CN105399329A - 一种青瓷秘色釉的制备方法及其釉料 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种青瓷秘色釉的制备方法及其釉料,以黄石玄釉土、紫金土、长石粉、滑石粉、石灰石、岭根釉土为原料,在釉烧过程中,使釉中的空气不能浮出釉面,而在釉中形成许多小气泡,当成瓷阶段的温度为1280~1310℃时,使釉中残存一定数量的未溶石英颗粒,并形成大量的钙长石析晶,形成的小气泡、石英颗粒和钙长石析晶进入釉层的光线发生散射,因而使釉层变得玉质感透明,经过热胀冷缩后,釉层就开裂,形成“莹厚如玉堆脂”立体视觉效果。因此。本发明制备的青瓷秘色釉釉色翠青温润,热稳定性好,适应性广。此外,本发明提供的制备方法科学合理,易于实施,得到的青瓷秘色釉产品成品率高,产品瓷质好。
Description
技术领域
本发明涉及陶瓷技术领域,尤其涉及一种青瓷秘色釉的制备方法及其釉料。
背景技术
龙泉青瓷釉面有两种截然不同的装饰方法,其一,釉面无纹,釉色以粉青、梅子青为主,俗称“弟窑”;其二,以釉面开裂为主要装饰效果,俗称“哥窑”,为宋代五大名窑之一。浙江龙泉哥窑是中国宋代五大名窑之一,其所产青瓷秘色釉青瓷器皿为世所珍。浙江龙泉哥窑的制备工艺是:青瓷产品在烧成后的冷却过程中,利用釉和胎的收缩率不同,釉而开裂成不规则的纹理,形成别致的青瓷产品。近年来,龙泉青瓷生产规模逐渐扩大,许多技术人员对裂纹釉展开了较多研究。
“秘色釉”在哥窑的各种纹片中排名首位,其纹片开大片,裂片均匀,立体感强,素有“秘色釉为上”的美誉。由于秘色釉在烧制中独特的开裂,从而展示出天意的自然美。按其颜色分有鳝血、金丝铁线、浅黄;按其形状分有网形状、梅花状,细碎纹等,博得历代行家的赞誉。但青瓷秘色釉釉料选择难,烧成温度不易控制,故窑烧时成品率低,因此烧制“秘色釉”的工艺在宋代以后便失传了。
发明内容
本发明要解决的技术问题在于提供一种青瓷秘色釉的制备方法及其釉料,制备的青瓷秘色釉釉色翠青温润。
有鉴于此,本发明提供了一种青瓷秘色釉料,按重量百分比计,包括以下组分:
优选的,按重量百分比计,包括以下组分:
相应的,本发明还提供一种青瓷秘色釉的制备方法,包括以下步骤:将黄石玄釉土28~35%、紫金土5~10%、长石粉3~5%、滑石粉3~6%、石灰石18~20%和岭根釉土25~35%混合,得到釉料;将重量比为1.3~1.5﹕1﹕0.8~0.9的球石、所述釉料和水混合,研磨后得到釉浆;将瓷坯干燥后在840~880℃素烧,冷却;将所述釉浆调制成含水量为38~45%,利用荡釉法对所述瓷坯施内釉,然后利用蘸釉法对瓷坯施外釉;将施釉后的瓷坯进行釉烧,所述釉烧依次包括蒸发阶段、还原阶段、成瓷阶段和保温阶段,所述成瓷阶段的温度为1280~1310℃,得到青瓷秘色釉。
优选的,黄石玄釉土为30~35%,紫金土为6~10%,长石粉为4~5%,滑石粉为4~6%,石灰石为19~20%,岭根釉土为28~35%。
优选的,素烧时间为6~7小时。
优选的,施内釉得到的内釉层和施外釉得到的外釉层的厚度各自独立为2~2.3毫米。
优选的,所述蒸发阶段具体为:将施釉后的瓷坯升温至500~550℃,使瓷坯中的水份蒸发;升温至820~870℃,保温12~20分钟;升温至980~1010℃,保温1~1.20小时。
优选的,所述还原阶段具体为:升温至1160~1180℃;继续升温至1220~1260℃。
优选的,所述成瓷阶段的升温速度为1.5~2℃。
优选的,所述保温阶段具体为:
在1280~1310℃保温5~10分钟,冷却后得到青瓷秘色釉。
