CN108762572B - 一种触摸屏及制作方法和一种移动终端 - Google Patents

一种触摸屏及制作方法和一种移动终端 Download PDF

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Abstract

本申请公开了一种触摸屏的制作方法，包括在透明基板的正面和背面形成导电层；在透明基板的正面的导电层上和背面的导电层上分别涂布正性光刻胶和负性光刻胶；将一个与待制作电极图案对应的模具置于所述透明基板上方，利用置于所述模具上方的光源同时对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行曝光；对正性光刻胶和负性光刻胶进行显影和热烘；对所述透明基板的正面的导电层和背面的导电层进行蚀刻并进行脱模，形成正面具有第一电极图案且背面具有第二电极图案的触摸屏，所述第二图案的实体部分的形状和位置与所述第一图案的间隙部分的形状和位置相同，因此能够避免ITO图案之间的空隙显示给用户，提升用户体验。本申请还公开了一种触摸屏和移动终端。

Description

一种触摸屏及制作方法和一种移动终端
技术领域
本发明属于显示产品技术领域，特别是涉及一种触摸屏及制作方法和一种移动终端。
背景技术
随着人们生活水平的提高，移动终端获得了越来越快的发展，人们对其要求也越来越高，为了满足人们日益提高的消费需求，技术人员都在研究如何进一步提升消费者的使用体验。
现有的移动终端采用的触摸屏在显示的黑色背景下经常会看到一些图案的设计，这种现象被称之为底影，如图1所示，图1为现有的触摸屏的图案示意图，其产生的原因是相邻的ITO图案101之间具有空隙102，而ITO图案和透明的基板具有不同的反射率，这才让消费者从外部看到了图案设计，降低了消费者的使用体验。
发明内容
为解决上述问题，本发明提供了一种触摸屏及制作方法和一种移动终端，能够避免ITO图案之间的空隙显示给用户，提升用户体验。
本发明提供的一种触摸屏的制作方法，包括：
在透明基板的正面和背面分别形成导电层；
在所述透明基板的正面的导电层上和背面的导电层上分别涂布正性光刻胶和负性光刻胶；
将一个与待制作电极图案对应的模具置于所述透明基板的上方，利用置于所述模具上方的光源同时对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行曝光；
对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行显影和热烘；
对所述透明基板的正面的导电层和背面的导电层进行蚀刻并进行脱模，形成正面具有第一电极图案且背面具有第二电极图案的触摸屏，所述第二图案的实体部分的形状和位置与所述第一图案的间隙部分的形状和位置相同。
优选的，在上述触摸屏的制作方法中，在所述在透明基板的正面和背面分别形成导电层之前，还包括：
利用等离子水清洗所述透明基板。
优选的，在上述触摸屏的制作方法中，所述涂布正性光刻胶和负性光刻胶为：
以500rpm至5000rpm的旋涂速度涂布所述正性光刻胶和所述负性光刻胶。
优选的，在上述触摸屏的制作方法中，在所述分别涂布正性光刻胶和负性光刻胶之后，还包括：
在400℃下对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行15分钟的预烘干。
优选的，在上述触摸屏的制作方法中，所述利用置于所述模具上方的光源同时对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行曝光为：
利用置于所述模具上方的具有10mJ/cm2至45mJ/cm2的光积量的光源同时对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行曝光，持续时间为6秒至8秒。
优选的，在上述触摸屏的制作方法中，所述对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行显影和热烘为：
对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行持续1分钟以内的显影和100℃至150℃温度下持续60秒至120秒的热烘。
优选的，在上述触摸屏的制作方法中，所述对所述透明基板的正面的导电层和背面的导电层进行蚀刻并进行脱模为：
对所述透明基板的正面的导电层和背面的导电层进行酸蚀刻液走速为4m/min的蚀刻并进行脱模液走速为4m/min的脱模。
本发明提供的一种触摸屏，包括透明基板，所述透明基板的正面具有第一电极图案，背面具有第二电极图案，且所述第二图案的实体部分的形状和位置与所述第一图案的间隙部分的形状和位置相同。
本发明提供的一种移动终端，包括如上所述的触摸屏。
通过上述描述可知，本发明提供的上述触摸屏的制作方法，由于包括在所述透明基板的正面的导电层上和背面的导电层上分别涂布正性光刻胶和负性光刻胶，将一个与待制作电极图案对应的模具置于所述透明基板的上方，利用置于所述模具上方的光源同时对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行曝光，被曝光的正性光刻胶在后续流程中会溶解，而被曝光的负性光刻胶在后续流程中不会溶解，对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行显影和热烘，然后对所述透明基板的正面的导电层和背面的导电层进行蚀刻并进行脱模，形成正面具有第一电极图案且背面具有第二电极图案的触摸屏，所述第二图案的实体部分的形状和位置与所述第一图案的间隙部分的形状和位置相同，可见利用这种第二图案就恰好弥补第一图案之间的间隙部分，从外部看起来这种第一图案和第二图案的结合避免了间隙的存在，从而能够避免ITO图案之间的空隙显示给用户，提升用户体验。而且本发明提供的触摸屏以及移动终端由于具有上述第一电极图案和第二电极图案，也同样避免ITO图案之间的空隙显示给用户，提升用户体验。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1为现有的触摸屏的图案示意图；
图2为本申请实施例提供的第一种触摸屏的制作方法的示意图；
图3为利用置于所述模具上方的光源同时对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行曝光的示意图；
图4为本申请实施例提供的一种触摸屏的示意图。
具体实施方式
本发明的核心思想在于提供一种触摸屏及制作方法和一种移动终端，能够避免ITO图案之间的空隙显示给用户，提升用户体验。
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本申请实施例提供的第一种触摸屏的制作方法如图2所示，图2为本申请实施例提供的第一种触摸屏的制作方法的示意图，该方法包括如下步骤：
S1：在透明基板的正面和背面分别形成导电层；
这种透明基板可以但不限于是玻璃基板，该步骤并不同于现有技术中只在正面形成导电层的方案，而是重点在于正面和背面都制作导电层，这种导电层可以但不限于是ITO。
S2：在所述透明基板的正面的导电层上和背面的导电层上分别涂布正性光刻胶和负性光刻胶；
