KR20180045712A - 터치 스크린 패널용 센서의 제조 방법 및 터치 스크린 패널용 센서 - Google Patents
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Abstract
터치 스크린 패널의 시인성을 향상시키는 터치 스크린 패널용 센서의 제조 방법 및 터치 스크린 패널용 센서를 제시한다. 제시된 터치 스크린 패널용 센서의 제조 방법은 투명 기재의 상부에 전극 패턴을 형성하고, 전극 패턴의 표면에 도금층을 형성하고, 도금층의 표면(즉, 상면 및 둘레)에 흑화층을 형성하여 공정을 단순화하면서 터치 스크린 패널의 시인성을 향상시킨다.
Description
본 발명은 터치 스크린 패널용 센서의 제조 방법 및 터치 스크린 패널용 센서에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 터치 스크린 패널에 실장되어 터치를 감지하면서, 화면 시인성을 향상시킨 터치 스크린 패널용 센서의 제조 방법 및 터치 스크린 패널용 센서에 관한 것이다.
일반적으로 터치 스크린 패널은 일면에 투명 필름에 투명 전극이 구비된 터치 스크린 센서를 커버 유리(Cover Glass)에 합착하여 제작되고 있다.
상기 터치 스크린 센서는, 투명 필름의 일면에 전극 재료, 즉, 일 예로 ITO(Indium Tin Oxide)를 일면에 코팅하고, 에칭 공정으로 센싱 전극을 형성하여 제조된다.
그러나, 상기한 종래의 터치 스크린 센서의 제조 방법은 13인치 이상의 화면에서 ITO(Indium Tin Oxide) 전극의 높은 저항으로 터치 속도 저하와 멀티 터치 구현에 어려움이 있었다.
또한, ITO(Indium Tin Oxide)의 주재료인 인듐은 희귀 원소로 고갈의 위험이 있고, 가격이 비싸 터치 스크린 패널의 제조 비용을 증대시키는 원인이 되고 있다.
특히, 13인치 이상의 대면적 터치 스크린 패널에서 ITO(Indium Tin Oxide) 전극은 높은 저항으로 전력 소모가 과다한 문제가 있다.
또한, AgNW(Silver nano Wire)를 투명 필름의 전면에 형성하고, 에칭으로 투명 전극을 형성하여 터치 스크린 센서를 제조할 수 있는데, AgNW(Silver nano Wire)을 사용하여 투명 전극을 형성하는 경우 낮은 저항으로 터치 속도는 우수하나 투명도가 낮은 문제점이 있다.
종래의 터치 스크린 센서는 대부분 노광, 현상, 에칭 등의 공정을 거치게 되며, 이때 투명 필름의 기재상에 스크래치 등의 손상이 발생하고, 이러한 손상에 의한 광학적 열화가 발생되는 문제점이 있다.
본 발명은 상기한 종래의 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로, 터치 스크린 패널의 시인성을 향상시키는 터치 스크린 패널용 센서의 제조 방법 및 터치 스크린 패널용 센서를 제공하는 데 그 목적이 있다. 즉, 본 발명은 터치 스크린 패널용 센서의 터치 감지용 회로 전극 측면에서 발생하는 빛 반사를 최소화하여 터치 스크린 패널의 시인성을 향상시키는 터치 스크린 패널용 센서의 제조 방법 및 터치 스크린 패널용 센서를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널용 센서의 제조 방법은 투명 기재의 상부에 전극 패턴을 형성하는 단계, 전극 패턴의 표면에 도금층을 형성하는 단계 및 도금층의 표면에 흑화층을 형성하는 단계를 포함한다.
이때, 전극 패턴을 형성하는 단계는 투명 기재에 형성된 시드층의 상부에 감광성 고분자를 전기방사로 도포하여 감광층을 형성하는 단계, 감광층의 상부에 마스크를 적층하여 노광 및 현상하는 단계 및 노광 및 형상하는 단계에서 현상되지 않은 감광층 일부를 마스크로 하여 시드층을 식각하는 단계를 포함할 수 있다.
