CN104755643B - 高强度钛铜 - Google Patents
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Abstract
提供一种适合作为在相机模组等电子零件中使用的导电性弹簧材的高强度钛铜。一种钛铜,含有2.0~4.0质量%的Ti,作为第三元素而合计含有0~0.5质量%的从由Fe、Co、Mg、Si、Ni、Cr、Zr、Mo、V、Nb、Mn、B及P构成的群中选择的1种以上,其余部由铜及不可避免的杂质构成;轧制面的{220}结晶面的X射线衍射线强度峰值的最大强度(cps)相对于半值宽度(°)的比为10×102~25×102。
Description
技术领域
本发明涉及适合作为FPC连接器或自动聚焦相机模组等电子零件用弹簧材的高强度钛铜。
背景技术
近年来,以便携终端等为代表的电子设备的小型化日益进展,因而在其中使用的连接器窄间距化及低高度化的趋势显著。越是小型的连接器针宽越窄,为较小地折叠的加工形状,所以对于使用的部件,要求用来得到需要的弹簧性的高强度。这一点,含有钛的铜合金(以下称作“钛铜”)由于强度比较高、在应力缓和特性方面也在铜合金中最好,所以从很久以来就被作为特别要求强度的信号类端子用部件使用。
钛铜是时效硬化型的铜合金。通过溶体处理形成作为溶质原子的Ti的过饱和固溶体,如果从该状态在低温下实施比较长时间的热处理,则通过亚稳相分解,在母相中作为Ti浓度的周期性变动的调制构造发展,强度提高。此时,成为问题的是强度与弯曲加工性相反的特性这一点。即,如果使强度提高则弯曲加工性受损,相反,如果重视弯曲加工性则不能得到希望的强度。一般而言,使冷轧的压下率越高,导入的错位量越多,错位密度越高,所以有利于析出的核生成点增加,能够使时效处理后的强度变高,但如果使压下率过高,则弯曲加工性恶化。因此,课题是实现强度及弯曲加工性的兼顾。
所以,从添加Fe、Co、Ni、Si等第三元素(专利文献1)、限制固溶到母相中的杂质元素群的浓度且将它们作为第二相粒子(Cu-Ti-X类粒子)使其以规定的分布形态析出而使调制构造的规则性变高(专利文献2)、规定对于使结晶粒微细化有效的微量添加元素和第二相粒子的密度(专利文献3)、使结晶粒微细化(专利文献4)等的观点,提出了想要实现钛铜的强度和弯曲加工性的兼顾的技术。
在钛铜的情况下,还提出了下述钛铜:存在对于作为母相的α相相容性较差的β相(TiCu3)、和相容性较好的β’相(TiCu4),β相给弯曲加工性带来不良影响,而使β’相均匀且微细地分散有利于强度和弯曲加工性的兼顾,在抑制β相的同时使β’相微细分散(专利文献5)。
着眼于结晶方位,还提出了通过控制结晶取向以满足I{420}/I0{420}>1.0及I{220}/I0{220}≤3.0、来改善强度、弯曲加工性及耐应力缓和性的技术(专利文献6)。
但是,在上述先行文献所记载的哪种钛铜中,其制造方法都以由铸锭的熔化铸造→均质化退火→热轧→(退火及冷轧的反复)→最终溶体化处理→冷轧→时效处理的顺序构成为基础,在特性改善方面有限度。
在这样的状况下,近年来,还尝试了将在最终溶体化处理后进行的冷轧及时效处理的顺序与以往相反地进行,即,代替时效处理→冷轧的顺序,最后实施去应变退火,使弯曲加工性提高(专利文献7)。根据该文献,通过采用这样的制造方法,得到的钛铜的错位密度上升。并且,根据轧制面上的{220}结晶面的X射线衍射线强度峰值的半值宽度间接地评价错位密度,规定作为来自轧制面的{220}结晶面的X射线衍射强度峰值的半值宽度的β{220}和作为来自纯铜标准粉末的{220}结晶面的X射线衍射强度峰值的半值宽度的β0{220}满足下式:3.0≤β{220}/β0{220}≤6.0。
专利文献1:特开2004-231985号公报
专利文献2:特开2004-176163号公报
专利文献3:特开2005-97638号公报
专利文献4:特开2006-265611号公报
专利文献5:特开2006-283142号公报
专利文献6:特开2008-308734号公报
专利文献7:特开2012-062575号公报。
发明内容
这样,以往较多地进行了从强度及弯曲加工性的两面谋求特性的改善的努力,但在连接器中也有几乎不被要求弯曲加工性者。例如, FPC连接器或自动聚焦相机模组由于不进行弯曲加工,所以没有改善弯曲加工性的要求。另一方面,连接器在使用时暴露在高温环境下的情况也较多,但存在如果将钛铜在高温条件下长时间暴露则发生永久变形(弹力减弱)、作为弹簧材的功能下降的问题。对此还没有进行充分的研究。
所以,本发明的目的是提供一种适合作为在FPC连接器或自动聚焦相机模组等电子零件中使用的导电性弹簧材的高强度钛铜。