需要说明的是，被曝光的正性光刻胶在后续流程中会溶解，而被曝光的负性光刻胶在后续流程中不会溶解，因此二者可以最终形成互补的图案，具体的，正性光刻胶是一种叫做线性酚醛树脂的酚醛甲醛，提供光刻胶的粘附性、化学抗蚀性，当没有溶解抑制剂存在时，线性酚醛树脂会溶解在显影液中，感光剂是光敏化合物(PAC，Photo ActiveCompound)，最常见的是重氮萘醌(DNQ)，在曝光前，DNQ是一种强烈的溶解抑制剂，降低树脂的溶解速度。在紫外曝光后，DNQ在光刻胶中化学分解，成为溶解度增强剂，大幅提高显影液中的溶解度因子至100或者更高。这种曝光反应会在DNQ中产生羧酸，它在显影液中溶解度很高。正性光刻胶具有很好的对比度，所以生成的图形具有良好的分辨率，而负性光刻胶又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体，感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化，经适当的溶剂处理，溶去可溶性部分，得到所需图像，利用该步骤得到的互补的图案能够蚀刻出正面和背面图案互补的电极，另外，其实只要在正面和背面中的一面涂布正性光刻胶而在另一面涂负性光刻胶就可以，并不限制具体在哪一面涂哪一种类型的光刻胶，均能够实现本实施例的目的。
S3：将一个与待制作电极图案对应的模具置于所述透明基板的上方，利用置于所述模具上方的光源同时对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行曝光；
具体的，参考图3，图3为利用置于所述模具上方的光源同时对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行曝光的示意图，可见，透明基板301的正面具有导电层302，背面具有导电层303，模具304位于透明基板301的上方，而光源307位于模具304的上方，此处需强调的是，该步骤只采用一个光源进行曝光，由于透明基板和导电层均透明，因此并不会遮挡住光源，足以实现正面和背面同时曝光，减少了光源和模具的数量，从而进一步降低生产成本。
S4：对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行显影和热烘；
继续参考图3，经过这个步骤后在导电层302和303的表面分别形成光刻胶图案305和306。
S5：对所述透明基板的正面的导电层和背面的导电层进行蚀刻并进行脱模，形成正面具有第一电极图案且背面具有第二电极图案的触摸屏，所述第二图案的实体部分的形状和位置与所述第一图案的间隙部分的形状和位置相同。
利用上述图案305和306形成遮挡并对导电层进行蚀刻，就能够得到形状互补的第一图案和第二图案，从而避免从外部看到里面的图案。
通过上述描述可知，本申请实施例提供的上述触摸屏的制作方法，由于包括在所述透明基板的正面的导电层上和背面的导电层上分别涂布正性光刻胶和负性光刻胶，将一个与待制作电极图案对应的模具置于所述透明基板的上方，利用置于所述模具上方的光源同时对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行曝光，被曝光的正性光刻胶在后续流程中会溶解，而被曝光的负性光刻胶在后续流程中不会溶解，对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行显影和热烘，然后对所述透明基板的正面的导电层和背面的导电层进行蚀刻并进行脱模，形成正面具有第一电极图案且背面具有第二电极图案的触摸屏，所述第二图案的实体部分的形状和位置与所述第一图案的间隙部分的形状和位置相同，可见利用这种第二图案就恰好弥补第一图案之间的间隙部分，从外部看起来这种第一图案和第二图案的结合避免了间隙的存在，从而能够避免ITO图案之间的空隙显示给用户，提升用户体验。
本申请实施例提供的第二种触摸屏的制作方法，是在上述第一种触摸屏的制作方法的基础上，还包括如下技术特征：
在所述在透明基板的正面和背面分别形成导电层之前，还包括：
利用等离子水清洗所述透明基板。
这样能够保证透明基板在形成导电层之前没有污染，更好的保证工艺过程中的清洁性。
本申请实施例提供的第三种触摸屏的制作方法，是在上述第一种触摸屏的制作方法的基础上，还包括如下技术特征：
所述涂布正性光刻胶和负性光刻胶为：
以500rpm至5000rpm的旋涂速度涂布所述正性光刻胶和所述负性光刻胶。
利用这种优选工艺能够控制光刻胶的厚度和均匀性，当然这仅是一个优选方案，并不构成限制。
本申请实施例提供的第四种触摸屏的制作方法，是在上述第一种触摸屏的制作方法的基础上，还包括如下技术特征：
在所述分别涂布正性光刻胶和负性光刻胶之后，还包括：
在400℃下对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行15分钟的预烘干。
这样能够更好的保证正性光刻胶和负性光刻胶保持干燥的状态下进行后续流程。
本申请实施例提供的第五种触摸屏的制作方法，是在上述第一种触摸屏的制作方法的基础上，还包括如下技术特征：
所述利用置于所述模具上方的光源同时对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行曝光为：
利用置于所述模具上方的具有10mJ/cm2至45mJ/cm2的光积量的光源同时对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行曝光，持续时间为6秒至8秒。
具体的，通过控制曝光强度和时间，防止曝光不足或过爆，保证后续显影以及蚀刻的效果。
本申请实施例提供的第六种触摸屏的制作方法，是在上述第一种触摸屏的制作方法的基础上，还包括如下技术特征：
所述对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行显影和热烘为：
对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行持续1分钟以内的显影和100℃至150℃温度下持续60秒至120秒的热烘。
具体的，利用这种工艺能够防止显影过度引起图案变窄、变形或者显影不足造成线条比正常宽度宽且存在斜坡，利用这种热烘工艺能够消除显影带来的水分，当然除了这种工艺之外还可以根据实际需要选用其他工艺，此处并不构成限制。
本申请实施例提供的第七种触摸屏的制作方法，是在上述第一种至第六种触摸屏的制作方法中任一种的基础上，还包括如下技术特征：
所述对所述透明基板的正面的导电层和背面的导电层进行蚀刻并进行脱模为：
对所述透明基板的正面的导电层和背面的导电层进行酸蚀刻液走速为4m/min的蚀刻并进行脱模液走速为4m/min的脱模。
在这种情况下，是通过控制其走速来防止蚀刻不足或者过蚀，当然这仅是一个优选工艺，还可以根据实际情况选用其他工艺，此处并不限制。
本申请实施例提供的一种触摸屏如图3所示，图4为本申请实施例提供的一种触摸屏的示意图，该触摸屏包括透明基板401，所述透明基板401的正面具有第一电极图案402，背面具有第二电极图案403，且所述第二图案403的实体部分的形状和位置与所述第一图案402的间隙部分的形状和位置相同。
由于具有上述第一电极图案和第二电极图案，因此避免了ITO图案之间的空隙显示给用户，提升用户体验。
本申请实施例提供的一种移动终端，包括如上所述的触摸屏，正是由于这种移动终端具有了上述触摸屏，因此用户在使用这种移动终端时不会看到里面的图案，从而具有更好的使用体验。
对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (7)