여기서, 시드층을 식각하는 단계에서는 노광 및 형상하는 단계에서 현상된 감광층보다 좁은 선폭을 갖도록 시드층을 식각할 수 있다.
한편, 전극 패턴을 형성하는 단계는 시드층을 식각하는 단계 이후에 시드층의 상부의 감광층을 제거하여 전극 패턴을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
도금층을 형성하는 단계는 무전해도금을 통해 전극 패턴의 상면 및 둘레에 도금층을 형성하는 단계를 포함하고, 흑화층을 형성하는 단계는 무전해도금을 통해 도금층의 상면 및 둘레에 흑화층을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널용 센서는 투명 기재 및 투명 기재의 상부에 구비되어 터치를 감지하는 터치 감지용 회로 전극을 포함하고, 터치 감지용 회로 전극은 투명 기재의 상부에 형성된 시드층, 시드층의 표면에 형성된 도금층 및 도금층의 표면에 형성된 흑화층을 구비한다.
시드층은 구리 또는 구리를 포함하는 혼합 재질일 수 있다.
도금층은 시드층의 상면 및 둘레에 형성되고, 구리 또는 구리를 포함하는 혼합 재질일 수 있다.
흑화층은 도금층의 상면 및 둘레에 형성되고, 블랙 니켈(Black Ni), 블랙 카본(Black Carbon) 및 탄소나노튜브 중 적어도 하나를 포함하는 흑화제일 수 있다.
본 발명에 의하면, 터치 스크린 패널용 센서의 제조 방법 및 터치 스크린 패널용 센서는 전기방사를 통해 시드층에 감광층을 형성함으로써, 드라이 필름을 사용하는 종래에 비해 라미네이팅 공정이 생략되어 공정을 단순화할 수 있는 효과가 있다.
또한, 터치 스크린 패널용 센서의 제조 방법 및 터치 스크린 패널용 센서는 전기방사를 통해 시드층에 감광층을 형성함으로써, 드라이 필름을 사용하는 종래에 비해 두께를 얇고 균일하게 감광층을 형성할 수 있어 감광제 재료의 양을 줄여 원가를 줄일 수 있고, 노광 및 현상 공정 시간이 단축되어 생산성을 향상시킬 수 있다.
또한, 터치 스크린 패널용 센서의 제조 방법 및 터치 스크린 패널용 센서는 대략 1㎛ 정도의 메탈 메쉬(Metal) 선폭을 갖는 터치 감지용 회로 전극을 형성함으로써, 터치 감지용 회로 전극을 육안으로 인지할 수 없는 정도의 화면 시인성을 구현할 수 있고, 초미세 회로 구현을 통해 모아레 현상을 최소화할 수 있다.
또한, 터치 스크린 패널용 센서의 제조 방법 및 터치 스크린 패널용 센서는 터치 감지용 회로 전극의 표면(즉, 상면 및 둘레)에 흑화층을 형성함으로써, 터치 감지용 회로 전극의 빛 반사를 최소화하여 화면 시인성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
도 1은 본 발명에 따른 터치 스크린 패널용 센서가 적용되는 터치 스크린 패널의 일 예를 도시한 사시도.
도 2 및 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널용 센서의 제조 방법을 설명하기 위한 도면.
도 4 및 도 5는 도 2의 터치 감지용 회로 전극 형성 단계를 설명하기 위한 도면.
도 6 내지 도 8은 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널용 센서를 설명하기 위한 도면.
도 2 및 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널용 센서의 제조 방법을 설명하기 위한 도면.
도 4 및 도 5는 도 2의 터치 감지용 회로 전극 형성 단계를 설명하기 위한 도면.
도 6 내지 도 8은 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널용 센서를 설명하기 위한 도면.
이하, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세히 설명하기 위하여, 본 발명의 가장 바람직한 실시예를 첨부 도면을 참조하여 설명하기로 한다. 우선 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예 따른 터치 스크린 패널용 센서는 터치 스크린 패널(1)에서 터치를 감지하는 터치 감지용 회로 전극(20)이 구비되어 디스플레이 패널부(1a)의 일면에 장착된다.
