CN105408438B - 用于制备结构化粘合剂制品的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了形成层合粘合剂制品的方法，该方法包括提供多层制品和具有结构化表面的工具。所述多层制品包括基底、粘合剂层和衬件。所述多层制品放置在工具的结构化表面与硬质支撑表面之间，并且通过施加压力或压力/热来抵靠衬件压印工具。所述压印使得工具结构将衬件和粘合剂层变形，并且导致粘合剂层的一部分中的永久拓扑改变，但不使基底变形。在所施加的压力释放时衬件的变形得以保持。拓扑改变的粘合剂的部分可形成永久的凸型结构。在将衬件从粘合剂层去除时，粘合剂层上的凹型结构不稳定，但凸型结构稳定。

Description

用于制备结构化粘合剂制品的方法
技术领域
本公开涉及结构化层合粘合剂制品，以及用于制备包括微结构化层合粘合剂制品的结构化层合粘合剂制品的方法。
背景技术
已经通过将可流动压敏粘合剂施加到微结构化隔离衬件的表面或微结构化模制工具的表面而制备出了微结构化粘合剂制品。该过程引起具有微结构化表面的粘合剂的产生。当所得制品在压力下干式层合到诸如玻璃或聚合物膜的基底时，粘合剂表面中产生的微结构特征允许空气从结合界面处逸出，从而最小化或阻止气泡和气孔的形成。
在层合期间，微结构特征可变平并且润湿基底表面。通常，所施加的压力用于使结构在层合期间塌缩并且形成粘合剂粘结。然而，当粘合剂松弛并试图恢复到其初始的微结构化状态时，该过程将应力引入粘合剂中。这些应力可在粘合剂中产生不利地影响其粘合性能和光学性能的缺陷。
已经使用多种技术来制备具有微结构化表面的粘合剂制品。通常，粘合剂表面与结构化工具或隔离衬件接触以在粘合剂层中形成结构化图案。例如，在美国专利6,315,651(Mazurek等人)中，通过抵靠微结构化工具或微结构化衬件模制粘合剂层而形成微结构化压敏粘合剂，并且在美国专利公布2006/0188704(Mikami等人)中，通过使粘合剂接触结构化隔离工具或结构化隔离衬件而在粘合剂表面中形成流体出口结构。日本实用新型公布7-29569(Kawada等人)描述了形成用于容器诸如瓶子的粘性标签。通过将瓶子浸泡在水性溶液中，可容易地从瓶子表面去除该粘性标签，因为粘合剂包含不均匀的形状以形成允许流体进入粘结线的渗透通道。该标签通过使粘合剂接触结构化隔离衬件，并且然后使标签材料接触暴露的粘合剂表面而形成，隔离衬件已经通过压印而形成。另外，在美国专利公布2007/0212635(Sherman等人)中，通过将微结构化工具或隔离衬件按压制到交联粘合剂表面而形成结构化粘合剂表面。
美国专利5,266,228(Orr)描述了双面涂覆粘合剂的泡沫条带，在该条带中，沟槽足够细使得在粘结时沟槽大部分消失或完全消失。在日本专利公布7-138541(Shimizu)中，粘合过程膜使用压印过程制备以形成细的连续沟槽。
另外，已经描述了若干应用，其中微结构化粘合剂层具有从粘合剂表面突出的珠状物或栓状物，以使粘合剂表面在与基底表面接触时可定位或可重新定位。美国专利5,296,277(Wilson等人)描述了此系统。美国专利7,060,351(Hannington)描述了通过提供无初始粘附力的区域用于空气从该构造下流出而提供空气出口的粘合剂制品。在制品中，连续粘合剂层粘附到具有多种空间上隔开的非粘合剂材料的表面，并且非粘合剂材料变得嵌入粘合剂层中。
发明内容
本公开描述了结构化层合粘合剂制品，以及用于制备包括微结构化层合粘合剂制品的结构化层合粘合剂制品的方法。结构化层合粘合剂制品包括：具有第一主表面和第二主表面的基底、具有第一主表面和第二主表面的粘合剂层、以及具有第一主表面和第二主表面的衬件，其中粘合剂层的第一主表面接触基底的第二主表面，衬件的第一主表面接触压敏粘合剂层的第二主表面。粘合剂层包含粘合剂组分的混合物，其中粘合剂组分具有相同的化学组成但具有不同的拓扑特性。衬件的第二主表面包括多个凹型结构，凹型结构对应于压敏粘合剂层中的多个凹型结构，但凹型结构不使基底的第二主表面变形。另外，粘合剂层中的凹型结构在衬件去除时不稳定。在一些实施例中，粘合剂层还可包括与凹型结构相邻的多个凸型结构。这些凸型结构包含已被永久拓扑变形的粘合剂组合物。
还描述了形成制品的方法和层合的制品，所述形成制品包括层合。形成层合制品的方法包括提供多层制品以及提供具有结构化表面的工具。多层制品包括具有第一主表面和第二主表面的基底、具有第一主表面和第二主表面的压敏粘合剂层、以及具有第一主表面和第二主表面的衬件，其中压敏粘合剂层的第一主表面接触基底的第二主表面，衬件的第一主表面接触压敏粘合剂层的第二主表面。该方法还包括将多层制品放置在工具的结构化表面与支撑表面之间以形成构造，使得基底的第一主表面与支撑表面接触，从而向该构造施加压力或压力和热的组合，使得工具表面上的结构中的至少一些使衬件和压敏粘合剂层变形，但不使基底的第二主表面变形。支撑表面包括硬质支撑表面。在所施加的压力释放时衬件的变形得以保持。该方法还可包括将衬件与压敏粘合剂层分离，使得压敏粘合剂层上的结构不稳定，但不立即塌缩。压敏粘合剂层可接触粘合体表面以形成压敏粘合剂层合体。
附图说明
参照以下结合附图对本公开各种实施例的详细说明，可以更全面地理解本申请。
图1示出根据本公开的一个实施例的在压印之前的多层粘合剂制品的剖视图。
图2示出根据本公开的一个实施例的与结构化压印工具接触的图1的多层粘合剂制品的剖视图。
图3示出根据本公开的一个实施例的在去除结构化工具时的图2的多层粘合剂制品的剖视图。
图4示出根据本公开的一个实施例的图3的多层粘合剂制品的剖视图，其中衬件已被去除。
图5示出根据本公开的一个实施例的图4的多层粘合剂制品的剖视图，其中结构化粘合剂表面与粘合体接触。
图6示出根据本公开的一个实施例的多层粘合剂制品的剖视图。
图7示出在实例1中使用的压印工具的剖视图。
在所示实施例的以下描述中，参照了附图，并通过举例说明的方式在这些附图中示出在其中可以实施本公开的各种实施例。应当理解，在不脱离本公开的范围的情况下，可以利用实施例并且可以做出结构上的改变。附图未必按照比例绘制。附图中使用的相似标号指示相似的部件。然而，应当理解，在给定附图中使用标号指示部件并非旨在限制另一附图中用相同标号标记的部件。
具体实施方式
具有结构化表面尤其是微结构化表面的粘合剂制品的使用正在增加。这些结构化表面可以为临时特征，意为结构被设计成最终消失，或可以为永久特征，意为结构被设计成不消失。永久结构化粘合剂表面一般被形成为控制粘合剂层的粘合性能，诸如使粘合剂层可重新定位(如例如在美国专利6,315,651(Mazurek等人)中所述)，或控制粘合剂层的物理性能，诸如例如将空气枕嵌入粘合剂层以使粘合剂层缓冲(如例如在PCT公布97/33946(Hata)中所述)。然而，更为典型的是，粘合剂层具有被临时结构化的结构化表面。
使用具有临时结构化表面的粘合剂制品具有多个优点。有时，这些粘合剂制品被描述为“层合粘合剂制品”，因为在层合时，结构至少部分地消失。一种此类优点为来自粘结线的空气出口。当形成粘合剂粘结时，粘合剂表面与粘合体表面接触。当进行该接触时，空气可变得滞留在粘合剂层与粘合体表面之间，从而导致在粘结线中形成气泡或其它缺陷，两个表面沿着所述线连接在一起。当处理为刚性和半刚性基底的粘合体时尤其如此，而当处理柔性基底时也是如此。对于手动层合的制品尤其如此，因为层合经受基于操作者经验和技能的变化。这些缺陷不仅影响粘合剂层到粘合体表面的粘附力，而且影响粘结线的美学外观，并且在光学制品的情况下可毁坏形成的制品。在其中光行进通过粘合剂层的光学制品中，气泡和类似缺陷的存在可极大地影响光学性质诸如透光率、清晰度和雾度，并且可使粘结线无法接受，并且可影响观看体验。为防止这些缺陷，通常使用结构化粘合剂表面。一般来讲，这些结构为微观结构。在层合期间，微结构特征变平，从而润湿粘合体表面，并且形成与粘合体表面的粘结。在层合过程中，空气穿过微结构特征排出以最小化或防止粘结缺陷的形成。在处理与刚性粘合体的层合，尤其是刚性-刚性层合或者在待层合的物体较大时，空气出口特征是特别重要的。当前使用的防止此类层合中的缺陷的方法包括，诸如用水或水-洗涤剂溶液涂覆粘合剂层来防止在层合期间形成气泡的技术。这些技术需要通过蒸发除去水。在光学应用中，尤其无法接受气泡形成。