1.一种触摸屏的制作方法，其特征在于，包括：
在透明基板的正面和背面分别形成透明导电层；
在所述透明基板的正面的透明导电层上和背面的透明导电层上分别涂布正性光刻胶和负性光刻胶；
将一个与待制作电极图案对应的模具置于所述透明基板的上方，利用置于所述模具上方的光源同时对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行曝光；
对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行显影和热烘；
对所述透明基板的正面的透明导电层和背面的透明导电层进行蚀刻并进行脱模，形成正面具有第一电极图案且背面具有第二电极图案的触摸屏，所述第二电极图案的实体部分的形状和位置与所述第一电极图案的间隙部分的形状和位置相同。
2.根据权利要求1所述的触摸屏的制作方法，其特征在于，在所述在透明基板的正面和背面分别形成透明导电层之前，还包括：
利用等离子水清洗所述透明基板。
3.根据权利要求1所述的触摸屏的制作方法，其特征在于，所述涂布正性光刻胶和负性光刻胶为：
以500rpm至5000rpm的旋涂速度涂布所述正性光刻胶和所述负性光刻胶。
4.根据权利要求1所述的触摸屏的制作方法，其特征在于，在所述分别涂布正性光刻胶和负性光刻胶之后，还包括：
在400℃下对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行15分钟的预烘干。
5.根据权利要求1所述的触摸屏的制作方法，其特征在于，所述利用置于所述模具上方的光源同时对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行曝光为：
利用置于所述模具上方的具有10mJ/cm2至45mJ/cm2的光积量的光源同时对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行曝光，持续时间为6秒至8秒。
6.根据权利要求1所述的触摸屏的制作方法，其特征在于，所述对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行显影和热烘为：
对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行持续1分钟以内的显影和100℃至150℃温度下持续60秒至120秒的热烘。
7.根据权利要求1-6任一项所述的触摸屏的制作方法，其特征在于，所述对所述透明基板的正面的透明导电层和背面的透明导电层进行蚀刻并进行脱模为：
对所述透明基板的正面的透明导电层和背面的透明导电层进行酸蚀刻液走速为4m/min的蚀刻并进行脱模液走速为4m/min的脱模。
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