터치 스크린 패널용 센서는 투명기재(10)에 복수의 이격된 X축 전극이 형성된 X축 센서(1e), 투명기재(10)에 복수의 이격된 Y축 전극이 형성된 Y축 센서(1f)를 포함한다.
디스플레이 패널부(1a)는 LCD 패널, LED 패널 등을 포함하여 화면을 출력한다. X축 센서(1e)와 Y축 센서(1f)는 X축 전극과 Y축 전극이 교차되게 배치되도록 디스플레이 패널의 일면에 장착된다.
즉, 터치 스크린 패널(1)은 디스플레이 패널부(1a)와, 디스플레이 패널부(1a)에 장착되는 X축 센서(1e)와 Y축 센서(1f)를 포함한 터치 센서부(1b), 터치 센서부(1b)를 커버하는 커버 패널부(1c)를 포함한다. 디스플레이 패널부(1a), 터치 센서부(1b), 커버 패널부(1c)는 투명 접착층(1d)에 의해 각각 접착된다.
터치 스크린 패널용 센서는 터치 센서부(1b)에 포함되는 X축 센서 또는 Y축 센서, X축 전극과 Y축 전극이 동일면에 형성된 것을 일 예로 한다. 터치 스크린 패널용 센서의 제조 방법은 X축 센서 또는 Y축 센서를 제조하는 방법, X축 전극과 Y축 전극이 동일면에 형성된 센서를 제조하는 방법인 것을 일 예로 한다.
여기서, 도 1에서는 터치 스크린 패널용 센서를 용이하게 설명하기 위해 패턴의 두께 및 모양을 과장하여 도시하였으나, 이에 한정되지 않고, 실제 터치 스크린 패널용 센서는 다양한 패턴 모양으로 형성되고, 패턴의 두께는 도시된 패턴의 두께보다 매우 얇게 형성되고, 패턴 수도 도시된 수보다 많게 형성될 수 있다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널용 센서의 제조 방법은 투명 기재(100)를 준비하는 단계(S100), 전극 패턴(200)을 형성하는 단계(S200), 전극 패턴(200)에 도금층(300)을 형성하는 단계(S300), 도금층(300)에 흑화층(400)을 형성하는 단계(S400)를 포함한다.
투명 기재(100)를 준비하는 단계(S100)는 PET 필름, PI(Polyimide) 필름, PEN(Polyethylene Naphthalate) 필름, PC(Polycarbonate)필름, PSS(Poly styrene sulfonate) 필름 중 어느 하나를 투명 기재(100)로 준비한다. 이때, 투명 기재(100)는 강화 유리 등과 같이 터치 스크린 패널용 센서의 기재로 사용할 수 있는 어떠한 투명한 기재도 사용 가능함을 밝혀둔다.
전극 패턴(200)을 형성하는 단계(S300)는 이격된 복수의 X축 전극 또는 이격된 복수의 Y축 전극을 포함하는 전극 패턴(200)을 투명 기재(100)에 형성한다.
도 4 및 도 5를 참조하면, 전극 패턴(200)을 형성하는 단계(S200)는 투명 기재(100)에 시드층(210)을 형성하는 단계(S210), 시드층(210)에 감광층(220)을 형성하는 단계(S220), 감광층(220)을 노광하는 단계(S230), 감광층(220)을 현상하는 단계(S240), 시드층(210)을 에칭하는 단계(S250), 감광층(220)을 박리하는 단계(S260)를 포함한다.
투명 기재(100)에 시드층(210)을 형성하는 단계(S210)는 스퍼터링(Sputtering) 공정을 통해 투명 기재(100)의 상부에 시드층(210)을 형성한다. 즉, 투명 기재(100)에 시드층(210)을 형성하는 단계(S210)는 구리(Cu) 또는 구리(Cu)를 포함하는 혼합 재질인 시드층(210)을 투명 기재(100)의 상부에 형성한다. 이때, 투명 기재(100)에 시드층(210)을 형성하는 단계(S210)는 스터터링 공정을 통해 대략 20㎚ 정도의 두께를 갖는 시드층(210)을 투명 기재(100)의 상부에 형성한다.