本发明者们对钛铜的0.2%耐受力与弹力减弱的关系及结晶方位与弹力减弱的关系专心地进行了调查,结果发现,当0.2%耐受力较高并且轧制面的{220}结晶面的X射线衍射线强度峰值的最大强度与半值宽度的比处于特定范围中时,能够特别改善高温暴露时的耐弹力减弱性。本发明是以以上的认识为背景完成的,通过以下特定。
本发明在一技术方案中,是一种钛铜,含有2.0~4.0质量%的Ti,作为第三元素而合计含有0~0.5质量%的从由Fe、Co、Mg、Si、Ni、Cr、Zr、Mo、V、Nb、Mn、B及P构成的群中选择的1种以上,其余部由铜及不可避免的杂质构成;轧制面的{220}结晶面的X射线衍射线强度峰值的最大强度(cps)相对于半值宽度(°)的比(以下,称作“{220}面的纵横比”)为10×102~25×102。
这里,{220}面的纵横比通过下述步骤来求出:在以下的测量条件下取得轧制面的衍射强度曲线,测量{220}结晶面的X射线衍射线强度峰值的最大强度和其半值宽度,计算其比。
・靶:Cu管球
・管电压:25kV
・管电流:20mA
・扫描速度:5°/min
・取样宽度:0.02°
・测量范围(2θ):60°~90°。
在有关本发明的钛铜的一实施方式中,与轧制方向平行的方向上的0.2%耐受力为1100MPa以上。
本发明在另一技术方案中,是具备有关本发明的钛铜的展铜品。
本发明在再另一技术方案中,是具备有关本发明的钛铜的电子零件。
有关本发明的电子零件在一实施方式中,是自动聚焦相机模组。
本发明在再另一技术方案中,是一种自动聚焦相机模组,具备:透镜;弹簧部件,将该透镜向光轴方向的初始位置弹性施力;和电磁驱动机构,产生抵抗该弹簧部件的作用力的电磁力而能够将上述透镜向光轴方向驱动;上述弹簧部件是有关本发明的钛铜。
能够得到适合作为在相机模组等电子零件中使用的导电性弹簧材的高强度钛铜。
附图说明
图1是表示有关本发明的自动聚焦相机模组的剖视图。
图2是图1的自动聚焦相机模组的分解立体图。
图3是表示图1的自动聚焦相机模组的动作的剖视图。
图4是表示测量弹力减弱量的方法的概略图。
具体实施方式
(1)Ti浓度
在有关本发明的钛铜中,使Ti浓度为2.0~4.0质量%。钛铜通过溶体化处理向Cu基体中固溶Ti,通过时效处理使微细的析出物分散到合金中,由此使强度及导电率上升。
如果Ti浓度不到2.0质量%,则析出物的析出变得不充分,不能得到希望的强度。如果Ti浓度超过4.0质量%,则加工性劣化,在轧制时材料容易裂纹。如果考虑强度及加工性的平衡,则优选的Ti浓度是2.5~3.5质量%。
(2)第三元素
在有关本发明的钛铜中,通过含有从由Fe、Co、Mg、Si、Ni、Cr、Zr、Mo、V、Nb、Mn、B及P构成的群中选择的第三元素的1种以上,能够使强度进一步提高。但是,如果第三元素的合计浓度超过0.5质量%,则加工性劣化,在轧制时材料容易裂纹。所以,这些第三元素合计可以含有0~0.5质量%,如果考虑强度及加工性的平衡,则优选的是以总量0.1~0.4质量%含有上述元素的1种以上。
(3)0.2%耐受力
在有关本发明的钛铜中,在一实施方式中,与轧制方向平行的方向上的0.2%耐受力可以达到1100MPa以上。有关本发明的钛铜的0.2%耐受力在优选的实施方式中是1200MPa以上,在更优选的实施方式中是1300MPa以上。
0.2%耐受力的上限值从本发明作为目的的强度这一点看没有被特别限制,但花费工夫及费用,而且如果为了得到高强度而提高钛浓度,则在热轧时有裂纹的危险性,所以有关本发明的钛铜的0.2%耐受力一般是2000MPa以下,典型地是1600MPa以下,更典型地是1500MPa以下。
在本发明中,钛铜的与轧制方向平行的方向上的0.2%耐受力依据JIS Z2241(金属材料拉伸试验方法)测量。
(4){220}结晶面的X射线衍射线强度峰值的最大强度与半值宽度的比
有关本发明的钛铜在一实施方式中,轧制面的{220}结晶面的X射线衍射线强度峰值的最大强度(cps)相对于半值宽度(°)的比(以下,也称作“{220}面的纵横比”)为10×102~25×102。
在本发明中,使用X射线衍射装置,在以下的测量条件下取得轧制面的衍射强度曲线,测量{220}结晶面的X射线衍射线强度峰值的最大强度和其半值宽度,通过计算其比,求出{220}面的纵横比。一般而言,{220}结晶面的X射线衍射线强度峰值的最大强度出现的入射角(2θ)为75°附近。
・靶:Cu管球
・管电压:25kV
・管电流:20mA
・扫描速度:5°/min
・取样宽度:0.02°
・测量范围(2θ):60°~90°
{220}面的纵横比是间接地评价错位密度的指标。{220}面的纵横比有随着错位密度变高而下降、相反随着错位密度变低而上升的趋势。本发明者进行了专心的研究,结果发现,当{220}面的纵横比为10×102~25×102时强度较高,能够得到高温暴露时的耐弹力减弱性良好的特性。如果{220}面的纵横比超过上限则强度容易下降,此外,如果低于下限则高温暴露时的耐弹力减弱性容易恶化,所以不好。{220}面的纵横比优选的是10×102~20×102,更优选的是10×102~15×102。
