BR112015007299B1

BR112015007299B1 - processo para a produção de composto de isotiazol

Info

Publication number: BR112015007299B1
Application number: BR112015007299-2A
Authority: BR
Inventors: Takashi Abe
Original assignee: Kumiai Chemical Industry Co., Ltd
Priority date: 2012-10-05
Filing date: 2013-10-04
Publication date: 2020-12-08
Also published as: CN104822667A; PL2905280T3; JPWO2014054294A1; IL237885A; EP2905280A4; KR20150063150A; US20150291540A1; CN104822667B; AU2013325947B2; EP2905280B1; RU2640806C2; WO2014054294A1; HUE035775T2; TW201418234A; TWI626236B; US9353071B2; EP2905280A1; KR102196732B1; MY169919A; BR112015007299A2

Abstract

PROCESSO PARA A PRODUÇÃO DE COMPOSTO DE ISOTIAZOL. [Problema a Ser Resolvido] Fornecimento de um processo industrialmente preferido para a produção de um composto de isotiazol, particularmente 3,4-dicloro-5-cianoisotiazol. Por exemplo, o fornecimento de um processo de produção industrial mais seguro por evitar o uso simultâneo de um solvente polar aprótico como, por exemplo, N,N-dimetilformamida e cloro. Adicionalmente, o fornecimento de um processo de produção que é economicamente preferido pelo fato de usar um solvente polar aprótico, que altamente provável de se tornar uma parte do resíduo, se não for usado. [Solução] A presente invenção refere-se a um processo para produção de um composto de isotiazol representado por uma fórmula geral (3), onde R é um grupo ciano ou similar; e X é um átomo de cloro ou similar, que inclui o aquecimento de um composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), onde R é como definido acima, e enxofre, e então a realização de uma reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2), onde X é como definido acima.

Description

CAMPO TÉCNICO

[001] A presente invenção refere-se a um processo para aprodução de um composto de isotiazol. Compostos de isotiazol são úteis, por exemplo, como intermediários para a síntese de vários compostos orgânicos (por exemplo, compostos orgânicos biologicamente ativos como, por exemplo, fármacos e compostos químicos agrícolas, pigmentos funcionais, materiais eletrônicos, etc.) devido a sua estrutura de isotiazol.

ANTECEDENTES DA INVENÇÃO

[002] Como descrito acima, compostos de isotiazol sãoamplamente conhecidos como intermediários para fármacos e intermediários para compostos químicos agrícolas, e intermediários para pigmentos funcionais, materiais eletrônicos, etc. Logo, como divulgado nos Documentos de Não Patente 1 e 2, vários estudos têm sido feitos até agora em processos para produção de compostos de isotiazol.

[003] Dentre os compostos de isotiazol, 3,4-dicloro-5-cianoisotiazol, que pode ser facilmente sujeito à conversão do grupo funcional deste, é conhecido como um intermediário para fármacos e um intermediário para compostos químicos agrícolas. Adicionalmente, como divulgado nos Documentos de Patente 4 e 5, este composto é de fato usado como um intermediário importante para compostos químicos agrícolas.

[004] Entretanto, tem sido difícil para os processos de produçãodivulgados nos Documentos de Não Patente 1 e 2 produzir 3,4-dicloro- 5-cianoisotiazola, que é útil como um intermediário importante para compostos químicos agrícolas.

[005] Ou seja, um processo usando dissulfeto de carbono (CS2),cianeto de sódio (NaCN) e cloro (Cl2) tem sido até agora conhecido como um processo para a produção de 3,4-dicloro-5-cianoisotiazol (ver Documento de Patente 1). Entretanto, este processo tem a desvantagem de que dissulfeto de carbono, que é um material inflamável especial, é uma matéria-prima a ser usada nesta. Além disso, este processo também tem a desvantagem de que cianeto de sódio, que é um material tóxico, é usado neste. Além disso, neste processo, cloro é introduzido em um reator contendo N,N-dimetilformamida (DMF) como um solvente com aquecimento. Entretanto, é bem-conhecido a uma pessoa versada na técnica que quando N,N-dimetilformamida e cloro são usados simultaneamente, há uma possibilidade de descontrole da reação ou uma explosão. Por estas razões, é considerado que a implementação deste processo requer a atenção mais cuidadosa e medidas adequadas a fim de manter a segurança. Adicionalmente, há uma possibilidade que este processo não pode garantir a segurança de uma planta de produção, pois há a possibilidade de descontrole da reação e uma explosão ocorrerem em alguns casos como descrito acima. Ou seja, este processo usando N,N-dimetilformamida e cloro ao mesmo tempo não é preferido para manufatura industrial, pois há preocupação pela falta de segurança.

[006] Como para outros processos para a produção de 3,4-dicloro-5-cianoisotiazol, um processo usando tricloroacetonitrila e enxofre é conhecido (ver Documento de Patente 2). Entretanto, este processo tem a desvantagem de requerer a reação a uma alta temperatura de 200 °C a 300 °C como descrito nos Exemplos aqui. Adicionalmente, este processo tem a desvantagem de requerer o uso de uma matéria-prima especial como, por exemplo, tricloroacetonitrila.

[007] Além do mais, um processo usando diclorofumaronitrila eenxofre é conhecido (ver Documento de Patente 3). Entretanto, este processo também tem a desvantagem de requerer a reação a uma alta temperatura de 230°C a 300°C nos Exemplos aqui. Adicionalmente, este processo também tem a desvantagem de requerer o uso de uma matéria-prima especial como, por exemplo, diclorofumaronitrila.

[008] Ainda como para outro processo de produção, um processode reação de fumaronitrila, maleonitrila ou um composto substituído com cloro destes, ou uma mistura destes compostos com cloreto de enxofre em um solvente aprótico, é conhecido (ver Documento de Patente 6). Fumaronitrila, maleonitrila e um composto substituído com cloro destes, ou uma mistura destes compostos, que são usados neste processo podem ser produzidos de succinonitrila (ver Exemplos 7 e 8 do Documento de Patente 6). Entretanto, é desejado que o processo de produção descrito no Documento de Patente 6 seja adicionalmente aprimorado tal que este processo requeira duas etapas de succinonitrila.

[009] Adicionalmente, é considerado que fumaronitrila,maleonitrila ou um composto substituído com cloro destes tem uma propriedade de sublimação industrialmente significante. Compostos possuindo uma propriedade de sublimação geralmente possuem o potencial de causar entupimento de um condensador de refluxo ou de uma tubulação em uma planta por sublimação desta.Por esta razão, o processo descrito no Documento de Patente 6 tem a desvantagem de possuir a possibilidade de requerer atenção e medidas em operações em sua implementação industrial.

[0010] Além disso, este processo essencialmente requer umsolvente polar aprótico como, por exemplo, N,N-dimetilformamida e o reciclo do solvente polar aprótico é acompanhado pela dificuldade de se desenvolver usando água. Logo, há uma desvantagem de que é altamente possível que o solvente polar aprótico se torne parte do resíduo. Adicionalmente, neste processo, há um exemplo em que N,N- dimetilformamida e cloreto de enxofre, que é um composto com cloro, são usados simultaneamente. Logo, há a possibilidade de que este processo requeira atenção e medidas com a visão de preparação para qualquer situação. Logo, ainda há espaço para aprimoramento neste processo.

[0011] Enquanto isso, assim como um processo de produção de3,4-dicloro-5-cianoisotiazol, um processo usando succinonitrila, enxofre e cloro é conhecido (ver Documento de Patente 7). Entretanto, este processo também requer N,N-dimetilformamida como solvente. Ou seja, já que N,N-dimetilformamida e cloro são usados simultaneamente, há a possibilidade do descontrole da reação e de uma explosão. Para esta razão, é considerado que a implementação deste processo também requer a atenção mais cuidadosa e medidas adequadas a fim de manter a segurança. Adicionalmente, há a possibilidade de que este processo não possa garantir a segurança de uma planta de produção, pois há a possibilidade de que o descontrole da reação e uma explosão possam ocorrer em alguns casos como descrito acima. Ou seja, este processo usando N,N-dimetilformamida e cloro ao mesmo tempo não é preferido para manufatura industrial já que há preocupação pela falta de segurança.

[0012] Além disso, o processo descrito no Documento de Patente 7essencialmente requer um solvente polar aprótico como N,N- dimetilformamida e o reciclo do solvente polar aprótico é acompanhado pela dificuldade de se desenvolver usando água. Logo, há a desvantagem de que é altamente possível que o solvente polar aprótico usado se torne parte do resíduo. Então, pode ser dito que ainda há espaço para aprimoramento neste processo.

LISTAGEM DE CITAÇÕES DOCUMENTOS DE PATENTE

[0013] Documento de Patente 1: US 3341547 A

[0014] Documento de Patente 2: DE 2231097 A (DT 2231097)

[0015] Documento de Patente 3: DE 2231098 A (DT 2231098)

[0016] Documento de Patente 4: Aplicação de Patente JaponesaAberta No. Hei-5-59024 (JP-A-1993-59024)

[0017] Documento de Patente 5: Patente Japonesa No. 4088036

[0018] Documento de Patente 6: Publicação Internacional No.WO2010/126170

[0019] Documento de Patente 7: Aplicação de Patente JaponesaAberta No. 2010-260805 (JP 2010-260805 A) DOCUMENTOS DE NÃO PATENTE

[0020] Documento de Não Patente 1: Tetrahedron Lett., No. 42,1970, págs. 3719-3722

[0021] Documento de Não Patente 2: Chem. Commun., 2002, págs.1872-1873

SUMARIO DA INVENÇÃO PROBLEMA TECNICO

[0022] Um objetivo da presente invenção é fornecer um processoindustrial mais seguro para a produção de um composto de isotiazol, particularmente 3,4-dicloro-5-cianoisotiazol, ao evitar o uso simultâneo de um solvente polar aprótico como, por exemplo, N,N-dimetilformamida e cloro.

[0023] Outro objetivo da presente invenção é fornecer um processopara a produção de um composto de isotiazol, particularmente 3,4- dicloro-5-cianoisotiazol, que é economicamente preferidopelo fato de que um solvente polar aprótico como, por exemplo, N,N- dimetilformamida, que é altamente provável de se tornar parte do resíduo, não é usado.

[0024] Ainda outro objetivo da presente invenção é fornecer umprocesso para a produção de um composto de isotiazol, particularmente 3,4-dicloro-5-cianoisotiazol, onde tal processo não use substancialmente uma matéria-prima, que pode requerer atenção e medidas, ou uma matéria-prima especial. Um exemplo da matéria-prima que pode requerer atenção e medidas é um cianeto inorgânico possuindo toxicidade extremamente alta, que é uma fonte para íons de cianeto e gás ácido hidrociânico. Adicionalmente, ainda outro exemplo de matéria-prima que pode requerer atenção e medidas é um material inflamável especial.Adicionalmente, ainda outro exemplo da matéria- prima que pode requerer atenção e medidas é um composto orgânico possuindo uma propriedade de sublimação industrialmente significante.

[0025] Ainda outro objetivo da presente invenção é fornecer umprocesso que pode produzir um composto de isotiazol, particularmente 3,4-dicloro-5-cianoisotiazol, usando matérias-primas facilmente disponíveis e baratas.

[0026] Ainda outro objetivo da presente invenção é fornecer umprocesso que pode ser um composto de isotiazol, particularmente 3,4- dicloro-5-cianoisotiazol, onde tal processo é apropriado para industrialização pelo fato de ser de operação simples.

[0027] Por exemplo, o processo de produção descrito noDocumento de Patente 6 acima requer duas etapas de succinonitrila a fim de produzir 3,4-dicloro-5-cianoisotiazol. Entretanto, para fornecer um processo que possa produzir, por exemplo, 3,4-dicloro-5-isotiazol, de maneira simples em apenas uma etapa da succinonitrila é um dos objetivos da presente invenção.

[0028] Em suma, um objetivo da presente invenção é fornecer umprocesso industrialmente preferido para a produção de um composto de isotiazol, particularmente 3,4-dicloro-5-cianoisotiazol.

SOLUÇÃO DO PROBLEMA

[0029] Em vista das circunstâncias como descritas acima, o presenteinventor estudou processos diligentemente para a produção de um composto de isotiazol representado por uma fórmula geral (3) descrito mais tarde. Como resultado, o presente inventor descobriu surpreendentemente que o composto de isotiazol representado pela fórmula geral (3) descrito mais tarde pode ser produzido pelo aquecimento de um composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) descrito mais tarde e enxofre, e então pela realização de uma reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula (1) descrito depois, enxofre e um halogênio representado pela fórmula geral (2) descrito depois. Particularmente, o presente inventor descobriu surpreendentemente que 3,4-dicloro-5-cianoisotiazol representado por uma fórmula (6) descrito depois pode ser produzido pelo aquecimento de succinonitrila representado pela fórmula (4) descrita depois e enxofre, e então pela realização da reação entre a succinonitrila representada pela fórmula (4) descrita depois, enxofre e cloro representado pela fórmula (5). Baseado nessas descobertas, o presente inventor completou a presente invenção. Ou seja, a presente invenção é como se segue:

[0030] [1] Processo para a produção de um composto de isotiazolrepresentado pela fórmula geral (3): [Fórmula Química 3]

[0031] (onde R é um grupo ciano, um grupo carboxila ou um grupoalquiloxicarbonila; e X é um átomo de flúor, um átomo de cloro, um átomo de bromo ou um átomo de iodo)

[0032] que inclui a realização de uma reação entre um composto denitrila representado pela fórmula geral (1): [Fórmula Química 1]

[0033] (onde R é como definido acima),

[0034] enxofre e um halogênio representado pela fórmula geral (2): X2 (2)

[0035] (onde X é como definido acima).

[0036] [2] Processo de acordo com [1], onde o composto de nitrilarepresentado pela fórmula geral (1) e enxofre são aquecidos, e então a reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada.

[0037] [3] Processo de acordo com [1], onde o composto de nitrilarepresentado pela fórmula geral (1) e enxofre são aquecidos até que pelo menos o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) seja fundido.

[0038] [4] Processo de acordo com [1], onde o composto de nitrilarepresentado pela fórmula geral (1) e enxofre são aquecidos até que pelo menos o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) e uma parte de enxofre sejam fundidos.

[0039] [5] Processo de acordo com [1], onde o composto de nitrilarepresentado pela fórmula geral (1) e enxofre são aquecidos até que o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) e o enxofre sejam fundidos.

[0040] [6] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [5], onde o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) e o enxofre são aquecidos a 70°C ou mais.

[0041] [7] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [5], onde ocomposto de nitrila representado pela fórmula geral (1) e o enxofre são aquecidos a 90°C ou mais.

[0042] [8] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [5], onde ocomposto de nitrila representado pela fórmula geral (1) e o enxofre são aquecidos a uma temperatura na faixa de 50 a 200°C.

[0043] [9] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [5], onde ocomposto de nitrila representado pela fórmula geral (1) e o enxofre são aquecidos a uma temperatura na faixa de 70 a 180°C.

[0044] [10] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [5], ondeo composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) e o enxofre são aquecidos a uma temperatura na faixa de 90 a 150°C.

[0045] [11] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [10], ondea reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada a 70°C ou mais.

[0046] [12] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [10], ondea reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada a 90°C ou mais.

[0047] [13] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [10], ondea reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada na faixa de 50 a 200°C.

[0048] [14] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [10], ondea reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada na faixa de 70 a 180°C.

[0049] [15] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [10], ondea reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada na faixa de 90 a 150°C.

[0050] [16] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [15], ondea reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) é conduzida por 15 horas ou mais.

[0051] [17] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [15], ondea reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada por 20 horas ou mais.

[0052] [18] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [15], ondea reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada por um período de tempo na faixa de 15 a 75 horas.

[0053] [19] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [15], ondea reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada por um período de tempo na faixa de 20 a 50 horas.

[0054] [20] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [19], ondea reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada pela alimentação do composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) e o enxofre, e então pela introdução do halogênio representado pela fórmula geral (2) aqui.

[0055] [21] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [20], ondea reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada pela introdução do halogênio representado pela fórmula geral (2) no composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) e o enxofre.

[0056] [22] Processo de acordo com qualquer um de [1] ou de [6] a[21], onde o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) está em um estado fundido.

[0057] [23] Processo de acordo com qualquer um de [1] ou de [6] a[21], onde o enxofre está em um estado fundido.

[0058] [24] Processo de acordo com qualquer um de [1] ou de [6] a[21], onde o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) está em um estado fundido, e o enxofre está em um estado fundido.

[0059] [25] Processo de acordo com qualquer um de [20] a [24], onde a introdução do halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada a 70°C ou mais.

[0060] [26] Processo de acordo com qualquer um de [20] a [24],onde a introdução do halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada a 90°C ou mais.

[0061] [27] Processo de acordo com qualquer um de [20] a [24],onde a introdução do halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada a uma temperatura na faixa de 50 a 200°C.

[0062] [28] Processo de acordo com qualquer um de [20] a [24],onde a introdução do halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada a uma temperatura na faixa de 70 a 180°C.

[0063] [29] Processo de acordo com qualquer um de [20] a [24],onde a introdução do halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada a uma temperatura na faixa de 90 a 150°C.

[0064] [30] Processo de acordo com qualquer um de [20] a [29],onde a introdução do halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada por 15 horas ou mais.

[0065] [31] Processo de acordo com qualquer um de [20] a [29],onde a introdução do halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada por 20 horas ou mais.

[0066] [32] Processo de acordo com qualquer um de [20] a [29],onde a introdução do halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada por um período de tempo na faixa de 15 a 75 horas.

[0067] [33] Processo de acordo com qualquer um de [20] a [29],onde a introdução do halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada por um período de tempo na faixa de 20 a 50 horas.

[0068] [34] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [33], ondea reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada sem o uso de um solvente polar aprótico.

[0069] [35] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [33], ondea reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada sem o uso de um solvente.

[0070] [36] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [35], ondea quantidade de enxofre usado é de 0,5 mol ou mais e de 20 mol ou menos, como átomos de enxofre, baseado em 1 mol do composto de nitrila representado pela fórmula geral (1).

[0071] [37] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [35], ondea quantidade de enxofre usado é de 0,9 mol ou mais e de 12 mol ou menos, como átomos de enxofre, baseado em 1 mol do composto de nitrila representado pela fórmula geral (1).

[0072] [38] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [35], ondea quantidade de enxofre usado é de 0,9 mol ou mais e de 4 mol ou menos, como átomos de enxofre, baseado em 1 mol do composto de nitrila representado pela fórmula geral (1).

[0073] [39] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [35], ondea quantidade de enxofre usado é de 1 mol ou mais e de 20 mol ou menos, como átomos de enxofre, baseado em 1 mol do composto de nitrila representado pela fórmula geral (1).

[0074] [40] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [35], ondea quantidade de enxofre usado é de 1 mol ou mais e de 12 mol ou menos, como átomos de enxofre, baseado em 1 mol do composto de nitrila representado pela fórmula geral (1).

[0075] [41] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [35], ondea quantidade de enxofre usado é de 1 mol ou mais e de 4 mol ou menos, como átomos de enxofre, baseado em 1 mol do composto de nitrila representado pela fórmula geral (1).

[0076] [42] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [35], ondea quantidade de enxofre usado é menor que 2 moles, como átomos de enxofre, baseado em 1 mol do composto de nitrila representado pela fórmula geral (1).

[0077] [43] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [35], ondea quantidade de enxofre usado é de 1 mol ou mais e menor que 2 moles, como átomos de enxofre, baseado em 1 mol do composto de nitrila representado pela fórmula geral (1).

[0078] [44] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [35], ondea quantidade de enxofre usado é de 2 mol ou mais e de 10 mol ou menos, como átomos de enxofre, baseado em 1 mol do composto de nitrila representado pela fórmula geral (1).

[0079] [45] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [35], ondea quantidade de enxofre usado é de 2 mol ou mais e de 4 mol ou menos, como átomos de enxofre, baseado em 1 mol do composto de nitrila representado pela fórmula geral (1).

[0080] [46] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [45], ondea quantidade de halogênio representado pela fórmula (2) usado é de 2 mol ou mais e de 20 mol ou menos, como átomos de enxofre, baseado em 1 mol do composto de nitrila representado pela fórmula geral (1).

[0081] [47] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [45], ondea quantidade de halogênio representado pela fórmula (2) usado é de 2 moles ou mais e de 10 mol ou menos, como átomos de enxofre, baseado em 1 mol do composto de nitrila representado pela fórmula geral (1).

[0082] [48] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [45], ondea quantidade de halogênio representado pela fórmula (2) usado é de 2 mol ou mais e de 5 mol ou menos, como átomos de enxofre, baseado em 1 mol do composto de nitrila representado pela fórmula geral (1).

[0083] [49] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [48], onde R na fórmula geral (1) é um grupo ciano.

[0084] [50] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [49], onde X na fórmula geral (1) é um átomo de cloro ou um átomo de bromo.

[0085] [51] Processo de acordo com qualquer um de [1] a [49], onde X na fórmula geral (2) é um átomo de cloro.

EFEITOS VANTAJOSOS DA INVENÇÃO

[0086] A presente invenção fornece um processo industrial novo para a produção de um composto de isotiazol, particularmente 3,4- dicloro-5-cianoisotiazol.

[0087] De acordo com a presente invenção, um processo mais seguro para a produção de um composto de isotiazol, particularmente 3,4-dicloro-5-cianoisotiazol, é fornecido por evitar o uso simultâneo de um solvente polar aprótico como, por exemplo, N,N-dimetilformamida e cloro. Ou seja, de acordo com a presente invenção, um processo que não requer atenção especial ou medidas especiais a fim de manter a segurança é fornecido por não usar um solvente polar aprótico como, por exemplo, N,N-dimetilformamida como um solvente.

[0088] Evitar o uso de um solvente polar aprótico como, por exemplo, N,N-dimetilformamida significa uma segurança significantemente aprimorada no processo da presente invenção, ou seja, a vantagem do processo da presente invenção, quando comparado com a técnica anterior. Em outras palavras, isto reduz substancialmente os riscos de decomposição perigosa e similares durante a manufatura industrial. Logo, o processo da presente invenção é seguramente aplicável a uma planta piloto ou de produção em escala maior como, por exemplo, de manufatura industrial.

[0089] Adicionalmente, de acordo com o processo da presente invenção, o composto de isotiazol alvo, particularmente 3,4-dicloro-5- cianoisotiazol, pode ser produzido sem o uso de um solvente de reação. Logo, o processo da presente invenção é economicamente preferido quando comparado com a técnica anterior. Particularmente, com respeito ao solvente polar aprótico como, por exemplo, N,N- dimetilformamida, o reciclo é acompanhado pela dificuldade do desenvolvimento usando água. Logo, é altamente possível que o solvente polar aprótico se torne parte do resíduo. Entretanto, é um processo da presente invenção que o composto alvo possa ser produzido sem o uso de um solvente polar aprótico. Logo, o processo da presente invenção pode reduzir o resíduo.Ou seja, o processo da presente invenção pode reduzir a carga ambiental.

[0090] Além do mais, de acordo com o processo da presente invenção, o composto de isotiazol, particularmente 3,4-dicloro-5- cianoisotiazol, pode ser produzido sem substancialmente usar uma matéria-prima, o que pode requerer atenção e medidas, ou uma matéria-prima especial. Um exemplo da matéria-prima que pode requerer atenção e medidas é um cianeto inorgânico possuindo toxicidade extremamente alta, o que é uma fonte para íons de cianeto e gás ácido hidrociânico. Adicionalmente, outro exemplo da matéria-prima que pode requerer atenção e medidas é um material inflamável especial.Adicionalmente, ainda outro exemplo da matéria-prima que pode requerer atenção e medidas é um composto orgânico possuindo uma propriedade de sublimação industrialmente significante.

[0091] Além disso, de acordo com a presente invenção, o composto de isotiazol alvo pode ser produzido por uma operação simples em apenas uma etapa do composto de nitrila como um material inicial, pela reação simultânea do composto de nitrila, enxofre e o halogênio. Particularmente, de acordo com o processo da presente invenção, o 3,4- dicloro-5-cianoisotiazol alvo pode ser produzido pela operação simples em uma única etapa de succinonitrila como um material inicial, pela reação simultânea de succinonitrila, enxofre e cloro.

[0092] Para as matérias-primas no processo da presente invenção, toda a succinonitrila dentre os compostos de nitrila, enxofre e cloro dentre os halogênios são matérias-primas que são amplamente usados na indústria química e que não estão prontamente disponíveis, porém são baratos.

[0093] Além do mais, de acordo com o processo da presente invenção, o composto de isotiazol, particularmente 3,4-dicloro-5- cianoisotiazol, pode ser produzido sob condições que não requerem uma temperatura significantemente alta ou similar e são apropriadas para industrialização. Especificamente, por exemplo, o processo da presente invenção não requer uma alta temperatura de 200 °C ou mais.

[0094] Adicionalmente, como descrito depois, o processo da presente invenção também fornece uma opção em que enxofre como resíduo e/ou piche pode ser suprimido ou reduzido, conforme requerido. Ou seja, no processo da presente invenção, também é possível selecionar condições em que a carga ambiental é adicionalmente reduzida.

[0095] Logo, o processo da presente invenção pode também fornecer uma variedade de opções preferidas na implementação industrial. Além disso, o processo da presente invenção pode ser implementado de uma maneira simples e em escala industrial sem o requerimento de um aparelho de reação industrial.

[0096] Logo, o processo da presente invenção tem alto valor parauso industrial.

DESCRIÇÃO DA MODALIDADE

[0097] A presente invenção será descrita em detalhes abaixo.

[0098] A presente invenção relaciona-se especificamente a um processo para a produção de um composto de isotiazol representado pela fórmula geral (3): [Fórmula Química 6]

[0099] (onde R é um grupo ciano, um grupo carboxila ou um grupo alcoxicarbonila; e X é um átomo de flúor, um átomo de cloro, um átomo de bromo ou um átomo de iodo)

[00100] que inclui o aquecimento de um composto de nitrila representado pela fórmula geral (1): [Fórmula Química 4]

[00101] (onde R é como definido acima)

[00102] e enxofre, e a realização de uma realização entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula (2): [Fórmula Química 5] X2 (2)

[00103] (onde X é como definido acima).

[00104] O processo da presente invenção particularmente refere-se a um processo para a produção de 3,4-dicloro-5-cianoisotiazol representado pela fórmula (6): [Fórmula Química 9]

[00105] que inclui o aquecimento de succinonitrila representado por uma fórmula (4): [Fórmula Química 7]

[00106] e enxofre, e então a realização de uma reação entre a succinonitrila, o enxofre e o cloro representado pela fórmula (5): [Fórmula Química 8] Cl2 ( 5 )

[00107] Os termos e símbolos usados na presente especificação serão explicados abaixo.

[00108] "Ca ~ Cb" significa que o número de átomos de carbono é de a para b. Por exemplo, um "C1 ~ C4 alquila" significa que o número de átomos de carbono na alquila é de 1 a 4.

[00109] Exemplos do grupo alquila incluem um grupo C1 ~ C4 alquila. C1 ~ C4 alquila significa um alquila de cadeia linear ou ramificada possuindo de 1 a 4 átomos de carbono.Exemplos específicos de C1 ~ C4 alquila incluem metila, etila, propila, isopropila, butila, sec-butila, isobutila e terc-butila, e preferivelmente, metila, etila, propila e isopropila.

[00110] Exemplos do grupo alcoxicarbonila incluem um grupo C1 ~ C4 alcoxicarbonila. O grupo C1 ~ C4 alcoxicarbonila significa um grupo (C1 ~ C4 alquila)-O-C(=O)-, em que o grupo C1 ~ C4 alquila tenha o mesmo significado como descrito acima. Exemplos específicos do grupo C1 ~ C4 alcoxicarbonila incluem metoxicarbonila, etoxicarbonila, propoxicarbonila, isopropoxicarbonila, butoxicarbonila, sec- butoxicarbonila, isobutoxicarbonila e terc-butoxicarbonila e, preferivelmente, metoxicarbonila, etoxicarbonila, propoxicarbonila e isopropoxicarbonila.

(Compostos para Matéria-Prima)

[00111] As matérias-primas no processo da invenção serão descritas.

(Composto de Nitrila)

[00112] Como uma matéria-prima no processo da presente invenção, o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) acima é usado. Na fórmula (1), R é um grupo ciano, um grupo carboxila ou um grupo alcoxicarbonila. Logo, exemplos do composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) acima incluem, mas não são limitadas a, succinonitrila, ácido 3-cianopropiônico, 3-cianopropionato de metila, 3- cianopropionato de etila, 3-cianopropionato de propila, 3- cianopropionato de isopropila e 3-cianopropionato de butila.

[00113] Do ponto de vista da disponibilidade, preço, utilidade do produto, etc., como o composto de nitrila usado no processo da presente invenção, a succinonitrila representada pela fórmula acima (4) é particularmente preferida. A succinonitila é atualmente industrialmente disponível a um custo relativamente baixo. Além do mais, a succinonitrila é preferida como uma matéria-prima também dos aspectos de manuseio e toxicidade desta.

(Enxofre)

[00114] O enxofre usado no processo da presente invenção será descrito.Enxofre elementar é usado no processo da presente invenção.A forma em que o enxofre é usado no processo da presente invenção não é particularmente limitada, e pode estar em qualquer forma, contanto que a reação prossiga.

[00115] A quantidade de enxofre usada no processo da presente invenção pode ser qualquer quantidade contanto que a reação prossiga.

[00116] Do ponto de vista de rendimento e/ou supressão de subprodutos, eficiência econômica, etc., como quantidade de enxofre usado no processo da presente invenção, 0,5 mol ou mais, preferivelmente 0,9 mol ou mais, e mais preferivelmente 1 mol ou mais, como átomos de enxofre, baseado em 1 mol do composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), podem ser mencionadas como exemplos.

[00117] Adicionalmente, em um caso onde o aprimoramento no rendimento ao invés da supressão de enxofre como rejeito e/ou piche é demandado, como quantidade de enxofre usado no processo da presente invenção, 2 moles ou mais, como átomos de enxofre, baseado em 1 mol de composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), podem ser mencionadas como exemplos.

[00118] Dos pontos de vista de rendimento e/ou supressão de subprodutos, eficiência econômica, etc., como quantidade de enxofre usado no processo da presente invenção, 20 moles ou menos, preferivelmente 12 mol ou menos, mais preferivelmente 10 mol ou menos, e adicional e preferivelmente 4 mol ou menos, como átomos de enxofre, baseado em 1 mol de composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), podem ser mencionadas como exemplos.

[00119] O processo descrito no Documento de Patente 1 também tem a desvantagem de que uma quantidade muito grande de resíduo é produzida como subproduto. Exemplos de resíduo incluem uma grande quantidade de enxofre. Além do mais, o 3,4-dicloro-5-cianoisotiazol que é produzido pelo processo descrito pelo Documento de Patente 1 contém uma grande quantidade de piche. Logo, o processo descrito no Documento de Patente 1 requer uma etapa de purificação como, por exemplo, destilação.

[00120] No processo descrito no Documento de Patente 6, o subproduto de enxofre como resíduo é aprimorado quando comparado com a técnica anterior antes do Documento de Patente 6 (por exemplo, o processo descrito no Documento de Patente 1). Entretanto, no processo descrito no Documento de Patente 6, 1 moles de monocloreto de enxofre (S2Cl2) é usado baseado em 1 mol de matéria-prima, ou seja, fumaronitrila, maleonitrila e um composto substituído com cloro deste (ver os Exemplos do Documento de Patente 6). Logo, 1 mol ou mais de enxofre é inevitavelmente produzido como resíduo baseado em 1 mol da matéria-prima. Também deste ponto de vista, há espeça para aprimoramento no processo descrito no Documento de Patente 6.

[00121] No caso onde a supressão de enxofre e/ou piche como resíduo ao invés do aprimoramento no rendimento é demandada, como a quantidade de enxofre usado no processo da presente invenção, menos de 2 moles, como átomos de enxofre, baseado em 1 mol do composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), podem ser mencionadas como exemplos.

[00122] De acordo com o processo da presente invenção, quando a supressão da subprodução de enxofre como resíduo é demandada, condições em que a produção de enxofre como subproduto pode ser reduzida ou suprimida podem ser selecionadas conforme requerido-. (Ver Exemplos 1, 2, 6 e 8). Esta opção, que é um efeito vantajoso, é obtida pelo uso de enxofre elementar. Além disso, no processo da presente invenção, o composto de isotiazol, particularmente 3,4-dicloro- 5-cianoisotiazol, não contendo piche pode também ser produzido conforme requerido. Logo, de acordo com o processo da presente invenção, condições que não requerem uma etapa de purificação como, por exemplo, destilação, podem ser selecionados conforme requerido.

[00123] Logo, como a faixa de quantidade de enxofre usada no processo da presente invenção, qualquer combinação apropriada de um limite inferior e um limite inferior que é descrita acima pode ser mencionada como exemplo. A faixa de 0,5 mol ou mais e 20 moles ou menos, preferivelmente 0,9 mol ou mais e 12 moles ou menos, e mais preferivelmente 0,9 mol ou mais e 4 moles ou menos, como átomos de enxofre, baseado em 1 mol do composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), pode ser mencionada como exemplo. Entretanto, a quantidade de enxofre usada no processo da presente invenção pode ser ajustada apropriadamente por uma pessoa versada na técnica de acordo com o propósito e a situação.

(Halogênio)

[00124] O halogênio usado no processo da presente invenção será descrito. Um halogênio representado pela fórmula geral (2): [Fórmula Química 10] X2 (2)

[00125] é usado no processo da presente invenção.

[00126] Como exemplos do halogênio que pode ser usado no processo da presente invenção, flúor, cloro, bromo e iodo são mencionados.

[00127] Dos pontos de vista de disponibilidade, facilidade de manuseio, preço, utilidade do produto, etc., como halogênio usado no processo da presente invenção, cloro ou bromo é preferido, e cloro é representado pela fórmula (5): [Fórmula Química 11] Cl2 ( 5 )

[00128] é particularmente preferido.

[00129] A forma do halogênio usado no processo da presente invenção não é particularmente limitada, e pode ser qualquer forma contanto que a reação prossiga. Exemplos da forma de halogênio usado no processo da presente invenção incluem um gás, um líquido e um sólido.

[00130] Particularmente, a forma do cloro usado no processo da presente invenção não é particularmente limitada também, e pode ser qualquer forma contanto que a reação prossiga. Exemplos da forma de cloro usado no processo da presente invenção incluem um líquido e um gás. Exemplos preferidos da forma do cloro usado no processo da presente invenção incluem um gás. O método da introdução do gás de cloro não é limitado e, por exemplo, o método para a introdução de gás cloro pode ser qualquer um que sopre na fase gasosa no sistema reacional, ou sopre na fase líquida do sistema reacional (por exemplo, por borbulhamento). Além do mais, quando o gás cloro é soprado na fase líquida, um aparelho em que bolhas finas de gás cloro são geradas, ou similares podem ser usados. Por exemplo, quando o gás de cloro é soprado na fase líquida do sistema reacional, o gás de cloro pode ser soprado nesta através de um bocal; o gás cloro pode ser soprado nesta na forma de bolhas finas através de um elemento poroso fornecido no fim de um bocal; uma tubulação com vários buracos pode ser fornecida no vaso de reação tal que o gás cloro é soprado de vários buracos pequenos no tubo formando bolhas de tamanho apropriadamente pequeno; ou outras várias medidas de aparelhos podem ser tomadas. Adicionalmente, o gás de cloro pode ser diluído com um gás diferente do gás de cloro. Exemplos do gás usado para a diluição do gás de cloro incluem, mas não estão limitados a gases inertes como, por exemplo, nitrogênio e argônio. Dos pontos de vista de disponibilidade, facilidade de manuseio, segurança, preço, etc., nitrogênio é preferido. O(s) gás(es) usado(s) para a diluição do gás de cloro pode ser usado unicamente ou como uma mistura deste em qualquer razão.

[00131] A quantidade de halogênio usado no processo da presente invenção pode ser qualquer quantidade contanto que a reação prossiga. Dos pontos de vista de rendimento e/ou supressão dos subprodutos, eficiência econômica, etc., a faixa de 1 mol ou mais e 60 mol ou menos, preferivelmente 2 mol ou mais e 20 mol ou menos, mais preferivelmente 2 mol ou mais e 10 mol ou menos, adicional e preferivelmente 2 mol ou mais e 7 mol ou menos, e particular e preferivelmente 2 mol ou mais e 5 mol ou menos do halogênio representado pela fórmula geral (2), particularmente o cloro representado pela fórmula (5), baseado em 1 mol do composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), pode ser mencionada como exemplo. Entretanto, a quantidade de halogênio usado no processo da presente invenção pode ser ajustada apropriadamente por uma pessoa versada na técnica de acordo com o propósito e a situação.

(Operação: Introdução de Halogênio)

[00132] No processo da presente invenção, é preferido que o composto de nitrila, enxofre e o halogênio sejam permitidos reagir simultaneamente um com o outro. Particularmente, no processo da presente invenção, é preferido que succinonitrila, enxofre e cloro sejam permitidos reagir simultaneamente um com o outro.Logo, no processo da presente invenção, é preferido introduzir o halogênio representado pela fórmula geral (2) no composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) e enxofre. Especificamente, é preferido carregar o composto de nitrila representado pela fórmula (1) e enxofre, e então introduzir uma parte do halogênio representado pela fórmula geral (2) nestes. É possível carregar a quantidade total do composto de nitrila e a quantidade total de enxofre, e então introduzir a quantidade total do halogênio. Ou é possível carregar uma parte do composto de nitrila e uma parte de enxofre, e então introduzir a quantidade total do halogênio. Ou é possível carregar uma parte do composto de nitrila e uma parte de enxofre, e então introduzir o halogênio, e então carregar o composto de nitrila remanescente e o enxofre remanescente, e então introduzir o halogênio remanescente. Além do mais, a carga do composto de nitrila e enxofre e a introdução do halogênio podem ser repetidas. Nesses casos, as quantidades respectivas do composto de nitrila e enxofre carregadas de uma vez podem ser ajustadas apropriadamente por uma pessoa versada na técnica. A quantidade de cloro introduzida de uma vez pode também ser ajustada apropriadamente por uma pessoa versada na técnica. Contanto que a reação prossiga, os métodos destas cargas e a da introdução podem ser selecionados e ajustados apropriadamente por uma pessoa versada na técnica.

(Estado Fundido)

[00133] "Fundido" significa que uma substância se tornou liquefeita por aquecimento.Um "estado fundido" é um estado em que uma substância está fundida. Na presente invenção, o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) e o enxofre são aquecidos, e então, a reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada. Preferivelmente, o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) e o enxofre são aquecidos até que pelo menos qualquer um entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) ou o enxofre se funda. Mais preferivelmente, o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) e o enxofre são aquecidos até que pelo menos o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) derreta. Adicional e preferivelmente, o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) e o enxofre são aquecidos até que pelo menos o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) e uma parte do enxofre se fundam. Particular e preferivelmente, o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) e o enxofre são aquecidos até que o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) e o enxofre se fundam.

[00134] Especifica e preferivelmente, o halogênio representado pela fórmula geral (2) é introduzido em um sistema em que pelo menos um de entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) ou enxofre se funda.Mais preferivelmente, o halogênio representado pela fórmula geral (2) é introduzido em um sistema em que pelo menos o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) está fundido. Ou seja, é mais preferido que a reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) seja realizada pela introdução do halogênio representado pela fórmula geral (2) no composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) em um estado fundido, e enxofre. Especifica, adicional e preferivelmente, o halogênio representado pela fórmula geral (2) é introduzido em um sistema em que pelo menos o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) e uma parte do enxofre estão fundidos. Particular e preferivelmente, o halogênio representado pela fórmula geral (2) é introduzido em um sistema em que tanto o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) e o enxofre estão fundidos. Ou seja, é particularmente preferido que a reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) sejam realizada pela introdução do halogênio representado pela fórmula geral (2) no composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) em um estado fundido e no enxofre em um estado fundido. No caso onde uma parte do composto de nitrila e uma parte do composto de enxofre são carregadas, e então uma parte do halogênio é introduzido, e então o composto de nitrila remanescente e o enxofre remanescente são introduzidos, e então o halogênio remanescente é introduzido, o estado do composto de nitrila e do enxofre pode ser qualquer um dos estados fundidos acima quanto o halogênio remanescente for introduzido.

[00135] O "estado fundido" acima é alcançado e mantido por aquecimento do composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) e enxofre. Esta temperatura de aquecimento é de geralmente 70°C ou mais, preferivelmente 90°C ou mais, e na faixa de 70 a 180°C ou mais, preferivelmente na faixa de 90 a 150°C, levando em consideração o limite superior da temperatura de aquecimento, embora dependendo do tipo do composto de nitrila.

[00136] A reação acima é realizada pela introdução do halogênio representado pela fórmula geral (2) em um sistema em que o estado do composto de nitria representado pela fórmula geral (1) e enxofre é qualquer um dos estados fundidos acima e, logo, um solvente como, por exemplo, um solvente polar aprótico não é requerido. Ou seja, a reação acima é realizada sem um solvente. Entretanto, a adição de um solvente apropriado em uma faixa em que o composto de nitrila e o enxofre possam ser substancialmente mantidos em um estado fundido não é excluída. O termo "sem um solvente" referido aqui significa que nenhum solvente é adicionado ao sistema reacional. Em outras palavras, o termo "sem um solvente" referido aqui significa que a reação é realizada na ausência de um solvente. Um "solvente" referido aqui é uma substância reconhecida como um "solvente" por uma pessoa versada na técnica. Por exemplo, o "solvente" referido aqui pode ser qualquer substância que é um líquido na temperatura de reação. Entretanto, o "solvente" não inclui um substrato, um intermediário de reação, um produto de reação, ou um subproduto de reação.

[00135] Um solvente aprótico referido aqui é um solvente possuindo um número acetpor de 24,0 ou menos. Um solvente polar referido aqui é um solvente possuindo uma constante dielétrica relativa de 5 ou mais. Logo, um solvente polar aprótico referido aqui é um solvente possuindo um número aceptor de 24,0 ou menos e uma constante dielétrica relativa de 5 ou mais. Exemplos do solvente polar aprótico incluem, mas não estão limitados a, N,N-dimetilformamida, N,N-dietilformamida, N,N- dimetilacetamida (DMAC), N,N-dietilacetamida, N-metilpirrolidona (NMP), tetrametiluréia, 1,3-dimetil-2-imidazolidinona (DMI), triamida hexametilfosfórica (HMPA) e similares.

[00136] O número aceptor (AN) é divulgado em V. Gutmann (traduzido por Hitoshi Ohtaki e Isao Okada), "Dona To Akuseputa (Doador e Aceptor) (Título original: The Donor-Acceptor Approach to Molecular Interaction)", Japan Scientific Societies Press, 1983, ou Christian Reichardt, "Solvents and Solvent Effects in Organic Chemistry", 2a edição, VCH (RFA), 1990, págs. 23-24, ou 3a, edição aumentada e atualizada, WILEY-VCH, 2003, pág.26, ou similares. O número aceptor (AN) é uma medida da propriedade aceptora proposta por Mayer-Gutmann. Quando o valor de troca química de 31P-NMR de (C2F5)3PO dissolvido em n-hexano é estabelecido como 0 (zero), e o valor de troca química de 31P-NMR de um complexo de (C2F5)3POSBCl5 em 1,2-dicloroetano é estabelecido como 100, o número acetpor (AN) é definido como o valor de troca química de 31P-NMR de (C2F5)3PO dissolvido em um certo solvente puro. Ou seja, o número aceptor (AN) de um certo solvente é representado pela seguinte fórm ula: AN = 100õ ((C2F5)3PO em um certo solvente)/[õ ((C2F5)3PO-SbCh em 1,2- dicloroetano) - õ ((C2F5)3PO em n-hexano)].

[00137] Aqui, a constante dielétrica relativa é considerada como um valor descrito em "Kagaku Binran (Kisohen) (Handbook of Chemistry (Fundamentals Volume))", editado pela Chemical Society of Japan, Maruzen Co., Ltd., 5a edição revisada, 2004, págs. I-770-777.

(Temperatura)

[00138] A temperatura da reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) no processo da presente invenção não é particularmente limitado contanto que a reação prossiga. Dos pontos de vista de rendimento e/ou supressão dos subprodutos, operabilidade, eficiência econômica, etc., como a temperatura de reação no processo da presente invenção, 50°C ou mais, preferivelmente 70°C ou mais, mais preferivelmente 80°C ou mais, e adicional e preferivelmente 90°C ou mais podem ser mencionadas como exemplos. Como a temperatura de reação no processo da presente invenção, dos mesmos pontos de vista, 200°C ou menos, preferivelmente 180°C ou menos, mais preferivelmente 160°C ou menos, e adicional e preferivelmente 150°C ou menos podem ser mencionados como exemplos. Como a faixa da temperatura de reação no processo da presente invenção, uma faixa determinada por uma combinação arbitrária de limites superiores e limites inferiores descritos acima pode ser mencionada como exemplo. Por exemplo, uma faixa determinada por uma combinação arbitrária de limites superiores e limites inferiores descritos acima, uma faixa determinada por uma combinação do limite superior mais preferido e do limite inferior mais preferido descrita acima é mais preferida, e uma faixa determinada pela combinação do limite superior adicionalmente preferido e do limite inferior adicionalmente preferido é adicionalmente preferida. Especificamente, a faixa de 50 a 200°C, preferível de 70 a 180°C, mais preferivelmente de 80 a 160°C, e adicional e preferivelmente de 90 a 150°C podem ser mencionadas como exemplos, mas a faixa da temperatura de reação no processo da presente invenção não é limitada a estas. A temperatura de reação no processo da presente invenção pode ser ajustada apropriadamente por uma pessoa versada na técnica de acordo com o propósito e a situação. (Tempo)

[00139] O tempo de introdução do halogênio e o tempo de ração no processo da presente invenção não são particularmente limitados contanto que a reação prossiga. Dos pontos de vista de rendimento e/ou supressão de subprodutos, eficiência econômica, etc., particularmente do ponto de vista de aprimoramento do rendimento, como limite inferior do tempo no processo da presente invenção, 5 horas ou mais, preferivelmente 10 horas ou mais, mais preferivelmente 15 horas ou mais, e adicional e preferivelmente 20 horas ou mais podem ser mencionados como exemplos. Adicionalmente, o tempo no processo da presente invenção não é particularmente limitado, e também do ponto de vista da supressão da decomposição do composto alvo, etc., e de um ponto de vista econômico geral, 100 horas ou menos, preferivelmente 75 horas ou menos, mais preferivelmente 50 horas ou menos, e adicional e preferivelmente 30 horas ou menos podem ser mencionados como exemplos. Como a faixa de tempo no processo da presente invenção, qualquer combinação apropriada de um limite inferior e de limite superior que são descritos acima podem ser mencionados como exemplos. A faixa de 5 a 100 horas, preferivelmente de 15 a 100 horas, mais preferivelmente de 15 a 75 horas, e adicional e preferivelmente de 20 a 50 horas, e particular e preferivelmente de 20 a 30 horas podem ser mencionados como exemplos, mas o tempo no processo da presente invenção não é limitado a estes. O tempo no processo da presente invenção pode ser ajustado apropriadamente por uma pessoa versada na técnica de acordo com o propósito e a situação. A possibilidade de que o tempo de introdução do halogênio, particularmente cloro, e o tempo de reação no processo da invenção são substancialmente os mesmos é sugerida.

(Composto de Isotiazol)

[00140] Exemplos específicos do composto de isotiazol representados pela fórmula geral (3) obtidos pelo processo da presente invenção incluem, mas não são limitados a:3,4-difluoro-5-cianoisotiazol, 3,4-dicloro-5-cianoisotiazol, 3,4-dibromo-5-cianoisotiazol, 3,4-diiodo-5-cianoisotiazol, 3,4-difluoro-5-carboxi-isotiazol, 3,4-dicloro-5-carboxi-isotiazol, 3,4-dibromo-5-carboxi-isotiazol, 3,4-diiodo-5-carboxi-isotiazol, 3,4-difluoro-5-metoxicarbonilisotiazol, 3,4-dicloro-5-metoxicarbonilisotiazol, 3,4-dibromo-5-metoxicarbonilisotiazol, 3,4-diiodo-5-metoxicarbonilisotiazol, 3,4-dicloro-5-etoxicarbonilisotiazol, 3,4-dibromo-5-etoxicarbonilisotiazol, 3,4-dicloro-5-propoxicarbonilisotiazol, 3,4-dicloro-5-isopropoxicarbonilisotiazol e 3,4-dicloro-5-butoxi-isotiazol.

[00141] Dos pontos de vista de utilidade do composto, etc., 3,4- dicloro-5-cianoisotiazol e 3,4-dibromo-5-cianoisotiazol são preferidos, e 3,4-dicloro-5-cianoisotiazol é particularmente preferido.

EXEMPLOS

[00142] A seguir, o processo da presente invenção será especificamente descrito com referência aos Exemplos; entretanto, a presente invenção não é limitada em qualquer maneira por estes Exemplos.

EXEMPLO 1 (Produção de 3,4-dicloro-5-cianoisotiazol)

[00143] Em um balão de quatro gargalos de 200 mL equipado com um agitador, um condensador de refluxo e um termômetro, 80,1 g (1,0 mol) de succinonitrila e 32,1 g (1,0 mol) de enxofre foram carregados. A temperatura foi aumentada para 120 °C sob agitação. Foi observado que a succinonitrila e o enxofre foram fundidos. Nesta, foram soprados 212,7 g (3,0 moles) de cloro a 120 a 125°C por 22 horas. A mistura de reação foi resfriada até a temperatura ambiente, e diluída com 300 ml de acetato de etila. Os insolúveis foram removidos por filtração para se obter o produto como uma solução de acetato de etila marrom. A solução de acetato de etila obtida foi analisada pelo método de curva de calibração absoluta de HPLC. Como resultado, o rendimento de 3,4- dicloro-5-cianoisotiazol foi de 64% em respeito à quantidade teórica calculada da quantidade de succinonitrila usada.

[00144] Quando o processo da Publicação Internacional No. WO2010/126170 (Documento de Patente 6) foi realizado, a sublimação de um composto presumido como sendo fumaronitrila, maleonitrila e/ou um composto substituído com cloro destes foi observada. Entretanto, no Exemplo 1 da presente especificação, a sublimação de um composto não foi substancialmente observada.

[00145] O mecanismo de reação e similares da presente invenção não foram claros, mas da observação acima, foi presumido que o mecanismo de reação principal da presente invenção foi diferente do mecanismo da reação principal no processo da Publicação Internacional No. WO2010/126170 (Documento de Patente 6).

EXEMPLO 2 (Produção de 3,4-dicloro-5-cianoisotiazol)

[00146] Após a reação ter sido realizada da mesma maneira que o Exemplo 1, a mistura de reação foi resfriada para 60°C, e isopropanol (2-propanol) (200 ml) foi adicionado a esta em forma de gotas. Após a completar a adição em forma de gotas, a mistura foi resfriada para 5°C. Os cristais foram coletados por filtração e secos para se obter 3,4- dicloro-5-cianoisotiazol como cristais marrons pálidos com um rendimento de 54%. O 3,4-dicloro-5-cianoisotiazol obtido era um composto conhecido, e foi identificado da maneira usual conhecida a uma pessoa versada na técnica. Adicionalmente, o filtrado foi analisado por um método de curva de calibração absoluta de HPLC. Como resultado, o rendimento de 3,4-dicloro5-cianoisotiazol no filtrado foi de 10%. O rendimento combinado do 3,4-dicloro5-cianoisotiazol obtido como cristais e o 3,4-dicloro5-cianoisotiazol no filtrado foi de 64%. Ambos os rendimentos são baseados na succinonitrila usada como matéria-prima.

EXEMPLO 3 (Produção de 3,4-dicloro-5-cianoisotiazol)

[00147] Em um balão de quatro gargalos de 200 ml equipado com um agitador, um condensador de refluxo e um termômetro, 80,1 g (1,0 mol) de succinonitrila e 64,2 g (2,0 moles) de enxofre foram carregados. A temperatura foi aumentada para 100°C sob agitação. Foi observado que a succinonitrila e foi fundida. Foi observado que a maioria do enxofre permaneceu como um sólido. Nesta, foram soprados 283,6 g (4,0 moles) de cloro a 100 a 105°C por 21 horas. A mistura de reação foi resfriada até a temperatura ambiente, e diluída com 300 ml de acetato de etila. Os insolúveis foram removidos por filtração para se obter o produto como uma solução de acetato de etila marrom. A solução de acetato de etila obtida foi analisada pelo método de curva de calibração absoluta de HPLC. Como resultado, o rendimento de 3,4- dicloro-5-cianoisotiazol foi de 71% em respeito à quantidade teórica calculada da quantidade de succinonitrila usada.

EXEMPLO 4 (Produção de 3,4-dicloro-5-cianoisotiazol)

[00148] Em um balão de quatro gargalos de 500 mL equipado com um agitador, um condensador de refluxo e um termômetro, 80,1 g (1,0 mol) de succinonitrila e 96,2 g (3,0 moles) de enxofre foram carregados. A temperatura foi aumentada para 120°C sob agitação. Foi observado que a succinonitrila e o enxofre foram fundidos. Nesta, foram soprados 283,6 g (4,0 moles) de cloro a 120 a 125°C por 21 horas. A mistura de reação foi resfriada até a temperatura ambiente, e diluída com 300 ml de acetato de etila. Os insolúveis foram removidos por filtração para se obter o produto como uma solução de acetato de etila marrom. A solução de acetato de etila obtida foi analisada pelo método de curva de calibração absoluta de HPLC. Como resultado, o rendimento de 3,4- dicloro-5-cianoisotiazol foi de 68% em respeito à quantidade teórica calculada da quantidade de succinonitrila usada.

EXEMPLO 5 (Produção de 3,4-dicloro-5-cianoisotiazol)

[00149] Em um balão de quatro gargalos de 500 ml equipado com um agitador, um condensador de refluxo e um termômetro, 80,1 g (1,0 mol) de succinonitrila e 96,2 g (3,0 moles) de enxofre foram carregados. A temperatura foi aumentada para 120°C sob agitação. Foi observado que a succinonitrila e o enxofre foram fundidos. Nesta, foram soprados 290,7 g (4,0 moles) de cloro a 120 a 125°C por 22 horas. A mistura de reação foi resfriada até a temperatura ambiente, e diluída com 300 ml de acetato de etila. Os insolúveis foram removidos por filtração para se obter o produto como uma solução de acetato de etila marrom. A solução de acetato de etila obtida foi analisada pelo método de curva de calibração absoluta de HPLC. Como resultado, o rendimento de 3,4- dicloro-5-cianoisotiazol foi de 76% em respeito à quantidade teórica calculada da quantidade de succinonitrila usada.

EXEMPLO 6 (Produção de 3,4-dicloro-5-cianoisotiazol)

[00150] Em um balão de quatro gargalos de 200 ml equipado com um agitador, um condensador de refluxo e um termômetro, 80,1 g (1,0 mol) de succinonitrila e 32,1 g (3,0 moles) de enxofre foram carregados. A temperatura foi aumentada para 120°C sob agitação. Foi observado que a succinonitrila e o enxofre foram fundidos. Nesta, foram soprados 212,7 g (3,0 moles) de cloro a 120 a 125°C por 12 horas. A mistura de reação foi resfriada até a temperatura ambiente, e diluída com 300 ml de acetato de etila. Os insolúveis foram removidos por filtração para se obter o produto como uma solução de acetato de etila marrom. A solução de acetato de etila obtida foi analisada pelo método de curva de calibração absoluta de HPLC. Como resultado, o rendimento de 3,4- dicloro-5-cianoisotiazol foi de 56% em respeito à quantidade teórica calculada da quantidade de succinonitrila usada.

EXEMPLO 7 (Produção de 3,4-dicloro-5-cianoisotiazol)

[00151] Em um balão de quatro gargalos de 1000 ml equipado com um agitador, um condensador de refluxo e um termômetro, 80,1 g (1,0 mol) de succinonitrila e 320,7 g (10,0 moles) de enxofre foram carregados. A temperatura foi aumentada para 120°C sob agitação. Foi observado que a succinonitrila e o enxofre foram fundidos. Nesta, foram soprados 581,4 g (8,2 moles) de cloro a 120 a 125°C por 16 horas. A mistura de reação foi resfriada até a temperatura ambiente, e diluída com 300 ml de acetato de etila. Os insolúveis foram removidos por filtração para se obter o produto como uma solução de acetato de etila marrom. A solução de acetato de etila obtida foi analisada pelo método de curva de calibração absoluta de HPLC. Como resultado, o rendimento de 3,4-dicloro-5-cianoisotiazol foi de 75% em respeito à quantidade teórica calculada da quantidade de succinonitrila usada. EXEMPLO 8

(Produção de 3,4-dicloro-5-cianoisotiazol)

[00152] Em um balão de quatro gargalos de 200 mL equipado com um agitador, um condensador de refluxo e um termômetro, 80,1 g (1,0 mol) de succinonitrila e 32,1 g (1,0 mol) de enxofre foram carregados. A temperatura foi aumentada para 140°C sob agitação. Foi observado que a succinonitrila e o enxofre foram fundidos. Nesta, foram soprados 198,5 g (2,8 moles) de cloro na mesma temperatura por 18 horas. A mistura de reação foi resfriada até a temperatura ambiente, e diluída com 300 mL de acetato de etila. Os insolúveis foram removidos por filtração para se obter o produto como uma solução de acetato de etila marrom. A solução de acetato de etila obtida foi analisada pelo método de curva de calibração absoluta de HPLC. Como resultado, o rendimento de 3,4- dicloro-5-cianoisotiazol foi de 63% em respeito à quantidade teórica calculada da quantidade de succinonitrila usada.

EXEMPLO COMPARATIVO 1

[00153] Processo Descrito no Exemplo 2 da Aplicação de Patente Japonesa Aberta No. 2010-260805 (JP 2010-260805 A) (Documento de Patente 7)

(Produção de 3,4-dicloro-5-cianoisotiazol)

[00154] Em um balão de quatro gargalos de 300 ml equipado com um agitador, um condensador de refluxo e um termômetro, 5,70 g (71,0 mmol) de succinonitrila, 35,5 ml de N,N-dimetilformamida e 36,5 g (1,14 mol) de enxofre foram carregados. Nesta, foram soprados 40,4 g (0,570 mol) a 25°C ou menos sob agitação. Então, a temperatura foi elevada para 100°C, e a mistura foi agitada por 6 horas.A mistura de reação foi permitida se resfriar para 25°C, e então despejada em água gelada. O produto de reação foi extraído com tolueno. A solução de tolueno obtida foi analisada por um método de curva de calibração absoluta de HPLC. Como resultado, o rendimento de 3,4-dicloro-5-cianoisotiazol foi de 64% em respeito à quantidade teórica calculada da quantidade de succinonitrila usada.

[00155] No Exemplo Comparativo 1 da presente especificação que é o processo descrito no Exemplo 2 da Aplicação de Patente Japonesa Aberta No. 2010-260805 (JP 2010-260805 A) (Documento de Patente 7), cloro e N,N-dimetilformamida são usados. Logo, como descrito anteriormente, o processo do Exemplo Comparativo 1 é diferente do da presente invenção, que não requer o uso de N,N-dimetilformamida, e não é industrialmente preferido.

[00156] Foi presumido que no Exemplo Comparativo 1 acima, cloreto de enxofre foi produzido do cloro e do enxofre no sistema a baixa temperatura de 25 ° ou menos, e então a succionitrila reagiu com o cloreto de enxofre preparado no sistema, como descrito nas reivindicações 1 e 6 e no parágrafo 0029 da Aplicação de Patente Japonesa Aberta No. 2010-260805 (JP 2010-260805 A) (Documento de Patente 7).

[00157] Enquanto isso, como já descrito, o mecanismo de reação e similares na presente invenção não são claros. Entretanto, quando a presente invenção foi discutida após a presente invenção ter sido completada, foi presumido que o mecanismo de reação principal na presente invenção era diferente do mecanismo de reação principal no Exemplo Comparativo 1. Ou seja, também suportado pelo Exemplo Comparativo 2 da presente invenção descrito depois.