시드층(210)에 감광층(220)을 형성하는 단계(S220)는 감광성 고분자를 전기방사로 도포하여 감광층(220)을 형성한다. 즉, 시드층(210)에 감광층(220)을 형성하는 단계(S220)는 감광성 고분자액을 전기방사로 시드층(210)의 표면에 도포하여 감광층(220)을 형성한다.
시드층(210)에 감광층(220)을 형성하는 단계(S220)는 전기방사를 통해 대략 1㎛ 정도의 두께를 갖는 감광층(220)을 형성한다. 이때, 전기방사는 전기방사용 노즐과, 시드층(210)에 전기전원을 인가한 상태에서 전기방사용 노즐로 감광성 고분자액을 압축공기와 분사하여 시드층(210)의 상부에 감광층(220)을 형성한다.
전기방사는 분사되는 감광성 고분자에 전하가 포함되므로, 감광성 고분자액이 분사되면서 응집되지 않고 분산이 원활하여 1㎛ 이하의 박막으로 감광층(220)을 형성할 수 있다.
또한, 전기방사는 시드층(210)에 전기 전원을 인가한 상태로 시드층(210) 상부에 감광층(220)을 형성하므로, 감광성 고분자액이 방사되면서 생성된 감광제 섬유가 전위차에 의해 시드층(210)에 균일하게 도포되고, 강하게 부착되어 도포된다.
시드층(210)에 감광층(220)을 형성하는 단계(S220)는 전기방사를 통해 형성된 감광층(220)을 경화시킨다. 이때, 시드층(210)에 감광층(220)을 형성하는 단계(S220)는 자외선(UV) 경화, 레이저(Laser) 경화, 이빔(ebeam) 경화 등의 방법으로 감광층(220)을 경화시킨다.
이처럼, 시드층(210)에 감광층(220)을 형성하는 단계(S220)는 전기방사를 통해 감광층(220)을 형성하기 때문에, 드라이 필름을 사용하는 경우 발생하는 라미네이팅 공정을 생략하여 공정을 단순화할 수 있는 효과가 있다.
또한, 전기 방사를 통해 감광층(220)을 형성하는 것은 기존 드라이 필름을 사용하는 경우에 비해 두께를 얇고 균일하게 감광층(220)을 형성할 수 있어 감광제 재료의 양을 줄여 원가를 줄일 수 있고, 노광 및 현상 공정 시간이 단축되어 생산성을 향상시킬 수 있다.
감광층(220)을 노광하는 단계(S230)는 전극 패턴(200)에 대응되는 패턴이 형성된 마스크(230)를 감광층(220)의 상부에 적층한다. 감광층(220)을 노광하는 단계(S230)는 마스크(230)에 형성된 패턴 이외의 영역을 통해 노출된 감광층(220)에 자외선(UV)를 노광한다. 이때, 감광층(220)을 노광하는 단계(S230)는 대략 1.5㎛ 정도의 선폭을 갖는 패턴이 형성된 마스크(230)를 이용하여 감광층(220)을 노광한다.
감광층(220)을 현상하는 단계(S240)는 감광층(220)을 노광하는 단계(S230)에서 노광된 감광층(220)의 일부를 현상하여 전극 패턴(200)을 제외한 영역의 감광층(220)을 제거한다.
시드층(210)을 에칭하는 단계(S250)는 전극 패턴(200) 형상의 감광층(220)을 마스크(230)로 하여 시드층(210)을 에칭한다. 이때, 시드층(210)을 에칭하는 단계(S250)는 에칭 시간 조절을 통해 마스크(230)의 선폭(즉, 감광층(220)의 선폭인 대략 1.5㎛ 정도)보다 좁은 대략 1㎛ 정도의 선폭을 갖도록 시드층(210)을 에칭한다.
이때, 시드층(210)을 에칭하는 단계(S250)는 대략 1㎛ 정도의 선폭을 갖는 메탈 메쉬(Metal Mesh) 구조의 시드층(210)을 구현함으로써, 전극 패턴(200)을 육안으로 인지할 수 없는 정도의 시인성을 구현할 수 있고, 초미세 회로 구현을 통해 모아레 현상을 최소화할 수 있다.