(5)钛铜的厚度
一般而言,随着金属材料的厚度变薄,耐弹力减弱性下降,但在有关本发明的钛铜的一实施方式中,能够使厚度成为1.0mm以下,在典型的实施方式中能够使厚度为0.02~0.8mm,在更典型的实施方式中能够使厚度为0.05~0.5mm。
(6)用途
有关本发明的钛铜可以加工为各种各样的展铜品,例如板、条、管、棒及线。有关本发明的钛铜不是限定性的、但可以适当作为开关、连接器(特别是不需要苛刻的弯曲加工性的叉型FPC连接器)、自动聚焦相机模组、插口、端子、继电器等电子零件的材料使用。
自动聚焦相机模组在一实施方式中,具备透镜、将该透镜向光轴方向的初始位置弹性施力的弹簧部件、和产生抵抗该弹簧部件的作用力的电磁力而能够将上述透镜向光轴方向驱动的电磁驱动机构。电磁驱动机构例示地讲,可以具备コ字形圆筒形状的磁轭、收容在磁轭的内周壁的内侧的线圈、和围绕线圈并收容在磁轭的外周壁的内侧的磁铁。
图1是表示有关本发明的自动聚焦相机模组的一例的剖视图,图2是图1的自动聚焦相机模组的分解立体图,图3是表示图1的自动聚焦相机模组的动作的剖视图。
自动聚焦相机模组1具备コ字形圆筒形状的磁轭2、安装在磁轭2的外壁上的磁铁4、在中央位置具备透镜3的支架5、安装到支架5上的线圈6、安装磁轭2的基座7、支撑基座7的框架8、将支架5在上下支承的两个弹簧部件9a、9b、和将它们的上下覆盖的两个帽10a、10b。两个弹簧部件9a、9b是同一物品,以相同的位置关系将支架5从上下夹着而支承,并作为向线圈6的供电路径发挥功能。通过对线圈6附加电流,支架5向上方移动。另外,在本说明书中,适当使用上及下的词语,是指图1中的上下,上表示从相机朝向被摄体的位置关系。
磁轭2是软铁等磁性体,呈上表面部关闭的コ字形的圆筒形状,具有圆筒状的内壁2a和外壁2b。在コ字形的外壁2b的内表面上,安装(粘接)环状的磁铁4。
支架5是具有底面部的圆筒形状构造的合成树脂等的成形品,在中央位置支承透镜,在底面外侧上粘接搭载预先成形的线圈6。在矩形上树脂成形品的基座7的内周部嵌合装入磁轭2,再用树脂成形品的框架8将磁轭2整体固定。
弹簧部件9a、9b都将最外周部分别夹在框架8和基座7间而固定,内周部每120°的缺口槽部对支架5嵌合,通过热敛缝等固定。
弹簧部件9b与基座7及弹簧部件9a与框架8间通过粘接及热敛缝等固定,进而,帽10b安装在基座7的底面上,帽10a安装在框架8的上部,分别将弹簧部件9b夹入到基座7与帽10b间、将弹簧部件9a夹入到框架8与帽10a间并固接。
线圈6的一方的引线穿过设在支架5的内周面上的槽内向上延伸,焊接到弹簧部件9a上。另一方的引线穿过设在支架5底面上的槽内向下方延伸,焊接到弹簧部件9b上。
弹簧部件9a、9b是有关本发明的钛铜箔的板簧。具有弹簧性,将透镜3向光轴方向的初始位置弹性施力。同时,也作为向线圈6的供电路径发挥作用。使弹簧部件9a、9b的外周部的一部位向外侧突出,作为供电端子发挥功能。
圆筒状的磁铁4在辐向(径向)上被磁化,形成以コ字形状磁轭2的内壁2a、上表面部及外壁2b为路径的磁路,在磁铁4与内壁2a间的间隙中配置线圈6。
弹簧部件9a、9b是相同形状,如图1及图2所示那样以相同的位置关系安装,所以能够抑制支架5向上方移动时的轴偏差。线圈6在绕线后加压成形而制作,所以精加工外径的精度提高,能够容易地配置到规定的较窄的间隙中。支架5在最下位置碰抵在基座7上,在最上位置碰抵在磁轭2上,所以在上下方向上具备碰抵机构,防止脱落。
图3表示对线圈6附加电流、为自动聚焦用而使具备透镜3的支架5移动到上方时的剖视图。如果对弹簧部件9a、9b的供电端子附加电源,则在线圈6中流过电流,在支架5上作用向上方的电磁力。另一方面,在支架5上,向下方作用连结的两个弹簧部件9a、9b的复原力。因而,支架5的向上方的移动距离为电磁力与复原力平衡的位置。由此,通过对线圈6附加的电流量,能够决定支架5的移动量。
由于上侧弹簧部件9a支承支架5的上表面,下侧弹簧部件9b支承支架5的下表面,所以复原力在支架5的上表面及下表面上均等地向下方作用,能够将透镜3的轴偏差抑制得较小。
因而,在支架5的向上方的移动时,不需要也不使用通过肋等的导引。由于没有由导引带来的滑动摩擦,所以支架5的移动量纯粹由电磁力与复原力的平衡来支配,实现了平顺且精度良好的透镜3的移动。由此达到透镜晃动较少的自动聚焦。
另外,设磁铁4为圆筒形状而进行了说明,但并不限于此,也可以3至4分割而在辐向上磁化,将其粘贴固接到磁轭2的外壁2b的内表面上。
(7)制造方法
有关本发明的钛铜特别可以通过在最终的溶体化处理及其以后的工序中实施适当的热处理及冷轧来制造。以下,将优选的制造例按照工序依次说明。