EXEMPLO COMPARATIVO 2

[00158] Processo Descrito no Exemplo 2 da Aplicação de Patente Japonesa Aberta No. 2010-260805 (JP 2010-260805 A) (Documento de Patente 7) Conduzido sem Solvente

(Produção de 3,4-dicloro-5-cianoisotiazol)

[00159] Em um balão em forma de berinjela de 100 ml equipado com um agitador, um condensador de refluxo e um termômetro, 5,00 g (62,4 moles) de succinonitrila e 31,9 g (1,0 mol) de enxofre foram carregados. Foi observado que a succinonitrila e o enxofre não se fundiram. Nesta, foram soprados 35,4 g (0,500 mol) de cloro a 25°C por 22 horas. Então, a temperatura foi elevada para 100°C, e a mistura foi agitada por 6 horas. A mistura de reação foi resfriada até a temperatura ambiente, e diluída com 50 ml de tolueno. Os insolúveis foram removidos por filtração para se obter o produto como uma solução de tolueno marrom. A solução de tolueno obtida foi analisada pelo método de curva de calibração absoluta de HPLC. Como resultado, o rendimento de 3,4- dicloro-5-cianoisotiazol foi de apenas 10% em respeito à quantidade teórica calculada da quantidade de succinonitrila usada.

[00160] No Exemplo Comparativo 2, o processo descrito no Exemplo 2 da Aplicação de Patente Japonesa Aberta No. 2010-260805 (JP 2010260805 A) (Documento de Patente 7) foi conduzido em o uso de N,N- dimetilformamida, que é um solvente polar aprótico, em outras palavras, sem um solvente. Como resultado, o rendimento diminuiu significantemente.

(Método de Análise por Cromatografia Líquida de Alto Desempenho (HPLC))

[00161] Com respeito aos detalhes do método de análise por HPLC descrito acima, as seguintes literaturas podem ser referenciadas, se necessário.

[00162] (a): The Chemical Society of Japan ed., "Shin Jikken kagaku Koza (New Experimental Chemistry Course) 9 Bunseki kagaku (Analytical Chemistry) II", páginas de 86 a 112 (1977), publicado por Shingo Iizumi, Maruzen Co., Ltd. (Por exemplo, com respeito a combinações de materiais de embalagem e fases móveis que podem ser usadas em uma coluna, as páginas de 93 a 96 podem ser referenciadas);

[00163] (b) The Chemical Society of Japan ed., "Jikken kagaku Koza (Experimental Chemistry Course) 20-1 Bunseki kagaku (Analytical Chemistry)", 5a ed., páginas de 130 a 151 (2007), publicado por Seishiro Murata, Maruzen Co., Ltd. (Por exemplo, com respeito ao uso e condições específicas da análise por cromatografia em fase reversa, páginas de 135 a 137 podem ser referenciadas).

(Método de Análise por Cromatografia em Gás (GC))

[00164] Com respeito aos detalhes do método de análise por GC descrito acima, a seguinte literatura pode ser referenciada, se necessário:

[00165] (a): The Chemical Society of Japan ed., "Shin Jikken kagaku Koza (New Experimental Chemistry Course) 9 Bunseki kagaku (Analytical Chemistry) II", páginas de 60 a 86 (1977), publicado por Shingo Iizumi, Maruzen Co., Ltd. (Por exemplo, com respeito a líquidos para uma fase estacionária que pode ser usada em uma coluna, a página 66 pode ser referenciada);

[00166] (b): The Chemical Society of Japan ed., "Jikken kagaku Koza (Experimental Chemistry Course) 20-1 Bunseki kagaku (Analytical Chemistry)", 5a ed., páginas de 121 a 129 (2007), publicado por Seishiro Murata, Maruzen Co., Ltd. (Por exemplo, com respeito ao uso específico de uma coluna separador por capilares ocos, as páginas 125 a 125 podem ser referenciadas).

APLICAÇÃO INDUSTRIAL

[00167] De acordo com o processo da presente invenção, um processo industrial novo para a produção de um composto de isotiazol, particularmente 3,4-dicloro-5-cianoisotiazol, é fornecido. O composto de isotiazol que pode ser produzido pelo processo da presente invenção é útil como como um intermediário para fármacos e um intermediário para compostos químicos agrícolas, e um intermediário para pigmentos funcionais, materiais eletrônicos, etc. Particularmente, 3,4-dicloro-5- cianoisotiazol é útil como um intermediário importante para compostos químicos agrícolas.

[00168] Como descrito anteriormente nesta especificação, o processo da presente invenção é industrialmente preferido.Por exemplo, o processo da presente invenção é dramaticamente mais seguro quando comparado com a técnica anterior, e é eficiente. Além do mais, no processo da presente invenção, também é possível selecionar várias opções na implementação industrial conforme requerido. Em outras palavras, de acordo com a presente invenção, condições economicamente preferidas de acordo com a situação são fornecidas.Logo, o processo da presente invenção pode ser implementado em escala industrial e de maneira simples. Além disso, de acordo com o processo da presente invenção, o composto alvo pode ser produzido sem o uso de um catalisador caro e um metal de transição e, logo, rejeitos nocivos derivados destes não são descarregados. Logo, no processo da presente invenção, a eliminação de resíduos é fácil, e o processo da presente invenção também é ambientalmente amigável.

[00169] Logo, o processo da presente invenção é extremamente útil como um processo de produção industrial.

Claims

1. Processo para a produção de um composto de isotiazol, que é representado pela fórmula geral (3): [Fórmula Química 3]

na qual R é um grupo ciano; e X é um átomo de cloro, caracterizado pelo fato de que compreende aquecer um composto de nitrila representado pela fórmula geral (1): [Fórmula Química 1]

na qual R é como definido acima, e enxofre até que pelo menos o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) é fundido, e então realizar uma reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e um halogênio representado pela fórmula geral (2): X2(2) na qual X é como definido acima, isento de um solvente.

2. Processo de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) e o enxofre são aquecidos até que pelo menos o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) e o enxofre estejam fundido.

3. Processo de acordo com a reivindicação 1 ou 2, caracterizado pelo fato de que o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) e o enxofre são aquecidos até uma temperatura na faixa de 70 a 180 °C.

4. Processo de acordo com a reivindicação 1 ou 2, caracterizado pelo fato de que o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) e o enxofre são aquecidos até uma temperatura na faixa de 90 a 150 °C.

5. Processo de acordo com a reivindicação 1 ou 2, caracterizado pelo fato de que a reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada na faixa de temperatura de 70 a 180 °C.

6. Processo de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 4, caracterizado pelo fato de que a reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada na faixa de temperatura de 90 a 150 °C.

7. Processo de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 6, caracterizado pelo fato de que a reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada por 15 horas ou mais.

8. Processo de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 6, caracterizado pelo fato de que a reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada por 20 horas ou mais.

9. Processo de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 6, caracterizado pelo fato de que a reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada por um período de tempo na faixa de 15 a 75 horas.

10. Processo de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 6, caracterizado pelo fato de que a reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada por um período de tempo na faixa de 20 a 50 horas.

11. Processo de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 4, caracterizado pelo fato de que a reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada na faixa de temperatura de 70 a 180 °C por um período de tempo na faixa de 15 a 75 horas.

12. Processo de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 4, caracterizado pelo fato de que a reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada na faixa de temperatura de 90 a 150 °C por um período de tempo na faixa de 15 a 75 horas.

13. Processo de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 4, caracterizado pelo fato de que a reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada na faixa de temperatura de 90 a 150 °C por um período de tempo na faixa de 20 a 50 horas.

14. Processo de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 13, caracterizado pelo fato de que a reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada pela carga do composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) e o enxofre, e então pela introdução do halogênio representado pela fórmula geral (2) na mesma.

15. Processo de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 14, caracterizado pelo fato de que a reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada pela introdução do halogênio representado pela fórmula geral (2) no composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) e no enxofre.

16. Processo de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 14, caracterizado pelo fato de que a reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada pela introdução do halogênio representado pela fórmula geral (2) no composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) em um estado fundido, e no enxofre.

17. Processo de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 14, caracterizado pelo fato de que a reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada pela introdução do halogênio representado pela fórmula geral (2) no composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) em um estado fundido, e no enxofre em um estado fundido.

18. Processo de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 14, caracterizado pelo fato de que a reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada na faixa de temperatura de 70 a 180 °C por um período de tempo na faixa de 15 a 75 horas pela introdução do halogênio representado pela fórmula geral (2) no composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) e no enxofre.

19. Processo de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 14, caracterizado pelo fato de que a reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada na faixa de temperatura de 90 a 150 °C por um período de tempo na faixa de 15 a 75 horas pela introdução do halogênio representado pela fórmula geral (2) no composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) e no enxofre.

20. Processo de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 14, caracterizado pelo fato de que a reação entre o composto de nitrila representado pela fórmula geral (1), o enxofre e o halogênio representado pela fórmula geral (2) é realizada na faixa de temperatura de 90 a 150 °C por um período de tempo na faixa de 20 a 50 horas pela introdução do halogênio representado pela fórmula geral (2) no composto de nitrila composto de nitrila representado pela fórmula geral (1) e no enxofre.