CN104850265A - 单层多点触控结构的制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种单层多点触控结构的制造方法，包括以下步骤：S10，基材表面上制作ITO走线；S20，丝印感光型绝缘油墨，紫外光固化；S30，丝印感光银浆，曝光显影制作银浆走线；S40，烘烤。该单层多点触控结构的制造方法具有精度高和生产效率高的优点。
Description
技术领域
本发明涉及触摸屏技术领域，具体地，涉及一种单层多点触控结构的制造方法。
背景技术
随着触控面板行业的激烈竞争，触摸屏技术不断更新和发展，其在平板电脑、电视和手机推广、应用，单层多点触控技术以其较低的成本优势逐渐受到市场的认可。
现有单层多点触控结构，采用丝印绝缘油墨，并加热固化绝缘油墨，将局部区域的银浆走线与ITO（Indiμm Tin Oxide，氧化铟锡，其特点是透明和具有良好的导电性能）走线隔离。
银浆走线、ITO走线及绝缘油墨之间的相互套合精度主要通过丝印实现，而丝印精度通常受网版以及丝印参数的影响大，难以实现较高的套合精度，且加热固化绝缘油墨会因高温烘烤导致膜材收缩，生产效率低。
发明内容
本发明的目的在于提供一种高精度和高生产效率的单层多点触控结构的制造方法。
本发明公开的单层多点触控结构的制造方法所采用的技术方案是:
一种单层多点触控结构的制造方法，包括以下步骤：
S10，基材表面上制作ITO走线；
S20，丝印感光型绝缘油墨，紫外光固化；
S30，丝印感光银浆，曝光显影制作银浆走线；
S40，烘烤。
优选地，在步骤S20中，所述感光型绝缘油墨经紫外固化后厚度小于或等于15μm。
优选地，在步骤S20中，丝印网版使用聚酯网版30目，线径30μm，乳剂厚度为10-12μm，紫外灯照度为160mw/cm2,紫外灯照时间为40-60秒。
优选地，在步骤S30中，所述感光银浆厚度为4-6μm，曝光能量为300-400mj/cm2，曝光时间为10-15秒。
优选地，在步骤S30中感光银浆在曝光之前，在90-100℃温度下预烘烤10分钟。
优选地，在步骤S30中感光银浆在曝光之后，在浓度为0.18-0.25wt%、温度为28-30℃的Na2CO3 溶液中显影处理15-30秒。
优选地，步骤S10包括：
S11，在基材表面设置由ITO膜制成的导电层；
S12，在导电层的表面涂覆一层抗蚀刻层；
S13，曝光抗蚀刻层；
S14，显像处理；
S15，蚀刻；
S16，剥离抗蚀刻层。
优选地，上述步骤均在黄光条件下进行。
本发明公开的单层多点触控结构的制造方法的有益效果是：采用感光型绝缘油墨，避免高温热固化绝缘油墨因高温烘烤导致基材收缩，提高生产效率，感光银浆、基材表面ITO走线和感光型绝缘油墨之间的套合精度通过曝光实现，提高了套合精度。
附图说明
图1是本发明单层多点触控结构的制造方法的流程图；
图2是本发明步骤S10的流程示意图。
具体实施方式
下面结合具体实施例和说明书附图对本发明做进一步阐述和说明:
一种单层多点触摸屏电极的制造方法包括以下步骤，所有步骤在黄光条件下进行。
步骤S10，基材表面上制作ITO走线。步骤S10包括以下步骤：S11，在基材表面设置导电层。通过溅射或蒸发等方法在基材上镀上一层厚度小于等于15μm 的ITO膜，形成透明的导电层。S12，在导电层的表面涂覆一层抗蚀刻层，用以保护导电层。抗蚀刻层的材料为光阻剂，可采用负型光阻剂，其照到光的部分固化。S13，曝光抗蚀刻层。将曝光模版置于抗蚀刻层上方，曝光光线通过曝光模版照射到抗蚀刻层，曝光的抗蚀刻层固化。S14,显像处理。利用K2CO3的有机溶液对抗蚀刻层显像处理，将没有曝光即未固化的负型光阻剂冲洗干净，而曝光固化的负型光阻剂得以保存下来。S15，蚀刻。利用HCl、HNO3等酸性溶液对没有抗蚀刻层保护的导电层进行蚀刻。S16，剥离抗蚀刻层。利用NaOH等碱性溶液对负型光阻剂进行剥离处理，基材表面的导电层形成ITO走线。