已经开发出用于产生临时结构化粘合剂表面的多种技术。在一些情况下，粘合剂层表面与结构化工具的表面接触。在粘合剂领域中，将结构化工具按压到粘合剂表面的这种过程通常称之为压印。在粘合剂表面中形成工具表面图案的反转。在去除结构化工具时，生成结构化粘合剂表面。当使用该技术时，粘合剂层一般在去除结构化工具不久以后与粘合体接触，诸如在连续的在线过程中。在密切相关的技术中，结构化隔离衬件与粘合剂表面接触。结构化隔离衬件与结构化工具的类似之处在于其也具有存在于其表面上的结构化图案。然而，与结构化工具不同，结构化隔离衬件一般被设计成保持与粘合剂层接触以形成层合构造。结构化隔离衬件保持与粘合剂层接触，直到需要将粘合剂层层合到粘合体，此时衬件被去除以显露出结构化表面。该技术的优点在于，由于衬件保持粘附到粘合剂表面，所以其保护结构化表面直到粘合剂层被使用。
另一种技术涉及将粘合剂前体组合物涂布到结构化工具或隔离衬件。该粘合剂前体组合物可以为粘合剂溶液、分散体或可流动的100％固体组合物，或者其可包含在固化时形成粘合剂的反应性组分。在该上下文中，固化仅意为聚合，并且可以涉及交联或可以不涉及交联。在将粘合剂前体组合物涂布到结构化工具或隔离衬件时，组合物被干燥、冷却或固化以形成与结构化工具或隔离衬件接触的粘合剂层。如上所述，在去除结构化工具或隔离衬件时，结构化粘合剂表面被暴露。
通常，结构化隔离衬件通过压印来制备。这意为隔离衬件具有可压印表面，在施加压力和/或热的情况下，可压印表面与结构化工具接触以形成压印表面。该压印表面为结构化表面。压印表面上的结构为工具表面上的结构的反转，换言之，工具表面上的突出部将在压印表面上形成凹陷，而工具表面上的凹陷将在压印表面上形成突出部。
在所有这些技术中，无论是结构化工具或结构化隔离衬件，结构化试剂均与粘合剂表面直接接触。在本公开中，描述了通过衬件进行压印而在粘合剂层表面上形成结构化表面的方法。包括粘合剂层和衬件的多层构造使用结构化工具进行压印以赋予结构给衬件和粘合剂层，而不是结构化衬件与粘合剂层直接接触。这样，具有受到结构化衬件保护直到使用的结构化粘合剂层的结构的优点得以实现而无须预先形成结构化衬件。
在本公开中所述的技术的附加优点在于，所述的经处理的压印生成两种类型的结构。一组结构为临时的并且在去除与粘合剂层接触的衬件时趋于消失。第二组结构为永久的并且在去除与粘合剂层接触的衬件时不趋于消失，而是在粘合剂层表面的部分中构成永久变化。在粘合剂层表面的部分中的这些永久变化不受改变粘合剂层组合物(诸如例如，通过在那些部分中的选择性交联，或在那些部分中的选择性增粘)或添加新组合物或颗粒到那些部分(诸如例如，在选择的部分印刷不同的组合物到粘合剂层上以改变在那些位置的组合物)的影响。相反，压印过程改变了粘合剂的拓扑特性。因此，压印过程不仅能够制备具有结构化表面的粘合剂层，其还产生具有临时结构以及永久结构的粘合剂层，临时结构提供空气出口通道，永久结构提供具有与粘合剂表面的主体不同的粘附力水平的位置。
关于临时结构，粘合剂层的初始状态为如果不向其施加应力则要恢复的状态。压印步骤在衬件和粘合剂层两者中产生结构化表面，并且因此构建应力到粘合剂层中。在去除衬件时，粘合剂层要恢复至其初始状态，换句话讲，其要恢复成平的。这与具有结构化的初始状态的结构化粘合剂层形成对比，诸如涂覆到结构化衬件上并且经固化、干燥(如果为溶剂或水性的)或允许冷却(如果经热熔融处理)的粘合剂层。涂布到结构化衬件上的结构化粘合剂层趋于稳定，意为在去除衬件时结构不趋于塌缩。然而，在本公开中，在粘合剂层中形成的结构在衬件去除时并不稳定。关于结构不稳定，其意为粘合剂结构自发地塌缩并且润湿粘合剂层与其接触的表面而无需施加压力或热。通常，结构的塌缩足够慢以给处理者将粘合剂层层合到粘合体的时间，但也足够快使得在层合时粘附强度逐渐增大而无需施加压力。通常，结构的完全塌缩在30天内被观察到，更典型地在10天内，或甚至在更短的时间内。因此，与在其中粘合剂层被涂布或层合到结构化衬件从而使结构化状态变成粘合剂层的无应力构型的系统不同，在此情况下，粘合剂层的无应力构型为平坦的，并且结构化构型为应力构型，并且构建到粘合剂层中的该应力通过结构塌缩和恢复到平坦构型而解除。
关于永久结构，据信压印步骤期间构建到粘合剂层中的应力可处于某些温度和压力条件下，并且当使用刚性支撑结构时，该应力可在局部区域中克服粘合剂的粘弹性响应，并因此改变那些局部区域中的粘合剂的拓扑特性。这引起具有永久变形粘合剂的局部区域，其中永久变形粘合剂具有改变的拓扑特性。如果为粘弹性材料的粘合剂层被视为弹簧阵列，则具有永久变形粘合剂的局部区域可被视为已被过分伸展使得它们不可以再回弹的弹簧。弹簧的材料组合物未改变，但拓扑特性(弹性)已改变。类似地，当在粘合剂层的局部区域内实现永久变形时，局部区域的材料组合物未改变但拓扑特性改变。
粘合剂层的永久变形的区域可补充临时变形的区域，以减小粘合剂层的初始粘附力。这种减小的初始粘附力允许重新定位粘合剂层。换句话讲，可将粘合剂层从其附接的粘合体的表面相当容易地去除(粘合剂粘结是弱的)。随时间推移，当临时结构塌缩时，粘合剂粘结的强度增加，但永久变形的区域继续提供可重新定位性。由于变形是永久的，所以它们可提供在粘合剂层与粘合体表面之间形成小气阱的方式。尽管通常在粘合剂层与粘合体表面之间存在气阱被认为是有害的，但如果气阱保持得非常小并且尺寸受到控制，则它们可提供可用的性质，诸如光学性质，所述光学性质诸如扩散性质。
因为空气的折射率与粘合剂层的折射率有很大不同，所以保持得小的气阱的阵列可提供其中折射率存在巨大差异的小区域。折射率的这种差异可有效地散射光，和添加具有与粘合剂层不同的折射率的珠状物可散射的光几乎一样。然而，与珠状物不同，气阱并非刚性且因此将不磨损其接触的表面，并且位于粘合剂层的表面与粘合体之间，气阱被嵌入并且因此受到保护。其中期望此类漫射气阱的制品的一个示例在使用背光源的显示设备中。为避免强烈亮度的点，漫射体通常与背光设备一起使用以散射光。本公开的粘合剂制品的使用可消除添加独立漫射体元件的需要。
除非另外指明，否则说明书和权利要求书中使用的表示特征尺寸、数量和物理性质的所有数字应该理解为在所有情况下均被术语“约”修饰。因此，除非有相反的说明，否则在上述说明书和所附权利要求书中列出的数值参数均为近似值，这些近似值可根据本领域的技术人员使用本文所公开的教导内容寻求获得的期望性质而变化。通过端点表述的数值范围包括该范围内所包含的所有数值(例如，1至5包括1、1.5、2、2.75、3、3.80、4和5)和该范围内的任何范围。
除非上下文另外清楚指明，否则如本说明书和所附权利要求中使用的，单数形式“一种”、“一个”和“所述”涵盖具有多个指代物的实施例。例如，对“层”的引用涵盖具有一层、两层或更多层的实施例。除非上下文另外清楚指明，否则如本说明和所附权利要求中使用的，术语“或”一般以包括“和/或”的意义使用。
如本文所用，术语“粘合剂”是指可用于将两个粘合体粘附在一起的聚合物组合物。如本文所用，术语“粘合体”是指粘合剂层可附着的任何表面，诸如基底、膜等的表面。粘合剂的示例为压敏粘合剂。
为本领域中的普通技术人员所熟知的是，压敏粘合剂组合物具有包括以下性质在内的性质：(1)有力且持久的粘性，(2)用不超过指压的压力粘附，(3)足以保持在粘合体上的能力，以及(4)足够的内聚强度，以能够从粘合体干净地去除。已发现很好地起到压敏粘合剂作用的材料为聚合物，聚合物被设计并配制成表现出所需粘弹性，从而引起粘性、剥离粘附力和剪切保持力的期望平衡。获得性质的适当平衡并非简单的过程。
如本文所用，与术语“衬件”互换使用的术语“隔离衬件”是指薄型柔性片材，其在与粘合剂表面紧密接触放置之后可随后去除而不损坏粘合剂涂层。
如本文所用，术语“结构化衬件”是指具有结构化表面的衬件，并且术语“微结构化衬件”是指具有微结构化表面的衬件。
如本文所用，术语“背衬”是指薄型柔性片材，其在与粘合剂紧密接触放置之后不可在不损坏粘合剂涂层的情况下被随后去除。
如本文所用，术语“微观”是指具有足够小尺寸的特征，以致当从任何观察平面观察时，肉眼需要光学辅助器才能确定其形状。一个判据存在于W.J.Smith，McGraw-Hill，1966的Modem Optic Engineering(现代光学工程)，第104-105页，其中视敏度，“...根据可识别的最小字符的角大小来定义和测量。”标准视敏度被认为是当最小可识别的字母对向视网膜上的弧的5分角高度时的视敏度。在250mm(10英寸)的典型工作距离处，这得出该物体的侧向尺寸为0.36mm(0.0145英寸)。
如本文所用，术语“微观结构”是指其中特征结构具有至少2个微观尺寸的特征构型。特征结构的局部视图和/或剖视图必须是微观的。
如本文所用，术语“拓扑特性”具有其标准的几何意义，并且是指在包括拉伸和弯曲的连续变形下保持的性质。表述“拓扑特性的变化”是指在拉伸和弯曲下保留的性质的改变，使得当过程引起材料的拓扑特性变化时，材料在组成上相同，但对拉伸和弯曲的响应不同于在引起该变化的过程之前所具有的响应。
术语“玻璃化转变温度”和“Tg”可互换使用。通常Tg值使用差示扫描量热法(DSC)进行测量，除非另外指明。