감광층(220)을 박리하는 단계(S260)는 시드층(210) 상부에 형성된 감광층(220)을 박리한다. 감광층(220)을 박리하는 단계(S260)는 전기방사로 형성된 감광층(220)을 유기 용제로써 스트립(Strip)하여 시드층(210)의 손상 없이 감광층(220)을 박리한다.
감광층(220)을 박리하는 단계(S260)를 수행함에 따라 투명 기재(100)의 상부에는 전극 패턴(200)이 형성된다. 이때, 전극 패턴(200)을 형성하는 단계(S200)는 상술한 공정을 통해 대략 1㎛ 정도의 메탈 메쉬(Metal) 선폭을 갖는 전극 패턴(200)을 형성함으로써, 시안성을 향상시킬 수 있다.
전극 패턴(200)에 도금층(300)을 형성하는 단계(S300)는 무전해도금을 통해 전극 패턴(200)의 표면에 구리(Cu) 재질의 도금층(300)을 형성한다. 즉, 전극 패턴(200)은 미세 선폭으로 형성되기 때문에 전도성이 낮은 특성을 갖는다. 전극 패턴(200)에 도금층(300)을 형성하는 단계(S300)는 전극 패턴(200)의 전도성을 높이기 위해서 무전해도금으로 전극 패턴(200) 상에 도금층(300)을 형성하여 전극 패턴(200)의 두께를 증가시킨다.
전극 패턴(200)에 도금층(300)을 형성하는 단계(S300)는 대략 1㎛ 내지 2㎛ 정도의 두께를 갖는 도금층(300)을 형성하며, 전극 패턴(200)의 표면(즉, 전극 패턴(200)의 상면 및 둘레)에 도금층(300)을 형성한다. 이때, 전극 패턴(200)에 도금층(300)을 형성하는 단계(S300)는 전극 패턴(200)에 구리를 직접 무전해도금하여 도금층(300)을 형성할 수도 있다.
도금층(300)에 흑화층(400)을 형성하는 단계(S400)는 습식 흑화 공정을 통해 도금층(300)의 표면에 흑화층(400)을 형성한다. 도금층(300)에 흑화층(400)을 형성하는 단계(S400)는 블랙 니켈(Black Ni), 블랙 카본(Black Carbon) 및 탄소나노튜브 중 적어도 하나를 포함하는 흑화제를 대략 10㎚ 정도의 두께로 코팅하여 흑화층(400)을 형성한다. 여기서, 습식 흑화 공정은 환원제가 포함된 무전해 용액 내에 기재(도금층(300)까지 형성된 투명 기재(100))를 담근 상태에서 무전해도금을 통해 흑화층(400)이 형성되는 것을 의미한다.
도금층(300)에 흑화층(400)을 형성하는 단계(S400)는 30% 이하의 반사율을 가지는 흑화층(400)을 형성하는 것이 바람직하며, 30% 이상의 반사율을 가지는 경우 눈부심이 발생하여 터치 스크린 패널의 시인성을 저하시키는 문제점이 있다.
이때, 도금층(300)에 흑화층(400)을 형성하는 단계(S400)는 도금층(300)을 형성하는 단계(S400; 즉, 무전해도금)의 후단에서 롤 투 롤(Roll To Roll) 연속 공정을 이용한 습식 흑화 공정을 통해 비용을 절감할 수 있다.
도금층(300)에 흑화층(400)을 형성하는 단계(S400)는 도금층(300)의 표면(즉, 도금층(300)의 상면 및 둘레)에 흑화층(400)을 형성한다. 즉, 종래에는 스퍼터링 공정을 이용하여 흑화층(400)을 형성하기 때문에 도금층(300)의 상면에만 흑화층(400)이 형성되는데 비해, 터치 스크린 패널용 센서의 제조 방법은 습식 흑화 공정(즉, 무전해도금)을 이용하여 흑화층(400)을 형성하기 때문에 도금층(300)의 상면 및 둘레에 흑화층(400)을 형성할 수 있다.
