CN105324513A - 可搬型旋转装置及成膜装置 - Google Patents
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Abstract
提供能够通过简单的作业实现借助于行星齿轮旋转的基板成膜的可搬型旋转装置及成膜装置。可搬型旋转装置(11)由如下部分构成:旋转拱顶(21),其通过设置于真空蒸镀装置(1)的伺服马达(M)进行旋转;基板支架(12),其以能够旋转的方式被支承在旋转拱顶(21)上,被成膜基板(14)载置于该基板支架(12);内框(11a),其经公转齿轮用轴承而被安装在旋转拱顶(21)上;外框(24),其配设在内框(11a)的外侧,形成为与基板支架(12)的外周侧啮合;以及连结臂(41),其将内框(11a)和外框(24)连结起来。旋转拱顶(21)以行星齿轮机构的公转轴线(R1)为中心进行旋转,基板支架(12)由旋转拱顶(21)保持在公转轴线(R1)的周围并被支承成能够以行星齿轮机构的自转轴线(R2)为中心进行旋转。
Description
技术领域
本发明涉及可搬型旋转装置及成膜装置,特别是涉及具备行星齿轮机构并被安装于成膜装置的可搬型旋转装置及具备该可搬型旋转装置的成膜装置。
背景技术
在真空成膜装置中,有的具备行星齿轮机构作为形成均衡化的薄膜的结构。该真空成膜装置是如下的装置:被成膜基板被安置在构成行星齿轮机构的多个行星齿轮上,在借助于行星齿轮机构的旋转状态下使成膜材料蒸镀在被成膜基板上,从而能够得到均衡化的成膜基板。
作为以往的行星旋转机构之一,有的具备:进行公转的旋转台;行星齿轮,其经轴承而可自转地被保持于旋转台,在该行星齿轮的外周侧形成有多个齿形;以及固定齿轮,其以与行星齿轮的多个齿形啮合的方式被设置在旋转台的外侧。当借助于马达的旋转动力使该旋转台公转时,行星齿轮与旋转台一同公转的同时通过与固定齿轮啮合而进行自转。
例如,在专利文献1中公开了一种偏压溅射装置,该偏压溅射装置具备行星齿轮机构,所述行星齿轮机构由如下部分构成:作为旋转台的公转部件;作为行星齿轮的自转支架,其经轴承而被保持在该公转部件上;以及作为固定齿轮的环状传递部件,其配设在该自转支架的外周侧并与之啮合。
行星齿轮机构中除了这样地将固定齿轮设置在旋转台的外侧的结构以外,也有的由将固定齿轮设置在比旋转台靠内侧的结构构成,但通常在外周侧设置固定齿轮(内齿)更适合于成膜材料的均衡化。这是因为,在旋转台公转规定数的情况下,与固定齿轮啮合的行星齿轮的自转次数变多。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:国际公开第2009-154196号公报
发明内容
发明要解决的课题
以往,用于行星齿轮机构的固定齿轮利用容器的内壁面、或者搬运旋转台的搬运机构的框架而被固定。
如专利文献1中记载的那样,在固定齿轮被固定于容器的内壁面的情况下,由于需要将固定齿轮、被成膜基板及其装载夹具直接地相对于容器的内壁面进行装卸,因此生产率和维护性低。
在固定齿轮被固定于搬运机构的框架的情况下,能够连带着搬运机构取出到装置外来装卸被成膜基板。
但是,由于需要可搬移搬运机构的台车等另外的设备,因此花费成本。并且,若连带着搬运机构取出到装置外,则被暴露于大气的对象物变多,被吸入到装置内的气体增加,因此不适合真空排气。
此外,作为成膜对象的被成膜基板的成膜面多较大地形成有凹凸,为了得到均衡化的成膜,需要相对于成膜材料朝向被成膜基板的入射方向将载置被成膜基板的行星齿轮倾斜。因此,以往,将作为行星齿轮的正齿轮与由齿条构成的固定齿轮(内齿)斜着啮合而使正齿轮旋转。
在该情况下,齿轮彼此斜着啮合,两齿轮间的间隙变大而不是正齿轮的正规的啮合,因此,造成了产生微振动、接触应力增加、动力的传递效率降低等问题。
并且,很难斜着形成内齿、并且将固定齿轮和正齿轮制造成具备规定的强度,制造效率低。
本发明正是鉴于上述课题而完成的,本发明的目的在于,提供能够通过简单的作业实现借助于行星齿轮旋转的基板成膜的可搬型旋转装置及具备可搬型旋转装置的成膜装置。
本发明的另一目的在于,抑制对真空排气的影响。
此外,本发明的另一目的在于,在倾斜地安装有行星齿轮部分的状态下防止微振动的产生、接触应力的增加以及动力的传递效率的降低。
此外,本发明的另一目的在于,在倾斜地安装有行星齿轮部分的状态下保持啮合部分的规定的强度。
用于解决课题的手段
可通过如下方式解决上述课题,根据本发明的可搬型旋转装置,其具备行星齿轮机构,被安装于对基板进行成膜的成膜装置,其中,所述可搬型旋转装置由如下部分构成:旋转体,其通过设置于上述成膜装置的驱动部进行旋转;基板支架,其以能够旋转的方式被支承在该旋转体上,上述基板被载置于该基板支架;内框,其经轴承而被安装在上述旋转体上;外框,其配设在该内框的外侧,形成为与上述基板支架的外周侧啮合;以及臂,其将上述内框和上述外框连结起来,上述旋转体以作为上述行星齿轮机构的公转轴线的第一旋转轴线为中心进行旋转,上述基板支架由上述旋转体保持在上述第一旋转轴线的周围,并被支承成能够以作为上述行星齿轮机构的自转轴线的第二旋转轴线为中心进行旋转。
这样,可搬型旋转装置具备:旋转体,其通过驱动部进行旋转;基板支架,其以能够旋转的方式被支承于该旋转体,基板被载置于该基板支架;内框,其经轴承而被安装在旋转体上;外框,其形成为与基板支架的外周侧啮合;以及臂,其将内框和外框连结起来,由于通过该可搬型旋转装置实现了行星齿轮机构,因此,通过将可搬型旋转装置导入到成膜装置,从而无需大幅度的改造就能够容易地实现借助于行星齿轮旋转的基板成膜。
此外,在将现有的可搬型旋转装置替换成具备行星齿轮机构的可搬型旋转装置的作业中,无需用于固定壁面的夹具及另外的设备就能够抑制对真空排气的影响。
此外,优选的是,上述基板支架具有筒状的支架主体和形成于该支架主体的外周侧的链轮部件,上述第二旋转轴线以相对于上述第一旋转轴线斜着朝向的方式相对于上述第一旋转轴线倾斜配设,在上述外框的内周侧固定有与上述链轮部件啮合的滚链,该滚链相对于上述第一旋转轴线倾斜地被安装于上述外框。
根据上述结构,通过采用使形成于基板支架的链轮部件与固定于外框的挠性高的滚链啮合的结构,从而能够使基板支架与外框适当地斜着啮合。因此,能够相对于公转轴线而倾斜地配设外周侧具有链轮部件的基板支架,即使在被载置于基板支架的基板上存在凹凸的情况下,也能够使形成于基板的薄膜适当地均衡化。
此外,根据这样的结构,与形成于基板支架的外周侧的正齿轮与形成于外框的内周侧的齿条斜着啮合的结构相比,由于能够缩小间隔,因此能够抑制微振动的产生,并且,由于容易保持彼此的接触面积,因此能够抑制与旋转力的传递相关的损耗。特别是,根据使滚链与链轮部件啮合的结构,能够保持啮合部分的规定的强度。
也可以是如下的结构:上述支架主体的侧面具备第一突出部、或者从一个方向朝另一方向弯曲的形状的第一槽部,上述链轮部件与上述支架主体分体形成,在上述链轮部件的侧面形成有从上述一个方向朝上述另一方向弯曲的形状的、对上述第一突出部进行引导的第二槽部、或者被上述第一槽部引导的第二突出部,上述支架主体和上述链轮部件被卡定在上述第一突出部沿上述一个方向穿过上述第二槽部并沿上述另一方向穿入的位置、或者上述第二突出部沿上述一个方向穿过上述第一槽部并沿上述另一方向穿入的位置。
根据上述结构,利用第一槽部或第二槽部引导支架主体向链轮部件的插入,并且支架主体和链轮部件被卡定在以与插入方向不同的方向移动的位置,因此能够适当地避免支架主体与链轮部件分离。
此外,优选的是,具备:至少一个中框,其设置在上述内框与上述外框之间,并与上述臂连结;和其它基板支架,其形成为与该中框的侧部啮合,并以能够旋转的方式被支承在上述旋转体上,上述基板被载置于该其它基板支架,该其它基板支架由上述旋转体保持在上述第一旋转轴线的周围,并被支承成能够以作为上述行星齿轮机构的其它自转轴线的第三旋转轴线为中心进行旋转。
根据上述结构,通过具备:中框,其与臂连接;和其它基板支架,其与该中框的内周侧啮合,从而能够对大量的基板实施借助于行星齿轮机构的均衡的成膜处理。
此外,可通过如下方式解决上述课题,根据本发明的成膜装置,其具备:上述可搬型旋转装置;上述驱动部,其驱动上述旋转体旋转;以及成膜机构,其对被载置于上述基板支架的上述基板进行成膜。
根据具备上述结构的成膜装置,由于具备可搬型旋转装置,所述可搬型旋转装置独立地构成被保持于旋转体的基板支架与外框的内周侧啮合的行星齿轮机构,因此,容易通过将该可搬型旋转装置卸下而进行维护,通过将现有的成膜装置的旋转装置更换成本发明的可搬型旋转装置,能够提供可简单地采用行星齿轮机构来对基板进行成膜的成膜装置。
此外,优选的是,具备活塞部件,所述活塞部件具有向突出位置或收纳位置移动的前端部,该活塞部件的上述前端部以能够卡合和脱离的方式被配设在上述可搬型旋转装置的上述内框、上述外框或上述臂。
根据上述结构,通过使活塞部件前端部移动成与可搬型旋转装置的外框或与外框连接的内框或臂卡合,从而能够容易地固定可搬型旋转装置的外框,能够使该外框作为行星齿轮机构的固定齿轮部分而起作用。
发明效果
根据本发明,通过将可搬型旋转装置导入到成膜装置,从而无需大幅度的改造就能够容易地实现借助于行星齿轮旋转的基板成膜。此外,在将现有的可搬型旋转装置替换成具备行星齿轮机构的可搬型旋转装置的作业中,无需用于固定壁面的夹具及另外的设备就能够抑制对真空排气的影响。
此外,能够使基板支架与外框斜着适当地啮合。因此,能够相对于外框斜着配设外周侧具备链轮部件的基板支架,即使在被载置于基板支架的基板上存在凹凸的情况下,也能够使形成于基板的薄膜适当地均衡化。
此外,与形成于基板支架的外周侧的正齿轮与形成于外框的内周侧的齿条斜着啮合的结构相比,能够缩小间隔。因此,能够抑制微振动的产生,并且,由于容易保持彼此的接触面积,因此能够抑制与旋转力的传递相关的损耗。特别是,根据使滚链与链轮部件啮合的结构,能够保持啮合部分的规定的强度。
此外,能够避免链轮部件与支架主体分离。
此外,能够对大量的基板实施成膜处理。
此外,能够提供可将可搬型旋转装置卸下来容易地进行维护的成膜装置。
此外,能够容易地固定可搬型旋转装置的外框,能够使该外框作为行星齿轮机构的固定齿轮部分而起作用。
附图说明
图1是本发明的实施方式的真空蒸镀装置的概念图。
图2是示出本发明的实施方式的可搬型旋转装置周围的概念图。
图3是示出本发明的实施方式的可搬型旋转装置的示意性俯视图。
图4是示出图3中的IV-IV截面的图,并且是放大地示出本发明的实施方式的基板支架周围的示意性剖视图。
图5A是示出外框的俯视图。
图5B是示出外框的示意性端面图。
图6A是示出链轮部件的仰视图。
图6B是示出链轮部件的图6A中的VIB-VIB截面的图。
图6C是示出链轮部件的图6B中的VIC-VIC截面的图。
图7A是示出支架主体的俯视图。
图7B是示出支架主体的图7A中的VIIB-VIIB截面的图。
图8是示出现有的可搬型旋转装置周围的示意图。
图9是示出第二实施方式的可搬型旋转装置周围的概念图。
具体实施方式
下面,参照附图对本发明的一个实施方式进行说明。另外,下面说明的部件、配置等是将发明具体化的一个示例,不限定本发明,当然,可以根据本发明的主旨进行各种改变。
此外,在下面的说明中,本发明的实施方式的真空蒸镀装置1相当于成膜装置的一个示例,旋转拱顶21或者旋转拱顶71相当于旋转体,引导槽23e相当于第二槽部,突出片30c相当于第一突出部,蒸发源50相当于成膜机构的一部分,内侧基板支架62a相当于其它基板支架,伺服马达M相当于驱动部,公转轴线R1相当于第一旋转轴线,自转轴线R2相当于第二旋转轴线,自转轴线R3相当于其它自转轴线或第三旋转轴线。
(第一实施方式)
图1至图4示出了本发明的实施方式的真空蒸镀装置1和可搬型旋转装置11,具体而言,图1是本发明的第一实施方式的真空蒸镀装置1的概念图,图2是示出可搬型旋转装置11周围的概念图,图3是示出可搬型旋转装置11的示意性俯视图,图4是示出图3中的IV-IV截面的图,并且是放大地示出本发明的实施方式的基板支架12周围的示意性剖视图。
本实施方式的真空蒸镀装置1主要具备:真空容器10;可搬型旋转装置11,其可容纳到真空容器10内并取出到真空容器10外;伺服马达M,其驱动可搬型旋转装置11旋转;以及蒸发源50,其使在被固定于可搬型旋转装置11的被成膜基板14上成膜的材料蒸发。
具体而言,真空容器10是在公知的成膜装置中通常采用的不锈钢制的容器,并且是纵向放置的圆筒形状部件。真空容器10借助于上盖19而使内部成为密闭空间,并且借助于与排气口15连接的未图示的泵等使其内部成为真空状态。
在真空容器10的内侧面,沿该内侧面固定有公转用轨道27,在公转用轨道27上隔着钢珠21e而安装有公转齿轮17b。公转齿轮17b沿着真空容器10的内侧面配设,在侧面具有与驱动齿轮17a啮合的齿轮,在上表面形成有支承定位台18的未图示的轨道。
可搬型旋转装置11主要由如下部分构成:旋转拱顶21,其是底部外周被固定于公转齿轮17b的接头圆锥状;内框11a、基板支架12和外框24,它们旋转自如地被固定在旋转拱顶21上;以及连结臂41,其将内框11a和外框24连结起来。
如图2所示,旋转拱顶21由板状的安置夹具21a与支撑部件21b上下组合而构成。在旋转拱顶21中,沿圆周方向按大致45度间隔在8处形成有圆形的安装开口部21i,所述安装开口部21i具有比后述的基板支架12的外周大的直径。并且,在安装开口部21i的边缘固定有安装夹具21h。安装夹具21h是如下部件:截面呈曲柄状,并且为将旋转拱顶21与后述的行星齿轮用轴承21f连接起来而具有规定的高度并形成为环状。
此外,如图1所示,旋转拱顶21在中央具有大致圆筒状并且向上方延伸出的拱顶支架21g。通过拱顶支架21g被嵌于设置在真空容器10的大致中央的上部的轴部件16,从而旋转拱顶21被支承成能够以与轴部件16的中心轴线同轴的公转轴线R1为中心旋转。
此外,如图4所示,旋转拱顶21借助于螺钉25e而与公转齿轮用轴承21d的下侧固定。因此,旋转拱顶21的旋转力不传递到固定于公转齿轮用轴承21d的上侧的内框11a。
另外,安置夹具21a是由接头圆锥状构成、安置基板支架12的部件,支撑部件21b形成与安置夹具21a大致相同的形状,并且是从下方支承安置夹具21a的部件。
内框11a配设在拱顶支架21g的外周侧的附近,经公转齿轮用轴承21d而被支承在旋转拱顶21上。如图3所示,内框11a的一处具有比其它部位向拱顶支架21g侧突出的突出片41b。通过后述的固定用活塞部件40的固定部40a嵌于突出片41b,从而限制内框11a、与内框11a连结的连结臂41和外框24的旋转。
如图3所示,将内框11a和外框24连结起来的6根连结臂41从内框11a呈放射状地均等地配设。
连结臂41如图4所示地借助于螺钉25f而使内侧端部被固定于内框11a,并经公转齿轮用轴承21c而使外侧端部旋转自如地被固定在旋转拱顶21上。具体而言,6根连结臂41的外侧端部分别借助于螺钉25d而被固定于安装板22,所述安装板22被固定于公转齿轮用轴承21c的内圈侧。各个公转齿轮用轴承21c的外圈侧被载置在旋转拱顶21的上表面,并随着旋转拱顶21的旋转而旋转。即,连结臂41被固定于配置在旋转拱顶21上的公转齿轮用轴承21c的内圈侧,由此,连结臂41和与连结臂41连接的外框24不传递旋转拱顶21的旋转力而从下侧被支承。
如图1所示,固定用活塞部件40具有气缸结构,下端具备固定部40a,通过未图示的控制部的控制而施加液压、水压、气压或其它外压,从而使固定部40a伸缩。如上所述,通过固定部40a嵌于突出片41b,从而限制内框11a、与内框11a连结的连结臂41和外框24的旋转。
基板支架12是大致圆筒状,如图4所示,其经行星齿轮用轴承21f而以自转轴线R2为中心旋转自如地被固定在旋转拱顶21上。更具体而言,基板支架12经行星齿轮用轴承21f而从水平面倾斜约5~30度地被支承于安装夹具21h,所述安装夹具21h借助于螺栓螺母25a而被固定于旋转拱顶21。换言之,作为基板支架12的中心的自转轴线R2相对于水平面和公转轴线R1倾斜。基板支架12具备后述的圆筒状的支架主体30和卡定于支架主体30的外周面的后述的链轮部件23。
图1所示的伺服马达M配设在真空容器10外,其输出轴与驱动齿轮17a的中心连接。驱动齿轮17a配设在真空容器10内,并与公转齿轮17b啮合。并且,在公转齿轮17b上固定有定位台18,所述定位台18固定旋转拱顶21。
即,通过伺服马达M进行驱动,从而经驱动齿轮17a和定位台18而驱动旋转拱顶21旋转。该旋转拱顶21的旋转运动相当于后述的行星齿轮机构的公转运动。
蒸发源50是公知的成膜装置的一部分,并且是使被载置的成膜材料蒸发的装置。蒸发源50在真空容器10内配设在可搬型旋转装置11的下方、并且不在公转轴线R1上的位置。
这样,蒸发源50配设在从公转轴线R1偏离的位置,从而能够相对于被安置在基板支架12上的被成膜基板14倾斜地入射成膜材料而进行成膜,能够得到均衡的成膜。具体而言,如上所述,基板支架12以公转轴线R1为中心进行公转,并且以相对于公转轴线R1倾斜的自转轴线R2为中心进行自转。因此,通过在从公转轴线R1偏离的位置配设蒸发源50,从而能够使从蒸发源50蒸发的成膜材料倾斜地与被成膜基板14接触而进行成膜。因此,即使在被成膜基板14具有凹凸的情况下也可以得到均衡的成膜。
下面,参照图5、图6和图7对作为行星齿轮机构的主要部分的链轮部件23、外框24、滚链26和支架主体30具体地进行说明。
这里,图5A是示出外框24的俯视图,图5B是示出外框24的示意性端面图。此外,图6A是示出链轮部件23的仰视图,图6B是示出链轮部件23的图6A中的VIB-VIB截面的图,图6C是示出链轮部件23的6B中的VIC-VIC截面的图。并且,图7A是示出支架主体30的俯视图,图7B是示出支架主体30的图7A中的VIIB-VIIB截面的图。
外框24配设在比内框11a靠径向外侧的位置。此外,外框24由倾斜部24c和从上表面观察大致梯形板状的安装部24a构成,所述倾斜部24c从外周侧到内周侧向上侧倾斜而形成为环状,所述安装部24a从倾斜部24c的按均等的间隔配置的6处朝向外侧大致水平地突出,所述外框24配设在真空容器10的内侧面的附近。
倾斜部24c具体而言,形成为相对于安装部24a倾斜大约5度到30度。此外,在倾斜部24c,按均等的间隔形成约100个左右的沿其厚度方向贯通的贯通孔24d。后述的滚链26借助于螺栓螺母25b而被固定于该贯通孔24d。这样,被固定于倾斜部24c的后述的滚链26相对于公转轴线R1倾斜地被固定。
另外,贯通孔24d用于将滚链26固定于外框24,其个数是任意的。
安装部24a是外框24的被安装于连结臂41的部位,在安装部24a的中央形成有锪孔24b,该锪孔24b在下侧形成有锪孔面。外框24借助于从下侧穿过锪孔24b的螺钉25c而被紧固于连结臂41的外侧的端部。
如图3和图4所示,滚链26由内链节26a和外链节26b分别一对交替地组合而构成。内链节26a的一部分向作为外周侧的外框24侧延伸,并借助于螺栓螺母25b而被固定于安装部24a。
在一对内链节26a与外链节26b之间,呈同芯状地装配有未图示的筒状的销、衬套和辊,后述的链轮部件23的链齿23i进入并啮合于未图示的辊之间。滚链26由于该结构而挠性高,因此与后述的链轮部件23的啮合变深。由于该链轮部件23与滚链26的啮合比相互倾斜的正齿轮彼此的啮合啮合得深,因此能够抑制基板支架12产生振动。
如上所述,被固定于外框24的滚链26借助于固定用活塞部件40而与连结臂41和内框11a一体地固定,从而作为配置在行星齿轮机构的外周的固定齿轮而起作用。
如图6所示,链轮部件23是具备链齿23i的部件,所述链齿23i卡定于支架主体30的外周而构成行星齿轮机构的行星齿轮的齿部。链轮部件23由形成为大致圆筒状的碳素钢构成。更具体而言,链轮部件23由处于下侧的环状的下框部23a、处于上侧的环状的上框部23c、将下框部23a和上框部23c连结起来的中间部23b、以及被固定于上框部23c的外周的链齿23i构成。
下框部23a对链轮部件23进行定位,因此外周具有6处由捻钻形成的V字状的有底孔23h。
在中间部23b,为了减轻重量,在后述的引导槽23e之间形成有作为矩形的贯通孔的缺口23d。此外,中间部23b在比下框部23a靠外侧处形成得较厚,以弥补由于形成后述的引导槽23e而构成的薄壁部引起强度降低。
上框部23c具有与下框部23a大致相同的形状。此外,在链轮部件23,在从上框部23c的内周面到中间部23b的内周面形成有L字状的引导槽23e,所述引导槽23e穿过相邻的缺口23d之间。具体而言,引导槽23e由从上框部23c向中间部23b延伸的插入部23f、和卡定部23g形成,该卡定部23g与插入部23f相连地形成并从插入部23f的下端成大致直角地弯曲形成。
这样形成的引导槽23e用于引导支架主体30向后述的链轮部件23的内侧的插入、并且避免链轮部件23与支架主体30分离。关于该引导槽23e的功能的具体情况,后面进行说明。
在上框部23c的外周固定有链齿23i。具体而言,链齿23i以其前端部呈放射状地朝向外侧的方式被固定于上框部23c的外周。通过该链齿23i在旋转拱顶21公转时与滚链26啮合而从滚链26被附加转矩,从而链轮部件23进行自转。
图7所示的支架主体30是用于安置被成膜基板14的部件,并且是由不锈钢制的材料形成并构成行星齿轮机构的行星齿轮的主体部的部件。支架主体30由具有大致圆筒状的形状的基部30a和从基部30a突出的突出凸缘30b、突出片30c及卡定壁30d构成。
突出凸缘30b具有从下侧支承被安置的被成膜基板14的功能,所述突出凸缘30b处于基部30a的下端,并形成为从在圆周方向上处于均等配置的3处向内侧突出。突出凸缘30b形成大致扇形,并且形成为这样:圆周方向的长度长于径向的长度,此外,与上表面相比,下表面的突出量大。关于突出片30c的卡定链轮部件23的功能,后面进行说明。
突出片30c具有将链轮部件23卡定的功能,形成圆柱状。突出片30c配置在比基部30a的上下方向的中央靠下侧的位置,通过焊接使突出片30c逐个地被接合于3个突出凸缘30b各自的中央上方。
卡定壁30d具有卡定于链轮部件23来限制链轮部件23向上方的移动的功能,并形成为从基部30a的整个外周以小于突出片30c的突出量突出。通过以这样的突出量形成,从而能够避免在将支架主体30装配于链轮部件23时造成妨碍。
对突出片30c的卡定链轮部件23的功能具体地进行说明。在将支架主体30安装于链轮部件23的内侧时,突出片30c穿过插入部23f,从而引导该插入。并且,在插入支架主体30直至突出片30c到达插入部23f的末端后,使支架主体30沿卡定部23g的延伸方向旋转时,突出片30c向卡定部23g侧移动。在该状态下,利用卡定部23g的上下缘而限制突出片30c的移动。
这样,由于利用相对于基板支架12的旋转方向不脱离的L字状的槽形成引导槽23e,因此支架主体30与链轮部件23的安装状态得以维持。即,只要不主观地使支架主体30转动以使突出片30c向插入部23f侧移动,则支架主体30不会从链轮部件23分离。
另外,突出片30c与引导槽23e的形状的关联性也可以相反。即,也可以代替突出片30c采用这样的结构:在支架主体30侧形成作为第一槽部的L字状的槽,在链轮部件23侧形成作为被该槽引导的第二突出部的突起。
这样,即使在形成有链轮部件23和支架主体30的情况下,形成于链轮部件23的突起也能够被形成于支架主体30的L字状的槽引导,并且与上述同样地在使支架主体30相对于链轮部件23转动的位置处使支架主体30和链轮部件23卡定。若这样,则能够与上述同样,适当地避免支架主体30从链轮部件23分离。
下面,对具备如上构成的可搬型旋转装置11的真空蒸镀装置1的动作进行说明。
当未图示的控制部驱动伺服马达M时,利用伺服马达M的输出转矩使驱动齿轮17a旋转,与驱动齿轮17a啮合的公转齿轮17b进行旋转。当公转齿轮17b旋转时,与定位台18一同被固定于公转齿轮17b的旋转拱顶21以公转轴线R1为中心进行旋转。