术语“室温”一般是指为20℃至22℃的环境温度，除非另外指明。
术语“(甲基)丙烯酸酯”是指醇的单体丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯单体或低聚物在本文中通称为“(甲基)丙烯酸酯”。描述为“基于(甲基)丙烯酸酯”的聚合物为主要(大于50重量％)由(甲基)丙烯酸酯单体制备的聚合物或共聚物，并且可包含另外的烯键式不饱和单体。
除非另外指明，否则“光学透明的”是指在可见光光谱(约400nm至约700nm)的至少一部分的范围内具有高透光率的制品、膜或粘合剂组合物。
除非另外指明，否则“光学清晰的”是指在可见光光谱(约400nm至约700nm)的至少一部分的范围内具有高透光率并表现出低雾度的粘合剂或制品。
如本文所用，术语“可见光的波长”涵盖构成可见光(约400nm至约700nm)的光谱的波长。
除非另外指明，否则“自润湿”是指非常柔软和可适形的并且能够以极小层合压力施用的粘合剂。此类粘合剂表现出对表面的自发润湿。
折射率在本文中定义为材料(例如，单体或其聚合产物)的绝对折射率，其被理解为在自由空间中电磁辐射的速度与在该物质中辐射的速度的比率，其中该辐射为钠黄灯在约583.9纳米(nm)波长下的辐射。折射率可用已知的方法测量，并且一般使用Abbe折射计测量。
如本文所用，术语“相邻”在指两层时意为，这两层彼此邻近，其间无居间的敞开空间。它们可以彼此直接接触(例如，层合在一起)或者可以存在居间层。
术语“烷基”是指作为烷烃的基团的一价基团，烷烃为饱和烃。烷基可为直链的、支链的、环状的或它们的组合，并且通常具有1至20个碳原子。在一些实施例中，烷基基团包含1至18个碳原子、1至12个碳原子、1至10个碳原子、1至8个碳原子、1至6个碳原子，或1至4个碳原子。烷基基团的示例包括但不限于甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、正戊基、正已基、环己基、正庚基、正辛基和乙基己基。
术语“芳基”是指芳族的和碳环状的一价基团。芳基可具有连接到或稠合到芳环的一至五个环。其它环结构可为芳族的、非芳族的或它们的组合。芳基基团的示例包括但不限于苯基、二苯基、三联苯基、蒽基(anthryl)、萘基、苊基、蒽醌基、菲基、蒽基(anthracenyl)、芘基、苝基和芴基。
术语“亚烷基”是指为烷烃基的二价基团。亚烷基可为直链的、支链的、环状的或它们的组合。亚烷基通常具有1至20个碳原子。在一些实施例中，亚烷基包含1至18个碳原子、1至12个碳原子、1至10个碳原子、1至8个碳原子、1至6个碳原子、或1至4个碳原子。亚烷基的基团中心可在相同的碳原子(即烷叉基)或不同的碳原子上。
术语“杂亚烷基”是指包含通过硫代、氧代或-NR-连接的至少两个亚烷基基团的二价基团，其中R为烷基。杂亚烷基可以是直链的、支链的、环状的、被烷基基团取代的、或它们的组合。一些杂亚烷基为聚亚烷氧基，其中杂原子为氧，诸如例如，-CH2CH2(OCH2CH2)nOCH2CH2-。
术语“亚芳基”是指为碳环状的和芳族的二价基团。该基团具有相连的、稠合的或它们的组合的一至五个环。其它环可为芳族的、非芳族的、或它们的组合。在一些实施例中，亚芳基基团具有至多5个环，至多4个环，至多3个环，至多2个环、或一个芳环。例如，亚芳基基团可为亚苯基。
术语“杂亚芳基”是指二价基团,其为碳环的和芳族的并且包含杂原子，诸如硫、氧、氮或卤素(诸如氟、氯、溴或碘)。
术语“亚芳烷基”是指式-Ra-Ara-的二价基团，其中Ra为亚烷基，并且Ara为亚芳基(即，亚烷基键合到亚芳基)。
术语“自由基聚合性”和“烯键式不饱和”可互换使用，并且是指包含能够通过自由基聚合机制聚合的碳-碳双键的反应性基团。
如本文所用，“可临时重新定位的”是指能够粘附到粘合体并从该粘合体去除而不造成粘合能力的实质丧失的能力。然而，随时间推移，粘合剂的粘结强度逐渐增加。这与“可重新定位的”粘合剂形成对比，“可重新定位的”是指能够反复粘附到粘合体并从粘合体去除而不造成粘合能力的实质丧失的能力，并且随时间推移，粘合剂不会发展出过度的粘附力积累。
本文所公开的为包括基底、粘合剂层和衬件的多层制品。通常，粘合剂层包括压敏粘合剂层。制品包括具有第一主表面和第二主表面的基底、具有第一主表面和第二主表面的粘合剂层、以及具有第一主表面和第二主表面的衬件，其中粘合剂层的第一主表面接触基底的第二主表面，衬件的第一主表面接触粘合剂层的第二主表面。粘合剂层包含粘合剂组分的混合物，粘合剂组分具有相同的化学组成但具有不同的拓扑特性(以上已经描述了拓扑特性)。衬件的第二主表面包含多个凹型结构，凹型结构对应粘合剂层的第二主表面中的多个凹型结构，但此类凹型结构不使基底的第二主表面变形。换句话讲，一系列凹型结构存在于衬件中并且继续进入粘合剂层中，但不继续进入到基底中。
通常，粘合剂内的拓扑特性的差异为粘弹性响应的差异。粘合剂组合物为粘弹性的，意为它们既具有弹性材料(诸如，橡皮筋)的性质又具有粘性流体(诸如，蜂蜜)的性质。粘合剂的粘弹性性质的效应为它们润湿表面的能力。在本公开的制品中，粘合剂层包含能够有效润湿表面的大多数区域，和不能够有效润湿表面的其它大多数区域，因为粘合剂的拓扑特性已被改变。如上所述，如果粘合剂层被看作弹簧阵列，则粘合剂层的大部分包含保持它们弹性的弹簧，然而少数区域包含已被过度拉伸并且已失去它们的弹性的弹簧。跨粘合剂层表面的性质的这种波动在不改变粘合剂层的材料组合物的情况下得以实现。换句话讲，粘合剂层具有相同的材料组合物，但粘合剂层的不同区段具有不同的拓扑特性。除润湿表面的能力差异之外，在其它可测量性质诸如例如剥离粘附力方面也可出现粘弹性响应的差异。
在本公开的制品中的凹型结构可以有多种结构。所述结构可具有多种形状和尺寸。在一些实施例中，凹型结构为凹型微观结构，意为它们为具有至少2个维度的微观尺寸结构的微结构特征。微结构特征可以呈现多种形状。代表性的示例包括半球、棱柱(诸如正方形棱柱、矩形棱柱、圆柱形棱柱以及其它类似的多边形特征结构)、锥体、椭圆、沟槽(例如，V形沟槽)、槽等。一般来讲，期望包括当粘合剂层层合到粘合体时促进空气在粘结界面处离开的地形特征。就这一点而言，延伸到制品边缘的V形沟槽和槽尤其可用。微结构特征所特有的特定尺寸和图案基于制品预期的具体应用来选择。
通常，在以下更详细描述的压印过程不但提供上述的凹型结构，而且提供较小的凸型结构。这些凸型结构包含已经永久变形的粘合剂。不受理论的束缚，据信当压印工具接触衬件和粘合剂层时，粘合剂的一部分被工具的体积位移。在适当的温度和压力条件下，该位移非常有力使得其在粘合剂中引起永久变化，即，其减小了在粘合剂被位移的区域中的粘合剂的粘弹性响应(使用以上所用的类比，弹簧被过度拉伸并且失去它的弹性)。需要占用新空间的位移粘合剂从粘合剂表面形成小的凸型突出部。一般来讲，小的凸型突出部看起来与压印工具形成的凸型结构的任一侧相邻(当在横截面进行观察时)。与凹型结构不同，凸型结构在去除衬件时不稳定。
各种基底均适于本公开的制品，只要它们可使用以下所述的方法进行处理。特别合适的基底包括膜、条带背衬、图形制品、塑料制品、伤口敷料、保护膜或保护带、刚性或半刚性板或片、或隔离衬件。
膜的示例包括由各种材料制备的并且具有宽范围厚度的宽范围聚合物膜。特别合适的膜为光学膜，其在以下更详细讨论。膜可以具有单层或者多层构造。合适的膜的其它示例包括阻隔膜、太阳膜诸如光重定向膜，以及电子膜诸如导电膜。聚合物膜的示例包括含有一种或多种聚合物的膜，所述聚合物诸如乙酸丁酸纤维素；乙酸丙酸纤维素；三乙酸纤维素；聚(甲基)丙烯酸盐(酯)诸如聚甲基丙烯酸甲酯；聚酯诸如聚对苯二甲酸乙二醇酯，和聚萘二甲酸乙二醇酯；基于萘二羧酸的共聚物或共混物；聚醚砜；聚氨酯；聚碳酸酯；聚氯乙烯；间规聚苯乙烯；环烯烃共聚物；基于有机硅的膜；和聚烯烃，包括聚乙烯和聚丙烯，诸如铸塑和双轴取向的聚丙烯。可对该膜涂底漆或进行处理以赋予其表面中的一个或多个某些期望的性质。此类处理的示例包括电晕处理、火焰处理、等离子处理和化学处理。
条带背衬的示例包括宽范围的材料，这些材料包括诸如上述那些的聚合物膜、金属膜、纸材、皱纹纸、泡沫等。根据条带的期望用途，条带背衬可以为不透明的、光学透明的或光学清晰的。条带背衬可以为单层或者多层构造。
图形制品的示例包括含有图形图像的多种制品。图形制品通常为多层制品并且可包含多个膜层、金属或金属氧化物层、粘合剂等。图形制品的示例包括装饰性膜、保险杠标贴、贴花、显示器膜等。
塑料制品的示例包括例如塑料片和板，诸如例如用作多层制品诸如屏幕保护器的支撑层的相对厚的聚碳酸酯片。