<铸锭制造>
通过熔化及铸造的铸锭的制造基本上在真空中或惰性气体环境中进行。如果在熔化中有添加元素的熔化残留,则对于强度的提高没有有效地作用。由此,为了消除熔化残留,Fe或Cr等高熔点的第三元素需要在添加而充分搅拌后保持一定时间。另一方面,Ti由于比较容易溶解到Cu中,所以只要在第三元素的熔化后添加就可以。因而优选的是,对Cu添加从由Fe、Co、Mg、Si、Ni、Cr、Zr、Mo、V、Nb、Mn、B及P构成的群中选择的1种或两种以上,以使得合计含有0~0.5质量%,接着添加Ti以使得含有2.0~4.0质量%,来制造铸锭。
<均质化退火及热轧>
由于在铸锭制造时产生的凝固偏析及结晶物较粗大,所以优选的是在均质化退火中尽可能固溶到母相中而使其变小、尽可能消除。这是因为对于弯曲开裂的防止有效。具体而言,优选的是,在铸锭制造工序后,在加热到900~970℃而进行3~24小时均质化退火后实施热轧。为了防止液体金属脆性,优选的是在热轧前及热轧中设为960℃以下,并且从原厚度到整体的压下率为90%的路径为900℃以上。
<第一溶体化处理>
然后,优选的是将冷轧和退火适当反复后进行第一溶体化处理。这里预先进行溶体化的理由,是为了使最终的溶体化处理中的负担减轻。即,在最终的溶体化处理中,由于不是用来使第二相粒子固溶的热处理,已经被溶体化,所以只要在维持该状态的同时仅引起再结晶就可以,所以较轻的热处理就足够。具体而言,第一溶体化处理只要将加热温度设为850~900℃、进行2~10分钟就可以。在此时的升温速度及冷却速度方面也优选的是尽可能快,这里使得第二相粒子不析出。另外,第一溶体化处理也可以不进行。
<中间轧制>
使最终的溶体化处理前的中间轧制中的压下率越高,越能够均匀且微细地控制最终的溶体化处理中的再结晶粒。因而,中间轧制的压下率优选的是70~99%。压下率由{((轧制前的厚度-轧制后的厚度)/轧制前的厚度)×100%}定义。
<最终的溶体化处理>
在最终的溶体化处理中,优选的是使析出物完全固溶,但如果加热为高温直到完全消除,则结晶粒容易粗大化,所以加热温度为第二相粒子组成的固溶限附近的温度(Ti的添加量在2.0~4.0质量%的范围内Ti的固溶限与添加量相等的温度是730~840℃左右,例如在Ti的添加量为3.0质量%下是800℃左右)。并且,如果急速地加热到该温度、通过水冷等使冷却速度也变快,则能够抑制粗大的第二相粒子的产生。因而,典型地,加热到相对于730~840℃的Ti的固溶限与添加量相同的温度-20℃~+50℃的温度,更典型地,加热到比730~880℃的Ti的固溶限与添加量相同的温度高0~30℃的温度、优选的是高0~20℃的温度。
此外,最终的溶体化处理中的加热时间越短,越能够抑制结晶粒的粗大化。加热时间例如可以设为30秒~10分钟,典型地可以设为1分钟~8分钟。在该时点即使产生第二相粒子,只要微细且均匀地分散,就对于强度和弯曲加工性几乎是无害的。但是,由于粗大者在最终的时效处理中有进一步成长的趋势,所以该时点的第二相粒子即使生成也必须尽可能少而小。
具体而言,最终的溶体化处理后的平均结晶粒径优选的是控制在2~30μm的范围,更优选的是控制在2~15μm的范围,更加优选的是控制在2~10μm的范围。平均结晶粒径在通过电解研磨使与轧制方向平行的截面的组织显现后,用电子显微镜(SEM)将观察视野100μm×100μm摄影。并且,基于JISH0501,用切断法求出与轧制方向成直角的方向的平均结晶粒径及与轧制方向平行的方向的平均结晶粒径,将两者的平均值作为平均结晶粒径。
<预备时效>
接着最终的溶体化处理,进行预备时效处理。以往在最终的溶体化处理后进行冷轧是惯例,但在得到有关本发明的钛铜的方面,在最终的溶体化处理后不进行冷轧而立即进行预备时效处理是重要的。预备时效热处理是在比下个工序的时效处理低温下进行的热处理,能够得到通过将预备时效热处理及后述的时效处理连续进行而高温暴露时的耐弹力减弱性与钛铜的强度都有意义地提高的优点。预备时效处理为了抑制表面氧化皮膜的发生,优选的是在Ar、N2、H2等惰性气体环境下进行。
预备时效处理中的加热温度不论过低还是过高都难以得到上述优点。根据本发明者的研究结果,优选的是在材料温度150~250℃下加热10~20小时,更优选的是在材料温度160~230℃下加热10~18小时,更加优选的是在170~200℃下加热12~16小时。
<时效处理>
接着预备时效处理而进行时效处理。也可以在预备时效处理后先冷却到室温。如果考虑制造效率,则优选的是在预备时效处理后不冷却而升温到时效处理温度,连续地实施时效处理。不论是哪种方法,在得到的钛铜的特性方面都没有差异。但是,由于预备时效以在然后的时效处理中均匀地使第二相粒子析出为目的,所以在预备时效处理与时效处理之间不应实施冷轧。