本发明提供了一种青瓷秘色釉的制备方法及其釉料,以黄石玄釉土、紫金土、长石粉、滑石粉、石灰石、岭根釉土为原料,在釉烧过程中,使釉中的空气不能浮出釉面,而在釉中形成许多小气泡,当成瓷阶段的温度为1280~1310℃时,使釉中残存一定数量的未溶石英颗粒,并形成大量的钙长石析晶,形成的小气泡、石英颗粒和钙长石析晶进入釉层的光线发生散射,因而使釉层变得玉质感透明,经过热胀冷缩后,釉层就开裂,形成“莹厚如玉堆脂”立体视觉效果。因此。本发明制备的青瓷秘色釉釉色翠青温润,热稳定性好,适应性广。此外,本发明提供的制备方法科学合理,易于实施,得到的青瓷秘色釉产品成品率高,产品瓷质好。
具体实施方式
为了进一步理解本发明,下面结合实施例对本发明优选实施方案进行描述,但是应当理解,这些描述只是为进一步说明本发明的特征和优点,而不是对本发明权利要求的限制。
本发明实施例公开了一种青瓷秘色釉料,按重量百分比计,包括以下组分:
作为优选方案,按重量百分比计,所述青瓷秘色釉料包括以下组分:
更优选的,所述青瓷秘色釉料包括以下组分:
本发明提供的青瓷冰裂纹釉料釉色翠青温润,适应性广,热稳定性好。
相应的,本发明还提供一种青瓷秘色釉的制备方法,包括以下步骤:将黄石玄釉土28~35%、紫金土5~10%、长石粉3~5%、滑石粉3~6%、石灰石18~20%和岭根釉土25~35%混合,得到釉料;将重量比为1.3~1.5﹕1﹕0.8~0.9的球石、所述釉料和水混合,研磨后得到釉浆;将瓷坯干燥后在840~880℃素烧,冷却;将所述釉浆调制成含水量为38~45%,利用荡釉法对所述瓷坯施内釉,然后利用蘸釉法对瓷坯施外釉;将施釉后的瓷坯进行釉烧,所述釉烧依次包括蒸发阶段、还原阶段、成瓷阶段和保温阶段,所述成瓷阶段的温度为1280~1310℃,得到青瓷秘色釉。
作为优选方案,黄石玄釉土为30~35%,紫金土为6~10%,长石粉为4~5%,滑石粉为4~6%,石灰石为19~20%,岭根釉土为28~35%。更优选的,黄石玄釉土为32~35%,紫金土为7~10%,长石粉为4~5%,滑石粉为5~6%,石灰石为19~20%,岭根釉土为30~35%。
在制备过程中,将瓷坯干燥后在840~880℃素烧,素烧温度优选为850~880,更优选为860~880;素烧时间优选为6~7小时,更优选为7小时;冷却时间优选为15~23小时,更优选为18~22小时,优选采用自然冷却的方式。
在施釉之前,将所述釉浆调制成含水量为38~45%,更优选为40~45%,更优选为42~44%%。利用荡釉法对所述瓷坯施内釉之后,将瓷坯的水份排干,再用蘸釉法对瓷坯施外釉。施内釉得到的内釉层的厚度优选为2~2.3毫米,更优选为2.1~2.2毫米;施外釉得到的外釉层的厚度优选为2~2.3毫米,更优选为2.1~2.2毫米。
按照本发明,釉烧经蒸发、还原、成瓷、保温四个阶段。所述蒸发阶段优选为:将施釉后的瓷坯升温至500~550℃,使瓷坯中的水份蒸发;升温至820~870℃,保温12~20分钟;升温至980~1010℃,保温1~1.2小时。更优选为:将施釉后的瓷坯升温至520~540℃,使瓷坯中的水份蒸发;升温至830~860℃,保温14~18分钟;升温至990~1005℃,保温1~1.2小时。
所述还原阶段优选为:升温至1160~1180℃;继续升温至1220~1260℃。本发明优选对升温速度和升温时间进行控制,升温至1160~1180℃的时间优选为60分钟;继续升温至1220~1260℃的升温时间优选为60分钟,升温速度较缓慢。所述还原阶段优选为:升温至1170~1180℃;继续升温至1230~1250℃。
作为优选方案,本发明成瓷阶段的温度优选为1290~1310℃,更优选为1290~1300℃。所述成瓷阶段的升温速度优选为1.5~2℃,更优选为1.6~1.8℃;所述成瓷阶段的升温时间优选为在50~60分钟,更优选为52~58分钟。所述保温阶段具体为:在1280~1310℃保温5~10分钟,冷却后得到青瓷秘色釉,冷却时间优选为15~20小时,更优选为16~18小时。
