扫描显微镜或由共焦扫描显微镜构成。
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