各种伤口敷料为合适的基底。伤口敷料可包括各种材料，这些材料包括膜，弹性体材料，支撑材料诸如布料、织物或非织造网状物，吸收材料诸如水凝胶，以及抗菌剂。
合适的保护膜或保护带的示例包括含有加强层的膜构造诸如抗飓风窗膜，和具有导电元件以通过消散电荷保护电子部件的保护性膜。保护膜和保护带的其它示例包括例如应用到交通工具诸如汽车、地铁、公共汽车、飞机等以保护涂料免遭石屑损坏的涂料保护膜。类似的保护膜用于风力涡轮机桨叶和直升机桨叶，以保护表面免遭损坏并且减小表面的风阻。
刚性和半刚性板与刚性和半刚性片的示例包括宽范围的光学基底。如本文所用，术语“光学基底”是指可用于产生光学效应的基底。基底可具有任何合适的厚度。光学基底相对于电磁波谱的某些波长(例如，电磁波谱的可见区域、紫外区域或红外区域的波长)通常为至少部分透射的、反射的、抗反射的、偏振的、光学清晰的或漫射的。板的示例包括宽阵列的光学清晰的材料。合适的板的示例包括各种玻璃或来自聚合物材料诸如聚碳酸酯或聚甲基丙烯酸甲酯。板上可具有各种涂层，诸如例如，有色涂层、抗反射涂层和防眩光涂层。片材类似于板，但一般比板更薄且更少刚性。片材的示例包括例如光学清晰的半刚性玻璃基底或厚度为25微米至100微米的其它光学清晰的材料。
基底还可包括隔离衬件。可以使用任何合适的隔离衬件。示例性隔离衬件包括由纸材(例如，牛皮纸)或聚合物材料(例如，聚烯烃诸如聚乙烯或聚丙烯、乙烯乙酸乙烯酯、聚氨酯、聚酯诸如聚对苯二甲酸乙二醇酯，等等)制备的那些隔离衬件。至少一些隔离衬件涂覆有一层隔离剂，诸如含有有机硅的材料或含有碳氟化合物的材料。示例性隔离衬件包括但不限于可以商品名“T-30”和“T-10”从弗吉尼亚州马丁斯维尔的科特公司(CP Film,Martinsville,Va.)商购获得的衬件，该衬件在聚对苯二甲酸乙二醇酯膜上具有有机硅隔离涂层。其它示例性隔离衬件为在美国专利公布2011/0316203(Emslander等人)中描述的那些隔离衬件。衬件可在其表面上具有微观结构，该微观结构被赋予粘合剂以在粘合剂层的表面上形成微观结构。
一类特别合适的基底为光学膜。如本文所用，术语“光学膜”是指可用于产生光学效应的膜。光学膜通常为含聚合物的膜，其可为单层或多层。光学膜可具有任何合适的厚度。光学膜相对于电磁波谱的一些波长(例如，在电磁波谱的可见区域、紫外区域或红外区域中的波长)通常为至少部分透射的、反射的、抗反射的、偏振的、光学清晰的或者漫射的。示例性光学膜包括但不限于可视镜膜、彩色镜膜、日光反射膜、漫射膜、红外反射膜、紫外反射膜、反射偏振膜诸如增亮膜和双层增亮膜、吸收偏振膜、光学清晰膜、有色膜、染色膜、私密膜诸如光校准膜，以及抗反射膜、防眩光膜、防污膜和防指纹膜。
在一些实施例中，光学膜具有涂层。通常，涂层用于增强膜的功能，或为膜提供另外的功能。涂层的示例包括例如硬质涂层、防雾涂层、防刮涂层、私密涂层、防指纹涂层、抗微生物涂层或它们的组合。在应用诸如例如触摸屏传感器、显示屏、图形应用等中，涂层诸如硬质涂层、防雾涂层和提供增强的耐久性的防刮涂层是可取的。私密涂层的示例包括例如模糊涂层或雾状涂层，以得到遮蔽视线的或百叶式的膜从而限制视角。防指纹涂层的示例包括2011年5月13日提交的标题为“COATING COMPOSITIONS COMPRISING NON-IONICSURFACTANT EXHIBITING REDUCED FINGERPRINT VISIBILITY(包含表现出减小的指纹可见度的非离子表面活性剂的涂层组合物)”的待审美国专利申请序列号61/486000中所描述的那些防指纹涂层，该专利描述了由可固化树脂和非离子表面活性剂所制备的涂层。抗微生物涂层的示例包括美国专利8,124,169(Ylitalo等人)中所描述的那些抗微生物涂层，该专利描述了抗微生物涂层体系，所述抗微生物涂层体系包括成膜组合物和有效量的分散于该成膜组合物内的抗微生物剂。
某些光学膜具有多个层，诸如含聚合物的材料(例如，含有或不含有染料的聚合物)的多个层，或含金属的材料和聚合物材料的多个层。一些光学膜具有折射率不同的聚合物材料的交替的层。其它光学膜具有交替的聚合物层和含金属层。示例性光学膜在以下专利中有所描述：美国专利6,049,419(Wheatley等人)；美国专利5,223,465(Wheatley等人)；美国专利5,882,774(Jonza等人)；美国专利6,049,419(Wheatley等人)；美国专利RE 34,605(Schrenk等人)；美国专利5,579,162(Bjornard等人)，和美国专利5,360,659(Arends等人)。
如上所讨论，粘合剂通常为压敏粘合剂。各种压敏粘合剂是合适的。以下描述了这些类别的粘合剂中的每种的示例。
可用于本公开的制品中的压敏粘合剂之中为基于天然橡胶、合成橡胶、苯乙烯嵌段共聚物、聚乙烯醚、丙烯酸类树脂、聚α-烯烃、有机硅、氨基甲酸酯或脲的那些压敏粘合剂。在许多实施例中，压敏粘合剂是自润湿的。“自润湿”是指非常柔软且可适形并且能够以极低层合压力施用的粘合剂。此类粘合剂表现出对表面的自发润湿。
可用的天然橡胶压敏粘合剂一般含有塑炼天然橡胶，相对于100份天然橡胶为25份至300份的一种或多种增粘树脂，以及通常为0.5份至2.0份的一种或多种抗氧化剂。天然橡胶的等级范围是从淡白绉级到更深的有棱纹的烟胶片，并且包括例如CV－60(一种粘度受控的橡胶级)和SMR－5(一种有棱纹的烟胶片橡胶级)。与天然橡胶一起使用的增粘树脂一般包括但不限于木材松香及其氢化衍生物；各种软化点的萜烯树脂以及基于石油的树脂，诸如来自埃克森公司(Exxon)的“ESCOREZ 1300”系列的C5脂族烯烃衍生的树脂，以及来自赫尔克里公司(Hercules,Inc.)的“PICCOLYTE S”系列的聚萜烯。抗氧化剂用于延迟天然橡胶上的氧化侵蚀，氧化侵蚀可导致天然橡胶粘合剂的内聚强度损耗。
另一类可用的压敏粘合剂为基于合成橡胶的粘合剂。此类粘合剂一般为橡胶态弹性体，其为自发粘或非发粘的，并且需要增粘剂。自发粘合成橡胶压敏粘合剂包括例如丁基橡胶(异丁烯和小于3％的异戊二烯的共聚物)、聚异丁烯、异戊二烯均聚物、聚丁二烯(诸如“TAKTENE 220BAYER”)或苯乙烯/丁二烯橡胶。丁基橡胶压敏粘合剂通常包含抗氧化剂，诸如二丁基二硫代氨基甲酸锌。聚异丁烯压敏粘合剂通常不含抗氧化剂。一般需要增粘剂的合成橡胶压敏粘合剂一般包含聚丁二烯或苯乙烯/丁二烯橡胶，相对于每100份橡胶为10份至200份的增粘剂，以及一般相对于每100份橡胶为0.5份至2.0份的抗氧化剂，诸如“IRGANOX 1010”。合成橡胶的示例为“AMERIPOL 1011A”，购自百路驰公司(BF Goodrich)的苯乙烯/丁二烯橡胶。可用的增粘剂包括：松香衍生物诸如“FORAL 85”(来自赫尔克里公司(Hercules,Inc.)的稳定松香酯)，来自天纳克公司(Tenneco)的“SNOWTACK”系列凝胶松香以及来自西尔瓦公司(Sylvachem)的“AQUATAC”系列妥尔油松香；以及合成烃基树脂，诸如来自赫尔克里公司(Hercules,Inc.)的“PICCOLYTE A”系列聚萜烯，“ESCOREZ 1300”系列C5脂族烯烃-衍生的树脂，“ESCOREZ2000”系列C9芳族/脂族烯烃-衍生的树脂以及聚芳族C9树脂，诸如来自赫尔克里公司(Hercules,Inc.)的“PICCO 5000”系列芳香烃树脂。
苯乙烯嵌段共聚物压敏粘合剂一般包含A-B型弹性体或A-B-A型弹性体，其中A表示热塑性聚苯乙烯嵌段，而B表示聚异戊二烯、聚丁二烯或聚(乙烯/丁烯)和树脂的橡胶态嵌段。可用于嵌段共聚物压敏粘合剂的各种嵌段共聚物的示例包括：直链、辐射状、星形和渐缩苯乙烯-异戊二烯嵌段共聚物，诸如可购自壳牌化学公司(Shell Chemical Co.)的“KRATON D1107P”，以及可购自埃尼化工弹性体美洲有限公司(EniChem ElastomersAmericas,Inc.)的“EUROPRENE SOL TE 9110”；直链苯乙烯-(乙烯-丁烯)嵌段共聚物，诸如可购自壳牌化学公司(Shell Chemical Co.)的“KRATON G1657”；直链苯乙烯-(乙烯-丁烯)嵌段共聚物，诸如可购自壳牌化学公司(Shell Chemical Co.)的“KRATON G1750X”；以及直链、辐射状和星形苯乙烯-丁二烯嵌段共聚物，诸如可购自壳牌化学公司(Shell ChemicalCo.)的“KRATON Dl118X”，以及可购自埃尼化工弹性体美洲有限公司(EniChem ElastomersAmericas,Inc.)的“EUROPRENE SOL TE 6205”。