另一方面,即使在旋转拱顶21旋转的情况下,经公转齿轮用轴承21d而与旋转拱顶21连接并借助于固定用活塞部件40而被固定的内框11a也不旋转。此外,通过螺钉25f而与内框11a连结并经公转齿轮用轴承21c而与旋转拱顶21连接的连结臂41也不旋转。并且,经连结臂41而与内框11a连结的外框24也不旋转。并且,被固定于外框24的滚链26也不旋转,滚链26作为行星齿轮机构的外侧固定齿轮而起作用。
即,经行星齿轮用轴承21f而与旋转拱顶21连接的基板支架12随着旋转拱顶21的公转运动与滚链26啮合而进行自转运动。
这样,为了实现行星齿轮机构,能够使被安装在基板支架12上的被成膜基板14不偏向地移位,并能够使成膜后的膜厚均衡化。
另外,对链轮部件23和支架主体30分体地构成的情况进行了说明,但本发明不限于这样的结构,也可以一体地构成。
此外,支架主体30的突出片30c也不限于通过焊接而与基部30a接合,也可以一体地形成。
除此以外,在本实施方式中,对利用固定用活塞部件40固定内框11a的情况进行了说明,但只要能够将与滚链26连接的部件的一部分固定即可,例如,也可以是固定连结臂41那样的结构、或固定连结臂41或外框24、或者公转齿轮用轴承21c的内圈侧那样的结构。
此外,对于真空蒸镀装置1的可搬型旋转装置11,若解除定位台18上的固定,则可以更换成其它可搬型旋转装置。例如,也可以更换成不具备如图8所示的行星齿轮机构的现有的可搬型旋转装置51。
这样,可搬型旋转装置11若解除定位台18上的固定,则可以容易地进行更换,在不需要行星齿轮机构的情况下、或者发生不良情况而需要维护的情况等时,可以有效利用现有的可搬型旋转装置51来进行成膜处理。除此以外,在更换成反转用的可搬型旋转装置的情况下也可以容易地卸下可搬型旋转装置11,因此很方便。
在上述实施方式的可搬型旋转装置11中,行星齿轮机构的作为固定齿轮的滚链26和作为行星齿轮的基板支架12被安装于可搬型旋转装置11。因此,在现有的装置的真空容器10不安装任何夹具而仅更换可搬型旋转装置11就能够改造成具备行星齿轮机构的真空蒸镀装置1,作业性良好。
并且,由于可搬型旋转装置11本身具备行星齿轮机构,因此不是由作为另外部件的未图示的搬运机构的框架等构成行星齿轮机构,无需可搬移未图示的搬运机构的未图示的台车等设备。因此,可以将暴露于大气的对象物仅限制为可搬型旋转装置11,在向排气口15进行真空再排气时是有利的。
此外,根据可搬型旋转装置11,由于可以利用通用的滚链26实现以倾斜的基板支架12作为行星齿轮的行星齿轮机构,因此能够提高制造效率。
并且,根据通过滚链26与链轮部件23的啮合而使基板支架12自转的结构,由于能够利用滚链26的挠性将动作阻力抑制得较低,因此能够抑制伺服马达M的驱动负荷,能够抑制伺服马达M的容量。
(第二实施方式)
在上述第一实施方式的可搬型旋转装置11中,是沿旋转拱顶21的半径方向仅配设一列构成行星齿轮的基板支架12的结构,但本发明不限于该结构。下面,参照图9对作为第二实施方式的可搬型旋转装置61而沿旋转拱顶71的半径方向具备2列内侧基板支架62a、外侧基板支架62b的结构进行说明。图9是示出第二实施方式的可搬型旋转装置61周围的概念图。
另外,对与上述实施方式同样的结构标注相同标号而省略说明,对与上述实施方式的不同点详细地进行说明。
第二实施方式的可搬型旋转装置61沿旋转拱顶71的半径方向具备2列内侧基板支架62a、外侧基板支架62b。旋转拱顶71的半径方向内侧的内侧基板支架62a配设成,与固定于后述的连结臂63的中间臂63a的内侧(拱顶支架21g侧)的滚链64b啮合。
内侧基板支架62a和外侧基板支架62b与可搬型旋转装置11的基板支架12向旋转拱顶21的安装方式同样地被安装于旋转拱顶71。
与第一实施方式的连结臂41相比,连结臂63在具备中间臂63a这点上不同,所述中间臂63a被固定于中央并向作为旋转拱顶71侧的下方延伸。
在中间臂63a的下端部固定有中框11b。中框11b构成倾斜部64a,所述倾斜部64a形成与倾斜部24c平行的倾斜。滚链64b以与滚链26被安装于倾斜部24c的结构同样的结构被安装于倾斜部64a。
即,滚链64b构成为与连结臂63和被固定于连结臂63的突出片41b一体,所述连结臂63与中间臂63a连接。因此,滚链64b利用固定用活塞部件40固定突出片41b,从而不由于旋转拱顶71的公转而动作,作为内侧基板支架62a的行星齿轮机构的外侧固定齿轮而起作用。
这样,内侧基板支架62a、外侧基板支架62b能够沿半径方向按2列构成行星齿轮机构。
在上述内容中,对滚链64b被固定于中间臂63a的内侧而与内侧基板支架62a啮合的结构进行了说明。该结构在能够加快内侧基板支架62a的自转速度这点上是优选的,但也可以为这样的结构:例如将滚链64b固定于中间臂63a的外侧并与配置在比滚链64b靠旋转拱顶71的半径方向外侧的内侧基板支架62a啮合。