在制备过程中,青瓷秘色釉的烧成优选采用梭式窑,烧成燃料优选为重油、液化石油气和水煤气中的一种或几种。
本发明通过将上好釉的素坯在高温下溶烧,使釉中的空气不能浮出釉面,而在釉中形成许多小气泡,当烧成温度控制在1280~1310.℃时,使釉中残存一定数量的未溶石英颗粒,并形成大量的钙长石析晶,这些小气泡、石英颗粒和钙长石析晶进入釉层的光线发生散射,因而使釉层变得玉质感透明,经过热胀冷缩后,釉层开裂,从而形成“莹厚如玉堆脂”立体视觉效果。
本发明制备的青瓷秘色釉釉色翠青温润,适应性广,热稳定性好;此外,本发明提供的青瓷秘色釉的制备方法科学合理,易于实施,用该方法制作青瓷秘色釉产品成品率高,产品瓷质好,釉色瑰丽、古朴、典雅,形成“莹厚如玉”立体视觉效果。
为了进一步理解本发明,下面结合实施例对本发明提供的技术方案进行详细说明,本发明的保护范围不受以下实施例的限制。
本发明实施例采用的原料和化学试剂均为市购。
本发明中未详细介绍的内容与本领域技术人员熟知的青瓷制备方法相同,不再累述。
实施例1
釉料配料重量百分组成:黄石玄釉土32%,紫金土8%,长石粉5%,滑石粉5%,石灰石20%,岭根釉土30%。
对各种釉浆料按配方要求精细拣选后,混合均匀,再以球石:釉料:水比例为1.3﹕1﹕0.9,装入研磨设备研磨成釉浆。
以瓷土成型一个双耳洗孟干燥后,入窑经6小时时间的素烧,以温火慢烧到温度840℃停止,自然冷却15小时后素坯出窑,该素坯再刷粉上釉。素坯上釉分上内、外釉二个过程,先把青瓷秘色釉浆调成含水份在38%,用荡釉法上二次素坯内釉,釉层的厚度控制在2毫米;该素坯内釉上好后要把素坯中的水份排干,再用蘸釉法上二次素坯外釉,釉层的厚度控制在2毫米。上好内、外釉都上好的半成品,刨脚即可入窑进行釉烧,釉烧要经蒸发、还原、成瓷、保温四个阶段。在蒸发阶段:第一个小时是窑温从窑点火开始,升温至550℃,使窑内的半成品水份蒸发干;第二个小时是窑温从550℃升温至820℃止,保温12分钟:再用60分钟,窑温从820℃升温至980℃,保温1小时。在还原阶段:第一个小时是窑温从980℃升温至1160℃,第二小时窑温还原升温稍微放慢,从1160℃升温至1220℃。在成瓷阶段:在这个阶段窑温升温,每分钟要控制升温度2℃,时间控制在30分钟内,使窑温从1220℃升温至1310℃时为止。在保温阶段:当窑温达到1310℃时,停止升温,从开始保温5分钟后,停止火源。让窑温自然冷却25小时,成品出窑,得到青瓷秘色釉。
本烧成在梭式窑中进行,烧成燃料为石油液化气。
本实施例制备的青瓷秘色釉釉色翠青温润,成品率高,产品瓷质好。
实施例2
釉料配料重量百分组成:黄石玄釉土31%,紫金土6%,长石粉3%,滑石粉6%,石灰石19%,岭根釉土35%。
对各种釉浆料按配方要求精细拣选后,混合均匀,再以球石:釉料:水比例为:1.5﹕1﹕0.8,装入研磨设备研磨成釉浆。
以瓷土成型一个七寸八角瓶干燥后,入窑经7小时时间的素烧,以温火慢烧到温度880℃停止,自然冷却20小时后素坯出窑,再刷粉上釉。素坯上釉分上内、外釉二个过程,先把釉浆调成含水份在45%,然后用荡釉法上二次素坯内釉,釉层的厚度控制在2.3毫米;素坯内釉上好后要把素坯中的水份排干,采用蘸釉法上二次素坯外釉,釉层的厚度控制在2.3毫米。上好内、外釉都上好的半成品,刨脚即可入窑进行釉烧,釉烧要经蒸发、还原、成瓷、保温四个阶段。在蒸发阶段:第一个小时是窑温从点起升至550℃,使窑内的半成品水份蒸发干;第二个小时是窑温从550℃升至870℃止,保温20分钟:再用70分钟,窑温从870℃升温至1010℃,保温1.20小时。在还原阶段:第一个小时是窑温从1010℃升温至1180℃;第二小时窑温还原升温稍微放慢,从1180℃升温至1260℃。在成瓷阶段:在这个阶段窑温升温,每分钟要控制升温度105℃,时间控制在35分钟内,使窑温从1260℃升温至1320℃时为止。在保温阶段:当窑温达到1320℃时,停止升温,从开始保温10分钟后,停止火源。让窑温自然冷却20小时,成品出窑,得到青瓷秘色釉。