聚乙烯醚压敏粘合剂一般是乙烯基甲基醚的均聚物、乙烯基乙基醚或乙烯基异丁基醚的共混物，或者乙烯基醚的均聚物与乙烯基醚和丙烯酸酯的共聚物的共混物，以实现所需的压敏粘合剂性质。根据聚合的程度，均聚物可为粘性油、发粘的软树脂或橡胶状物质。用作聚乙烯醚粘合剂中的原材料的聚乙烯醚包括基于以下物质的聚合物：乙烯基甲基醚，诸如可购自巴斯夫公司(BASF)的“LUTANOL M 40”和可购自ISP技术公司(ISPTechnologies,Inc.)的“GANTREZ M 574”和“GANTREZ 555”；乙烯基乙基醚，诸如“LUTANOLA 25”、“LUTANOL A 50”和“LUTANOL A 100”；乙烯基异丁基醚，诸如“LUTANOL I30”、“LUTANOL I60”、“LUTANOL IC”、“LUTANOL I60D”和“LUTANOL I 65D”；甲基丙烯酸酯/乙烯基异丁基醚/丙烯酸，诸如可购自巴斯夫公司(BASF)的“ACRONAL 550D”。
丙烯酸类压敏粘合剂一般具有约20℃或更低，通常0℃或更低的玻璃化转变温度，并且可包含100重量％至80重量％的C3-C12烷基酯组分，诸如例如丙烯酸异辛酯、丙烯酸-2-乙基己酯和丙烯酸正丁酯，以及0重量％至20重量％的极性组分，诸如例如丙烯酸、甲基丙烯酸、乙烯醋酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯烷酮和苯乙烯大分子单体。通常，丙烯酸类压敏粘合剂包含0重量％至20重量％的丙烯酸和100重量％至80重量％的丙烯酸异辛酯。丙烯酸类压敏粘合剂可为自粘性或增粘的。可用于丙烯酸类树脂的增粘剂为松香酯诸如可购自赫尔克里公司(Hercules,Inc.)的“FORAL 85”，芳族树脂诸如“PICCOTEX LC-55WK”，脂族树脂诸如可购自赫尔克里公司(Hercules,Inc.)的“PICCOTAC 95”，以及萜烯树脂诸如以商品名“PICCOLYTE A-115”和“ZONAREZ B-100”来自亚利桑那化学公司(Arizona Chemical Co.)的α-蒎烯和β-蒎烯。
聚α-烯烃压敏粘合剂，也被称作聚(1-烯烃)压敏粘合剂，一般包含基本非交联聚合物或非交联聚合物，它们可具有在它们上面接枝的可辐射活化的官能团，如在美国专利5,209,971(Babu等人)中所描述。聚α-烯烃聚合物可为自发粘的和/或包含一种或多种增粘材料。另外，聚合物一般主要为无定形的。可用的聚-α-烯烃聚合物包括例如C3-C18聚(1-烯烃)聚合物，一般为C5-C12α-烯烃以及那些与C3的共聚物，并且更典型地为C6-C8以及那些与C3的共聚物。增粘材料通常为在聚α-烯烃聚合物中可混溶的树脂。根据具体应用，聚α-烯烃聚合物中增粘树脂的总量在相对于每100份聚α-烯烃聚合物0重量份至150重量份之间的范围内。可用的增粘树脂包括由C5至C9不饱和烃单体、聚萜烯、合成聚萜烯等的聚合而衍生的树脂。基于这种类型的C5烯烃级分的此类可商购获得的树脂的示例为可购自固特异轮胎和橡胶公司(Goodyear Tire and Rubber Co.)的“WINGTACK 95”和“WINGTACK 15”增粘树脂。
有机硅压敏粘合剂包含两种主要组分，即聚合物或凝胶和增粘树脂。聚合物通常是高分子量聚二甲基硅氧烷或聚二甲基二苯基硅氧烷，其在聚合物链的末端上含有残余的硅醇官能团(SiOH)，或者是包含聚二有机硅氧烷软链段和脲封端硬链段的嵌段共聚物。增粘树脂一般为由三甲基硅氧基基团(OSiMe3)封端并且还含有一些残余的硅醇官能团的三维硅酸盐结构。增粘树脂的示例包括来自纽约州沃特福德的美国通用电气公司有机硅树脂事业部(General Electric Co.,Silicone Resins Division,Waterford,NY)的SR 545，以及来自加利福尼亚州托兰斯市的美洲信越有机硅公司(Shin-Etsu Silicones ofAmerica,Inc.,Torrance,CA.)的MQD-32-2。典型的有机硅压敏粘合剂的制造在美国专利2,736,721(Dexter)中有所描述。有机硅脲嵌段共聚物压敏粘合剂的制造在美国专利5,214,119(Leir等人)中有所描述。一种特别合适的类别的有机硅压敏粘合剂为基于有机硅聚乙二酰胺的压敏粘合剂。这些材料在例如美国专利7,371,464(Sherman等人)和美国专利7,705,103(Sherman等人)中有所描述。
可用于本发明中的聚氨酯和聚脲压敏粘合剂包括例如在WO 00/75210(Kinning等人)和在美国专利3,718,712(Tushaus)、3,437,622(Dahl)和5,591,820(Kydonieus等人)中公开的那些压敏粘合剂。另外，美国专利公布2011/012380(Sherman等人)中描述的基于脲的压敏粘合剂和美国专利公布2012/0100326(Sherman等人)中描述的基于氨基甲酸酯的压敏粘合剂可以是尤其合适的。
在一些实施例中，压敏粘合剂包括光学清晰的压敏粘合剂。合适的光学清晰的压敏粘合剂的示例包括基于天然橡胶、合成橡胶、苯乙烯嵌段共聚物、聚乙烯醚、丙烯酸类树脂、聚α-烯烃、有机硅、氨基甲酸酯或脲的那些压敏粘合剂。以上描述了这些类别压敏粘合剂中的每种的示例。
一类特别合适的光学清晰的压敏粘合剂为基于(甲基)丙烯酸酯的压敏粘合剂，并且可包含酸性或碱性共聚物。在许多实施例中，基于(甲基)丙烯酸酯的压敏粘合剂为酸性共聚物。一般来讲，随着用于制备酸性共聚物的酸性单体的比例增加，所得的粘合剂的内聚强度也增加。
为实现压敏粘合剂的特性，对应的共聚物可受到调控，以使所得的玻璃化转变温度(Tg)为小于约0℃。特别合适的压敏粘合剂共聚物为(甲基)丙烯酸酯共聚物。此类共聚物通常衍生自包含约40重量％至约98重量％，通常至少70重量％，或者至少85重量％，或者甚至约90重量％的至少一种(甲基)丙烯酸烷基酯单体的单体，该(甲基)丙烯酸烷基酯单体作为均聚物时具有小于约0℃的Tg。
此类(甲基)丙烯酸烷基酯单体的示例为其中烷基基团包含约4个碳原子至约12个碳原子的那些单体，并且包括但不限于丙烯酸正丁酯、丙烯酸-2-乙基己酯、丙烯酸异辛酯、丙烯酸异壬酯、丙烯酸异癸酯、以及它们的混合物。任选地，作为均聚物的Tg大于0℃的其它乙烯基单体和(甲基)丙烯酸烷基酯单体，诸如丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸异冰片酯、乙酸乙烯酯、苯乙烯等等，可与低Tg(甲基)丙烯酸烷基酯单体和可共聚碱性或酸性单体中的一种或多种结合使用，前提条件是所得的(甲基)丙烯酸酯共聚物的Tg为小于约0℃。
在一些实施例中，期望使用不含烷氧基基团的(甲基)丙烯酸酯单体。烷氧基基团是本领域的技术人员理解的。
当使用时，可用作压敏粘合剂基体的碱性(甲基)丙烯酸酯共聚物通常衍生自碱性单体，这些碱性单体包含约2重量％至约50重量％，或者约5重量％至约30重量％的可共聚碱性单体。示例性碱性单体包括N,N-二甲基氨丙基甲基丙烯酰胺(DMAPMAm)、N,N-二乙基氨丙基甲基丙烯酰胺(DEAPMAm)、N,N-二甲基氨乙基丙烯酸脂(DMAEA)、N,N-二乙基氨乙基丙烯酸酯(DEAEA)、N,N-二甲基氨丙基丙烯酸酯(DMAPA)、N,N-二乙基氨丙基丙烯酸酯(DEAPA)、N,N-二甲基氨乙基甲基丙烯酸酯(DMAEMA)、N,N-二乙基氨乙基甲基丙烯酸酯(DEAEMA)、N,N-二甲基氨乙基丙烯酰胺(DMAEAm)、N,N-二甲基氨乙基甲基丙烯酰胺(DMAEMAm)、N,N-二乙基氨乙基丙烯酰胺(DEAEAm)、N,N-二乙基氨乙基甲基丙烯酰胺(DEAEMAm)、N,N-二甲基氨乙基乙烯基醚(DMAEVE)、N,N-二乙基氨乙基乙烯基醚(DEAEVE)、以及它们的混合物。其它可用的碱性单体包括乙烯基吡啶、乙烯基咪唑、叔氨基-官能化苯乙烯(例如，4-(N,N-二甲氨基)-苯乙烯(DMAS)、4-(N,N-二乙氨基)-苯乙烯(DEAS))、N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基己内酰胺、丙烯腈、N-乙烯基甲酰胺、(甲基)丙烯酰胺、以及它们的混合物。
当用于形成压敏粘合剂基体时，酸性(甲基)丙烯酸酯共聚物通常衍生自酸性单体，这些酸性单体包含约2重量％至约30重量％、或者约2重量％至约15重量％的可共聚的酸性单体。可用的酸性单体包括但不限于选自烯键式不饱和羧酸、烯键式不饱和磺酸、烯键式不饱和膦酸、以及它们的混合物的那些酸性单体。此类化合物的示例包括选自丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、富马酸、巴豆酸、柠康酸、马来酸、油酸、β-羧基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸2-磺乙酯、苯乙烯磺酸、2-丙烯酰胺基-2-甲基丙烷磺酸、乙烯基膦酸等、以及它们的混合物的那些酸性单体。由于它们的可用性，所以通常使用烯键式不饱和羧酸。
在某些实施例中，聚(甲基)丙烯酸压敏粘合剂基体衍生自介于约1重量％和约20重量％之间的丙烯酸以及介于约99重量％和约80重量％之间的丙烯酸异辛酯、丙烯酸2-乙基己酯或丙烯酸正丁酯组合物中的至少一种。在一些实施例中，压敏粘合剂基体衍生自介于约2重量％和约10重量％之间的丙烯酸以及介于约90重量％和约98重量％之间的丙烯酸异辛酯、丙烯酸2-乙基己酯或丙烯酸正丁酯组合物中的至少一种。
另一类可用的光学清晰的基于(甲基)丙烯酸酯的压敏粘合剂为那些(甲基)丙烯酸嵌段共聚物。此类共聚物可仅包含(甲基)丙烯酸酯单体或可包含诸如苯乙烯的其它共单体。此类压敏粘合剂的示例在例如美国专利7,255,920(Everaerts等人)中有所描述。
在一些实施例中，期望粘合剂层为交联压敏粘合剂，正如在美国专利公布2007/0212535(Sherman等人)中所教导的。对交联压敏粘合剂的表面进行压印以产生微结构化的粘合剂表面使层合后粘合剂内应力的形成最小化，因为粘合剂的结构化前状态和最终状态仅为基本平面的。因此，该结构在与微结构化衬件或模制工具不接触时是不稳定的。这与通过将可流动粘合剂涂布到微结构化隔离衬件或微结构化模制工具上而产生的微结构化粘合剂形成对比，其中粘合剂试图恢复到的初始状态为微结构化构型的初始状态，而最终状态为基本平面的。
粘合剂层可以是任何合适的厚度，只要粘合剂层比压印到粘合剂层中的微观结构的尺寸更厚。一般来讲，厚度的范围是10微米(约0.4密耳)至1500微米(约60密耳)。更典型地，粘合剂厚度的范围一般是25微米(约1密耳)至51微米(约2密耳)。
粘合剂层可以是连续或不连续的。不连续的粘合剂层可具有多种构型，包括随机分布或图案化分布。在合适的图案化分布中存在条(直的或波状的)和点(具有多种形状和大小)。当粘合剂层不连续时，期望粘合剂层存在于压印工具接触隔离衬件的那些位置，以确保压印工具将结构赋予粘合剂层。另外，无论粘合剂层连续还是不连续，其均可以为分段粘合剂层。分段粘合剂层为包含区段的粘合剂层，区段包含不同的粘合剂组合物。分段粘合剂层不同于粘合剂共混物，在粘合剂共混物中，单种粘合剂组合物包含不同粘合剂组分的混合物。在分段粘合剂层中，粘合剂层的不同区段包含不同的组合物。不连续的粘合剂层或分段粘合剂层可通过使用多种不同的涂覆技术例如条涂覆或多种不同的印刷技术来制备。
特别合适的粘合剂组合物为光学清晰的基于有机硅聚乙二酰胺的压敏粘合剂、光学清晰的基于(甲基)丙烯酸酯的压敏粘合剂，和交联压敏粘合剂，诸如在美国专利公布2007/0212535(Sherman等人)中所述的那些粘合剂。
本公开的制品还包括衬件，通常是指隔离衬件。可以使用任何合适的隔离衬件。示例性隔离衬件包括由纸材(例如，牛皮纸)或聚合物材料(例如，聚烯烃诸如聚乙烯或聚丙烯、乙烯乙酸乙烯酯、聚氨酯、聚酯诸如聚对苯二甲酸乙二醇酯等、以及它们的组合)制备的那些隔离衬件。至少一些隔离衬件涂覆有一层隔离剂，诸如含有机硅的材料或含有碳氟化合物的材料。示例性隔离衬件包括但不限于可以商品名“T-30”和“T-10”从弗吉尼亚州马丁斯维尔的科特公司(CP Film,Martinsville,Va.)商购获得的衬件，该衬件在聚对苯二甲酸乙二醇酯膜上具有有机硅隔离涂层。通常，衬件具有25微米(1密耳)至127微米(5密耳)，更典型地25微米(1密耳)至84微米(3.3密耳)的厚度。
在一些实施例中，衬件单独形成制品，而在其它制品中，粘合剂层和衬件，或者甚至基底、粘合剂层和衬件均通过共挤出而同时生成。在该过程中，独立的熔融聚合物料流接触以形成多层制品。特别合适的隔离衬件为在美国专利公布2011/0316203(Emslander等人)中描述的共挤出隔离衬件。在这些衬件中，隔离层包含隔离剂。隔离层也可包含与隔离剂共混的其它聚合物。通常，隔离剂包含乙烯与具有3至约10个碳原子的α-烯烃的共聚物，并且共聚物密度不大于0.91g/cc。合适的α-烯烃包括1-丁烯、1-己烯、1-辛烯以及它们的组合。乙烯与辛烯-1的共聚物特别适合与基于丙烯酸酯的压敏粘合剂一起使用。共聚物可以为嵌段共聚物或非嵌段共聚物。在一些实施例中，共聚物的密度不大于0.91g/cc，例如，不大于0.89g/cc。合适的共聚物可以商品名“INFUSE”从密歇根州米德兰市的陶氏化学公司(Dow Chemical Company,Midland,MI)商购获得，并且可以商品名“EXACT”从德克萨斯州休斯顿市的埃克森美孚化学公司(ExxonMobil Chemical Company,Houston,TX)商购获得。在一些实施例中，共聚物为使用茂金属催化剂制得的聚烯烃聚合物。
如上所述，隔离剂可另外与其它聚合物共混以形成隔离层。可用于与隔离剂共混的聚合物的示例包括：密度不大于0.91g/cc的其它聚烯烃聚合物；聚乙烯(包括低密度聚乙烯)、聚二有机硅氧烷-聚乙二酰胺共聚物、聚丙烯，以及以商品名“NUCREL”、“BASELL HL456J”、“VISTAMAX”、“BYNEL”市售的那些聚合物；以及它们的组合。
另外描述了用于形成制品的方法。该方法包括提供多层制品以及提供具有结构化表面的工具。多层制品包括：具有第一主表面和第二主表面的基底、具有第一主表面和第二主表面的粘合剂层、以及具有第一主表面和第二主表面的衬件，其中粘合剂层的第一主表面接触基底的第二主表面，衬件的第一主表面接触粘合剂层的第二主表面。以上描述了用于多层制品的组分中的每种的合适材料的示例。
结构化工具为向表面赋予结构或涂饰剂并且可在工艺中连续重复使用的器具。通常，结构化工具为模制工具。结构化模制工具可以为平面压印机、柔性或非柔性带、或辊的形式。此外，模制工具一般被认为是通过压印、涂覆、浇铸或平压由其在表面中生成结构化图案并且不成为成品的一部分的工具。在许多实施例中，结构化工具为微结构化工具，意为工具在其表面上具有微结构化图案。
本领域的技术人员已经知道用于生成微结构化模制工具的范围广泛的方法。这些方法的示例包括但不限于：照相平版印刷、蚀刻、放电加工、离子铣削、显微机械加工和电铸。微结构化模制工具也可通过以下方法制备：利用可模压材料复制各种微结构化表面(包括不规则形状和图案)，可模压材料诸如选自由可交联的液态有机硅橡胶、可辐射固化的氨基甲酸酯等组成的组的那些材料；或通过电铸复制各种微观结构，以生成复制阴模或复制阳模的中间压印工具模具或最终压印工具模具。另外，具有随机和不规则形状和图案的微结构化模具可通过化学蚀刻、喷砂、喷丸或下沉可模压材料中的离散结构化粒子而生成。另外，微结构化模制工具中的任一个均可根据美国专利5,122,902(Benson)中教导的过程进行改变或修改。工具可由包括金属诸如镍、铜、钢或金属合金或聚合物材料的宽范围的材料制备。
多层制品放置在工具的结构化表面与支撑表面之间以形成构造。在该构造中，支撑表面与基底接触，并且衬件与工具的结构化表面接触。
将压力施加到包括支撑表面、多层构造和结构化工具的构造，并且然后将其释放。所施加的压力使得工具表面上的结构的至少一些将衬件和粘合剂层变形，但不使基底的第二主表面变形。粘合剂层的一部分永久变形。另外，衬件的变形在所施加的压力被释放时得以保持，使得在衬件中做出永久变化。在一些实施例中，可期望施加热和压力的组合。
如上所述，在压印过程期间施加压力或压力和热的组合在粘合剂层的一部分中引起永久变形。不受理论的束缚，据信当压印工具接触衬件和粘合剂层时，粘合剂的一部分被工具的体积位移。在适当的温度和压力条件下，该位移非常有力使得其在粘合剂中引起永久变化，即，其减少了在粘合剂被位移的区域中的粘合剂的粘弹性响应(使用以上所用的类比，弹簧被过度拉伸并且失去它的弹性)。需要占用新空间的位移的粘合剂从粘合剂表面形成小的凸型突出部。一般来讲，小的凸型突出部看起来与压印工具形成的凸型结构的任一侧相邻(当在横截面处进行观察时)。与凹型结构不同，凸型结构在去除衬件时不稳定。
查看该过程的另一种方式为，压印过程使粘合剂中的一些强制位移，并且该过程改变了该粘合剂的拓扑特性。由于这种位移的粘合剂保持其质量，所以质量需要去到压印工具未向粘合剂层施加压力的某处。粘合剂通常移动到粘合剂与衬件之间的界面，并且形成凸型突出部。该凸型突出部在工具的结构化构件的周边处形成。因此，当在横截面处观察时，凸型突出部看起来与凹型结构相邻。存在于这些凸型突出部中的材料与粘合剂的其余部分在组成上相同，但由于通过压印过程而置于粘合剂材料上的应力，所以粘合剂材料的拓扑特性被改变。同样，不受理论的束缚，据信压印过程的压缩力压缩粘合剂材料使得其改变粘合剂材料的拓扑特性。来自粘合剂层的凸型突出部相对于赋予粘合剂层中的凹型结构小的事实意味着被位移的粘合剂的质量也被压缩。如果被位移的粘合剂质量仅被位移并且不被压缩，可预期凸型突出部的尺寸与赋予到粘合剂层的凹型结构更类似。