由于通过预备时效处理,在溶体化处理中固溶的钛稍稍析出,所以时效处理应该在比惯例的时效处理稍低温下实施,优选的是在材料温度300~450℃下加热0.5~20小时,更优选的是在材料温度350~440℃下加热2~18小时,更加优选的是在材料温度375~430℃下加热3~15小时。时效处理优选的是因与预备时效处理同样的理由,在Ar、N2、H2等惰性气体环境下进行。
虽然无意根据理论限定本发明,但通过将预备时效热处理及时效处理连续进行而钛铜的特性有意义地提高,可以认为是因为以下的理由。通过施加预备时效热处理,微细的第二相粒子均匀地析出。然后,通过冷轧而错位密度提高,成为比以往高强度。在不施加预备时效热处理的情况下,第二相粒子粗大化或变得不均匀,所以即使冷轧也不能得到充分的错位密度,强度不充分。
<最终的冷轧>
在上述时效处理后,进行最终的冷轧。通过最终的冷加工,能够提高钛铜的强度。为了得到本发明想要那样的较高的强度,使压下率为55%以上,优选的是60%以上,更优选的是90%以上。但是,如果压下率过高,则制造性下降,所以压下率优选的是99.9%以下,更优选的是97%以下,更加优选的是95%以下。
<去应变退火>
从提高高温暴露时的耐弹力减弱性的观点看,优选的是在最终的冷轧后实施去应变退火。这是因为,通过进行去应变退火而错位再排列。去应变退火的条件可以是惯用的条件,但如果进行过度的去应变退火,则错位消失而强度下降,所以并不好。去应变退火优选的是在材料温度200~600℃下进行10~600秒,更优选的是在250~550℃下进行10~400秒,更加优选的是在300~500℃下进行10~200秒。
另外可以理解的是,如果是本领域的技术人员,则能够在上述各工序的空闲期间中适当进行用于表面的氧化垢除去的磨削、研磨、喷丸酸洗等的工序。
实施例
以下将本发明的实施例与比较例一起表示,但它们是为了更好地理解本发明及其优点而提供的,不是要限定发明。
将含有表1所示的合金成分、其余部由铜及不可避免的杂质构成的合金作为实验材料,调查合金成分、{220}面的纵横比及制造条件给0.2%耐受力及高温暴露时的弹力减弱带来的影响。
首先,用真空熔化炉将电解铜2.5kg熔化,将第三元素以表1所示的配合比例分别添加后,添加该表所示的配合比例的Ti。也充分考虑添加后的保持时间以使得没有添加元素的熔化残留后,将它们在Ar气体环境中向铸模注入,分别制造出约2kg的铸锭。
在对上述铸锭在950℃下加热3小时的均质化退火后,在900~950℃下进行热轧,得到板厚15mm的热轧板。在通过面切削进行的脱垢后,冷轧而成为坯条的板厚(1~8mm),进行坯条下的第1次溶体化处理。第1次溶体化处理的条件是在850℃下加热10分钟,然后水冷。接着,根据表1所记载的最终冷轧中的压下率及制品板厚的条件调整压下率而进行中间的冷轧后,插入到能够急速加热的退火炉中而进行最终的溶体化处理,然后水冷。此时的加热条件,以材料温度为Ti的固溶限与添加量相同的温度(Ti浓度3.0质量%下约800℃,Ti浓度2.0质量%下约730℃,Ti浓度4.0质量%下约840℃)为基准,是表1所记载那样的。接着,在Ar环境中以表1所记载的条件连续进行预备时效处理及时效处理。即,在预备时效处理后不进行冷却。在通过酸洗的脱垢后,以表1所记载的条件进行最终冷轧,最后,以表1所记载的各加热条件进行去应变退火,做成发明例及比较例的试验片。根据试验片,省略了预备时效处理、时效处理或去应变退火。
对于制作出的制品试料进行了以下的评价。
(a)0.2%耐受力
使用拉伸试验机制作出JIS13B号试验片,按照上述测量方法测量与轧制方向平行的方向的0.2%耐受力。
(b){220}面的纵横比
{220}面的纵横比通过X射线衍射装置(理学电机社制型式rint Ultima2000)在上述测量条件下求出。
(c)高温暴露后的弹力减弱(永久变形率)
选取宽度10mm的短条试料,以使其长度方向为轧制平行方向,如图4那样,将试料的一端固定,对于距该固定端为距离L的位置,以1mm/分钟的移动速度推抵将前端加工为刀刃的冲头,根据下式1对试料赋予与1000MPa(≈102kg/mm2)的应力(σ0)对应的初始挠曲(d)。
式1:d=2/3×L×σ0/(E・t)
d=初始挠曲(mm)
L=标点距离(mm)
σ0=应力(kg/mm2)
E=杨氏模量(kg/mm2)
t=板厚(mm)
接着,在赋予了挠曲的状态下,在250℃下加热30分钟,使冲头回到初始的位置而卸除负荷后,求出永久变形量(δ),求出永久变形率(%)(=δ/d×100)。
此外,通过上述测量方法,使用电子显微镜(Philips社制XL30 SFEG)测量最终溶体化处理后的中间品的平均结晶粒径。
(考察)
在表1中表示试验结果。可知在发明例1~18中,0.2%耐受力较高为1100MPa以上,永久变形率被抑制得较低。