도금층(300)에 흑화층(400)을 형성하는 단계(S400)를 수행함에 따라 투명 기재(100)의 상부에 터치 감지용 회로 전극(500)이 형성된다. 이를 통해, 터치 스크린 패널용 센서의 제조 방법은 도금층(300) 측면(둘레)의 빛 반사를 방지하여 화면 시인성을 향상시킬 수 있다.
또한, 터치 스크린 패널용 센서의 제조 방법은 스터퍼링 공정을 최소화함으로써, 상대적으로 공정 비용을 최소화하고, 공정을 단순화할 수 있는 효과가 있다.
도 6을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널용 센서는 투명 기재(100), 투명 기재(100)의 상부에 구비되면, 터치 스크린 패널에서 터치를 감지하도록 형성된 터치 감지용 회로 전극(500)을 포함한다. 이때, 터치 감지용 회로 전극(500)은 투명 기재(100)의 상부에 형성된 시드층(210; 즉, 전극 패턴(200)), 시드층(210)의 표면에 형성된 도금층(300) 및 도금층(300)의 표면에 형성된 흑화층(400)을 포함한다.
투명 기재(100)는 PET 필름, PI(Polyimide) 필름, PEN(Polyethylene Naphthalate) 필름, PC(Polycarbonate)필름, PSS(Poly styrene sulfonate) 필름 중 어느 하나일 수 있다.
시드층(210)은 구리(Cu) 또는 구리(Cu)를 포함하는 혼합 재질인 것을 일례로 한다. 시드층(210)은 투명 기재(100)와 도금층(300)의 부착력을 강화시킨다.
도금층(300)은 구리(Cu) 또는 구리(Cu)를 포함하는 혼합 재질인 것을 일례로 한다. 도금층(300)은 전극 패턴(200)의 전도성을 높이기 위해서 시드층(210) 상에 형성되어 시드층(210)의 두께를 증가시킨다. 이때, 도금층(300)은 시드층(210)의 표면(즉, 상면 및 둘레)에 형성된다.
흑화층(400)은 30% 이하의 반사율을 가지는 것이 바람직하며, 30% 이상의 반사율을 가지는 경우 눈부심이 발생하여 터치 스크린 패널의 시인성을 저하시키는 문제점이 있다.
흑화층(400)은 블랙 니켈(Black Ni), 블랙 카본(Black Carbon) 및 탄소나노튜브 중 적어도 하나를 포함하는 흑화제인 것을 일례로 한다. 흑화층(400)은 도금층(300)의 표면(즉, 상면 및 둘레)에 형성된다.
터치 스크린 패널용 센서는 흑화층(400)이 도금층(300)의 표면에 형성됨으로써, 도금층(300) 측면(둘레)의 빛 반사를 방지하여 화면 시인성을 향상시킬 수 있다.
도 7 및 도 8을 참조하면, 터치 스크린 패널용 센서는 대략 1㎛ 정도의 선폭을 갖는 대략 메탈 메쉬(Metal Mesh) 구조로 형성되며, 터치 감지용 회로 전극(500)의 표면(즉, 상면 및 둘레)이 모두 흑화처리된다.
그에 따라, 터치 스크린 패널용 센서는 터치 감지용 회로 전극의 빛 반사를 최소화하여 화면 시인성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
이상에서 본 발명에 따른 바람직한 실시예에 대해 설명하였으나, 다양한 형태로 변형이 가능하며, 본 기술분야에서 통상의 지식을 가진자라면 본 발명의 특허청구범위를 벗어남이 없이 다양한 변형예 및 수정예를 실시할 수 있을 것으로 이해된다.
100: 투명 기재
200: 전극 패턴
210: 시드층 220: 감광층
230: 마스크 300: 도금층
400: 흑화층 500: 터치 감지용 회로 전극
210: 시드층 220: 감광층
230: 마스크 300: 도금층
400: 흑화층 500: 터치 감지용 회로 전극
Claims (13)
- 투명 기재의 상부에 전극 패턴을 형성하는 단계;
상기 전극 패턴의 표면에 도금층을 형성하는 단계; 및
상기 도금층의 표면에 흑화층을 형성하는 단계를 포함하는 터치 스크린 패널용 센서의 제조 방법. - 제1항에 있어서,
상기 전극 패턴을 형성하는 단계는,
상기 투명 기재에 형성된 시드층의 상부에 감광성 고분자를 전기방사로 도포하여 감광층을 형성하는 단계를 포함하는 터치 스크린 패널용 센서의 제조 방법. - 제2항에 있어서,
상기 전극 패턴을 형성하는 단계는,
상기 감광층의 상부에 마스크를 적층하여 노광 및 현상하는 단계; 및
상기 노광 및 형상하는 단계에서 현상되지 않은 상기 감광층 일부를 마스크로 하여 상기 시드층을 식각하는 단계를 포함하는 터치 스크린 패널용 센서의 제조 방법. - 제3항에 있어서,
상기 시드층을 식각하는 단계에서는 상기 노광 및 형상하는 단계에서 현상된 상기 감광층보다 좁은 선폭을 갖도록 상기 시드층을 식각하는 터치 스크린 패널용 센서의 제조 방법. - 제3항에 있어서,
상기 전극 패턴을 형성하는 단계는,
상기 시드층을 식각하는 단계 이후에 상기 시드층의 상부의 감광층을 제거하여 전극 패턴을 형성하는 단계를 더 포함하는 터치 스크린 패널용 센서의 제조 방법. - 제1항에 있어서,
상기 도금층을 형성하는 단계는,
무전해도금을 통해 상기 전극 패턴의 상면 및 둘레에 도금층을 형성하는 단계를 포함하는 터치 스크린 패널용 센서의 제조 방법. - 제1항에 있어서,
상기 흑화층을 형성하는 단계는,
무전해도금을 통해 상기 도금층의 상면 및 둘레에 흑화층을 형성하는 단계를 포함하는 터치 스크린 패널용 센서의 제조 방법. - 투명 기재; 및
상기 투명 기재의 상부에 구비되어 터치를 감지하는 터치 감지용 회로 전극을 포함하고,
상기 터치 감지용 회로 전극은,
상기 투명 기재의 상부에 형성된 시드층;
상기 시드층의 표면에 형성된 도금층; 및
상기 도금층의 표면에 형성된 흑화층을 구비하는 터치 스크린 패널용 센서. - 제8항에 있어서,
상기 시드층은 구리 또는 구리를 포함하는 혼합 재질인 터치 스크린 패널용 센서. - 제8항에 있어서,
상기 도금층은 상기 시드층의 상면 및 둘레에 형성된 터치 스크린 패널용 센서. - 제8항에 있어서,
상기 도금층은 구리 또는 구리를 포함하는 혼합 재질인 터치 스크린 패널용 센서. - 제8항에 있어서,
상기 흑화층은 상기 도금층의 상면 및 둘레에 형성된 터치 스크린 패널용 센서. - 제8항에 있어서,
상기 흑화층은 블랙 니켈(Black Ni), 블랙 카본(Black Carbon) 및 탄소나노튜브 중 적어도 하나를 포함하는 흑화제인 터치 스크린 패널용 센서.
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108762578A (zh) * | 2018-06-12 | 2018-11-06 | 信利光电股份有限公司 | 一种金属网格触摸屏及其制备工艺 |
| JP2021516785A (ja) * | 2018-08-24 | 2021-07-08 | エルジー・ケム・リミテッド | 透明発光素子ディスプレイ用電極基板及びこれを含む透明発光素子ディスプレイ |
| CN113835552A (zh) * | 2021-08-26 | 2021-12-24 | 牧东光电科技有限公司 | 一种Metal Mesh网格图案设计的触控显示屏 |
| KR102626332B1 (ko) * | 2023-05-22 | 2024-01-19 | 글람 주식회사 | 접합유리형의 투명 전광 패널 및 그 제조 방법 |
-
2016
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