步骤S20，丝印感光型绝缘油墨，紫外光固化。在制作ITO走线的基材表面丝印感光型绝缘油墨，感光型绝缘油墨采用深圳市智化电科技有限公司开发的ELECT-3810-1型，丝印网版使用聚酯网版30目，线径30μm，乳剂厚度为10-12μm，紫外灯照度为140-160mw/cm2,紫外灯照时间为40-60秒，感光型绝缘油墨经紫外固化后厚度不超过15μm，形成绝缘油墨图案。
步骤S30，丝印感光银浆，曝光显影制作银浆走线。在形成绝缘油墨图案的基材表面丝印感光银浆，所述感光银浆厚度为4-6μm，在90-100℃温度下预烘烤10分钟，曝光感光银浆，曝光能量为300-400mj/cm2，曝光时间为10-15秒，曝光的部分固化，没曝光的部分不会固化，在浓度为0.18-0.25wt%、温度为28-30℃的Na2CO3 溶液中显影处理15-30秒，形成图形化的感光银浆。由于感光型绝缘油墨采用深圳市智化电科技有限公司开发的ELECT-3810-1型，经紫外光固化后表面粗糙度值较低，避免感光银浆在显影后出现银浆走线脱落的现象。
步骤S40，烘烤。在140℃温度下烘烤40分钟。由于是在ITO走线、丝印感光型绝缘油墨和感光银浆之后，不会对基材造成较大的影响，也不会影响各图案之间的相互套合精度。
上述步骤在黄光条件下进行，可实现感光银浆走线线宽与线距在20/20μm，同时，感光银浆、基材表面ITO走线和感光型绝缘油墨之间的套合精度主要是通过曝光实现，三者之间的套合精度可控制在10μm以内。
最后应当说明的是，以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对本发明保护范围的限制，尽管参照较佳实施例对本发明作了详细地说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本发明技术方案的实质和范围。
Claims (8)
1.一种单层多点触控结构的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：
S10，基材表面上制作ITO走线；
S20，丝印感光型绝缘油墨，紫外光固化；
S30，丝印感光银浆，曝光显影制作银浆走线；
S40，烘烤。
2.如权利要求1所述的单层多点触控结构的制造方法，其特征在于，在步骤S20中，所述感光型绝缘油墨经紫外固化后厚度小于或等于15μm。
3.如权利要求2所述的单层多点触控结构的制造方法，其特征在于，在步骤S20中，丝印网版使用聚酯网版30目，线径30μm，乳剂厚度为10-12μm，紫外灯照度为160mw/cm2,紫外灯照时间为40-60秒。
4.如权利要求1所述的单层多点触控结构的制造方法，其特征在于，在步骤S30中，所述感光银浆厚度为4-6μm，曝光能量为300-400mj/cm2，曝光时间为10-15秒。
5.如权利要求4所述的单层多点触控结构的制造方法，其特征在于，在步骤S30中感光银浆在曝光之前，在90-100℃温度下预烘烤10分钟。
6.如权利要求5所述的单层多点触控结构的制造方法，其特征在于，在步骤S30中感光银浆在曝光之后，在浓度为0.18-0.25wt%、温度为28-30℃的Na2CO3 溶液中显影处理15-30秒。
7.如权利要求1-6任一项所述的单层多点触控结构的制造方法，其特征在于，步骤S10包括：
S11，在基材表面设置由ITO膜制成的导电层；
S12，在导电层的表面涂覆一层抗蚀刻层；
S13，曝光抗蚀刻层；
S14,显像处理；
S15，蚀刻；
S16，剥离抗蚀刻层。
8.如权利要求7所述的单层多点触控结构的制造方法，其特征在于，上述步骤均在黄光条件下进行。
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