本烧成在梭式窑中进行,烧成燃料为石油液化气。
本实施例制备的青瓷秘色釉釉色翠青温润,成品率高,产品瓷质好。
以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以对本发明进行若干改进和修饰,这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。
Claims (10)
1.一种青瓷秘色釉料,其特征在于,按重量百分比计,包括以下组分:
2.根据权利要求1所述的青瓷秘色釉料,其特征在于,按重量百分比计,包括以下组分:
3.一种青瓷秘色釉的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
将黄石玄釉土28~35%、紫金土5~10%、长石粉3~5%、滑石粉3~6%、石灰石18~20%和岭根釉土25~35%混合,得到釉料;
将重量比为1.3~1.5﹕1﹕0.8~0.9的球石、所述釉料和水混合,研磨后得到釉浆;
将瓷坯干燥后在840~880℃素烧,冷却;
将所述釉浆调制成含水量为38~45%,利用荡釉法对所述瓷坯施内釉,然后利用蘸釉法对瓷坯施外釉;
将施釉后的瓷坯进行釉烧,所述釉烧依次包括蒸发阶段、还原阶段、成瓷阶段和保温阶段,所述成瓷阶段的温度为1280~1310℃,得到青瓷秘色釉。
4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,黄石玄釉土为30~35%,紫金土为6~10%,长石粉为4~5%,滑石粉为4~6%,石灰石为19~20%,岭根釉土为28~35%。
5.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,素烧时间为6~7小时。
6.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,施内釉得到的内釉层和施外釉得到的外釉层的厚度各自独立为2~2.3毫米。
7.根据权利要求3~6任意一项所述的制备方法,其特征在于,所述蒸发阶段具体为:
将施釉后的瓷坯升温至500~550℃,使瓷坯中的水份蒸发;
升温至820~870℃,保温12~20分钟;
升温至980~1010℃,保温1~1.20小时。
8.根据权利要求3~6任意一项所述的制备方法,其特征在于,所述还原阶段具体为:
升温至1160~1180℃;
继续升温至1220~1260℃。
9.根据权利要求3~6任意一项所述的制备方法,其特征在于,所述成瓷阶段的升温速度为1.5~2℃。
10.根据权利要求3~6任意一项所述的制备方法,其特征在于,所述保温阶段具体为:
在1280~1310℃保温5~10分钟,冷却后得到青瓷秘色釉。
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Date | Code | Title | Description |
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20160316 |
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RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |