CN104822667A - 异噻唑化合物的制造方法 - Google Patents

异噻唑化合物的制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN104822667A
CN104822667A CN201380061252.9A CN201380061252A CN104822667A CN 104822667 A CN104822667 A CN 104822667A CN 201380061252 A CN201380061252 A CN 201380061252A CN 104822667 A CN104822667 A CN 104822667A
Authority
CN
China
Prior art keywords
general formula
sulphur
nitrile compound
halogen
manufacture method
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201380061252.9A
Other languages
English (en)
Other versions
CN104822667B (zh
Inventor
阿部尚司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kumiai Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Ihara Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ihara Chemical Industry Co Ltd filed Critical Ihara Chemical Industry Co Ltd
Publication of CN104822667A publication Critical patent/CN104822667A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN104822667B publication Critical patent/CN104822667B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D275/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-thiazole or hydrogenated 1,2-thiazole rings
    • C07D275/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-thiazole or hydrogenated 1,2-thiazole rings not condensed with other rings
    • C07D275/03—Heterocyclic compounds containing 1,2-thiazole or hydrogenated 1,2-thiazole rings not condensed with other rings with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D275/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-thiazole or hydrogenated 1,2-thiazole rings
    • C07D275/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-thiazole or hydrogenated 1,2-thiazole rings not condensed with other rings

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

本发明提供异噻唑化合物、特别是3,4-二氯-5-氰基异噻唑的工业上优选的制造方法。例如，通过避免同时使用N,N-二甲基甲酰胺等非质子性极性溶剂和氯，提供更安全的工业制造方法。另外，因不使用变成废弃物的一部分的可能性高的非质子性极性溶剂，提供经济上优选的制造方法。通式(3)(式中，R和X如下述定义)表示的异噻唑化合物的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：加热通式(1)(式中，R表示氰基等)表示的腈化合物和硫，然后进行通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)(式中，X表示氯原子等)表示的卤素的反应。

Description

异噻唑化合物的制造方法
技术领域
本发明涉及异噻唑化合物的制造方法。异噻唑化合物由于其称之为异噻唑的结构的缘故，例如，作为各种有机化合物(例如，医药和农药等生理活性有机化合物、以及功能性色素、电子材料等)的合成中间体是有用的。
背景技术
如上所述，异噻唑化合物作为医药中间体和农药中间体、功能性色素、电子材料等的中间体广为人知。故此，如非专利文献1和2所公开的那样，迄今为止，对异噻唑化合物的制造方法进行了各种研究。
在异噻唑化合物中，可易于转化官能团的3,4-二氯-5-氰基异噻唑已知作为医药中间体和农药中间体。另外，如专利文献4和5所公开的，该化合物在实践中用作重要的农药中间体。
但是，非专利文献1和2所述的制造方法难以制造出作为农药的重要中间体有用的3,4-二氯-5-氰基异噻唑。
即，以往，作为制造3,4-二氯-5-氰基异噻唑的方法，已知有使用二硫化碳(CS2)、氰化钠(NaCN)和氯(Cl2)的方法(参照专利文献1)。但是，该方法具有作为所用的原料使用特殊的引火材料二硫化碳的缺点。而且，该方法还具有使用有毒物质氰化钠的缺点。进而，在该方法中，在加热下向含有N,N-二甲基甲酰胺(DMF)作为溶剂的反应器中引入氯。但是，本领域技术人员已知，当同时使用N,N-二甲基甲酰胺和氯时，可能发生反应失控和爆炸。因为这些理由，该方法的实施认为需要细心的注意和充分的对策以维持安全性。另外，如上所述，因为根据不同情况可能引发反应失控和爆炸，该方法可能不能保障生产工厂的安全性。即，由于担心缺乏安全性，该同时使用N,N-二甲基甲酰胺和氯的方法在工业生产上是不优选的。
作为制造3,4-二氯-5-氰基异噻唑的其他方法，已知有使用三氯乙腈和硫的方法(参照专利文献2)。但是，该方法如实施例中所述，具有必须在200℃至300℃的高温下反应的缺点。另外，该方法还具有需要使用三氯乙腈这样的特殊原料的缺点。
进而，已知有使用二氯富马腈和硫的方法(参照专利文献3)。但是，该方法也具有在实施例中必须在230℃至300℃的高温下反应的缺点。另外，该方法也具有需要使用二氯富马腈这样的特殊原料的缺点。
作为其他的制造方法，已知有使富马腈(fumaronitrile)、马来腈(maleonitrile)或其氯取代物、或者它们的混合物在非质子性极性溶剂中与氯化硫反应的方法(参照专利文献6)。该方法中使用的富马腈、马来腈及其氯取代物或者它们的混合物可由丁二腈制造(参照专利文献6的实施例7和8)。但是，在从自丁二腈起需要两个步骤的方面，期待进一步改善专利文献6所述的制造方法。
另外，认为富马腈、马来腈或它们的氯取代物具有工业上显著的升华性。具有升华性的化合物一般可能因其升华而引起回流冷凝器或工厂管道的堵塞。因此，专利文献6所述的方法在工业实施的操作中，存在可能需要注意和对策的难点。
此外，该方法需要采用N,N-二甲基甲酰胺等非质子性极性溶剂。而且由于使用水进行后处理，对非质子性极性溶剂的回收来说伴随困难。因此，所用的非质子性极性溶剂存在变成废弃物的一部分的可能性高的难点。另外，该方法中，存在同时使用N,N-二甲基甲酰胺和作为氯化合物的氯化硫的例子。因此，鉴于任何情况下均存在上述难点和例子，该方法可能需要注意和对策。因此，该方法也存在改善的余地。
另一方面，作为3,4-二氯-5-氰基异噻唑的制造方法，已知有使用丁二腈、硫和氯的方法(参照专利文献7)。但是，该方法也需要以N,N-二甲基甲酰胺为溶剂。即，由于同时使用N,N-二甲基甲酰胺和氯，存在反应失控和爆炸的可能性。因为该理由，认为该方法的实施也需要细心的注意和充分的对策以维持安全性。另外，如上所述，由于根据不同情况可能引起反应失控和爆炸，该方法可能不能保障生产工厂的安全性。即，由于存在缺乏安全性的担忧，该同时使用N,N-二甲基甲酰胺和氯的方法在工业生产中是不优选的。
此外，专利文献7所述的方法中，必须采用N,N-二甲基甲酰胺等非质子性极性溶剂。而且由于使用水进行后处理，对非质子性极性溶剂的回收来说伴随困难。因此，存在所使用的非质子性极性溶剂变成废弃物的一部分的可能性高的难点。即，该方法还存在改善的余地。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：美国专利3341547号说明书
专利文献2：DE2231097(DT2231097)号公报
专利文献3：DE2231098(DT2231098)号公报
专利文献4：特开平5-59024号公报
专利文献5：专利第4088036号
专利文献6：国际公开第2010/126170号公报
专利文献7：特开2010-260805号公报
非专利文献
非专利文献1：Tetrahedron Lett.，No.42，1970，pp.3719-3722
非专利文献2：Chem.Commun.，2002，pp.1872-1873
发明内容
发明要解决的课题
本发明的目的是，通过避免同时使用N,N-二甲基甲酰胺等非质子性极性溶剂和氯，提供异噻唑化合物、特别是3,4-二氯-5-氰基异噻唑的更安全的工业上的制造方法。
本发明的另一目的是，提供因不使用变成废弃物的一部分的可能性高的N,N-二甲基甲酰胺等非质子性极性溶剂而在经济上优选的、异噻唑化合物、特别是3,4-二氯-5-氰基异噻唑的制造方法。
本发明的再一目的是，提供基本上不使用可能需要注意和对策的原料和特殊的原料的异噻唑化合物、特别是3,4-二氯-5-氰基异噻唑的制造方法。可能需要注意和对策的原料的例子是作为氰酸气体和氰根离子源的毒性极高的无机氰化物。另外，可能需要注意和对策的原料的其他例子是特殊的引火材料。另外，可能需要注意和对策的原料的另一其他的例子是具有工业上显著的升华性的有机化合物。
本发明的再一其他目的是，提供使用容易获得且便宜的原料就能够异噻唑化合物、特别是3,4-二氯-5-氰基异噻唑的方法。
本发明的再一其他目的是，提供因简便操作而适于工业化的异噻唑化合物、特别是3,4-二氯-5-氰基异噻唑的制造方法。
例如，上述专利文献6所述的制造方法，为了制造3,4-二氯-5-氰基异噻唑，自丁二腈起需要两个步骤，但本发明的目的之一是，提供仅通过自丁二腈起的一个步骤就能简便制造例如3,4-二氯-5-氰基异噻唑的方法。
简言之，本发明的目的是提供异噻唑化合物、特别是3,4-二氯-5-氰基异噻唑的工业上优选的制造方法。
用于解决课题的手段
鉴于上述情况，本发明人对制造后述通式(3)表示的异噻唑化合物的方法进行了深入研究。结果，本发明人意外地发现，通过加热后述通式(1)表示的腈化合物和硫，使后述通式(1)表示的腈化合物与硫和后述通式(2)表示的卤素反应，能够制造后述通式(3)表示的异噻唑化合物。特别是本发明人意外地发现，通过加热后述式(4)表示的丁二腈和硫，然后使后述式(4)表示的丁二腈与硫和式(5)表示的氯反应，能够制造后述式(6)表示的3,4-二氯-5-氰基异噻唑。基于这些知识，至此本发明人完成了本发明。即，本发明如下所述。
[1]通式(3)表示的异噻唑化合物的制造方法，
      
(式中，R和X如下述定义)，
其特征在于，进行通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应，
      
(式中，R表示氰基、羧基或烷氧羰基)，
X2   (2)
(式中，X表示氟原子、氯原子、溴原子或碘原子)。
[2]上述[1]所述的制造方法，其中，加热通式(1)表示的腈化合物和硫，进行通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应。
[3]上述[1]所述的制造方法，其中，加热通式(1)表示的腈化合物和硫至至少通式(1)表示的腈化合物熔融为止。
[4]上述[1]所述的制造方法，其中，加热通式(1)表示的腈化合物和硫至至少通式(1)表示的腈化合物和硫的一部分熔融为止。
[5]上述[1]所述的制造方法，其中，加热通式(1)表示的腈化合物和硫至通式(1)表示的腈化合物和硫熔融为止。
[6]上述[1]至[5]任一项所述的制造方法，其中，将通式(1)表示的腈化合物和硫加热至70℃以上。
[7]上述[1]至[5]任一项所述的制造方法，其中，将通式(1)表示的腈化合物和硫加热至90℃以上。
[8]上述[1]至[5]任一项所述的制造方法，其中，将通式(1)表示的腈化合物和硫加热至50～200℃的温度范围。
[9]上述[1]至[5]任一项所述的制造方法，其中，将通式(1)表示的腈化合物和硫加热至70～180℃的温度范围。
[10]上述[1]至[5]任一项所述的制造方法，其中，将通式(1)表示的腈化合物和硫加热至90～150℃的温度范围。
[11]上述[1]至[10]任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应在70℃以上进行。
[12]上述[1]至[10]任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应在90℃以上进行。
[13]上述[1]至[10]任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应在50～200℃的温度范围进行。
[14]上述[1]至[10]任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应在70～180℃的温度范围进行。
[15]上述[1]至[10]任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应在90～150℃的温度范围进行。
[16]上述[1]至[15]任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应进行15小时以上。
[17]上述[1]至[15]任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应进行20小时以上。
[18]上述[1]至[15]任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应进行15～75小时的时间范围。
[19]上述[1]至[15]任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应进行20～50小时的时间范围。
[20]上述[1]至[19]任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应通过装入通式(1)表示的腈化合物和硫后，向其中引入通式(2)表示的卤素来进行。
[21]上述[1]至[20]任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应通过向通式(1)表示的腈化合物和硫中引入通式(2)表示的卤素来进行。
[22]上述[1]或[6]至[21]任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物为熔融状态。
[23]上述[1]或[6]至[21]任一项所述的制造方法，其中，硫为熔融状态。
[24]上述[1]或[6]至[21]任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物为熔融状态，硫为熔融状态。
[25]上述[20]至[24]任一项所述的制造方法，其中，通式(2)表示的卤素的引入在70℃以上进行。
[26]上述[20]至[24]任一项所述的制造方法，其中，通式(2)表示的卤素的引入在90℃以上进行。
[27]上述[20]至[24]任一项所述的制造方法，其中，通式(2)表示的卤素的引入在50～200℃的温度范围进行。
[28]上述[20]至[24]任一项所述的制造方法，其中，通式(2)表示的卤素的引入在70～180℃的温度范围进行。
[29]上述[20]至[24]任一项所述的制造方法，其中，通式(2)表示的卤素的引入在90～150℃的温度范围进行。
[30]上述[20]至[29]任一项所述的制造方法，其中，通式(2)表示的卤素的引入进行15小时以上。
[31]上述[20]至[29]任一项所述的制造方法，其中，通式(2)表示的卤素的引入进行20小时以上。
[32]上述[20]至[29]任一项所述的制造方法，其中，通式(2)表示的卤素的引入进行15～75小时的时间范围。
[33]上述[20]至[29]任一项所述的制造方法，其中，通式(2)表示的卤素的引入进行20～50小时的时间范围。
[34]上述[1]至[33]任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应在不使用非质子性极性溶剂的情况下进行。
[35]上述[1]至[33]任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应在无溶剂下进行。
[36]上述[1]至[35]任一项所述的制造方法，其中，硫的使用量相对于通式(1)表示的腈化合物1摩尔，按硫原子计为0.5摩尔以上20摩尔以下。
[37]上述[1]至[35]任一项所述的制造方法，其中，硫的使用量相对于通式(1)表示的腈化合物1摩尔，按硫原子计为0.9摩尔以上12摩尔以下。
[38]上述[1]至[35]任一项所述的制造方法，其中，硫的使用量相对于通式(1)表示的腈化合物1摩尔，按硫原子计为0.9摩尔以上4摩尔以下。
[39]上述[1]至[35]任一项所述的制造方法，其中，硫的使用量相对于通式(1)表示的腈化合物1摩尔，按硫原子计为1摩尔以上20摩尔以下。
[40]上述[1]至[35]任一项所述的制造方法，其中，硫的使用量相对于通式(1)表示的腈化合物1摩尔，按硫原子计为1摩尔以上12摩尔以下。
[41]上述[1]至[35]任一项所述的制造方法，其中，硫的使用量相对于通式(1)表示的腈化合物1摩尔，按硫原子计为1摩尔以上4摩尔以下。
[42]上述[1]至[35]任一项所述的制造方法，其中，硫的使用量相对于通式(1)表示的腈化合物1摩尔，按硫原子计小于2摩尔。
[43]上述[1]至[35]任一项所述的制造方法，其中，硫的使用量相对于通式(1)表示的腈化合物1摩尔，按硫原子计为1摩尔以上且小于2摩尔。
[44]上述[1]至[35]任一项所述的制造方法，其中，硫的使用量相对于通式(1)表示的腈化合物1摩尔，按硫原子计为2摩尔以上10摩尔以下。
[45]上述[1]至[35]任一项所述的制造方法，其中，硫的使用量相对于通式(1)表示的腈化合物1摩尔，按硫原子计为2摩尔以上4摩尔以下。
[46]上述[1]至[45]任一项所述的制造方法，其中，通式(2)表示的卤素的使用量，相对于通式(1)表示的腈化合物1摩尔，为2摩尔以上20摩尔以下。
[47]上述[1]至[45]任一项所述的制造方法，其中，通式(2)表示的卤素的使用量，相对于通式(1)表示的腈化合物1摩尔，为2摩尔以上10摩尔以下。
[48]上述[1]至[45]任一项所述的制造方法，其中，通式(2)表示的卤素的使用量，相对于通式(1)表示的腈化合物1摩尔，为2摩尔以上5摩尔以下。
[49]上述[1]至[48]任一项所述的制造方法，其中，通式(1)中的R为氰基。
[50]上述[1]至[49]任一项所述的制造方法，其中，通式(1)中的X为氯原子或溴原子。
[51]上述[1]至[49]任一项所述的制造方法，其中，通式(1)中的X为氯原子。
发明效果
根据本发明，提供异噻唑化合物、特别是3,4-二氯-5-氰基异噻唑的新的工业制造方法。
根据本发明，通过避免同时使用N,N-二甲基甲酰胺等非质子性极性溶剂和氯，提供异噻唑化合物、特别是3,4-二氯-5-氰基异噻唑的更安全的制造方法。即，根据本发明，通过不使用N,N-二甲基甲酰胺等非质子性极性溶剂作为溶剂，提供无需用以维持安全性的特别注意和特别对策的制造方法。
避免N,N-二甲基甲酰胺等非质子性极性溶剂的使用，意味着与现有技术相比，本发明方法的显著改善的安全性，即，本发明方法的优越性。换言之，本发明方法本质上减少了工业生产中的危险性分解等的风险。因此，本发明方法可安全地适用于试验工厂或工业生产这样的大规模的制造。
另外，根据本发明方法，能够在不使用反应溶剂的情况下制造目标的异噻唑化合物、特别是3,4-二氯-5-氰基异噻唑。因此，本发明方法与现有技术相比是经济上优选的。特别是，N,N-二甲基甲酰胺等非质子性极性溶剂由于使用水进行后处理而在回收中伴随困难。因此，非质子性极性溶剂变成废弃物的一部分的可能性高。但是，在本发明方法中，能够在不使用非质子性极性溶剂的情况下制造目标化合物。因此，本发明方法可以减少废弃物。即，本发明方法可以降低环境负荷。
进而，根据本发明方法，能够在基本上不使用可能需要注意和对策的原料和特殊的原料的情况下制造异噻唑化合物、特别是3,4-二氯-5-氰基异噻唑。可能需要注意和对策的原料的例子是作为氰酸气体和氰根离子源的毒性极高的无机氰化物。另外，可能需要注意和对策的原料的其他例子是特殊的引火材料。另外，可能需要注意和对策的原料的另一其他的例子是具有工业上显著的升华性的有机化合物。
此外，根据本发明方法，通过使腈化合物、硫和卤素同时反应，仅自起始原料腈化合物起的1个步骤，通过简便的操作，即可制造目标的异噻唑化合物。特别是，根据本发明方法，通过使丁二腈、硫和氯同时反应，仅自起始原料丁二腈起的1个步骤，通过简便的操作，即可制造目标的3,4-二氯-5-氰基异噻唑。
关于本发明方法的原料，腈化合物中的丁二腈、硫、以及卤素中的氯均为化学工业中广泛使用的原材料，不仅容易获得，而且廉价。
进而，根据本发明方法，能够在不需要显著高温等的适于工业化的条件下制造异噻唑化合物、特别是3,4-二氯-5-氰基异噻唑。具体地，例如，本发明方法不必200℃以上的高温。
另外，如后所述，根据本发明方法，根据需要，能够提供可抑制或减少作为废弃物的硫和/或焦油的选项。即，本发明方法也可以选择更进一步降低环境负荷的条件。
因此，本发明方法可以提供工业实施中的各种各样优选的选项。进而，本发明方法可以在不需要特殊的反应装置的情况下简便地、以工业规模实施。
因此，本发明方法具有高的工业利用价值。
具体实施方式
以下，详细说明本发明。
具体地，本发明涉及通式(3)表示的异噻唑化合物的制造方法，
      
(式中，R和X如下述定义)，
其特征在于，包括以下步骤：进行通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应，
      
(式中，R表示氰基、羧基或烷氧羰基)，
X2   (2)
(式中，X表示氟原子、氯原子、溴原子或碘原子)。
特别是，本发明方法涉及式(6)表示的3,4-二氯-5-氰基异噻唑的制造方法，
      
其特征在于，包括以下步骤：
加热式(4)表示的丁二腈和硫，
      
然后，进行丁二腈与硫和式(5)表示的氯的反应。
Cl2   (5)
以下说明本说明书中使用的术语和符号。
“Ca～Cb”是指碳原子数为a～b个。例如，“C1～C4烷基”是指烷基的碳原子数为1～4。
作为烷基，例如可举出C1～C4烷基。C1～C4烷基是指具有1～4个碳原子的直链或支链烷基。作为C1～C4烷基，具体例如可举出甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基，优选甲基、乙基、丙基、异丙基。
作为烷氧羰基，例如可举出C1～C4烷氧羰基。C1～C4烷氧羰基是指(C1～C4烷基)-O-C(＝O)-基(其中，C1～C4烷基与上述定义相同)。作为C1～C4烷氧羰基，具体例如可举出甲氧羰基、乙氧羰基、丙氧羰基、异丙氧羰基、丁氧羰基、仲丁氧羰基、异丁氧羰基、叔丁氧羰基，优选甲氧羰基、乙氧羰基、丙氧羰基、异丙氧羰基。
(原料化合物)
说明本发明方法的原料。
(腈化合物)
作为本发明方法的原料，使用上述通式(1)表示的腈化合物。式(1)中，R表示氰基、羧基或烷氧羰基，因此，作为上述通式(1)表示的腈化合物，可举出丁二腈、3-氰基丙酸、3-氰基丙酸甲酯、3-氰基丙酸乙酯、3-氰基丙酸丙酯、3-氰基丙酸异丙酯、3-氰基丙酸丁酯等，但不限定于此。
予以说明，从获得性、价格和产物的有用性等的观点考虑，作为用于本发明方法的腈化合物，特别优选上述式(4)表示的丁二腈。丁二腈目前能够在工业上比较廉价地获得。进而，丁二腈作为工业原材料从操作性和毒性方面考虑也是优选的。
(硫)
说明用于本发明方法的硫。本发明方法使用单质硫。用于本发明方法的硫的形态没有特殊限制，只要反应能够进行，任何形态均可。
对于本发明方法中的硫的使用量，只要反应能够进行，任何用量均可。
从收率和/或副产物的抑制以及经济效率等的观点考虑，作为本发明方法中的硫的使用量，可例示，相对于通式(1)表示的腈化合物1摩尔，按硫原子计为0.5摩尔以上、优选0.9摩尔以上、更优选1摩尔以上。
另外，在与抑制作为废弃物的硫和/或焦油相比更需求提高收率的情况下，作为本发明方法中的硫的使用量，可例示，相对于通式(1)表示的腈化合物1摩尔，按硫原子计为2摩尔以上。
从收率和/或副产物的抑制以及经济效率等的观点考虑，作为本发明方法中的硫的使用量，可例示，相对于通式(1)表示的腈化合物1摩尔，按硫原子计为20摩尔以下、优选12摩尔以下、更优选10摩尔以下、进一步优选4摩尔以下。
专利文献1所述的方法还具有副产非常多的废弃物的缺点。作为废弃物，例如可举出大量的硫。而且，通过专利文献1所述的方法制造的3,4-二氯-5-氰基异噻唑含有大量的焦油。因此，专利文献1所述的方法需要采用蒸馏等纯化步骤。
专利文献6所述的方法与专利文献6之前的现有技术(例如，专利文献1所述的方法)相比，能够改善作为废弃物的硫的副产。然而，根据专利文献6所述的方法，相对于1摩尔的原料(即富马腈、马来腈及它们的氯取代物)，使用1摩尔的一氯化硫(S2Cl2)(参照专利文献6的实施例)。因而，相对于1摩尔的原料，必然会有1摩尔以上的硫作为废弃物生成。从这一观点考虑，专利文献6所述的方法存在改善的余地。
在与提高收率相比更需求抑制作为废弃物的硫和/或焦油的情况下，作为本发明方法中的硫的使用量，可例示，相对于通式(1)表示的腈化合物1摩尔，按硫原子计小于2摩尔。
根据本发明方法，在需求抑制作为废弃物的硫的副产的情况下，根据需要，可以选择能够减少或抑制硫的副产的条件。(参照实施例1、2、6和8)。作为有利效果的该选项通过使用单质硫来获得。此外，根据本发明方法，根据需要，能够制造不含焦油的异噻唑化合物、特别是3,4-二氯-5-氰基异噻唑。因此，根据本发明方法，根据需要，可以选择不需要蒸馏等纯化步骤的条件。
因此，作为本发明方法中的硫的使用量的范围，可例示上述的下限和上限的适宜且任意的组合。可例示，相对于通式(1)表示的腈化合物1摩尔，按硫原子计为0.5摩尔以上20摩尔以下、优选0.9摩尔以上12摩尔以下、更优选0.9摩尔以上4摩尔以下的范围。但是，根据目的和情况，本领域技术人员可适宜调整本发明方法中的硫的使用量。
(卤素)
说明用于本发明方法的卤素。本发明方法中使用通式(2)表示的卤素。
X2   (2)
作为可用于本发明方法的卤素，例如可举出氟、氯、溴、碘。
予以说明，从获得性、操作的简便性、价格和产物的有用性等的观点考虑，作为用于本发明方法的卤素，优选氯或溴，特别优选式(5)表示的氯。
Cl2   (5)
用于本发明方法的卤素的形态没有特殊限制，只要反应能够进行，任何形态均可。用于本发明方法的卤素的形态例如可举出气体、液体、固体等。
特别是，用于本发明方法的氯的形态没有特殊限制，只要反应能够进行，任何形态均可。用于本发明方法的氯的形态例如可举出液体、气体等。作为用于本发明方法的氯的形态的优选例，可举出气体。引入氯气的方法没有特殊限定，例如，引入氯气的方法可以采用向反应体系的气相中吹入或向反应体系的液相中吹入(例如鼓泡等)的任一种方式。进而，在向液相中吹入氯气的场合，可使用产生氯气的微小细泡的装置等。例如，在向反应体系的液相中吹入氯气的场合，既可以从喷嘴吹入；也可以通过安装在喷嘴前端的多孔状部件而吹入微细泡状的氯气；还可以将在反应容器内具有多个孔的管线安装在反应容器内，从管线上的多个小孔吹出成为适度小尺寸的气泡的氯气；另外也可以采用各种装置手段。另外，氯气也可以用氯气以外的气体稀释。作为用于稀释氯气的气体，例如可举出氮气、氩气等惰性气体等，但并不限定于此。从获得性、操作的简便性、安全性或价格等的观点考虑，优选氮气。予以说明，用于稀释氯气的气体可以单独或者以任意比例的混合物的形式使用。
关于本发明方法中的卤素的使用量，只要反应能够进行，任何用量均可。从收率和/或副产物的抑制以及经济效率等的观点考虑，可例示，相对于通式(1)表示的腈化合物1摩尔，通式(2)表示的卤素、特别是式(5)表示的氯为1摩尔以上60摩尔以下、优选2摩尔以上20摩尔以下、更优选2摩尔以上10摩尔以下、进一步优选2摩尔以上7摩尔以下、特别优选2摩尔以上5摩尔以下的范围。但是，根据目的和情况，本领域技术人员可以适宜调整本发明方法中的卤素的使用量。
(操作:卤素的引入)
在本发明方法中，优选使腈化合物、硫和卤素同时反应。特别是，在本发明方法中，优选使丁二腈、硫、氯同时反应。因此，本发明方法中，优选向通式(1)表示的腈化合物和硫中引入通式(2)表示的卤素。具体地，优选在装入通式(1)表示的腈化合物和硫后，向其中引入通式(2)表示的卤素。也可以在装入全部腈化合物和全部硫后，引入全部卤素。或者，也可以在装入一部分腈化合物和一部分硫后，引入卤素，然后在装入剩余的腈化合物和剩余的硫后，引入剩余的卤素。进而，还可以反复进行腈化合物和硫的装入以及卤素的引入。在这些情况下，本领域技术人员可适宜调整一次装入的腈化合物和硫的各自的量。本领域技术人员也可以适宜调整一次引入的氯的量。只要反应能够进行，本领域技术人员可以适宜选择和调整这些的装入和引入的方法。
(熔融状态)
“熔融”是指物质通过加热而变为液体。“熔融状态”是指物质熔融后的状态。本发明中，加热通式(1)表示的腈化合物和硫以后，进行通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应。优选加热通式(1)表示的腈化合物和硫至通式(1)表示的腈化合物或硫的至少任一者熔融为止。更优选加热通式(1)表示的腈化合物和硫至至少通式(1)表示的腈化合物熔融为止。进一步优选加热通式(1)表示的腈化合物和硫至至少通式(1)表示的腈化合物和硫的一部分熔融为止。特别优选加热通式(1)表示的腈化合物和硫至通式(1)表示的腈化合物和硫熔融为止。
具体地，优选向通式(1)表示的腈化合物或硫的至少任一者熔融的体系内引入通式(2)表示的卤素。更优选向至少通式(1)表示的腈化合物熔融的体系内引入通式(2)表示的卤素。即，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应更优选通过向硫和处于熔融状态的通式(1)表示的腈化合物中引入通式(2)表示的卤素来进行。具体地，进一步优选向至少通式(1)表示的腈化合物和硫的一部分熔融的体系内引入通式(2)表示的卤素。特别优选向通式(1)表示的腈化合物和硫两者熔融的体系内引入通式(2)表示的卤素。即，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应特别优选通过向处于熔融状态的通式(1)表示的腈化合物和处于熔融状态的硫中引入通式(2)表示的卤素来进行。在装入一部分腈化合物和一部分硫后引入卤素、然后在装入剩余的腈化合物和剩余的硫后引入剩余的卤素的情况下，引入剩余的卤素时，腈化合物和硫的状态为上述的任一种熔融状态均可。
上述“熔融状态”可以通过加热通式(1)表示的腈化合物和硫来实现和维持，作为该加热温度，根据腈化合物的种类而不同，一般为70℃以上、优选为90℃以上，考虑到加热温度的上限，为70～180℃的范围、优选90～150℃的范围。
上述反应通过向通式(1)表示的腈化合物和硫的状态为上述任一种熔融状态的体系内引入通式(2)表示的卤素来进行，因而不需要非质子性极性溶剂等溶剂。即，上述反应在无溶剂下进行。但是，不包括在腈化合物和硫能基本上维持熔融状态的范围内添加适宜溶剂的情况。本说明书中，术语“无溶剂”是指不向反应体系中添加溶剂。换言之，本说明书中，术语“无溶剂”是指在不存在溶剂的情况下进行反应。本说明书中，“溶剂”是指本领域技术人员能够识别为“溶剂”的物质。例如，本说明书中的“溶剂”可以是在反应温度下为液体的任意物质。但是，“溶剂”不包括底物、反应中间体、反应产物和反应副产物。
本说明书中，非质子性溶剂是指具有24.0以下的受体数的溶剂。本说明书中，极性溶剂是指具有5以上的相对介电常数的溶剂。因此，本说明书中的非质子性极性溶剂是指具有24.0以下的受体数和5以上的相对介电常数的溶剂。作为非质子性极性溶剂，例如可举出N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二乙基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺(DMAC)、N,N-二乙基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮(NMP)、四甲基脲、1,3-二甲基-2-咪唑啉酮(DMI)、六甲基磷酸三酰胺(HMPA)等，但并不限定于此。
受体数(AN(Acceptor number))如V.Gutmann(大泷仁志和冈田动译)，“供体和受体(原标题:The Donor-Acceptor Approach toMolecular Interaction)”，株式会社学会出版中心，1983年；或Christian Reichardt，“Solvents and Solvent Effects in OrganicChemistry”，第2版，VCH(RFA)，1990年，第23～24页，或第3版，修订增补版，WILEY-VCH，2003年，第26页等中所述。受体数(AN)是指Mayer-Gutmann提议的受体性的尺度。将正己烷中溶解的(C2F5)3PO的31P-NMR化学位移值设为0(零)、且将1,2-二氯乙烷中的(C2F5)3PO·SbCl5络合物的31P-NMR化学位移值设为100时，受体数(AN)被定义为某种纯溶剂中溶解的(C2F5)3PO的31P-NMR化学位移值。即，某种溶剂的受体数(AN)如下式所示：
AN＝100δ(某溶剂中的(C2F5)3PO)/[δ(1,2-二氯乙烷中的(C2F5)3PO·SbCl5)-δ(正己烷中的(C2F5)3PO)]
在此，相对介电常数采用日本化学会编，“化学便览(基础编)”，丸善株式会社，修订第5版，2004年，第I-770～777页中所述的值。
(温度)
本发明方法中的通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应温度，只要反应能够进行，就没有特殊限制。从收率和/或副产物的抑制以及操作性、经济效率等的观点考虑，作为本发明方法中的反应温度，可例示，50℃以上、优选70℃以上、更优选80℃以上、进一步优选90℃以上。作为本发明方法中的反应温度，从同样的观点考虑，作为本发明方法中的反应温度，可例示，200℃以下、优选180℃以下、更优选160℃以下、进一步优选150℃以下。作为本发明方法中的反应温度的范围，可例示任意组合上述的下限和上限的范围。例如，优选组合上述的优选的下限和优选的上限的范围，更优选组合上述的更优选的下限和更优选的上限的范围，进一步优选组合上述的进一步优选的下限和进一步优选的上限的范围。具体可例示为50～200℃、优选70～180℃、更优选80～160℃、进一步优选90～150℃的范围，但并不限定于此。根据目的和情况，本领域技术人员可适宜调整本发明方法中的反应温度。
(时间)
本发明方法中的卤素的引入时间和反应时间，只要反应能够进行，就没有特殊限制。从收率和/或副产物的抑制以及经济效率等的观点考虑，特别是从提高收率的观点考虑，作为本发明方法中的该温度的下限，可例示为5小时以上、优选10小时以上、更优选15小时以上、进一步优选20小时以上。另外，作为本发明方法中的该时间，没有特殊限制，从抑制目标化合物的分解等的观点以及一般的经济性的观点考虑，可例示为100小时以下、优选75小时以下、更优选50小时以下、进一步优选30小时以下。作为本发明方法中的该时间范围，可例示上述的下限和上限的适宜且任意的组合。可例示5～100小时、优选15～100小时、更优选15～75小时、进一步优选20～50小时、特别优选20～30小时的范围，但并不限定于此。根据目的和情况，本领域技术人员可适宜调整本发明方法中的该时间。予以说明，推定本发明方法中的卤素、特别是氯的引入时间和反应时间可基本上相同。
(异噻唑化合物)
作为由本发明方法得到的通式(3)表示的异噻唑化合物，具体例如可举出：
3,4-二氟-5-氰基异噻唑、
3,4-二氯-5-氰基异噻唑、
3,4-二溴-5-氰基异噻唑、
3,4-二碘-5-氰基异噻唑、
3,4-二氟-5-羧基异噻唑、
3,4-二氯-5-羧基异噻唑、
3,4-二溴-5-羧基异噻唑、
3,4-二碘-5-羧基异噻唑、
3,4-二氟-5-甲氧羰基异噻唑、
3,4-二氯-5-甲氧羰基异噻唑、
3,4-二溴-5-甲氧羰基异噻唑、
3,4-二碘-5-甲氧羰基异噻唑、
3,4-二氯-5-乙氧羰基异噻唑、
3,4-二溴-5-乙氧羰基异噻唑、
3,4-二氯-5-丙氧羰基异噻唑、
3,4-二氯-5-异丙氧羰基异噻唑、
3,4-二氯-5-丁氧基异噻唑等，但并不限定于此。
从化合物的有用性等的观点考虑，优选3,4-二氯-5-氰基异噻唑和3,4-二溴-5-氰基异噻唑，特别优选3,4-二氯-5-氰基异噻唑。
实施例
下面，举出实施例，具体说明本发明的制造方法，但本发明不受这些实施例的任何限定。
实施例1
(3,4-二氯-5-氰基异噻唑的制造)
向备有搅拌器、回流冷凝器和温度计的200mL四颈瓶中装入丁二腈80.1g(1.0mol)和硫32.1g(1.0mol)。在搅拌下升温至120℃。观察到丁二腈和硫熔融。在120～125℃下吹入氯212.7g(3.0mol)22小时。将反应混合物冷却至温室，用乙酸乙酯300mL稀释。通过过滤除去不溶物，得到作为褐色乙酸乙酯溶液的产物。通过HPLC绝对校准曲线法分析所得的乙酸乙酯溶液。结果，3,4-二氯-5-氰基异噻唑的收率为由所用的丁二腈计算的理论量的64％。
进行国际公开第2010/126170号公报(专利文献6)的方法时，观察到推测为富马腈、马来腈和/或它们的氯取代物的化合物的升华。然而，在本说明书的实施例1中，基本上观察不到化合物的升华。
本发明中的反应机制等尚未明确，但从上述观察可推定，本发明中的主要反应机制与国际公开第2010/126170号公报(专利文献6)的方法中的主要反应机制不同。
实施例2
(3,4-二氯-5-氰基异噻唑的制造)
以与实施例1同样的方式进行反应后，将反应混合物冷却至60℃，向其中滴入异丙醇(2-丙醇)(200mL)。滴入结束后，将混合物冷却至5℃。过滤收集结晶，干燥，得到作为浅褐色结晶的3,4-二氯-5-氰基异噻唑，收率为54％。所得的3,4-二氯-5-氰基异噻唑为公知化合物，可通过本领域技术人员已知的常规方法鉴定。另外，通过HPLC绝对校准曲线法分析滤液。结果，滤液中的3,4-二氯-5-氰基异噻唑的收率为10％。作为结晶得到的3,4-二氯-5-氰基异噻唑和滤液中的3,4-二氯-5-氰基异噻唑的合并收率为64％。予以说明，收率均基于用作原料的丁二腈计算。
实施例3
(3,4-二氯-5-氰基异噻唑的制造)
向备有搅拌器、回流冷凝器和温度计的200mL四颈瓶中装入丁二腈80.1g(1.0mol)和硫64.1g(2.0mol)。在搅拌下升温至100℃。观察到丁二腈熔融。观察到几乎全部的硫作为固体残留。在100～105℃下向其中吹入氯283.6g(4.0mol)21小时。将反应混合物冷却至温室，用乙酸乙酯300mL稀释。通过过滤除去不溶物，得到作为褐色乙酸乙酯溶液的产物。通过HPLC绝对校准曲线法分析所得的乙酸乙酯溶液。结果，3,4-二氯-5-氰基异噻唑的收率为由所用的丁二腈计算的理论量的71％。
实施例4
(3,4-二氯-5-氰基异噻唑的制造)
向备有搅拌器、回流冷凝器和温度计的500mL四颈瓶中装入丁二腈80.1g(1.0mol)和硫96.2g(3.0mol)。在搅拌下升温至120℃。观察到丁二腈和硫熔融。在120～125℃下向其中吹入氯283.6g(4.0mol)12小时。将反应混合物冷却至温室，用乙酸乙酯300mL稀释。通过过滤除去不溶物，得到作为褐色乙酸乙酯溶液的产物。通过HPLC绝对校准曲线法分析所得的乙酸乙酯溶液。结果，3,4-二氯-5-氰基异噻唑的收率为由所用的丁二腈计算的理论量的68％。
实施例5
(3,4-二氯-5-氰基异噻唑的制造)
向备有搅拌器、回流冷凝器和温度计的500ml四颈瓶中装入丁二腈80.1g(1.0mol)和硫96.2g(3.0mol)。在搅拌下升温至120℃。观察到丁二腈和硫熔融。在120～125℃下向其中吹入氯290.7g(4.1mol)22小时。将反应混合物冷却至温室，用乙酸乙酯300mL稀释。通过过滤除去不溶物，得到作为褐色乙酸乙酯溶液的产物。通过HPLC绝对校准曲线法分析所得的乙酸乙酯溶液。结果，3,4-二氯-5-氰基异噻唑的收率为由所用的丁二腈计算的理论量的76％。
实施例6
(3,4-二氯-5-氰基异噻唑的制造)
向备有搅拌器、回流冷凝器和温度计的200mL四颈瓶中装入丁二腈80.1g(1.0mol)和硫32.1g(1.0mol)。在搅拌下升温至120℃。观察到丁二腈和硫熔融。在120～125℃下向其中吹入氯212.7g(3.0mol)12小时。将反应混合物冷却至温室，用乙酸乙酯300mL稀释。通过过滤除去不溶物，得到作为褐色乙酸乙酯溶液的产物。通过HPLC绝对校准曲线法分析所得的乙酸乙酯溶液。结果，3,4-二氯-5-氰基异噻唑的收率为由所用的丁二腈计算的理论量的56％。
实施例7
(3,4-二氯-5-氰基异噻唑的制造)
向备有搅拌器、回流冷凝和温度计的1000mL四颈瓶中装入丁二腈80.1g(1.0mol)和硫320.7g(10.0mol)。在搅拌下升温至120℃。观察到丁二腈和硫熔融。在120～125℃下向其中吹入氯581.4g(8.2mol)16小时。将反应混合物冷却至温室，用乙酸乙酯300mL稀释。通过过滤除去不溶物，得到作为褐色乙酸乙酯溶液的产物。通过HPLC绝对校准曲线法分析所得的乙酸乙酯溶液。结果，3,4-二氯-5-氰基异噻唑的收率为由所用的丁二腈计算的理论量的75％。
实施例8
(3,4-二氯-5-氰基异噻唑的制造)
向备有搅拌器、回流冷凝器和温度计的200ml四颈瓶中装入丁二腈80.1g(1.0mol)和硫32.1g(1.0mol)。在搅拌下升温至140℃。观察到丁二腈和硫熔融。在相同温度下向其中吹入氯198.5g(2.8mol)18小时。将反应混合物冷却至温室，用乙酸乙酯300mL稀释。通过过滤除去不溶物，得到作为褐色乙酸乙酯溶液的产物。通过HPLC绝对校准曲线法分析所得的乙酸乙酯溶液。结果，3,4-二氯-5-氰基异噻唑的收率为由所用的丁二腈计算的理论量的63％。
比较例1
特开2010-260805(专利文献7)的实施例2所述的方法
(3,4-二氯-5-氰基异噻唑的制造)
向备有搅拌器、回流冷凝器和温度计的300mL四颈瓶中装入丁二腈5.70g(71.0mmol)、N,N-二甲基甲酰胺35.5mL和硫36.5g(1.14mol)。在搅拌下在25℃以下向其中吹入氯40.4g(0.570mol)。然后升温至100℃，将该混合物搅拌6小时。将反应混合物冷却至25℃后，注入到冰水中。通过甲苯萃取出反应产物。通过HPLC绝对校准曲线法分析所得的甲苯溶液。结果，3,4-二氯-5-氰基异噻唑的收率为由所用的丁二腈计算的理论量的64％。
在作为特开2010-260805(专利文献7)的实施例2所述方法的本说明书的比较例1中，使用氯和N,N-二甲基甲酰胺。因此，如上所述，比较例1的方法与无需使用N,N-二甲基甲酰胺的本发明不同，在工业上不优选。
如特开2010-260805(专利文献7)的权利要求1和6、以及第[0029]段中所述，推定，在上述比较例1中，在体系内在25℃以下的低温下由氯和硫制造氯化硫，然后使丁二腈与体系内制造的氯化硫反应。
另一方面，如上所述，本发明中的反应机制等尚未明确。但是，在本发明完成后考察本发明时，认为本发明中的主要反应机制与上述比较例1中的主要反应机制不同。这一观点也得到了后述本说明书比较例2的支持。
比较例2
不使用溶剂进行的特开2010-260805(专利文献7)的实施例2所述的方法
(3,4-二氯-5-氰基异噻唑的制造)
向备有搅拌器、回流冷凝器和温度计的100mL茄形瓶中装入丁二腈5.00g(62.4mmol)和硫31.9g(1.0mol)。观察到丁二腈和硫处于未熔融的状态。在搅拌下在25℃以下向其中吹入氯35.4g(0.500mol)22小时。然后升温至100℃，将该混合物搅拌6小时。将反应混合物冷却至温室，用甲苯50mL稀释。通过过滤除去不溶物，得到作为褐色甲苯溶液的产物。通过GC绝对校准曲线法分析所得的甲苯溶液。结果，3,4-二氯-5-氰基异噻唑的收率为由所用的丁二腈计算的理论量的仅10％。
在上述比较例2中，不使用作为非质子性极性溶剂的N,N-二甲基甲酰胺，换言之，在无溶剂下进行特开2010-260805(专利文献7)的实施例2所述的方法。结果，收率大幅下降。
(高效液相色谱(HPLC)分析法)
关于上述HPLC分析方法的详情，根据需要，可参考以下文献。
(a):(社)日本化学会编，“新实验化学讲座9分析化学I I”，第86～112页(1977年)，发行者饭泉新吾，丸善株式会社(例如，关于可用于柱的填料-流动相的组合，可参照第93～96页)
(b):(社)日本化学会编，“实验化学讲座20-1分析化学”，第5版，第130～151页(2007年)，发行者村田诚四郎，丸善株式会社(例如，关于反相色谱分析的具体使用方法和条件，可参照第135～137页)
(气相色谱(GC)分析法)
关于上述GC分析方法的详情，根据需要，可参考以下文献。
(a):(社)日本化学会编，“新实验化学讲座9分析化学I I”，第60～86页(1977年)，发行者饭泉新吾，丸善株式会社(例如，关于可用于柱的固定相液体，可参照第66页)
(b):(社)日本化学会编，“实验化学讲座20-1分析化学”，第5版，第121～129页(2007年)，发行者村田诚四郎，丸善株式会社(例如，关于中空毛细管分离柱的具体使用方法，可参照第124～125页)
产业实用性
根据本发明方法，提供异噻唑化合物、特别是3,4-二氯-5-氰基异噻唑的新的工业制造方法。可通过本发明方法制造的异噻唑化合物作为医药中间体和农药中间体、功能性色素、电子材料等的中间体是有用的。特别是，3,4-二氯-5-氰基异噻唑用作为农药的重要中间体。
在本说明书中，如上所述，本发明方法是工业上优选的。例如，与现有技术相比，本发明方法非常安全，而且本发明方法是高效的。进而，根据本发明方法，根据需要，在工业实施中可以选择各种选项。换言之，根据本发明，可提供根据情况的经济上优选的条件。因此，本发明方法能够以工业规模简便地实施。此外，根据本发明方法，能够在不使用高价的催化剂和过渡金属的情况下制造目标化合物，因而也不会排出来自这些的有害废弃物。因此，根据本发明方法，废弃物的处理容易，对环境也优良。
因此，本发明方法作为工业制造方法是极有用的。

Claims (30)

1.通式(3)表示的异噻唑化合物的制造方法，
式中，R和X如下述定义，
其特征在于，包括以下步骤:
加热通式(1)表示的腈化合物和硫，
式中，R表示氰基、羧基或烷氧羰基，
然后进行通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应，
X2     (2)
式中，X表示氟原子、氯原子、溴原子或碘原子。
2.权利要求1所述的制造方法，其中，加热通式(1)表示的腈化合物和硫至至少通式(1)表示的腈化合物熔融为止。
3.权利要求1所述的制造方法，其中，加热通式(1)表示的腈化合物和硫至通式(1)表示的腈化合物和硫熔融为止。
4.权利要求1～3任一项所述的制造方法，其中，将通式(1)表示的腈化合物和硫加热至70℃以上。
5.权利要求1～3任一项所述的制造方法，其中，将通式(1)表示的腈化合物和硫加热至90℃以上。
6.权利要求1～3任一项所述的制造方法，其中，将通式(1)表示的腈化合物和硫加热至70～180℃的温度范围。
7.权利要求1～3任一项所述的制造方法，其中，将通式(1)表示的腈化合物和硫加热至90～150℃的温度范围。
8.权利要求1～7任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应在70℃以上进行。
9.权利要求1～7任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应在90℃以上进行。
10.权利要求1～7任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应在70～180℃的温度范围进行。
11.权利要求1～7任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应在90～150℃的温度范围进行。
12.权利要求1～11任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应进行15小时以上。
13.权利要求1～11任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应进行20小时以上。
14.权利要求1～11任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应在15～75小时的时间范围内进行。
15.权利要求1～11任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应在20～50小时的时间范围内进行。
16.权利要求1～7任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应在70～180℃的温度范围、15～75小时的时间范围内进行。
17.权利要求1～7任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应在90～150℃的温度范围、15～75小时的时间范围内进行。
18.权利要求1～7任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应在90～150℃的温度范围、20～50小时的时间范围内进行。
19.权利要求1～18任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应通过装入通式(1)表示的腈化合物和硫后，向其中引入通式(2)表示的卤素来进行。
20.权利要求1～19任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应通过向通式(1)表示的腈化合物和硫中引入通式(2)表示的卤素来进行。
21.权利要求1～19任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应通过向硫和处于熔融状态的通式(1)表示的腈化合物中引入通式(2)表示的卤素来进行。
22.权利要求1～19任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应通过向处于熔融状态的通式(1)表示的腈化合物和处于熔融状态的硫中引入通式(2)表示的卤素来进行。
23.权利要求1～19任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应通过在70～180℃的温度范围、15～75小时的时间范围，向通式(1)表示的腈化合物和硫中引入通式(2)表示的卤素来进行。
24.权利要求1～19任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应通过在90～150℃的温度范围、15～75小时的时间范围，向通式(1)表示的腈化合物和硫中引入通式(2)表示的卤素来进行。
25.权利要求1～19任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应通过在90～150℃的温度范围、20～50小时的时间范围，向通式(1)表示的腈化合物和硫中引入通式(2)表示的卤素来进行。
26.权利要求1～25任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应在不使用非质子性极性溶剂的情况下进行。
27.权利要求1～25任一项所述的制造方法，其中，通式(1)表示的腈化合物与硫和通式(2)表示的卤素的反应在无溶剂下进行。
28.权利要求1～27任一项所述的制造方法，其中，通式(1)中的R为氰基。
29.权利要求1～27任一项所述的制造方法，其中，通式(1)中的X为氯原子。
30.权利要求1～27任一项所述的制造方法，其中，通式(1)中的R为氰基，X为氯原子。
CN201380061252.9A 2012-10-05 2013-10-04 异噻唑化合物的制造方法 Active CN104822667B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012223321 2012-10-05
JP2012-223321 2012-10-05
PCT/JP2013/005925 WO2014054294A1 (ja) 2012-10-05 2013-10-04 イソチアゾール化合物の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN104822667A true CN104822667A (zh) 2015-08-05
CN104822667B CN104822667B (zh) 2018-02-16