除压印构造的压力和温度以外的可影响粘合剂层的一部分永久变形的另一个因素为压印的速度。由于粘合剂为粘弹性构造，所以如果相对缓慢地施加压印应力，则粘弹性材料能够更好地扩展很多压印应力，并且因此限制发生的永久变形的量。相反地，如果相对快速地施加压印应力，则粘弹性材料较少能够扩展压印应力，并且应力更局部化并引起更大变形。
已被观察到的粘合剂层的永久变形的另一个特征为永久变形是局部现象。由此意为着仅粘合剂层的少部分变形并且使其拓扑特性改变。在压印过程之后，粘合剂层的主体保持拓扑特性不变。再一次不受理论的束缚，据信，粘合剂层的粘弹性性质允许其扩展通过压印粘合剂层的整个主体引起的很多应力，并且因此仅形成非常局部化的永久变形，并且这些变形靠近其中压印工具接触衬件和粘合剂的区段。粘弹性材料的弹性组分允许它们在被施加应力之后恢复，与可被施加应力的橡皮筋几乎一样，并且在应力释放时恢复到其初始状况。然而，如果粘弹性材料被施加应力超过其恢复的能力，则该材料的拓扑特性发生永久变化。
因此，多种因素控制发生的粘合剂层的永久变化的量，或控制是否发生永久变形。在与本公开同一天提交的，题为“Method For Preparing Structured Adhesive Articles(用于制备结构化粘合剂制品的方法)”的共同待审的专利代理人案卷号72396US002中，描述了类似的压印过程，其中未观察到粘合剂层的一部分的永久变形。
在控制粘合剂层的永久变形的量的因素中有粘合剂层的性质和组合物、压印工具元件的尺寸和形状、施加到压印构造的压力、施加到压印构造的温度、发生压印的速度、以及支撑表面的性质，尤其是硬度。尽管所有以上因素均发挥作用，但据信，支撑表面的性质，尤其是支撑表面的硬度是尤其重要的。通常，支撑表面为硬质表面，该硬质表面由硬质材料诸如金属或其它合适的硬质材料制备。
支撑表面的性质取决于用于制备结构化制品的方法。如果利用例如平压机使用间歇方法，则支撑表面通常为金属或其它硬质基底。如果使用连续方法，诸如例如使制品膜穿过两个辊之间，则一个辊为结构化工具，而另一个辊为支撑表面。当支撑表面为辊时，具有相对硬的表面的多种辊是合适的。合适的支撑辊的示例包括金属辊，以及具有硬质外层诸如金属涂层或金属套的使用低硬度计硬度材料制备的辊(硬度在50肖氏硬度A和100肖氏硬度A之间的材料)。
尽管宽范围的处理条件是合适的，但一般来讲，所施加的压力在5kN/cm(牛顿/厘米)至100kN/cm，或5kN/cm至60kN/cm，或甚至5kN/cm至50kN/cm的范围内。温度可从室温至200℃，或室温至150℃，或甚至100℃至150℃变化。压印速度一般通过用于执行压印的装置来确定。例如，在其中使多层粘合剂制品穿过两个辊之间以提供压印的连续方法中，可通过多层粘合剂制品穿过两个辊之间的速度来控制压印的速度。在间歇方法中，诸如使用平压机或类似装置的一种间歇过程，可通过控制压机的速度来控制压印的速度。
具有支撑表面的构造、多层构造和结构化工具可在一起达相对长的时间或相对短的时间。例如，如果平压机用于制备制品，则支撑表面可以为压机的支撑基座，并且结构化工具可以为台板或者工具可附接到该台板。在其它实施例中，支撑表面可以为平坦的辊，并且工具可以为具有结构化表面的辊，并且多层制品可以在这些辊之间穿过。因此，将图案同时压印到粘合剂层和衬件上的过程可在间歇过程、半连续过程或连续过程中完成。在间歇过程中，多层制品置于装置诸如平压机中，压力通过台板来施加，台板为结构化工具或具有附接到其上的结构化工具，将压力释放并且去除已压印的多层制品。在半连续过程中，多层制品为连续的网状物而不是离散的多层制品。然后，该网状物可被拖入压机中、被压制并且从压机抽出。另外，每次可使用一系列压机来压制网状物的多个区域。连续过程的示例为辊的使用。多层制品可在一对辊之间喂入，其中一个辊为平坦的而另一个辊包括结构化表面。在该过程中，通过使多层制品的网状物穿过两个辊之间来供应压力。一对此类辊通常被称之为辊隙。
在一些实施例中，可以在连续过程中由原材料制备压印粘合剂制品。如上所述，包括基底、粘合剂层和衬件的多层制品可通过共挤出来制备。在该过程中，基底、粘合剂和衬件材料的至少两层或全部三层可被共挤出并且接触以形成多层制品。例如，基底和粘合剂层可被共挤出，并且共挤出输出与隔离衬件的移动网状物接触。在其它实施例中，基底、粘合剂和衬件层可被共挤出并且彼此接触以形成多层制品。然后，可使移动的多层网状物穿过一对辊之间，其中一个辊为平坦的而另一个辊为结构化的，以在单个连续过程中形成压印制品。
如上所述，通过该过程形成的制品为包括基底和粘合剂层以及衬件的多层制品。制品包括具有第一主表面和第二主表面的基底、具有第一主表面和第二主表面的粘合剂层、以及具有第一主表面和第二主表面的衬件，其中粘合剂层的第一主表面接触基底的第二主表面，衬件的第一主表面接触粘合剂层的第二主表面。衬件的第二主表面包括多个凹型结构，凹型结构对应粘合剂层的第二主表面中的多个凹型结构，但此类凹型结构不使基底的第二主表面变形。换句话讲，一系列凹型结构存在于衬件中并且继续进入到粘合剂层中，但不继续进入到基底中。
根据存在于这些制品中的元件的性质，这些制品可被用作粘合剂制品，或可被用于形成其它粘合剂制品。例如，可将衬件从粘合剂层去除，并且现在具有结构化表面的粘合剂层可层合到宽范围的粘合体表面以形成制品。如果基底为隔离衬件，则制品有时被称之为“转移带”，因为粘合剂层为附着到两个衬件的自立式膜。当将隔离衬件从转移带去除时，暴露的粘合剂表面可被层合到宽范围的粘合体表面。合适的粘合体表面的示例包括宽范围的膜和条带背衬，或多种刚性或者半刚性粘合体，诸如制品的外表面。然后，可将已被压印的衬件去除以暴露结构化粘合剂表面，并且该结构化粘合剂表面可层合到粘合体的表面。这种粘合体可与其它粘合体相同或不同，例如，转移带可层合到两个膜，层合到膜和刚性基底，或层合到两个刚性基底。
通常，经由通过衬件压印粘合剂层的过程而在粘合剂层中形成的结构不稳定，如上所述，但在将衬件从粘合剂层去除时该结构并不立即塌缩，或并不完全塌缩。如果该结构在衬件去除时立即塌缩，则将损失制备结构化粘合剂表面的优点诸如空气出口。然而，由于该结构在衬件去除时不稳定，所以在衬件去除之后期望尽快将粘合剂层层合到期望的粘合体。关于结构不稳定，其意为在去除衬件时，通过压印过程构建到粘合剂层中的应力被去除，并且粘合剂层开始恢复到其初始的平坦构型。一般期望结构随着时间推移塌缩并消失，尤其是如果粘合剂为光学清晰的粘合剂并且用于光学应用中。不塌缩的结构在光学构造中的存在一般是不期望的，因为不塌缩的结构可不利地影响光学性能。另外，不塌缩的结构导致到粘合体表面的粘合剂层不完全润湿，并且可不利地影响粘合性能。结构塌缩所需的时间将随着粘合剂、粘合体的性质以及处理条件而极大改变。例如，如果粘合剂为如上所述的交联压敏粘合剂，则应力通过压印过程被构建到粘合剂层中，并且该应力通过结构的塌缩和粘合剂层恢复到平坦形态而解除。即使在非交联实施例中，一些应力也被构建到粘合剂层中，但结构的塌缩可主要由粘合剂的流动造成。如果需要，可通过施加压力、热或它们的组合来加速结构的塌缩，但如上所述，由于结构的塌缩为自发过程，所以这是不必要的。
另外，如上所述，在压印过程期间形成的凸型突出部并不随时间推移消失。凸型突出部的存在连同不塌缩的凹型结构的存在有助于使粘合剂层初始可重新定位或临时可重新定位。凸型突出部的永久存在还改变了粘合剂层的粘性，即使在凹型结构已经塌缩之后。
在图1中，示出多层制品100的横截面，所述多层制品100包括基底层110、粘合剂层120和衬件130。粘合剂层120被示为连续层，但如上所述，该层可包括不连续层，或条涂覆层等。粘合剂层120与衬件130之间的界面被命名为135。
图2示出具有基底层210、粘合剂层220和衬件230的多层制品200的横截面，多层制品200为已经通过压印工具240被压印的制品100。如通过衬件/粘合剂界面235所示，压印工具240的结构使衬件230和粘合剂层220变形，但工具结构的变形并不使基底210变形。凸型突出部222与工具结构的变形相邻形成。
图3示出具有基底层310、粘合剂层320和衬件330的多层制品300的横截面，多层制品300为已从中去除压印工具240的制品200。在去除压印工具时，变形衬件330和变形粘合剂层320与衬件/粘合剂界面335一起保持变形。