根据上述第二实施方式的可搬型旋转装置61,由于沿径向具备2列内侧基板支架62a和外侧基板支架62b,因此,与仅具备1列同样大小的基板支架12的结构相比,能够将更多的被成膜基板14安装到可搬型旋转装置上。因此,能够提高生成成膜基板的能力。
此外,具备本实施例的内侧基板支架62a和外侧基板支架62b的可搬型旋转装置61具备与2列相应大小的基板支架,相对于此,能够将基板支架的直径缩小,相应地能够将自转时的内侧与外侧的周速度的差缩小,能够适当地进行均衡化。
在上述实施方式中,对1列具备8个基板支架的可搬型旋转装置的示例进行了说明,当然,其个数和列数可以根据需要而变更成任意的数量。
此外,在上述实施方式中,对作为成膜装置而采用真空蒸镀法的真空蒸镀装置进行了说明,但本发明不限于真空蒸镀装置,例如,也可以应用于采用溅射法、离子镀方法等其它方法的成膜装置。
标号说明
1:真空蒸镀装置
10:真空容器
11:可搬型旋转装置
11a:内框
11b:中框
12:基板支架
14:被成膜基板
15:排气口
16:轴部件
17a:驱动齿轮
17b:公转齿轮
18:定位台
19:上盖
21:旋转拱顶
21a:安置夹具
21b:支撑部件
21c、21d:公转齿轮用轴承
21e:钢珠
21f:行星齿轮用轴承
21g:拱顶支架
21h:安装夹具
21i:安装开口部
22:安装板
23:链轮部件
23a:下框部
23b:中间部
23c:上框部
23d:缺口
23e:引导槽
23f:插入部
23g:卡定部
23h:有底孔
23i:链齿
24:外框
24a:安装部
24b:锪孔
24c:倾斜部
24d:贯通孔
25a、25b:螺栓螺母
25c、25d、25e、25f:螺钉
26:滚链
26a:内链节
26b:外链节
27:公转用轨道
30:支架主体
30a:基部
30b:突出凸缘
30c:突出片
30d:卡定壁
40:固定用活塞部件
40a:固定部
41:连结臂
41a:环
41b:突出片
50:蒸发源
51、61:可搬型旋转装置
62a:内侧基板支架
62b:外侧基板支架
63:连结臂
63a:中间臂
64a:倾斜部
64b:滚链
71:旋转拱顶
M:伺服马达
R1:公转轴线
R2、R3:自转轴线
Claims (6)
1.一种可搬型旋转装置,其具备行星齿轮机构,被安装于对基板进行成膜的成膜装置,上述可搬型旋转装置的特征在于,该可搬型旋转装置由如下部分构成:
旋转体,其通过设置于上述成膜装置的驱动部进行旋转;
基板支架,其以能够旋转的方式被支承在该旋转体上,上述基板被载置于该基板支架;
内框,其经轴承而被安装在上述旋转体上;
外框,其配设在该内框的外侧,形成为与上述基板支架的外周侧啮合;以及
臂,其将上述内框和上述外框连结起来,
上述旋转体以作为上述行星齿轮机构的公转轴线的第一旋转轴线为中心进行旋转,
上述基板支架由上述旋转体保持在上述第一旋转轴线的周围,并被支承成能够以作为上述行星齿轮机构的自转轴线的第二旋转轴线为中心进行旋转。
2.根据权利要求1所述的可搬型旋转装置,其特征在于,
上述基板支架具有筒状的支架主体和形成于该支架主体的外周侧的链轮部件,上述第二旋转轴线以相对于上述第一旋转轴线斜着朝向的方式相对于上述公转轴线倾斜配设,
在上述外框的内周侧固定有与上述链轮部件啮合的滚链,
该滚链相对于上述第一旋转轴线倾斜地被安装于上述外框。
3.根据权利要求2所述的可搬型旋转装置,其特征在于,
上述支架主体的侧面具备第一突出部、或者从一个方向朝另一方向弯曲的形状的第一槽部,
上述链轮部件与上述支架主体分体形成,在上述链轮部件的侧面形成有从上述一个方向朝上述另一方向弯曲的形状的、对上述第一突出部进行引导的第二槽部、或者被上述第一槽部引导的第二突出部,
上述支架主体和上述链轮部件被卡定在上述第一突出部沿上述一个方向穿过上述第二槽部并沿上述另一方向穿入的位置、或者上述第二突出部沿上述一个方向穿过上述第一槽部并沿上述另一方向穿入的位置。
4.根据权利要求1至3中的任一项所述的可搬型旋转装置,其特征在于,
上述可搬型旋转装置具备:
至少一个中框,其设置在上述内框与上述外框之间,并与上述臂连结;和
其它基板支架,其形成为与该中框的侧部啮合,并以能够旋转的方式被支承在上述旋转体上,上述基板被载置于上述其它基板支架,
该其它基板支架由上述旋转体保持在上述第一旋转轴线的周围,并被支承成能够以作为上述行星齿轮机构的其它自转轴线的第三旋转轴线为中心进行旋转。
5.一种成膜装置,其特征在于,
上述成膜装置具备:
权利要求1所述的可搬型旋转装置;
上述驱动部,其驱动上述旋转体旋转;以及
成膜机构,其对被载置在上述基板支架上的上述基板进行成膜。
