CN105088163A - 一种在硬质合金刀片表面制备晶态Al2O3涂层的方法 - Google Patents
一种在硬质合金刀片表面制备晶态Al2O3涂层的方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN105088163A CN105088163A CN201510607080.1A CN201510607080A CN105088163A CN 105088163 A CN105088163 A CN 105088163A CN 201510607080 A CN201510607080 A CN 201510607080A CN 105088163 A CN105088163 A CN 105088163A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- hard alloy
- alloy blade
- coating
- magnetron sputtering
- carbide chip
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
Abstract
本发明公开了一种在硬质合金刀具表面制备晶态Al2O3涂层的方法,其制备步骤包括:1)将硬质合金刀片进行超声清洗,去除表面的油污;2)将硬质合金刀片装入真空室的靶台上,然后抽真空;3)将靶台及硬质合金刀片加热;4)将Ar与O2的混合气体通入真空室中,并将真空室内的压力控制在1×10-1~10×10-1Pa;5)开动Al孪生靶高功率脉冲磁控溅射系统;6)开动脉冲偏压系统;7)沉积0.5-5小时,得Al2O3涂层。采取Al孪生靶高功率脉冲磁控溅射技术来获得高的Al离子比例,在硬质合金刀片衬底上施加与高功率脉冲磁控溅射过程同频率的偏压来加速Al离子,衬底偏压有一定的延时,使入Al离子能量得到大幅度的提高,实现在较低的温度下制备Al2O3涂层。
Description
技术领域
本发明涉及一种在硬质合金刀片表面制备晶态Al2O3涂层的孪生靶高功率脉冲磁控溅射方法。
背景技术
氧化铝(Al2O3)涂层具有高熔点、高硬度、耐热以及化学性能好等优点,在硬质合金刀具领域具有广泛的应用前景。氧化铝涂层较为成熟的制备方法为化学气相沉积法(CVD),该技术要求沉积过程温度高于1000℃,导致生产过程能耗很大,此外制备过程气体的毒性也较大,对防护的要求很高。物理气相沉积(PVD)技术优点多,能够显著降低制备温度,已经引起了国内学者的广泛重视,但是PVD沉积氧化铝涂层时,获得的涂层呈现出无定形结构,为非晶态。与非晶态氧化铝涂层相比,晶态氧化铝涂层相比具有高密度,高硬度、良好的耐化学腐蚀性和耐热性等优点,其出色的高温稳定性及硬度使具有晶态Al2O3涂层的硬质合金刀具体现出良好的耐磨性及切削性能。
高功率脉冲磁控溅射技术是最近十年国际上发展迅速的一种涂层沉积技术,它具有离化率高的特点,制备的涂层结合强度高。孪生靶高功率脉冲磁控溅射技术是一种专门用于氧化物涂层的制备技术,采用双靶交替工作的方式来消除靶表面的电荷积累,能够大幅度降低涂层表面的大颗粒,提高涂层沉积的效率。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是:提供一种在硬质合金刀具表面、较低的温度下制备Al2O3涂层的方法。
为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案是:一种制备晶态Al2O3涂层的方法,其制备步骤包括:
1)将硬质合金刀片进行超声清洗,去除表面的油污等杂质,通常为10-20分钟;
2)将硬质合金刀片装入到真空室的靶台上,然后抽真空,真空小于5×10-2Pa;
3)启动靶台加热系统,将靶台及硬质合金刀片加热到400-600℃;
4)将流量比10:1~2:1的Ar与O2的混合气体通入真空室中,并将真空度控制在1×10-1~10×10-1Pa范围内;
5)开动Al孪生靶高功率脉冲磁控溅射系统,设定工作频率为100-5000Hz,脉宽为5-200μs,溅射电压为400-800V;
6)开动脉冲偏压系统,设定工作频率为100-5000Hz(工作频率与孪生靶高功率脉冲磁控溅射系统相同),脉宽为5-200μs,脉冲延时为1-30μs;
7)沉积0.5-5小时,获得不同厚度的Al2O3涂层。
有益效果:为了实现在较低的温度下制备Al2O3涂层,本发明采取Al孪生靶高功率脉冲磁控溅射技术来获得高的Al离子比例,在硬质合金刀片衬底上施加与高功率脉冲磁控溅射过程同频率的偏压来加速Al离子,考虑到离子到达衬底需要一定的运动时间,衬底偏压有一定的延时,使入射到衬底上的Al离子能量得到大幅度的提高,并将衬底加热到一定温度来制备晶化的氧化铝涂层。
附图说明
图1是不同氧气流量下氧化铝涂层XRD图谱;
图2是不同衬底温度下氧化铝涂层XRD图谱;
图3是不同衬底温度制备的氧化铝涂层的纳米硬度。
具体实施方式:
实施例1
1)将硬质合金刀片进行酒精超声清洗10分钟;
2)将硬质合金刀片装入到真空室的靶台上然后抽真空,真空为1×10-2Pa;
3)开动加热系统,将靶台及硬质合金刀片加热到450℃;
4)往真空室中通入50sccm的Ar和6sccm的O2,并将真空度控制在6×10-1Pa;
5)开动孪生靶高功率脉冲磁控溅射系统,设定工作频率为1000Hz,脉宽为20μs,溅射电压为650V;
6)开动脉冲偏压系统,工作频率与孪生靶高功率脉冲磁控溅射系统相同,脉宽为10μs,脉冲延时为5μs;
7)沉积2小时。
实施例2-6
具体实施例步骤与实施例1相同,工艺条件变化见表格:
工艺条件 | 实施例2 | 实施例3 | 实施例4 | 实例5 | 实例6 |
合金刀片加热温度(℃) | 550 | 550 | 550 | 300 | 室温 |
氧含量 | 5.5 | 8 | 10 | 8 | 8 |
真空度(Pa) | 6×10-1 | 6×10-1 | 6×10-1 | 6×10-1 | 6×10-1 |
实施效果:图1为沉积温度为550℃,氧气流量分别为5.5sccm、8sccm、10sccm沉积获得的氧化铝涂层XRD图谱。从图可以看出,氧气流量为5.5sccm下沉积的氧化铝涂层为非晶态,在氧气流量为8sccm及10sccm下得到的涂层均出现了一定程度的晶化,在45.790°和66.763°分别出现(400)和(440)晶向的γ-Al2O3。
图2为氧气流量为8sccm时衬底温度分别为300℃、450℃及550℃制备的氧化铝涂层XRD图谱。从图可以看出,450℃的沉积温度也可以得到的晶化的氧化铝涂层,在(400)和(440)晶向上出现了γ-Al2O3的衍射峰,当温度降低至300℃时图谱中只剩下衬底材料的衍射峰。
不同基片温度下制备的氧化铝薄膜的硬度如图3所示。550℃下薄膜硬度最大,紧接着的为450℃,300℃次之,室温下试样最次,表明晶化后的Al2O3涂层具有较高的硬度,从而有可能提高硬质合金的切削性能。
Claims (2)
1.一种在硬质合金刀片表面制备晶态Al2O3涂层的方法,其制备步骤包括:
1)将硬质合金刀片进行超声清洗,去除表面的油污;
2)将清洗后的硬质合金刀片置于真空环境下,环境压力小于5×10-2Pa;
3)将硬质合金刀片加热至400-600℃;
4)将流量比为10:1~2:1的Ar与O2的混合气体通入真空环境中,并将环境压力控制在1×10-1~10×10-1Pa;
5)开动Al孪生靶高功率脉冲磁控溅射系统,设定工作频率为100-5000Hz,脉宽为5-200μs,溅射电压为400-800V;
6)开动脉冲偏压系统,设定工作频率为100-5000Hz,脉宽为5-200μs,脉冲延时为1-30μs;
7)沉积0.5-5小时,获得不同厚度的Al2O3涂层。
2.根据权利要求1所述的一种在硬质合金刀片表面制备晶态Al2O3涂层的方法,其特征在于:所述的超声清洗时间至少10分钟。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201510607080.1A CN105088163A (zh) | 2015-09-22 | 2015-09-22 | 一种在硬质合金刀片表面制备晶态Al2O3涂层的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201510607080.1A CN105088163A (zh) | 2015-09-22 | 2015-09-22 | 一种在硬质合金刀片表面制备晶态Al2O3涂层的方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN105088163A true CN105088163A (zh) | 2015-11-25 |
Family
ID=54569477
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201510607080.1A Pending CN105088163A (zh) | 2015-09-22 | 2015-09-22 | 一种在硬质合金刀片表面制备晶态Al2O3涂层的方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN105088163A (zh) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019092009A1 (en) * | 2017-11-07 | 2019-05-16 | Walter Ag | Pvd process for the deposition of al2o3 and a coated cutting tool with at least one layer of al2o3 |
CN113322442A (zh) * | 2021-06-03 | 2021-08-31 | 哈尔滨工业大学 | 一种抗原子氧性能优异的γ-三氧化二铝薄膜的制备方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1278307A (zh) * | 1997-11-06 | 2000-12-27 | 桑德维克公司 | PVDAl2O3涂层刀具 |
CN101802247A (zh) * | 2007-06-08 | 2010-08-11 | 山特维克知识产权股份有限公司 | 用于制造pvd涂层的方法 |
CN103360122A (zh) * | 2013-06-21 | 2013-10-23 | 西南交通大学 | 一种提高陶瓷工件表面金属化表面性能的方法 |
US20140178659A1 (en) * | 2012-12-26 | 2014-06-26 | Shanghua Wu | Al2o3 or al2o3-contained multilayer coatings for silicon nitride cutting tools by physical vapor deposition and methods of making the same |
CN104195515A (zh) * | 2014-08-22 | 2014-12-10 | 哈尔滨工业大学 | 一种高功率双极脉冲磁控溅射方法 |
-
2015
- 2015-09-22 CN CN201510607080.1A patent/CN105088163A/zh active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1278307A (zh) * | 1997-11-06 | 2000-12-27 | 桑德维克公司 | PVDAl2O3涂层刀具 |
CN101802247A (zh) * | 2007-06-08 | 2010-08-11 | 山特维克知识产权股份有限公司 | 用于制造pvd涂层的方法 |
US20140178659A1 (en) * | 2012-12-26 | 2014-06-26 | Shanghua Wu | Al2o3 or al2o3-contained multilayer coatings for silicon nitride cutting tools by physical vapor deposition and methods of making the same |
CN103360122A (zh) * | 2013-06-21 | 2013-10-23 | 西南交通大学 | 一种提高陶瓷工件表面金属化表面性能的方法 |
CN104195515A (zh) * | 2014-08-22 | 2014-12-10 | 哈尔滨工业大学 | 一种高功率双极脉冲磁控溅射方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
丁继成等: "氧气闭环控制系统辅助反应磁控溅射沉积γ-Al2O3薄膜", 《装备制造技术》 * |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019092009A1 (en) * | 2017-11-07 | 2019-05-16 | Walter Ag | Pvd process for the deposition of al2o3 and a coated cutting tool with at least one layer of al2o3 |
CN111279011A (zh) * | 2017-11-07 | 2020-06-12 | 瓦尔特公开股份有限公司 | 沉积Al2O3的PVD工艺和具有至少一层Al2O3的被涂覆过的切削工具 |
KR20200085806A (ko) * | 2017-11-07 | 2020-07-15 | 발터 악티엔게젤샤프트 | Al2O3 증착을 위한 PVD 프로세스 및 적어도 하나의 Al2O3 층으로 코팅된 절삭 공구 |
US11326248B2 (en) | 2017-11-07 | 2022-05-10 | Walter Ag | PVD process for the deposition of Al2O3 and a coated cutting tool with at least one layer of Al2O3 |
KR102652515B1 (ko) | 2017-11-07 | 2024-03-28 | 발터 악티엔게젤샤프트 | Al2O3 증착을 위한 PVD 프로세스 및 적어도 하나의 Al2O3 층으로 코팅된 절삭 공구 |
CN113322442A (zh) * | 2021-06-03 | 2021-08-31 | 哈尔滨工业大学 | 一种抗原子氧性能优异的γ-三氧化二铝薄膜的制备方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN103668095A (zh) | 一种高功率脉冲等离子体增强复合磁控溅射沉积装置及其使用方法 | |
SE533395C2 (sv) | Sätt att göra PVD-beläggningar | |
CN111349901B (zh) | 一种切削刀具用耐高温氧化铝厚膜涂层的制备方法 | |
CN108677144B (zh) | 一种制备铝氮共掺类金刚石复合薄膜的方法 | |
JP2020023754A (ja) | 基板上に金属ホウ炭化物層を製造する方法 | |
CA2916769C (en) | Tib2 layers and manufacture thereof | |
CN104962914B (zh) | 制备dlc膜的工业型自动化气相沉积设备 | |
CN103794459A (zh) | 用于等离子处理腔室的气体喷淋头及其涂层形成方法 | |
CN101746961A (zh) | 在平板玻璃上沉积多晶β-Ga2O3薄膜的方法 | |
CN103243305A (zh) | 一种二次电子发射薄膜的制备方法 | |
CN101545095B (zh) | 石墨衬底上生长氮化硼膜的方法 | |
CN105088163A (zh) | 一种在硬质合金刀片表面制备晶态Al2O3涂层的方法 | |
CN100517572C (zh) | 多晶硅薄膜制备方法 | |
CN101323946A (zh) | 一种不同相结构的纳米晶金属Ta薄膜的制备方法 | |
CN103243304A (zh) | 一种提高金属工件表面力学性能的方法 | |
CN100575543C (zh) | 一种在钴基高温合金表面沉积碳化硅高辐射涂层的方法 | |
CN106338347A (zh) | 一种高温声表面波传感器的叉指电极材料及其制备方法 | |
CN108930019B (zh) | 一种tsc陶瓷薄膜的制备方法及其产品和应用 | |
CN101586227A (zh) | 采用离子镀在生长衬底上制备氮化铝材料的方法 | |
CN110983280A (zh) | 一种离子束辅助沉积工艺制备W掺杂ZrO2薄膜的方法 | |
CN103233207A (zh) | 一种射频磁控共溅射制备二次电子发射功能薄膜的方法 | |
CN103774098B (zh) | 氧化亚锡织构薄膜及其制备方法 | |
CN107164730A (zh) | 一种在漆包线用的拉拔模表面制备晶态Al2O3涂层的方法 | |
CN113061845B (zh) | 一种超黑高性能Ti-DLC涂层的制备工艺 | |
CN102634755B (zh) | 一种致密氮化物陶瓷涂层及其制备方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20151125 |