另一方面,比较例1因最终的溶体化处理温度过高而结晶粒粗大化,{220}面的纵横比也为本发明的范围外,由此,0.2%耐受力及永久变形率都比发明例差。
比较例2因最终的溶体化处理温度过低而发生未再结晶区域和再结晶区域混杂的混粒化,{220}面的纵横比也为本发明的范围外。因此,永久变形率比发明例差。
比较例3想到特开2012-0625757号公报所记载的发明。由于没有进行预备时效处理,所以强度提高不充分,此外,{220}面的纵横比也为本发明的范围外。因此,0.2%耐受力及永久变形率都比发明例差。
比较例4虽然进行了预备时效处理,但由于加热温度过低,所以强度提高不充分,{220}面的纵横比也为本发明的范围外。因此,0.2%耐受力及永久变形率都比发明例差。
比较例5由于预备时效中的加热温度过高,所以成为过时效,粗大粒子析出,此外,{220}面的纵横比也为本发明的范围外。因此,0.2%耐受力及永久变形率都比发明例差。
比较例6由于没有进行时效处理,所以亚稳相分解不充分,强度提高也不充分,此外,{220}面的纵横比也为本发明的范围外。因此,0.2%耐受力及永久变形率都比发明例差。
比较例7虽然进行了时效处理,但由于加热温度过低,所以强度提高不充分,{220}面的纵横比也为本发明的范围外。因此,0.2%耐受力及永久变形率都比发明例差。
比较例8由于时效处理中的加热温度过高,所以成为过时效,粗大粒子析出,此外,{220}面的纵横比也为本发明的范围外。因此,0.2%耐受力及永久变形率都比发明例差。
比较例9因最终冷轧中的压下率过低,成为强度不足,此外,{220}面的纵横比也为本发明的范围外。因此,0.2%耐受力及永久变形率都比发明例差。
比较例10由于没有实施去应变退火,所以{220}面的纵横比为本发明的范围外。因此,永久变形率比发明例差。
比较例11虽然实施了去应变退火,但由于加热温度较低,所以{220}面的纵横比为本发明的范围外。因此,永久变形率比发明例差。
比较例12虽然实施了去应变退火,但由于加热温度过高,所以错位消失,此外,{220}面的纵横比也为本发明的范围外。因此,0.2%耐受力及永久变形率都比发明例差。
比较例13因第三元素的添加量过多,在热轧中发生裂纹,所以不能进行试验片的制造。
比较例14因Ti浓度过低,成为强度不足,此外,{220}面的纵横比也为本发明的范围外。因此,0.2%耐受力及永久变形率都比发明例差。
比较例15因Ti浓度过高,在热轧中发生裂纹,所以不能进行试验片的制造。
附图标记说明
1 自动聚焦相机模组
2 磁轭
3 透镜
4 磁铁
5 支架
6 线圈
7 基座
8 框架
9a 上侧的弹簧部件
9b 下侧的弹簧部件
10a、10b 帽。
Claims (6)
1.一种钛铜,其特征在于,
含有2.0~4.0质量%的Ti,作为第三元素而合计含有0~0.5质量%的从由Fe、Co、Mg、Si、Ni、Cr、Zr、Mo、V、Nb、Mn、B及P构成的群中选择的1种以上,其余部由铜及不可避免的杂质构成,以下,将轧制面的{220}结晶面的X射线衍射线强度峰值的最大强度相对于半值宽度的比称作{220}面的纵横比,{220}面的纵横比为10×102~25×102,
这里,{220}面的纵横比通过下述步骤来求出:在以下的测量条件下取得轧制面的衍射强度曲线,测量{220}结晶面的X射线衍射线强度峰值的最大强度和其半值宽度,计算其比,
・靶:Cu管球
・管电压:25kV
・管电流:20mA
・扫描速度:5°/min
・取样宽度:0.02°
・测量范围:60°~90°。
2.如权利要求1所述的钛铜,其特征在于,
与轧制方向平行的方向上的0.2%耐受力为1100MPa以上。
3.一种展铜品,其特征在于,
具备权利要求1或2所述的钛铜。
4.一种电子零件,其特征在于,
具备权利要求1或2所述的钛铜。
5.如权利要求4所述的电子零件,其特征在于,
电子设备零件是自动聚焦相机模组。
6.一种自动聚焦相机模组,其特征在于,
具备:透镜;弹簧部件,将该透镜向光轴方向的初始位置弹性施力;和电磁驱动机构,产生抵抗该弹簧部件的作用力的电磁力而能够将上述透镜向光轴方向驱动;
上述弹簧部件是权利要求1或2所述的钛铜。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012235997A JP6192917B2 (ja) | 2012-10-25 | 2012-10-25 | 高強度チタン銅 |
JP2012-235997 | 2012-10-25 | ||
PCT/JP2013/068262 WO2014064970A1 (ja) | 2012-10-25 | 2013-07-03 | 高強度チタン銅 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN104755643A CN104755643A (zh) | 2015-07-01 |