图4示出具有基底层410和粘合剂层420的多层制品400的横截面，多层制品400为已从中去除衬件330的制品300。紧接在去除衬件330之后，变形粘合剂层420的结构得以保持。表面425为粘合剂层的底表面，其中已经发生压印结构化。凸型突出部422与工具结构的变形相邻。
图5示出具有基底层510和粘合剂层520的多层制品500的横截面，多层制品500为已经层合到基底层550的制品400。表面525为已经发生压印结构化的粘合剂层的底表面，并且示出紧接在层合到基底550之后该结构化得以保持。凸型突出部522与工具结构的变形相邻。
图6示出具有基底层610、粘合剂层620和基底层650的多层制品600的横截面，多层制品600稍后为制品500，其显示示为图5的表面525的粘合剂层520中的压印结构化已经塌缩并消失以形成除凸型突出部622以外基本上平坦的粘合剂层620。
实例
制作样品并对其进行测试，从而示出粘合剂可被结构化使得在使用时结构的一部分为永久的并且其它部分为临时的。这些实例仅仅是为了进行示意性的说明，并且不旨在限制所附权利要求书的范围。
测试方法
润湿级分
对样品进行测试以示出表面上的粘合剂润湿随时间推移的变化。从样品中去除衬件。将样品手动层合到干净的载玻片，并且通过5倍放大的光学显微镜上的镜片记录时间序列的照片，从而对粘合剂/玻璃界面成像。当结构改变形状并且粘合剂润湿玻璃的表面时，捕捉界面的图像。测试在环境条件下进行。使用购自马萨诸塞州内蒂克的迈斯沃克公司(The MathWorks,Inc.Natick,MA.)的MATLAB执行图像分析。该分析应用Savitzky-Golay平滑滤波并且然后应用阈值掩模到图像。图像上的亮区对应粘合剂与玻璃之间的空气。暗区示出粘合剂已经润湿玻璃表面的位置。对于高于阈值的像素亮度，图像的每个像素值为1，而对于低于阈值的像素亮度，图像的每个像素值为0。值为1的像素的总和除以像素的总数。润湿级分为1减去该总和。
剥离力
90°剥离粘附力：
通过调整ASTM D3330-90中的方法来进行90°剥离粘附力测试。将粘合剂涂层切成2.54厘米×15厘米的条。然后，使用0.5千克的辊将各条附着到6.2厘米×23厘米的用溶剂清洗过的干净玻璃面板。将粘结的组件在室温下放置不少于10分钟并且不超过15分钟。使用具有90°剥离测试组件的IMASS滑动/剥离测试仪(可从俄亥俄州斯特朗斯的仪器制造公司(Instrumentors Inc.,Strongsville,OH)商购获得的SP2000型)将样品以0.8米/分钟(30英寸/分钟)的速率在十秒的数据采集时间内测试90°剥离粘附力。测试了三个样品；所记录的剥离粘附力值为来自三个样品中的每个的剥离粘附力值的平均值。数据以克/英寸宽度为单位测量，并转换成牛顿/分米(N/dm)。
实例：
实例1
获得多层膜(如在美国专利公布2011/0316203(Emslander)中所述)的长度。其由25微米厚(1密耳)的印刷受体层、69微米厚(2.7密耳)的芯HDPE层、5微米厚(0.2密耳)的接合粘合剂层、18微米厚(0.7密耳)的丙烯酸类粘合剂层、13微米厚(0.5密耳)的聚烯烃嵌段共聚物隔离衬件，以及84微米厚(3.3密耳)的HDPE衬件组成。印刷受体层在PCT专利公布WO2011/091132(Dennison等人)中有所描述。
多层膜在覆盖橡胶轧辊的金属垫片与工具辊之间，以138℃(280℉)的温度在43.8kN/cm(250磅/直线英寸)的压力下在辊隙中被压印。工具辊为具有图7所示的模具的镀镍铜工具辊。在图7中，H(结构的高度)为203微米(8密耳)；W(结构的宽度)为102微米(4密耳)；P(结构的节距，其为在一个结构的中心与其最近相邻者的中心之间的距离)为70行/2.54厘米(70行每英寸)；并且角度θ(拔模角度)为10°。压印线速度为15.24m/分钟(25英尺/分钟)。工具靠着多层膜的衬件侧被定位。
两种条件下的压印的多层膜的润湿级分使用上述测试方法来确定：初始触摸按下和施加压力到样品之后。将衬件从第一样品去除，并且在施加期间仅使用辊的重量(0.5kg)将膜施加到干净的载玻片。在五分钟的施加时间内，通过干净的载玻片获取样品的图像。通过将衬件从第二件压印多层膜去除来产生第二样品。然后使用手压的方式施加到辊来将膜层合到干净的载玻片，并且收集润湿的初始图像。将样品在室温下放置三周，并且从相同的区域收集显微图。表1示出在3周的时间段内的润湿级分结果。
表1：随时间推移的润湿级分
时间 低施加压力 高施加压力
0，初始 0.21 0.43
3周 0.67 0.67
用于已压印多层膜的初始剥离力使用上述测试方法以下列两种条件测定：初始触摸按下和施加压力到样品之后。将衬件从第一样品去除，并且在施加期间仅使用辊的重量将膜施加到干净的载玻片。通过将衬件从第二件压印多层膜去除来产生第二样品。然后使用手压的方式施加到辊来将膜层合到载玻片。
将2.54cm(1英寸)宽的带状物在玻片上切成衬件，并且将样品以90度构型安装在剥离测试仪中。将带状物的一端附接到剥离测试仪的夹具。将三次运行的剥离测试的结果进行平均。初始触摸按下样品具有5.33N/dm的平均剥离强度，而压力附着的样品具有8.80N/dm的剥离强度。

Claims (15)

1.一种制品，包括：
基底，所述基底具有第一主表面和第二主表面；
粘合剂层，所述粘合剂层具有第一主表面和第二主表面，其中
所述粘合剂层的所述第一主表面接触所述基底的所述第二主表面，并且其中所述粘合剂层包含粘合剂组分的混合物，
其中所述粘合剂组分具有相同的化学组合物但具有不同的拓扑特性；以及
衬件，所述衬件具有第一主表面和第二主表面，其中所述衬件的所述第一主表面接触所述粘合剂层的所述第二主表面，并且
其中所述衬件的所述第二主表面包括多个凹型结构，所述多个凹型结构对应于所述粘合剂层中的多个凹型结构，并且其中
所述凹型结构不使所述基底的所述第二主表面变形，其中所述粘合剂层中的所述多个凹型结构在去除所述衬件时不稳定，并且其中所述粘合剂层还包括与所述凹型结构相邻的多个凸型结构，所述凸型结构包含已被永久拓扑变形的粘合剂组合物。
2.根据权利要求1所述的制品，其中所述粘合剂组分的拓扑特性的差异包括粘弹性响应的差异。
3.根据权利要求1所述的制品，其中拓扑特性的差异包括剥离粘附力的差异。
4.根据权利要求1所述的制品，其中所述多个凹型结构包括多个凹型微观结构。
5.根据权利要求1所述的制品，其中所述粘合剂组分包含压敏粘合剂组合物和已被永久拓扑变形的压敏粘合剂组合物。
6.根据权利要求1所述的制品，其中所述基底包括膜、胶带背衬、图形制品、塑料制品、伤口敷料、保护膜或保护带、或隔离衬件。
7.根据权利要求1所述的制品，其中所述衬件包括聚合物膜、带涂层的聚合物膜或带涂层的纸片。
8.一种形成制品的方法，该方法包括：
提供多层制品，所述多层制品包括：
基底，所述基底具有第一主表面和第二主表面；
粘合剂层，所述粘合剂层具有第一主表面和第二主表面，
其中所述粘合剂层的所述第一主表面接触所述基底的所述第二主表面；以及
衬件，所述衬件具有第一主表面和第二主表面，其中所述衬件的所述第一主表面接触所述粘合剂层的所述第二主表面；
提供具有结构化表面的工具；
将所述多层制品放置在所述工具的所述结构化表面与支撑表面之间以形成构造，使得所述基底的所述第一主表面与所述支撑表面接触，并且其中所述支撑表面包括硬质支撑表面；
向所述构造施加压力，使得所述工具的所述表面上的所述结构的至少一些使所述衬件和所述粘合剂层变形但不使所述基底的所述第二主表面变形，并且使得在释放所施加的压力时所述衬件的所述变形得以保持，并且其中所述粘合剂层的所述变形包括永久变形的部分和多个在去除所述衬件时不稳定的凹型结构，并且其中所述粘合剂层中的所述永久变形的部分包括与凹型结构相邻的多个凸型结构。
9.根据权利要求8所述的方法，其中所述粘合剂层的一部分的所述永久变形导致所述粘合剂层形成两种组分：不变的组分和已经改变拓扑特性的组分。
10.根据权利要求9所述的方法，其中拓扑特性的改变导致粘弹性响应的改变、剥离粘附力的改变或它们的组合。
11.根据权利要求8所述的方法，其中所述工具包括具有微结构化表面的工具。
12.根据权利要求8所述的方法，还包括将所述衬件与所述粘合剂层分离，使得所述粘合剂层上的所述凹型结构不稳定，但不立即塌缩。
13.根据权利要求12所述的方法，还包括使所述粘合剂层的所述表面接触粘合体以形成粘合剂制品。
14.根据权利要求13所述的方法，其中所述凹型结构随时间推移消失。
15.根据权利要求14所述的方法，其中所述粘合剂层还包括不随时间推移消失的凸型结构。
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