6.根据权利要求5所述的成膜装置,其特征在于,
上述成膜装置具备活塞部件,上述活塞部件具有向突出位置或者收纳位置移动的前端部,
该活塞部件的上述前端部以能够卡合和脱离的方式被配设在上述可搬型旋转装置的上述内框、上述外框或者上述臂。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN114807865A (zh) * | 2022-04-18 | 2022-07-29 | 兰州交通大学 | 一种能够双面镀膜的真空蒸镀设备 |
CN114752911B (zh) * | 2022-04-22 | 2024-04-05 | 捷捷微电(南通)科技有限公司 | 行星式穹顶安装架和真空镀膜机 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63307260A (ja) * | 1987-06-05 | 1988-12-14 | Shin Meiwa Ind Co Ltd | 成膜設備の回転式基板ホルダ |
JPH07138756A (ja) * | 1993-11-16 | 1995-05-30 | Olympus Optical Co Ltd | 薄膜蒸着装置 |
JPH07228974A (ja) * | 1994-02-17 | 1995-08-29 | Asahi Optical Co Ltd | 蒸着装置 |
CN102066602A (zh) * | 2008-06-17 | 2011-05-18 | 株式会社新柯隆 | 偏压溅射装置 |
JP2012227231A (ja) * | 2011-04-15 | 2012-11-15 | Japan Pionics Co Ltd | Iii族窒化物半導体の気相成長装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5124013A (en) * | 1988-02-08 | 1992-06-23 | Optical Coating Laboratory, Inc. | High ratio planetary drive system and method for vacuum chamber |
JP2981682B2 (ja) * | 1990-11-30 | 1999-11-22 | 新明和工業株式会社 | 連続成膜方式の真空蒸着装置 |
TW200712238A (en) * | 2005-09-07 | 2007-04-01 | Bohhen Optronics Co Ltd | Fixture for large-sized sheet of film-deposition |
JP5034578B2 (ja) * | 2007-03-15 | 2012-09-26 | パナソニック株式会社 | 薄膜処理装置 |
CN101407906B (zh) * | 2008-10-20 | 2011-04-27 | 舟山市汉邦机械科技有限公司 | 真空镀膜设备 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63307260A (ja) * | 1987-06-05 | 1988-12-14 | Shin Meiwa Ind Co Ltd | 成膜設備の回転式基板ホルダ |
JPH07138756A (ja) * | 1993-11-16 | 1995-05-30 | Olympus Optical Co Ltd | 薄膜蒸着装置 |
JPH07228974A (ja) * | 1994-02-17 | 1995-08-29 | Asahi Optical Co Ltd | 蒸着装置 |
CN102066602A (zh) * | 2008-06-17 | 2011-05-18 | 株式会社新柯隆 | 偏压溅射装置 |
JP2012227231A (ja) * | 2011-04-15 | 2012-11-15 | Japan Pionics Co Ltd | Iii族窒化物半導体の気相成長装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI711712B (zh) * | 2019-06-18 | 2020-12-01 | 采鈺科技股份有限公司 | 鍍膜設備 |
US11358168B2 (en) | 2019-06-18 | 2022-06-14 | Visera Technologies Company Limited | Coating apparatus |
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