CN104755643B true CN104755643B (zh) | 2017-06-23 |
Family
ID=50544351
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201380055787.5A Active CN104755643B (zh) | 2012-10-25 | 2013-07-03 | 高强度钛铜 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6192917B2 (zh) |
KR (1) | KR101695118B1 (zh) |
CN (1) | CN104755643B (zh) |
TW (1) | TWI475118B (zh) |
WO (1) | WO2014064970A1 (zh) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6192916B2 (ja) * | 2012-10-25 | 2017-09-06 | Jx金属株式会社 | 高強度チタン銅 |
JP5718436B1 (ja) * | 2013-11-18 | 2015-05-13 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 電子部品用チタン銅 |
JP5718443B1 (ja) * | 2013-12-27 | 2015-05-13 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 電子部品用チタン銅 |
JP6080820B2 (ja) * | 2014-08-29 | 2017-02-15 | Jx金属株式会社 | 高強度チタン銅箔及びその製造方法 |
JP6080823B2 (ja) * | 2014-09-19 | 2017-02-15 | Jx金属株式会社 | 電子部品用チタン銅 |
JP6080822B2 (ja) * | 2014-09-19 | 2017-02-15 | Jx金属株式会社 | 電子部品用チタン銅及びその製造方法 |
JP6271626B2 (ja) * | 2016-03-31 | 2018-01-31 | Jx金属株式会社 | めっき層を有するチタン銅箔 |
JP6609589B2 (ja) | 2017-03-30 | 2019-11-20 | Jx金属株式会社 | 層状組織を有する高強度チタン銅条および箔 |
JP6609590B2 (ja) * | 2017-03-30 | 2019-11-20 | Jx金属株式会社 | 層状組織を有する高強度チタン銅条および箔 |
JP7535843B2 (ja) * | 2019-10-17 | 2024-08-19 | Jx金属株式会社 | チタン銅板、プレス加工品およびプレス加工品の製造方法 |
JP7254407B2 (ja) | 2019-10-23 | 2023-04-10 | エルジー・ケム・リミテッド | 正極活物質前駆体の製造方法および正極活物質前駆体 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5156463A (ja) * | 1974-11-11 | 1976-05-18 | Otsuka Pharma Co Ltd | Karubosuchirirujudotaino seizoho |
JP4025632B2 (ja) | 2002-11-29 | 2007-12-26 | 日鉱金属株式会社 | 銅合金 |
JP3748859B2 (ja) | 2003-01-28 | 2006-02-22 | 日鉱金属加工株式会社 | 曲げ性に優れた高強度銅合金 |
JP4313135B2 (ja) | 2003-09-22 | 2009-08-12 | 日鉱金属株式会社 | 曲げ加工性に優れた高強度銅合金 |
JP4451336B2 (ja) | 2005-03-23 | 2010-04-14 | 日鉱金属株式会社 | チタン銅及びその製造方法 |
JP2006283142A (ja) | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Nikko Kinzoku Kk | 曲げ加工性に優れた高強度銅合金 |
JP4357548B2 (ja) * | 2007-06-14 | 2009-11-04 | Dowaメタルテック株式会社 | Cu−Ti系銅合金板材およびその製造法 |