Family

ID=50434637

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201380061252.9A Active CN104822667B (zh) 2012-10-05 2013-10-04 异噻唑化合物的制造方法

Country Status (17)

Country Link
US (1) US9353071B2 (zh)
EP (1) EP2905280B1 (zh)
JP (1) JP5753632B2 (zh)
KR (1) KR102196732B1 (zh)
CN (1) CN104822667B (zh)
AU (1) AU2013325947B2 (zh)
BR (1) BR112015007299B1 (zh)
CA (1) CA2885840C (zh)
ES (1) ES2636489T3 (zh)
HU (1) HUE035775T2 (zh)
IL (1) IL237885A (zh)
MX (1) MX361032B (zh)
MY (1) MY169919A (zh)
PL (1) PL2905280T3 (zh)
RU (1) RU2640806C2 (zh)
TW (1) TWI626236B (zh)
WO (1) WO2014054294A1 (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6461102B2 (ja) * 2014-04-03 2019-01-30 クミアイ化学工業株式会社 エーテル化合物を用いるイソチアゾール化合物の製造方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3393992A (en) * 1965-10-01 1968-07-23 Pennsalt Chemicals Corp Process for contacting plants with growth effecting chemical
JP2010260805A (ja) * 2009-05-01 2010-11-18 Ihara Chem Ind Co Ltd イソチアゾール誘導体を製造する方法
CN102421765A (zh) * 2009-05-01 2012-04-18 庵原化学工业株式会社 异噻唑衍生物的制备方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3341547A (en) 1965-10-01 1967-09-12 Pennsalt Chemicals Corp 3, 4-dichloroisothiazoles and process for making them
DE2231098A1 (de) * 1972-06-24 1974-01-03 Bayer Ag Verfahren zur herstellung von 3,4-dichlorisothiazolen
DE2231097A1 (de) 1972-06-24 1974-01-03 Bayer Ag Verfahren zur herstellung von 5-cyan-3,4-dichlorisothiazol
US4132676A (en) * 1977-12-09 1979-01-02 Givaudan Corporation Perfume compositions containing ethyl 3,4-dichloro-5-isothiazolecarboxylate
JP2530071B2 (ja) 1990-09-20 1996-09-04 三井東圧化学株式会社 イソチアゾ―ルカルボン酸誘導体およびこれらを有効成分とするイネいもち病防除剤
US5240951A (en) * 1990-09-20 1993-08-31 Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated Isothiazolecarboxylic acid derivatives, rice blast control agents containing the same as active ingredients, and rice blast control method applying the control agents
DE19750011A1 (de) * 1997-11-12 1999-05-20 Bayer Ag Isothiazolcarbonsäure-Derivate
DE19750012A1 (de) 1997-11-12 1999-05-20 Bayer Ag Isothiazolcarbonsäureamide
JP2001294581A (ja) * 2000-04-12 2001-10-23 Nippon Bayer Agrochem Co Ltd イソチアゾール誘導体

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3393992A (en) * 1965-10-01 1968-07-23 Pennsalt Chemicals Corp Process for contacting plants with growth effecting chemical
JP2010260805A (ja) * 2009-05-01 2010-11-18 Ihara Chem Ind Co Ltd イソチアゾール誘導体を製造する方法
CN102421765A (zh) * 2009-05-01 2012-04-18 庵原化学工业株式会社 异噻唑衍生物的制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
PL2905280T3 (pl) 2017-11-30
JPWO2014054294A1 (ja) 2016-08-25
IL237885A (en) 2017-02-28
BR112015007299B1 (pt) 2020-12-08
EP2905280A4 (en) 2016-04-06
KR20150063150A (ko) 2015-06-08
US20150291540A1 (en) 2015-10-15
CN104822667B (zh) 2018-02-16
AU2013325947B2 (en) 2015-10-01
EP2905280B1 (en) 2017-05-17
RU2640806C2 (ru) 2018-01-18
WO2014054294A1 (ja) 2014-04-10
HUE035775T2 (en) 2018-05-28
TW201418234A (zh) 2014-05-16
TWI626236B (zh) 2018-06-11
US9353071B2 (en) 2016-05-31
EP2905280A1 (en) 2015-08-12
KR102196732B1 (ko) 2020-12-30
MY169919A (en) 2019-06-17
BR112015007299A2 (pt) 2017-07-04
RU2015116890A (ru) 2016-11-27
MX361032B (es) 2018-11-22
MX2015004226A (es) 2015-06-10
ES2636489T3 (es) 2017-10-05
AU2013325947A1 (en) 2015-05-14
CA2885840C (en) 2020-08-25
BR112015007299A8 (pt) 2018-02-06
CA2885840A1 (en) 2014-04-10
JP5753632B2 (ja) 2015-07-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107089970B (zh) 一种制备n-酰基邻氨基苯甲酰胺的方法
CN101812062A (zh) 一种新的米诺膦酸重要中间体的制备方法
US20100065416A1 (en) 6-chloro-2-trichloromethyl pyridine preparation method
CN104822667A (zh) 异噻唑化合物的制造方法
CN102120723A (zh) 2-溴-4-氟乙酰苯胺的制备方法
DK1700855T3 (en) Process for preparing the tazarotene
CN101454282B (zh) 杂环巯基化合物的生产方法
EP1070702B1 (en) Process for trifluoroacetate esters and thioesters
EP2426114B1 (en) Method for producing isothiazole derivative
CN109206363A (zh) 一种制备2-氯烟酸的绿色新工艺
AU2022327749A1 (en) A new process of saflufenacil production using novel intermediates
CN106458941B (zh) 使用醚化合物的异噻唑化合物的制造方法
CN102786440A (zh) 三氟乙脒的制备方法
EP3553047A1 (en) Method for purifying n-( -alkoxyethyl)formamide, method for producing high-purity n-( -alkoxyethyl)formamide, and device for purifying n-( -alkoxyethyl)formamide
CN114644593B (zh) 二氯嘧啶的制备方法
CN117105974A (zh) 一种噻唑膦中间体s-仲丁基硫代磷酰二氯的制备工艺
CN105732716B (zh) 化合物10-甲基-10-氢-9-氧杂-10-磷杂菲-10-氧化物-10-硫化物及其制备方法
SU396022A1 (ru) Способ получения производных хиназолин-2-она
CN111825581A (zh) 以三氟甲基亚磺酰氯合成三氟甲硫基化合物的方法
CN105111116A (zh) 一种芳基硫醚化合物的催化合成方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20171207

Address after: Tokyo, Japan, Japan

Applicant after: Kumiai Chemical Industry Co., Ltd.

Address before: Tokyo, Japan, Japan

Applicant before: Ihara Chemical Ind Co.

GR01 Patent grant
GR01 Patent grant