JP5376840B2 (ja) * | 2008-06-11 | 2013-12-25 | キヤノン株式会社 | 電子機器 |
JP4889801B2 (ja) * | 2009-11-25 | 2012-03-07 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 電子部品用チタン銅の製造方法 |
JP4961049B2 (ja) * | 2009-11-25 | 2012-06-27 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 電子部品用チタン銅 |
JP5319590B2 (ja) * | 2010-03-30 | 2013-10-16 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 銅合金、銅合金の製造方法及び電子部品の製造方法 |
JP5718021B2 (ja) * | 2010-10-29 | 2015-05-13 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 電子部品用チタン銅 |
JP5611773B2 (ja) * | 2010-10-29 | 2014-10-22 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 銅合金及びこれを用いた伸銅品、電子部品及びコネクタ及び銅合金の製造方法 |
JP5226057B2 (ja) * | 2010-10-29 | 2013-07-03 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 銅合金、伸銅品、電子部品及びコネクタ |
US9217841B2 (en) * | 2011-01-25 | 2015-12-22 | Hong Kong Applied Science & Technology Research Institute Company, Limited | Compact camera module with zoom and auto-focus actuators sharing the same rotating annular magnet with alternating thick and thin poles |
CN102618748A (zh) * | 2012-04-16 | 2012-08-01 | 金川集团有限公司 | 一种汽车同步器用齿环合金材料 |
JP6192916B2 (ja) * | 2012-10-25 | 2017-09-06 | Jx金属株式会社 | 高強度チタン銅 |
-
2012
- 2012-10-25 JP JP2012235997A patent/JP6192917B2/ja active Active
-
2013
- 2013-07-02 TW TW102123573A patent/TWI475118B/zh active
- 2013-07-03 KR KR1020157010251A patent/KR101695118B1/ko active IP Right Grant
- 2013-07-03 CN CN201380055787.5A patent/CN104755643B/zh active Active
- 2013-07-03 WO PCT/JP2013/068262 patent/WO2014064970A1/ja active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6192917B2 (ja) | 2017-09-06 |
KR101695118B1 (ko) | 2017-01-10 |
KR20150055071A (ko) | 2015-05-20 |
WO2014064970A1 (ja) | 2014-05-01 |
CN104755643A (zh) | 2015-07-01 |
JP2014084514A (ja) | 2014-05-12 |
TW201416465A (zh) | 2014-05-01 |
TWI475118B (zh) | 2015-03-01 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant | ||
CP02 | Change in the address of a patent holder |
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|
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